JPS5922220A - 磁気ディスク媒体用基板 - Google Patents
磁気ディスク媒体用基板Info
- Publication number
- JPS5922220A JPS5922220A JP57130456A JP13045682A JPS5922220A JP S5922220 A JPS5922220 A JP S5922220A JP 57130456 A JP57130456 A JP 57130456A JP 13045682 A JP13045682 A JP 13045682A JP S5922220 A JPS5922220 A JP S5922220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- etching
- mirror
- accuracy
- recessed part
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高密度記録磁気ディスク装置に用いる磁気ディ
スク媒体用基板において１表面の摩擦係数、吸着力を極
小にしてヘッドクラッシュ等を確実に防止した基板に関
する。
スク媒体用基板において１表面の摩擦係数、吸着力を極
小にしてヘッドクラッシュ等を確実に防止した基板に関
する。
従来スパッタ、めっき、イオンブレーティングなどの薄
膜形成技術全利用し磁性簿膜を形成して成る磁気ディス
クの基板には、アルミ合金円板を研削あるいは旋削で仕
上げた後、その表１ｆｆｉ ｋアルマイト化して被加工
面全硬質化し、研削。
膜形成技術全利用し磁性簿膜を形成して成る磁気ディス
クの基板には、アルミ合金円板を研削あるいは旋削で仕
上げた後、その表１ｆｆｉ ｋアルマイト化して被加工
面全硬質化し、研削。
ラップ、ポリシュなどにょ９鈍面仕上げすなわちＨ，ｍ
ａｘ ｏ、ｏ ２１１ｍ以下、ａａｏ、ｏｏｓμｍ以下
にしたものが用いられているー またこのような磁気ディスクの磁性薄膜は合金、金属酸
化物５．金属窒化物のいずれがであり膜厚は０．２μｍ
以下の薄膜が実用に供されている。
ａｘ ｏ、ｏ ２１１ｍ以下、ａａｏ、ｏｏｓμｍ以下
にしたものが用いられているー またこのような磁気ディスクの磁性薄膜は合金、金属酸
化物５．金属窒化物のいずれがであり膜厚は０．２μｍ
以下の薄膜が実用に供されている。
さらに磁性Ｉ＋（！を保障するための保護膜を形成する
場合でも膜厚は帆１μｍ以下が用いられている。
場合でも膜厚は帆１μｍ以下が用いられている。
したがって基板上に形成される総膜厚は０．３μｍ以下
である。蜘面基根上に０．３μｍ以下の膜を形成した場
合の面精度はやはり鏡面に近くなる。
である。蜘面基根上に０．３μｍ以下の膜を形成した場
合の面精度はやはり鏡面に近くなる。
このような鏡面に近い磁気ディスク表面の場合にはコン
タクトスタートストップ形の磁気ヘッドとの間で、摩擦
係数が大きくなり、装置停止時にディスク表面の潤滑剤
あるいは吸着水蒸気のため、強い吸着を生じ次の起動待
磁気ヘッド及び磁気ディスクに損傷を与えることがある
。
タクトスタートストップ形の磁気ヘッドとの間で、摩擦
係数が大きくなり、装置停止時にディスク表面の潤滑剤
あるいは吸着水蒸気のため、強い吸着を生じ次の起動待
磁気ヘッド及び磁気ディスクに損傷を与えることがある
。
このような損傷は以後ヘット９クラツシユに発展し、装
置としての機能を損う要因となる。ここで吸着力を小さ
くするには、媒体表面精度を粗くすれば良いが、単に通
常の機械加工法で表面粗さ全適度に粗くした場合には凹
部のみならず同程度の凸部も形成され磁気ヘッド浮上安
定性を損ない、やはクヘッドクラッシュに到ることがあ
る。
置としての機能を損う要因となる。ここで吸着力を小さ
くするには、媒体表面精度を粗くすれば良いが、単に通
常の機械加工法で表面粗さ全適度に粗くした場合には凹
部のみならず同程度の凸部も形成され磁気ヘッド浮上安
定性を損ない、やはクヘッドクラッシュに到ることがあ
る。
本発明は磁気ディスク媒体用基板の表面に適度の凹部の
みを形成して特定の表面Ｎ度を有するようにし、媒体表
面の摩擦係数と吸着力を極小にして上記従来技術の欠点
を解消し几ものであって、その構成は１表面をアルマイ
ト層で被覆したアルミニウム合金基板上に磁性薄膜全形
成してなる磁気ディスク媒体において、上記基板を鏡面
仕上げした後、該基板表面全エツチングして凹部を形成
し、ｋＬａｏ−００７〜０．０１４μｍの表面精度にし
たことを特徴とし、更に該表面精度を形成する最適な一
例として該基板を鏡面仕上げした後に、 ０２．Ａｒ又
はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチングによ
り上記表面精度を形成したこと金時徴とする。
みを形成して特定の表面Ｎ度を有するようにし、媒体表
面の摩擦係数と吸着力を極小にして上記従来技術の欠点
を解消し几ものであって、その構成は１表面をアルマイ
ト層で被覆したアルミニウム合金基板上に磁性薄膜全形
成してなる磁気ディスク媒体において、上記基板を鏡面
仕上げした後、該基板表面全エツチングして凹部を形成
し、ｋＬａｏ−００７〜０．０１４μｍの表面精度にし
たことを特徴とし、更に該表面精度を形成する最適な一
例として該基板を鏡面仕上げした後に、 ０２．Ａｒ又
はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチングによ
り上記表面精度を形成したこと金時徴とする。
以下に本発明を図面を参照して詳細に覗明する。
第１し１（ａ）は従来のラップ・ポリシュ法で鏡面仕上
げした表面に膜厚２μｍのアルマイト層を有するアルマ
イト被覆アルミ合金基板の表面精度を示すグラフであり
凹凸の少な込なめらがな表面になっている８第１図（ｂ
） Ｖｉ本発明に係る基板表面の精度を示すグラフであ
ｐ上記（ａ）の基板をプラズマエツチング装置に入れ、
ｏ２雰囲気９ ｐａ ｅＩ■−電力密度０ 、２ ｗ／
ｒ、ａで１時間エツチングし之ものでこの間平均Ｏ，Ｏ
Ｓμｍエツチングされている。
げした表面に膜厚２μｍのアルマイト層を有するアルマ
イト被覆アルミ合金基板の表面精度を示すグラフであり
凹凸の少な込なめらがな表面になっている８第１図（ｂ
） Ｖｉ本発明に係る基板表面の精度を示すグラフであ
ｐ上記（ａ）の基板をプラズマエツチング装置に入れ、
ｏ２雰囲気９ ｐａ ｅＩ■−電力密度０ 、２ ｗ／
ｒ、ａで１時間エツチングし之ものでこの間平均Ｏ，Ｏ
Ｓμｍエツチングされている。
該第１図（ｂ）から明らがなようにＲｍａｘ Ｏ，１１
Ｊｉｍｌ、ｔＬａＯ，０１μｍの四部が形成され、磁気
ヘッドの浮上安定性を損なう凸部は見られない。このよ
うな四部はエツチング時ｒｌＪ？にょジどのような深さ
にも形成が可能である。
Ｊｉｍｌ、ｔＬａＯ，０１μｍの四部が形成され、磁気
ヘッドの浮上安定性を損なう凸部は見られない。このよ
うな四部はエツチング時ｒｌＪ？にょジどのような深さ
にも形成が可能である。
以上のように、凹部のみを有する特定の表面精度を形成
するには基板表面を鏡面仕上げした後に、０２．Ａｒ又
はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチングすれ
ばよい。該プラズマエツチングの例を第２図、第３図に
示す。第２肉はアルミニウム合金基板の表面をアルマイ
トで被覆し、鏡面仕上げしｔ後に、ｏ２雰囲気９ｐａ。
するには基板表面を鏡面仕上げした後に、０２．Ａｒ又
はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチングすれ
ばよい。該プラズマエツチングの例を第２図、第３図に
示す。第２肉はアルミニウム合金基板の表面をアルマイ
トで被覆し、鏡面仕上げしｔ後に、ｏ２雰囲気９ｐａ。
Ｒ１１ｉ” ｔカ密度０．２ｗ／ｃＪでプラズマエツチ
ングした場合の例であり、エツチング時間と基板表面粗
さ全グラフに示す。この図からエツチング時間を変える
のみで所望の四部深さを有する基板の得られることがわ
がる。尚、 ＲＦ電力密度を増せばさらにエッチレート
を上げることも可能であるが、基板面の（７！度が上昇
しアルマイト／ｄにクラックを発生することがあｔ）、
０．５ｗ／ｉ以上では良好な面が得られない。第３図
は鏡面仕上げしたアルマイト被覆アルミ合金基板をＡｒ
ｇ囲気９ ｐａ 、 ＲＦ電力密度０ 、２ ｗ／ｉで
プラズマエツチングした場合の例でありエツチング時間
と基板表面粗さ全グラフに示す。第３図においてもｏ２
雰囲気とに、は同様の傾向を示すことがゎがる。またＯ
２とＡｒの混合ガスを用いても同様なエツチング時間と
基板表面粗さの関係が得られる。
ングした場合の例であり、エツチング時間と基板表面粗
さ全グラフに示す。この図からエツチング時間を変える
のみで所望の四部深さを有する基板の得られることがわ
がる。尚、 ＲＦ電力密度を増せばさらにエッチレート
を上げることも可能であるが、基板面の（７！度が上昇
しアルマイト／ｄにクラックを発生することがあｔ）、
０．５ｗ／ｉ以上では良好な面が得られない。第３図
は鏡面仕上げしたアルマイト被覆アルミ合金基板をＡｒ
ｇ囲気９ ｐａ 、 ＲＦ電力密度０ 、２ ｗ／ｉで
プラズマエツチングした場合の例でありエツチング時間
と基板表面粗さ全グラフに示す。第３図においてもｏ２
雰囲気とに、は同様の傾向を示すことがゎがる。またＯ
２とＡｒの混合ガスを用いても同様なエツチング時間と
基板表面粗さの関係が得られる。
次に上記基板を用いた磁気ディスク媒体を従来のものと
比較すると、その摩擦係数、吸着力について以下の如く
！＋１著な差異が与られる。
比較すると、その摩擦係数、吸着力について以下の如く
！＋１著な差異が与られる。
まずｅ述のＪ′：うにプラズマエツチングにより基板表
面に四部のみを形成しＰ９′ｒ定の表面精度にした基板
上に反応スパッタ及び熱処理により０．１７μｍのγ−
Ｆｅ２０３磁性薄膜を施した磁気ディスク媒体の試料を
作成した。■」様に従来の鏡面仕上げした基板上に０．
１７μｍのγ−Ｌｉ”Ｏ２０３磁性薄膜を形成した磁気
ディスク媒体の試料を作成した。これら各試料につき、
その表面に液体潤滑剤の希釈液全塗布したときの磁気ヘ
ッドとの摩擦係数及び吸着力を測定した。その結果？！
ｌ−第１表に示す。尚液体側滑剤としてはデュポン社の
クライットックスＡＣを用いた。父、各試料については
基板表面精度が、１もａ Ｏ，００５，０，００７゜０
．０１０．０．０１４のものをそれぞれ用い、この４種
の試料に帆１７μｍのγ−Ｆｅｗ ０３ｔｌ−形成した
ものに、クライトツクスＡＣのフレオン溶液０．００５
゜０．０１．０．１．０．５チの潤滑剤を塗布し、それ
ぞれの試料についてテーノ４フラット形Ｍ４−Ｚｎフェ
ライトヘット°（負荷６ｆｆ）との摩擦係数を調べた。
面に四部のみを形成しＰ９′ｒ定の表面精度にした基板
上に反応スパッタ及び熱処理により０．１７μｍのγ−
Ｆｅ２０３磁性薄膜を施した磁気ディスク媒体の試料を
作成した。■」様に従来の鏡面仕上げした基板上に０．
１７μｍのγ−Ｌｉ”Ｏ２０３磁性薄膜を形成した磁気
ディスク媒体の試料を作成した。これら各試料につき、
その表面に液体潤滑剤の希釈液全塗布したときの磁気ヘ
ッドとの摩擦係数及び吸着力を測定した。その結果？！
ｌ−第１表に示す。尚液体側滑剤としてはデュポン社の
クライットックスＡＣを用いた。父、各試料については
基板表面精度が、１もａ Ｏ，００５，０，００７゜０
．０１０．０．０１４のものをそれぞれ用い、この４種
の試料に帆１７μｍのγ−Ｆｅｗ ０３ｔｌ−形成した
ものに、クライトツクスＡＣのフレオン溶液０．００５
゜０．０１．０．１．０．５チの潤滑剤を塗布し、それ
ぞれの試料についてテーノ４フラット形Ｍ４−Ｚｎフェ
ライトヘット°（負荷６ｆｆ）との摩擦係数を調べた。
７／
第１表から明らかなように従来の鏡面仕上げによる基板
（表面精度Ｒ８０，００５μｍ）を用いた場合に比べ本
発明に係る表面精度を有する基板（Ｒａ Ｏ，００７〜
０．０１４μｍ）の試料では潤滑剤濃度の許合範囲（０
，２５以下）が広いことがわかる。
（表面精度Ｒ８０，００５μｍ）を用いた場合に比べ本
発明に係る表面精度を有する基板（Ｒａ Ｏ，００７〜
０．０１４μｍ）の試料では潤滑剤濃度の許合範囲（０
，２５以下）が広いことがわかる。
次に１表面精度の異なる基板にγ−Ｆｅ２Ｏ３を形成し
仁れに前記クライトツクスＡＣのフレオン溶液帆１チを
塗布し、テーノ等フラットＭｎ−Ｚｎフェライトヘッド
を負荷６ｆｆでコンタクト・ストップさせ２４時間後の
吸着力を測定したところ表２の結果を得た。
仁れに前記クライトツクスＡＣのフレオン溶液帆１チを
塗布し、テーノ等フラットＭｎ−Ｚｎフェライトヘッド
を負荷６ｆｆでコンタクト・ストップさせ２４時間後の
吸着力を測定したところ表２の結果を得た。
表２
ここで、几ａが帆Ｇ１４μｍを超える基板のＲｍａｘす
なわち凹みの深さは第２図から明らかなように帆１７μ
ｍを超え１本実施例のγ−Ｆｅ！０３媒体厚さに相当す
る。従来からこの範囲ズ”媒体の信号対雑音比（ＳＮＩ
Ｌ）が著るしく大きくなることが明らかにされており上
記表面精度以上に粗くすることはむしろ好ましくない。
なわち凹みの深さは第２図から明らかなように帆１７μ
ｍを超え１本実施例のγ−Ｆｅ！０３媒体厚さに相当す
る。従来からこの範囲ズ”媒体の信号対雑音比（ＳＮＩ
Ｌ）が著るしく大きくなることが明らかにされており上
記表面精度以上に粗くすることはむしろ好ましくない。
一方鏡面仕上げ面の表面精度Ｒａ ｏ、ｏ ０５μｍＶ
Ｃ近い粗さの場合、摩擦係数と吸着力の低下を期待でき
ない。
Ｃ近い粗さの場合、摩擦係数と吸着力の低下を期待でき
ない。
以上、第１表および第２表から、基板の表面精度はＩ（
、ａ ０．００７〜Ｏ−０１４μｍの範囲において最適
な効果を得られることがわかる。
、ａ ０．００７〜Ｏ−０１４μｍの範囲において最適
な効果を得られることがわかる。
本発明において前述のように摩擦係数と吸着力が低下子
るのは、基板表面に形成した磁気デスク面の四部に液体
潤滑剤が多量に入り長期わたる潤滑効果を表わすと共に
、磁気ヘッド接触する面積を少なくし接触面における潤
滑及び吸着水分による表面張力が小さくなる結によるも
めと考えられる。
るのは、基板表面に形成した磁気デスク面の四部に液体
潤滑剤が多量に入り長期わたる潤滑効果を表わすと共に
、磁気ヘッド接触する面積を少なくし接触面における潤
滑及び吸着水分による表面張力が小さくなる結によるも
めと考えられる。
以上説明したように本発明のアルマイト被覆アルミ合金
基板を用いたものは、磁気ディスクの潤滑された表面の
賑擦係数と吸着力全従来の鏡面仕上げ基板のそれと比較
して著るしく低くすることができ、摩耗や吸着によるヘ
ッドクラッシュを防ぐ効果が大きい利点がある。
基板を用いたものは、磁気ディスクの潤滑された表面の
賑擦係数と吸着力全従来の鏡面仕上げ基板のそれと比較
して著るしく低くすることができ、摩耗や吸着によるヘ
ッドクラッシュを防ぐ効果が大きい利点がある。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）は従来の鏡面仕上げアルマイト被覆アルミ
合金基板表面の粗さを示すグラフ。 第１図中）は本発明により適度に粗くしたアルマイト被
覆アルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ。 第２図は本発明による。０２雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフ。 第３図は本発明による。Ａｒ雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフである。 特許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士 光 石 士 部（他１名） 第１図 （ａ） （ｂ） １１２− 第２図 平均エツチングレート エツチング時間（分）
合金基板表面の粗さを示すグラフ。 第１図中）は本発明により適度に粗くしたアルマイト被
覆アルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ。 第２図は本発明による。０２雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフ。 第３図は本発明による。Ａｒ雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフである。 特許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士 光 石 士 部（他１名） 第１図 （ａ） （ｂ） １１２− 第２図 平均エツチングレート エツチング時間（分）
Claims (1)
- （１）表面をアルマイト層で被覆したアルミニウム合金
基板上に磁性薄膜を形成してな７る磁気ディスク媒体に
おいて、上記基板と鏡面仕上げした後、該基板表面全エ
ツチングして凹部を形成し、 Ｒａ０．００７〜０．０
１４μｍの表面精度にしたことを特徴とする磁気ディス
ク媒体用基板。 （２、特許請求の範囲第１項において、該基板を鏡面仕
上げした後に、 Ｑ、、Ａｒ又はこれらの混合ガス雰囲
気中でプラズマエツチングにより上記表面精度を形成し
たことを特徴とする磁気ディスク媒体用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57130456A JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57130456A JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922220A true JPS5922220A (ja) | 1984-02-04 |
| JPH0130226B2 JPH0130226B2 (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=15034668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57130456A Granted JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922220A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6476422A (en) * | 1987-09-16 | 1989-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | Magnetic disk |
| JPH0191319A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Noboru Tsuya | 磁気ディスクの製造方法 |
-
1982
- 1982-07-28 JP JP57130456A patent/JPS5922220A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6476422A (en) * | 1987-09-16 | 1989-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | Magnetic disk |
| JPH0191319A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Noboru Tsuya | 磁気ディスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0130226B2 (ja) | 1989-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61267929A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4820584A (en) | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same | |
| JPH04339312A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH08190710A (ja) | 磁気ヘッド | |
| WO2014061248A1 (ja) | 熱アシスト記録方式用磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS5922220A (ja) | 磁気ディスク媒体用基板 | |
| JPS5982626A (ja) | 磁気デイスク基板 | |
| JPH0210518A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JPH03259419A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPS6038720A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH0823935B2 (ja) | 薄膜磁気記録媒体 | |
| JP2546383B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPS5982625A (ja) | 磁気デイスク基板の作製方法 | |
| JPH0612568B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2704615B2 (ja) | 磁気記録装置 | |
| JP3024769B2 (ja) | 磁気ハードディスク | |
| JPH0416855B2 (ja) | ||
| JP2638228B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01118217A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPH08212541A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH04109427A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62229526A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH07111775B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS60172465A (ja) | 高密度磁気デイスク基板の研磨方法 | |
| JPS59110796A (ja) | 磁気デイスク基板の製造方法 |