JPH01128224A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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Publication number
JPH01128224A
JPH01128224A JP62286078A JP28607887A JPH01128224A JP H01128224 A JPH01128224 A JP H01128224A JP 62286078 A JP62286078 A JP 62286078A JP 28607887 A JP28607887 A JP 28607887A JP H01128224 A JPH01128224 A JP H01128224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
magnetic recording
layer
oxygen
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP62286078A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Shinohara
紘一 篠原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する垂直磁気記録用の磁気
記録媒体に関する。
従来の技術 垂直磁気記録は、磁気ヘッドと磁気記録媒体を接触させ
て記録再生する技術にあって、100KBPIを越える
線記録密度になると、長手記録に対する優位性が明白に
なり、特にディジタル記録に適していることから、今後
の高密度化のための根幹の技術となると思われるもので
近年研究開発が盛んである。垂直記録には、従来の長手
記録と累々る異方性をもった磁気記録媒体が必要で、2
 \− 現状では、ポリイミド膜上のGo−Cr垂直磁化膜で、
スパッタリング法、電子ビーム蒸着法のいずれの方法に
於て製造したものでも良いが、結晶配向性が良好で、垂
直抗磁力の大きなものが、比較的優れた高密度記録特性
を与えられることができることが知られている〔応用磁
気セミナ゛垂直磁気記録方式”(e2年12月)参照〕
一方では、耐久性の向上が実用化にとって重要々課題と
して認識され、保護膜、潤滑剤の検討が盛んであるが、
これらはいずれも短波長になる程大きくなる損失のスペ
ーシング損失の原因となるもので、保護層々しの状態で
ガの犬き々媒体条件を求めることが重要となってきてい
る。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、ポリイミドやポリエチレンテレフタレー
I・に連続的にGo−Cr垂直磁化膜を形成シタモのは
、フィルムの脱ガス処理や、バンクグラウンドの真空度
を改善するなどにより(Nの改善が進められているが、
現状では不十分で、耐久性とガを実用水準に近ずけられ
る系は知られて3へ一/ い々いことから改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑み、なされたもので、耐久性
と%の優れた磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体は
、Co1r垂直磁化膜の表層部に酸素注入層を形成した
上に硬質炭素薄膜を配したものである。
作用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、Go−
Crr垂直磁化膜の表層部が硬くなるのと、更に硬い硬
質炭素薄膜の形成時に、その雰囲気が最尤性のため、酸
素が失われるが、その酸素は過剰酸素であることから、
硬さの位記は維持されるので、硬質炭素薄膜を薄くして
も耐久性が得られるので、スペーシング損失を小さくシ
カ改善ができるのである。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例の磁気記録
媒体について詳しく説明する。図は本発明の一実施例に
係る磁気記録媒体の拡大断面図で、図で1は、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ホリ
フエニレンサルファイド、ポリエーテルサルレフオン、
ポリアミドイミド、ポリイミド等の高分子フィルムで2
はAe203、Eu2O3,5i02、TiO2、Zn
O、ポリエステル球等の微粒子を配した微粒子塗布層で
、この層はあらかじめ高分子フィルムと複合化されたも
のであってもよい。3は、Go−Or垂直磁化膜で、N
b、Ru、Re、Ta、Rh等を添加したものも包含し
ている。垂直磁化膜形成は公知のいずれの方法でもよい
。4は酸素注入層で、30Aから100λの範囲で、酸
素イオン又は中性酸素原子いずれかを注入して得られる
層で、エネルギーは26〜100(key)で注入の粒
子密度は107〜1o + + 外各□m )2の範囲
で最適化するものとする。
5は硬質炭素薄膜で、グラファイトをターゲットにして
スパッタリング法で形成するか、炭化水素系気体のプラ
ズマ加速による方法で形成すればよ5ヘ−ノ く、最適膜厚は50λから160^の範囲である。
6は脂肪酸、脂肪酸アミド、パーフルオロポリエーテル
、パーフルオロアルキルカルボン酸等の潤滑剤層である
。以下更に具体的に本発明の一実施例について比較例と
の対比で詳しく説明する。厚み12μmのポリエチレン
テレフタレートフィルム上に直径140^のAe203
微粒子を6茗tm)2配して、その上にCo1r−Nb
(Co:Cr:Nb=79:15:6.原子%比)をタ
ーゲットにし、Ar分圧0.01 (Torr)で13
.56(MH2)1、e (KW)の高周波グロー放電
を用いスパッタリングすることで0.1μmのCo1r
−Nb垂直磁化膜を形成し、表面に、50(kev)の
酸素原子を109ケ/Cfim)2の密度で注入してか
ら、グラフマイ1−をターゲットにして、Ar分圧0.
01 (Torr)、H2分圧0.04(Torr)で
13.5 e (MHz ) 1.4(KW)の高周波
グロー放電によるスパッタリングで硬質炭素薄膜を80
^形成し、その上にパーフルオロパルミチン酸を40^
真空蒸着し、8ミリ幅の磁気テープとした。一方、比較
例は、酸素性6 ・\−7 人を省略したのと、硬質炭素薄膜を20oXとした以外
は実施例と同じ構成のものを準備した。両者を改造した
8ミリビデオにより、ギャップ長0.1μmのセンダス
ト合金ヌパソタ膜とフェライトの複合型のリングヘッド
により、ビット長0.2μmの記録再生を行ってガを比
較した。実施例の方がガは4.6(dB)良好であった
。尚スチル状態での時間当りの出力低下率は実施例も比
較例も1.2〜1.4 (dB/h)で耐久性は十分で
あった。
発明の効果 以上のように本発明によれば、短波長での的の優れた磁
気記録媒体が得られるといったすぐれた効果がある。
【図面の簡単な説明】
図は、本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断面
図である。 1・・・・高分子フィルム、2・・・・・・微粒子塗布
層、3・・・・・・Co−Cr−Nb垂直磁化膜、4・
・・・・酸素注入層、5・・・・硬質炭素薄膜、6・・
・・潤滑剤層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Co−Cr垂直磁化膜の表層部に酸素注入層を形成した
    上に硬質炭素薄膜を配したことを特徴とする磁気記録媒
    体。
JP62286078A 1987-11-12 1987-11-12 磁気記録媒体 Pending JPH01128224A (ja)

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JP62286078A JPH01128224A (ja) 1987-11-12 1987-11-12 磁気記録媒体

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JP62286078A JPH01128224A (ja) 1987-11-12 1987-11-12 磁気記録媒体

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JPH01128224A true JPH01128224A (ja) 1989-05-19

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JP62286078A Pending JPH01128224A (ja) 1987-11-12 1987-11-12 磁気記録媒体

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