JPH01118217A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH01118217A JPH01118217A JP27609187A JP27609187A JPH01118217A JP H01118217 A JPH01118217 A JP H01118217A JP 27609187 A JP27609187 A JP 27609187A JP 27609187 A JP27609187 A JP 27609187A JP H01118217 A JPH01118217 A JP H01118217A
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- Japan
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- substrate
- magnetic disk
- thickness
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気ディスクに関するものであり、特に磁性
層が薄膜よりなる磁気ディスクにおいてヘッドの摺動に
対する耐久性が良く、コンタクトスタートストップ（Ｃ
５Ｓ）特性も優れた磁気ディスクの製造方法に関するも
のである。
層が薄膜よりなる磁気ディスクにおいてヘッドの摺動に
対する耐久性が良く、コンタクトスタートストップ（Ｃ
５Ｓ）特性も優れた磁気ディスクの製造方法に関するも
のである。
スパッタ法、蒸着法などの方法によって磁性薄膜を形成
する薄膜型磁気デイヌクの基板としては、アルミ合金基
板上にＮｉ合金めつき層を形成したものや、陽極酸化皮
膜を形成したものが使われ、さらにこれら下地皮膜形成
後、通常ポリッシング、フッピング等の研摩方法によシ
表面粗さＲａ Ｏ，００５μｍ以下に鏡面化して使用さ
れる。
する薄膜型磁気デイヌクの基板としては、アルミ合金基
板上にＮｉ合金めつき層を形成したものや、陽極酸化皮
膜を形成したものが使われ、さらにこれら下地皮膜形成
後、通常ポリッシング、フッピング等の研摩方法によシ
表面粗さＲａ Ｏ，００５μｍ以下に鏡面化して使用さ
れる。
ところがこの基板上に磁性薄膜を形成し、さらに保護膜
及び潤滑剤層を設けた場合、磁気ディスク表面、磁気ヘ
ッドスライダ−面ともに鏡面であるため潤滑剤あるいは
空気中の水分によシ吸着を生じ、Ｃ８Ｓにおいてディス
ク起動時に損傷を起こしやすい問題点があった。また、
潤滑剤の滞留場所がないためにヘッドとの摺動によυ潤
滑剤が飛散し、耐久性が劣るという問題点があった。こ
のような問題を解消するためには、磁気ディスク表面を
鏡面にすることなく凹凸を付けると良い、その面粗さは
Ｒｍａｘ １５０〜６００Ａが適当である。
及び潤滑剤層を設けた場合、磁気ディスク表面、磁気ヘ
ッドスライダ−面ともに鏡面であるため潤滑剤あるいは
空気中の水分によシ吸着を生じ、Ｃ８Ｓにおいてディス
ク起動時に損傷を起こしやすい問題点があった。また、
潤滑剤の滞留場所がないためにヘッドとの摺動によυ潤
滑剤が飛散し、耐久性が劣るという問題点があった。こ
のような問題を解消するためには、磁気ディスク表面を
鏡面にすることなく凹凸を付けると良い、その面粗さは
Ｒｍａｘ １５０〜６００Ａが適当である。
そこで、特開昭６１−２９４１８号明細Ｊに記載されて
いるような前記鏡面基板上にフッピングテープ等によシ
同心円状の細かいスジ（テクスチャー）をつけた基板を
用いる磁気ディスクや特開昭６１−２８０６１８号明細
書に記載されているような表面に微粒子塗布層を配した
基板を用いる磁気ディスクが提案されている。しかじ前
者のように研摩粒子による加工法では粗大砥粒や異物に
よる大きな研摩キズがはいりやすく信号欠落の原因とな
っていた。また後者のように基板表面に塗布層を設ける
方法は塗布層の機械的強度や付着力が不足し、Ｃ８Ｓ時
に塗布層から剥離してしまうという問題点があった。
いるような前記鏡面基板上にフッピングテープ等によシ
同心円状の細かいスジ（テクスチャー）をつけた基板を
用いる磁気ディスクや特開昭６１−２８０６１８号明細
書に記載されているような表面に微粒子塗布層を配した
基板を用いる磁気ディスクが提案されている。しかじ前
者のように研摩粒子による加工法では粗大砥粒や異物に
よる大きな研摩キズがはいりやすく信号欠落の原因とな
っていた。また後者のように基板表面に塗布層を設ける
方法は塗布層の機械的強度や付着力が不足し、Ｃ８Ｓ時
に塗布層から剥離してしまうという問題点があった。
この発明は上記問題点（こ鑑み、Ｃ８Ｓ特性を向上させ
信頼性の高い磁気ディスクを提保することを目的とする
ものである。
信頼性の高い磁気ディスクを提保することを目的とする
ものである。
この発明の磁気デイヌクの製造方法は、基板に微粒子を
噴射してその表面に凹凸を付け、その基板に磁性層を形
成するものである。
噴射してその表面に凹凸を付け、その基板に磁性層を形
成するものである。
この発明による磁気ディスクにおいては基板表面に凹凸
を形成しているために磁性層表面にも凹凸が生じ、磁気
ヘッドが磁気ディスクと接触しても摩擦力が小さくでき
るので、Ｃ８Ｓ特性が向上し、また凹凸によシヘッドと
ディスクの間に空隙が存在するため吸着が生じないので
信頼性が改良できる。さらに微粒子噴射によシ基板表面
層は加工硬化しているため、耐久性を改善することがで
きる。
を形成しているために磁性層表面にも凹凸が生じ、磁気
ヘッドが磁気ディスクと接触しても摩擦力が小さくでき
るので、Ｃ８Ｓ特性が向上し、また凹凸によシヘッドと
ディスクの間に空隙が存在するため吸着が生じないので
信頼性が改良できる。さらに微粒子噴射によシ基板表面
層は加工硬化しているため、耐久性を改善することがで
きる。
さらにまた削るのでなく、たたいて凹凸を付けているの
で削りくずや研磨粒子が残らない・〔実施例〕 以下、この発明の磁気デイヌクの製造方法について実施
例をあげて説明する。
で削りくずや研磨粒子が残らない・〔実施例〕 以下、この発明の磁気デイヌクの製造方法について実施
例をあげて説明する。
実施例１
第１図はこの発明の一実捲例により得られた磁気ディス
クを示す断面図である。第１図において（１）は基板で
Ａｌ−Ｍｇ合金基板（１）とＡｌ−Ｍｇ合金基板（１）
上に形成されたＮ１−Ｐ下地めっき層（２）よシな。
クを示す断面図である。第１図において（１）は基板で
Ａｌ−Ｍｇ合金基板（１）とＡｌ−Ｍｇ合金基板（１）
上に形成されたＮ１−Ｐ下地めっき層（２）よシな。
る。（３）はツバツタ法によ、９Ｎｉ−Ｐ下地めっき層
（２）上に形成した磁性層である。
（２）上に形成した磁性層である。
まず旋削により仕上げたＡｌ−Ｍｇ合金基板（厚さ１．
ｇ ｍｍ ） （１）上にＮｉＰ下地めっき層（２）を
ｚμｍ の厚さで形成し、その表面をポリッシュする
ことによシ厚みが巧μｍで、かつ表面粗さがＲａで０．
００７μｍ以下になるように仕上げた。この基板面上に
シリカ（ＳｉＯｚ）微粒子（平均粒７子径１０μｍ）を
噴射することにより凹凸を付けた基板（１）を得た。こ
の凹凸を付けた基板表面に磁性層としてＣｏ−Ｎｉ膜を
高周波スパッタ法にて０．０８μｍ厚に形成し、さらに
その上に５ｉＯｚ保護膜を０．０４μｍ厚に形成し、潤
滑剤としてクライトクスＡＣ（デュポン社商品名）をス
ピンコードして、第１図に示す磁気ディスクを得た。
ｇ ｍｍ ） （１）上にＮｉＰ下地めっき層（２）を
ｚμｍ の厚さで形成し、その表面をポリッシュする
ことによシ厚みが巧μｍで、かつ表面粗さがＲａで０．
００７μｍ以下になるように仕上げた。この基板面上に
シリカ（ＳｉＯｚ）微粒子（平均粒７子径１０μｍ）を
噴射することにより凹凸を付けた基板（１）を得た。こ
の凹凸を付けた基板表面に磁性層としてＣｏ−Ｎｉ膜を
高周波スパッタ法にて０．０８μｍ厚に形成し、さらに
その上に５ｉＯｚ保護膜を０．０４μｍ厚に形成し、潤
滑剤としてクライトクスＡＣ（デュポン社商品名）をス
ピンコードして、第１図に示す磁気ディスクを得た。
微粒子の噴射の方法を第２図の微粒子噴射装置を示す概
略図によフ説明する。（６）は微粒子００をためておく
ホッパ一部、（７）は噴射のための噴射ノズルである。
略図によフ説明する。（６）は微粒子００をためておく
ホッパ一部、（７）は噴射のための噴射ノズルである。
矢印（８）から噴射用圧縮空気を送り込むことにより微
粒子移送管（９）を通ってホッパ一部（６）より微粒子
が供給され、噴射ノズル（７）から磁気デイヌク基板（
１）表面へ微粒子００が噴射される。基板表面の凹凸の
大きさ及び深さを微粒子粒径及び噴射用圧縮空気の圧力
や、微粒子の硬さなどによシ制御することができる。な
お、この実施例１の磁気ディスク基板は平均粒子径１０
μｍのシリカ微粒子ヲ３．８ｋｇ／ｄの圧縮空気（ζて
噴射すること辺よって得られたものである。
粒子移送管（９）を通ってホッパ一部（６）より微粒子
が供給され、噴射ノズル（７）から磁気デイヌク基板（
１）表面へ微粒子００が噴射される。基板表面の凹凸の
大きさ及び深さを微粒子粒径及び噴射用圧縮空気の圧力
や、微粒子の硬さなどによシ制御することができる。な
お、この実施例１の磁気ディスク基板は平均粒子径１０
μｍのシリカ微粒子ヲ３．８ｋｇ／ｄの圧縮空気（ζて
噴射すること辺よって得られたものである。
このようにして鴎られた実施例１の磁気デイヌクの表面
の微分干渉顕微鏡写真（倍率２００倍）を第８図に示す
が、均一な凹凸が形成されており表面粗さを測定すると
Ｒｍａ ｘで０．０２８μｍであった。
の微分干渉顕微鏡写真（倍率２００倍）を第８図に示す
が、均一な凹凸が形成されており表面粗さを測定すると
Ｒｍａ ｘで０．０２８μｍであった。
実施例２
厚さ１７μｍのＮｉ −Ｍｏ −Ｐ下地めっき付き基板
に微小水（Ｈ，Ｏ）粒子（平均粒径５μｍ）を噴射圧力
３．２ｋｇ／ｃｕｔで噴射することにより基板表面に凹
凸をつけ、その上に磁性層として０．１５μｍ厚のγ−
Ｆｅｔｅ、膜を形成し、さらに保護膜をＳｉｎ、 ０．
０８５μｍ１潤滑剤クライトクス１４８ＡＤ（デュポン
社商品名）を０．００７μｍヌピンコートして磁気ディ
スクを得た。この磁気ディスクの表面粗さはＲｍａ ｘ
で０．０２．２μｍであった。
に微小水（Ｈ，Ｏ）粒子（平均粒径５μｍ）を噴射圧力
３．２ｋｇ／ｃｕｔで噴射することにより基板表面に凹
凸をつけ、その上に磁性層として０．１５μｍ厚のγ−
Ｆｅｔｅ、膜を形成し、さらに保護膜をＳｉｎ、 ０．
０８５μｍ１潤滑剤クライトクス１４８ＡＤ（デュポン
社商品名）を０．００７μｍヌピンコートして磁気ディ
スクを得た。この磁気ディスクの表面粗さはＲｍａ ｘ
で０．０２．２μｍであった。
比較例１
実施例１のＮｉＰ下地めっき付き基板（ポリッシュによ
り表面粗さＲｍａｘ Ｑ、００７μｍに仕上げたもの）
の上に実施例１と同じ磁性層、保穫膜、潤滑層を形成し
た。
り表面粗さＲｍａｘ Ｑ、００７μｍに仕上げたもの）
の上に実施例１と同じ磁性層、保穫膜、潤滑層を形成し
た。
比較例２
実施例２と同じＮｉ −Ｍｏ Ｐ下地めっき付き基板
を＃４０００のホワイトアルミナヲツピングテープでテ
クスチャー加工し、その上に実施例２と同じ磁性層、保
護膜、潤滑層を形成した。この磁気ディスクの表面粗さ
はＲｍａｘで０．０２５μｍであった。
を＃４０００のホワイトアルミナヲツピングテープでテ
クスチャー加工し、その上に実施例２と同じ磁性層、保
護膜、潤滑層を形成した。この磁気ディスクの表面粗さ
はＲｍａｘで０．０２５μｍであった。
こうして碍られた実施例１，２Ｉ比較例１．２の磁気デ
ィスクについてＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドを使ってＣ
８Ｓ耐久性及びヘッド吸着の試験を行なった。第１表に
示すようにＣ８Ｓ耐久性は実施例１．２の磁気ディスク
ではどちらも２５０００回Ｃ８Ｓを繰り返してもヘッド
、ディスクとも損傷がみられなかった。また比較例１の
磁気ディスクでは１６０００回で、比較例２の磁気ディ
スクでは７５００回でそれぞれディスクにスクフツチキ
ズが認められた。ヘッド吸着試験はヘッドを荷重９．５
ｇでデイヌ第１表 りに押し付け２０”０６５１ Ｒ，Ｈで７０時間放置後
の吸着力を測定することによシ行なった。実施例１，２
の磁気ディスクではそれぞれ２．８ ｇ、 ２．８ ｇ
であったが比較例１ではｒ、９９ｍ比較例２では３．７
ｇであった。
ィスクについてＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドを使ってＣ
８Ｓ耐久性及びヘッド吸着の試験を行なった。第１表に
示すようにＣ８Ｓ耐久性は実施例１．２の磁気ディスク
ではどちらも２５０００回Ｃ８Ｓを繰り返してもヘッド
、ディスクとも損傷がみられなかった。また比較例１の
磁気ディスクでは１６０００回で、比較例２の磁気ディ
スクでは７５００回でそれぞれディスクにスクフツチキ
ズが認められた。ヘッド吸着試験はヘッドを荷重９．５
ｇでデイヌ第１表 りに押し付け２０”０６５１ Ｒ，Ｈで７０時間放置後
の吸着力を測定することによシ行なった。実施例１，２
の磁気ディスクではそれぞれ２．８ ｇ、 ２．８ ｇ
であったが比較例１ではｒ、９９ｍ比較例２では３．７
ｇであった。
なお上記実施例においては下地めっきとしてＮ１−Ｐ及
びＮｉ −Ｍｏ −Ｐの例を示したが、その他のめつき
下地あるいはアルマイト皮膜でもかまわない。
びＮｉ −Ｍｏ −Ｐの例を示したが、その他のめつき
下地あるいはアルマイト皮膜でもかまわない。
また磁性層としてＣｏ−Ｎｉ及びγ−Ｆｅ！ Ｏｓ ス
パッタ膜の例を示したが、Ｃｏ −Ｃｒ ＊ Ｃｏ−Ｗ
＋ Ｃｏ−Ｎｉ −０。
パッタ膜の例を示したが、Ｃｏ −Ｃｒ ＊ Ｃｏ−Ｗ
＋ Ｃｏ−Ｎｉ −０。
Ｃｏ−Ｆｅ 、 Ｆｅ−Ｎ等の薄膜としてもよい。
また、上記実施例では、シリカ及び氷（Ｎ２０）の微粒
子を噴射する場合について示したが、微粒子としては他
にＡｌ２Ｏ８，Ｔｉ Ｏ，、ＺｒＯ，、ＳｉＣ、Ｓｉ３
Ｎ、 。
子を噴射する場合について示したが、微粒子としては他
にＡｌ２Ｏ８，Ｔｉ Ｏ，、ＺｒＯ，、ＳｉＣ、Ｓｉ３
Ｎ、 。
カーボン、四フッ化エチレン、塩ビ、ＮＢＲゴム。
及びポリオレフィンのいずれか一種が用いられる。
なお、氷（Ｈ，Ｏ）に限らず、他の液体を氷らしたもの
でも適用できる。また必要に応じて混合粒子を吹き付け
ても良い。さらに微粒子の粒径としては０．１〜２００
μｍの範囲が望ましい。
でも適用できる。また必要に応じて混合粒子を吹き付け
ても良い。さらに微粒子の粒径としては０．１〜２００
μｍの範囲が望ましい。
以上のように、この発明によれば、基板に微粒子を噴射
してその表面に凹凸を付け、その基板に磁性層を形成す
ることにより、Ｃ３Ｓ耐久性に優れ、ヘッド吸着力の小
さい信頼性の高いｒｉ１気ディスクが得られる効果があ
る。
してその表面に凹凸を付け、その基板に磁性層を形成す
ることにより、Ｃ３Ｓ耐久性に優れ、ヘッド吸着力の小
さい信頼性の高いｒｉ１気ディスクが得られる効果があ
る。
第１図はこの発明の一実施例によシ得られた磁気ディス
クを示す断面図、第２図はこの発明の一実施例に係わる
微粒子噴射装置を示す概略図、第８図は実施例１によシ
得られた磁気デイヌクの表面状態の微分干渉顕微鏡写真
である。 図において、（３）は磁性層、（７）は噴射ノズル、ａ
ｏは微粒子、（１）は基板である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
クを示す断面図、第２図はこの発明の一実施例に係わる
微粒子噴射装置を示す概略図、第８図は実施例１によシ
得られた磁気デイヌクの表面状態の微分干渉顕微鏡写真
である。 図において、（３）は磁性層、（７）は噴射ノズル、ａ
ｏは微粒子、（１）は基板である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）基板に微粒子を噴射してその表面に凹凸を付け、
その基板に磁性層を形成する磁気ディスクの製造方法。 - （２）微粒子がＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｈ＿２Ｏ
（氷）、ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２、ＳｉＣ、Ｓｉ＿３Ｎ
＿４、カーボン、四フッ化エチレン、塩ビ、ＮＢＲゴム
、及びポリオレフィンのいずれか一種である特許請求の
範囲第１項記載の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27609187A JPH01118217A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27609187A JPH01118217A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01118217A true JPH01118217A (ja) | 1989-05-10 |
Family
ID=17564677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27609187A Pending JPH01118217A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01118217A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04232614A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録用ハードディスクの製造方法 |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27609187A patent/JPH01118217A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04232614A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録用ハードディスクの製造方法 |
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