JPH01130707A - ポリアミド逆浸透膜 - Google Patents
ポリアミド逆浸透膜Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
- B01D69/1251—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction by interfacial polymerisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/56—Polyamides, e.g. polyester-amides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は水浴性の多官能性アミンと実質上水に不溶の多
1能性アシルハライドとの界面重合で製造されたポリア
ミド膜とその製造方法に関する。
1能性アシルハライドとの界面重合で製造されたポリア
ミド膜とその製造方法に関する。
〈従来の技術及び発明が解決しようとする課題〉逆浸透
膜はポリアミドを含めたさまざまの高分子材料から製造
されている。ポリアミド膜は米国特許第3,567゜6
32;3.600,350;3.687,842;3,
696,031;3.878.109 ; 3,904
,519 ; 3.948.823 ;3.951,7
89 ; 3,993.625 ;4302.336
;4.337.154及び4,387,024号に記載
されている。
膜はポリアミドを含めたさまざまの高分子材料から製造
されている。ポリアミド膜は米国特許第3,567゜6
32;3.600,350;3.687,842;3,
696,031;3.878.109 ; 3,904
,519 ; 3.948.823 ;3.951,7
89 ; 3,993.625 ;4302.336
;4.337.154及び4,387,024号に記載
されている。
これらのポリアミド膜は一般に実質上線状高分子であり
、比較的低い水フラックス[(lVGtaデfLsz
) :l透水量〕を示す。
、比較的低い水フラックス[(lVGtaデfLsz
) :l透水量〕を示す。
非対称膜は適切な浴媒に高分子を溶解し、フィルム又は
繊維の形に注型して次にこれt水中でクエンチしてaを
形成する。更にポリアミド複合膜も先行技術で記述され
ている。かかる膜の例は米国特許第3,744.642
;3.951゜815 ; 4,005,012 ;及
び4,039,440号に開示されている。技術の絶え
ざる開発で比較的低La1d圧力(膜の両側の圧力差)
で使用できる改良された膜が得られている。米国特許第
4,259.1 F1a号は架橋したポリアミド弁別層
(活性層)乞有するある種の・飄合膜を記載している。
繊維の形に注型して次にこれt水中でクエンチしてaを
形成する。更にポリアミド複合膜も先行技術で記述され
ている。かかる膜の例は米国特許第3,744.642
;3.951゜815 ; 4,005,012 ;及
び4,039,440号に開示されている。技術の絶え
ざる開発で比較的低La1d圧力(膜の両側の圧力差)
で使用できる改良された膜が得られている。米国特許第
4,259.1 F1a号は架橋したポリアミド弁別層
(活性層)乞有するある種の・飄合膜を記載している。
この弁別層は水溶性の第2級アミンと水に不溶の多官能
性了シルハライドとの界面重合で製造される。
性了シルハライドとの界面重合で製造される。
米国特許第4,259.183号に記載された好ましい
膜はいくつかの並はずれた性質を有している。これらの
股は比較的低い71!il!圧力で著るしい水フラック
スを示し、そしてしかもイオン選択的である。特許記載
の膜は1価アニオン塩よりも、より大きな多価アニオン
塩の排除率を示す。
膜はいくつかの並はずれた性質を有している。これらの
股は比較的低い71!il!圧力で著るしい水フラック
スを示し、そしてしかもイオン選択的である。特許記載
の膜は1価アニオン塩よりも、より大きな多価アニオン
塩の排除率を示す。
従って、かかる膜はこの種の塩の除去が望ましい水の軟
化の様な用途で有用である。
化の様な用途で有用である。
格別の逆浸透用途用に別の薄いフィルムの複合ポリアミ
ド膜が開発されている。米国特許第4,277,344
号は、場合により他のアシルハライドを伴なうトリメソ
イルクロライドと単量体の芳香族ジアミン又はポリアミ
ンとの界面重合で製造された弁別層を有するある種の複
合膜を記載している。これらの膜は逆浸透用途で極めて
高い塩化ナトリウム排除率を保持しつつすぐれた水フラ
ツクスを有していることが判明した。
ド膜が開発されている。米国特許第4,277,344
号は、場合により他のアシルハライドを伴なうトリメソ
イルクロライドと単量体の芳香族ジアミン又はポリアミ
ンとの界面重合で製造された弁別層を有するある種の複
合膜を記載している。これらの膜は逆浸透用途で極めて
高い塩化ナトリウム排除率を保持しつつすぐれた水フラ
ツクスを有していることが判明した。
複合ポリアミド膜の製造では鼎点に遭遇している。多く
の基体物質、例えばポリスルホン支持体〔担体〕は界面
重合に関与する水相で基体を均一に被覆するのを促進す
るために適度に湿っている必要がある。界面活性剤、例
えばナトリウムラウリルサルフェートをこの湿潤を促進
するために使用できる。然し界面活性剤の存在は弁別層
に望ましからざる不連続部又は欠陥を生ずる可能性があ
る。所望の界面重合に有害な影響を生じるような通常の
界面活性剤例えはナトリウムラウリルサルフェートの高
過ぎる濃度は避けるのが望ましい。他の界面活性剤及び
湿潤剤、例えばポリビニルアルコールはポリアミド複合
膜の製造に使用されている。然し、これらの′/i潤剤
は膜の弁別層の化学耐性を低下させる可能性のあること
が判明している。
の基体物質、例えばポリスルホン支持体〔担体〕は界面
重合に関与する水相で基体を均一に被覆するのを促進す
るために適度に湿っている必要がある。界面活性剤、例
えばナトリウムラウリルサルフェートをこの湿潤を促進
するために使用できる。然し界面活性剤の存在は弁別層
に望ましからざる不連続部又は欠陥を生ずる可能性があ
る。所望の界面重合に有害な影響を生じるような通常の
界面活性剤例えはナトリウムラウリルサルフェートの高
過ぎる濃度は避けるのが望ましい。他の界面活性剤及び
湿潤剤、例えばポリビニルアルコールはポリアミド複合
膜の製造に使用されている。然し、これらの′/i潤剤
は膜の弁別層の化学耐性を低下させる可能性のあること
が判明している。
高い水フラックスと良好な化学耐性を有する水軟化の用
途に有用な膜の再現性ある製造方法が望まれている。特
に塩基性の鋳、例えば12又は13のpHVC,数時間
の間耐える膜が工業上興味のあるものである。かかる塩
基性溶液には通常の試薬を用いるこれらの膜のクリーニ
ングで遭遇することがあり得る。
途に有用な膜の再現性ある製造方法が望まれている。特
に塩基性の鋳、例えば12又は13のpHVC,数時間
の間耐える膜が工業上興味のあるものである。かかる塩
基性溶液には通常の試薬を用いるこれらの膜のクリーニ
ングで遭遇することがあり得る。
く課題を解決するための手段〉
水溶液中の′4■能性で本質上水溶性の第1級又は第2
級アミンと、有機溶液中の少なくとも2の平均アシルハ
ライド官能性を有する比較的に水に不溶の多官能性アシ
ルハライドとの界面重合で製造した架橋したポリアミド
弁別層〔活性層〕を有する複合逆浸透膜の製造方法が今
や児出された。この改良された方法では複数個のイオン
性部分を持った高分子湿潤剤の有効量を水溶液に使用し
て、すぐれた苛性耐性を有する複合逆浸透膜を製造する
。
級アミンと、有機溶液中の少なくとも2の平均アシルハ
ライド官能性を有する比較的に水に不溶の多官能性アシ
ルハライドとの界面重合で製造した架橋したポリアミド
弁別層〔活性層〕を有する複合逆浸透膜の製造方法が今
や児出された。この改良された方法では複数個のイオン
性部分を持った高分子湿潤剤の有効量を水溶液に使用し
て、すぐれた苛性耐性を有する複合逆浸透膜を製造する
。
本発明は、多孔性支持体上のポリアミド弁別層から成る
複合逆浸透Igを含み、これは好ましい態様では膜構造
中にイオン性高分子湿潤剤を包含している。先行技術で
得られるものにまさったこの膜組成物の特長の一つは、
膜を通過する水フラックス(即ち通水m)を目立って損
なわずに達成される改善された苛性耐性である。更にこ
の弁別層は基体へのすぐれた密着性を示す。
複合逆浸透Igを含み、これは好ましい態様では膜構造
中にイオン性高分子湿潤剤を包含している。先行技術で
得られるものにまさったこの膜組成物の特長の一つは、
膜を通過する水フラックス(即ち通水m)を目立って損
なわずに達成される改善された苛性耐性である。更にこ
の弁別層は基体へのすぐれた密着性を示す。
第三の態様では、本発明は新規な組成と注状のポリアミ
ド弁別層を有する薄いフィルムの複合膜に関する。
ド弁別層を有する薄いフィルムの複合膜に関する。
第四の態様では、ここに記載された方法で製造した膜の
、塩化ナトリウム又は他の1idbアニオン塩の有機化
合物及び/又は2価又は多価アニオン塩からの分離での
使用に関する。好ましい膜の塩化ナトリウム排除率が比
較的低いので、逆浸透法で浸透圧に打克つのに要する膜
通過(トランスメングレン)圧力が、他の在来の逆浸透
膜の場合よりも遥か−に低い。例えば海水の浸透圧の8
0%以上は存在している塩化ナトリウムに起因し【いる
。塩化ナトリウム及び他の1価アニオン塩の低い排除率
が許容できる場合には、より高い塩化す) IJウム排
除率を有する多(の先行技術の膜よりも遥かに低い圧力
で本発明の膜が使用できる。例えば、かかる膜は海水中
に存在する硫酸マグネシウムの濃縮に使用できる。
、塩化ナトリウム又は他の1idbアニオン塩の有機化
合物及び/又は2価又は多価アニオン塩からの分離での
使用に関する。好ましい膜の塩化ナトリウム排除率が比
較的低いので、逆浸透法で浸透圧に打克つのに要する膜
通過(トランスメングレン)圧力が、他の在来の逆浸透
膜の場合よりも遥か−に低い。例えば海水の浸透圧の8
0%以上は存在している塩化ナトリウムに起因し【いる
。塩化ナトリウム及び他の1価アニオン塩の低い排除率
が許容できる場合には、より高い塩化す) IJウム排
除率を有する多(の先行技術の膜よりも遥かに低い圧力
で本発明の膜が使用できる。例えば、かかる膜は海水中
に存在する硫酸マグネシウムの濃縮に使用できる。
多官能性アシルハライドと少なくとも2個の第1級又は
第2級アミン(基)を持った化合物から製造された架橋
ポリアミドの薄いフィルムの複合膜は当業者に知られて
いる。
第2級アミン(基)を持った化合物から製造された架橋
ポリアミドの薄いフィルムの複合膜は当業者に知られて
いる。
かかるポリアミドはアシルハライド反応物とポリアミン
反応物のいずれかが平均して2個より多い反応性基を反
応物上に持たせることで好都合に架橋される。米国特許
第4.259.183号は第2級アミンを有する化合物
からのか\る膜の製造方法と得られた膜の性能を記載し
ている。
反応物のいずれかが平均して2個より多い反応性基を反
応物上に持たせることで好都合に架橋される。米国特許
第4.259.183号は第2級アミンを有する化合物
からのか\る膜の製造方法と得られた膜の性能を記載し
ている。
か\るポリアミド膜製造の常法では、全体として少なく
とも2個の反応性アミン基を持っている少なくとも1種
の多官能性の水溶性化合物を含有する水溶液が好ましい
。アシルハライド部分と反応性の第1級又は第2級アミ
ン基が本町a沓中では反応性アミン基と呼ばれ、少なく
とも2個の反応性アミン基を持っている化合物がポリア
ミンとして好ましい。高分子又はオリゴマーのポリアミ
ンを用いて実施することもできるが、好ましくはポリア
ミンは本質上単量体である。好ましくはこのポリアミン
化合物は0.05乃至5重量%、より好ましくは1乃至
2重量%の範囲の濃度で存在するものとする。ポリアミ
ンを含有する水溶液は場合によっては共溶媒又は溶解反
変性剤も含有し得るが、これは一般に好ましくないこと
に留意されたい。
とも2個の反応性アミン基を持っている少なくとも1種
の多官能性の水溶性化合物を含有する水溶液が好ましい
。アシルハライド部分と反応性の第1級又は第2級アミ
ン基が本町a沓中では反応性アミン基と呼ばれ、少なく
とも2個の反応性アミン基を持っている化合物がポリア
ミンとして好ましい。高分子又はオリゴマーのポリアミ
ンを用いて実施することもできるが、好ましくはポリア
ミンは本質上単量体である。好ましくはこのポリアミン
化合物は0.05乃至5重量%、より好ましくは1乃至
2重量%の範囲の濃度で存在するものとする。ポリアミ
ンを含有する水溶液は場合によっては共溶媒又は溶解反
変性剤も含有し得るが、これは一般に好ましくないこと
に留意されたい。
重合して弁別層を形成するポリアミン反応物はアシルハ
ライドと反応性の2個以上のアミン基を持っている化合
物であれば良い。好ましくは該多能件アミン化合物は脂
肪族又はシクロ脂肪族性のものである。より好ましくは
、第1級及び/又は第2級アミン化合物はピペラジン、
2個の反応性アミン基を有する置換ピペラジン誘導体、
少なくとも2個の反応性アミン又はアミノアルキル−M
を持っているシクロヘキサン又は少なくとも1個の反応
性アミン又はアミノアルキル基を持っているピペリジン
である。例えば、2−メチルピペラジン、2.5−ジメ
チルピペラジン、1゜3−シクロヘキサンビス(メチル
アミン)、1.2−ジアミノシクロヘキサン、1.3−
ジアミノシクロヘキサン、4−アミノピペリジン、3−
アミノピペリジン、ビビペリジン又は1,4−ジアミノ
シクロヘキサンがピペラジンとして使用でき、4−アミ
ノメチルピペリジンが好ましい。
ライドと反応性の2個以上のアミン基を持っている化合
物であれば良い。好ましくは該多能件アミン化合物は脂
肪族又はシクロ脂肪族性のものである。より好ましくは
、第1級及び/又は第2級アミン化合物はピペラジン、
2個の反応性アミン基を有する置換ピペラジン誘導体、
少なくとも2個の反応性アミン又はアミノアルキル−M
を持っているシクロヘキサン又は少なくとも1個の反応
性アミン又はアミノアルキル基を持っているピペリジン
である。例えば、2−メチルピペラジン、2.5−ジメ
チルピペラジン、1゜3−シクロヘキサンビス(メチル
アミン)、1.2−ジアミノシクロヘキサン、1.3−
ジアミノシクロヘキサン、4−アミノピペリジン、3−
アミノピペリジン、ビビペリジン又は1,4−ジアミノ
シクロヘキサンがピペラジンとして使用でき、4−アミ
ノメチルピペリジンが好ましい。
N、N’−ジアルキル置換アルキレンジアミン、線状ポ
リ(エチレンイミン)及び芳香族アミン例えばフェニレ
ンジアミンもアミン反応物となシ得るが、一般にシクロ
脂肪族アミン例えばアミン置換ピペリジン、ピペラジン
及びその置換訪導体よりは好ましく無い。異種アミンの
混合物を使用できる。ここで使用できるさまざまのアミ
ンは米国特許第4.337,154号に化合物Bとして
記載されている・。
リ(エチレンイミン)及び芳香族アミン例えばフェニレ
ンジアミンもアミン反応物となシ得るが、一般にシクロ
脂肪族アミン例えばアミン置換ピペリジン、ピペラジン
及びその置換訪導体よりは好ましく無い。異種アミンの
混合物を使用できる。ここで使用できるさまざまのアミ
ンは米国特許第4.337,154号に化合物Bとして
記載されている・。
1本質上水溶性”という言葉は、ここで言うアミン反応
物が水に対する測定可能な溶解度、例えば0.01重量
%より大の、好ましくは1.0重量%より大の溶解度を
椋準的周曲条件で有していることを意味している。
物が水に対する測定可能な溶解度、例えば0.01重量
%より大の、好ましくは1.0重量%より大の溶解度を
椋準的周曲条件で有していることを意味している。
用語1゛イオン性[so%ie]”はカチオン及ヒ/又
はアニオンの電荷を持った基を指す。特に好ましいのは
オニウム基、即ちスルホニウム、第4級アンモニウム、
ピリジニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、オキソニ
ウム、チアゾリニウム、イミダゾリニウム、スルホキソ
ニウム、インチオウロニウム、アゼチジニウム、又はジ
アゾニウムから選ばれたカチオン性基である。特に好ま
しいのはスルホニウム又は第4級アンモニウム部分であ
る。
はアニオンの電荷を持った基を指す。特に好ましいのは
オニウム基、即ちスルホニウム、第4級アンモニウム、
ピリジニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、オキソニ
ウム、チアゾリニウム、イミダゾリニウム、スルホキソ
ニウム、インチオウロニウム、アゼチジニウム、又はジ
アゾニウムから選ばれたカチオン性基である。特に好ま
しいのはスルホニウム又は第4級アンモニウム部分であ
る。
用語1本質上単量体の”とは連錯伸長、架橋又は他の1
合反応が可能な化学的化合物を指す。本質上単量体の化
合物は比較的分子製が低く、そして界面重合反応中で他
の反応性単量体と混ぜ合せる溶媒系に容易に溶解する。
合反応が可能な化学的化合物を指す。本質上単量体の化
合物は比較的分子製が低く、そして界面重合反応中で他
の反応性単量体と混ぜ合せる溶媒系に容易に溶解する。
本質上単量体の化合物は少量のオリゴマー又は小数の反
復単位を含有していても艮い。例えばアミン又はアシル
ハライド化合物は該化合物と二官能性連鎖伸長剤又は三
1能性架橋剤との橋かけで反応してオリゴマーを形成す
る可能性がある。
復単位を含有していても艮い。例えばアミン又はアシル
ハライド化合物は該化合物と二官能性連鎖伸長剤又は三
1能性架橋剤との橋かけで反応してオリゴマーを形成す
る可能性がある。
@連鎖伸長”とは好ましくは本質上分子間で反復した単
蓋体基の線状連鎖を形成する重合反応を指す。“架橋”
は枝分れ又は網状高分子が形成される反応を指す。
蓋体基の線状連鎖を形成する重合反応を指す。“架橋”
は枝分れ又は網状高分子が形成される反応を指す。
ここで言う1湿潤剤(snmtti%gag−%t)″
とは重合時に水相と有機相の間の界面領域で活性なイ
オン性高分子である。疎水性基体を用いた時は、イオン
性高分子湿潤剤が弁別層がその上に形成される基体表面
上のポリアミド水溶液の接触角を減少させる。イオン性
高分子湿潤剤はある態様では界面重合を促進し、膜の形
態を変性し、弁別層と反応するか又は膜特性を向上する
可能性がある。
とは重合時に水相と有機相の間の界面領域で活性なイ
オン性高分子である。疎水性基体を用いた時は、イオン
性高分子湿潤剤が弁別層がその上に形成される基体表面
上のポリアミド水溶液の接触角を減少させる。イオン性
高分子湿潤剤はある態様では界面重合を促進し、膜の形
態を変性し、弁別層と反応するか又は膜特性を向上する
可能性がある。
酸ハライドとアミンの反応を経るポリアミドの形成時に
は塩化水素が発生する。アミンの外に水溶液は好ましく
は酸受容体を含有する。適切な受容体には水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム又は第3級アミンがある。トリエ
チルアミン及びN、N’−ジメチルピペラジンが好まし
い酸受容体である。酸受容体は、反応中に発生する酸群
に対して過剰の酸受容体群が存在するような量で、好ま
しくは存在させる。
は塩化水素が発生する。アミンの外に水溶液は好ましく
は酸受容体を含有する。適切な受容体には水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム又は第3級アミンがある。トリエ
チルアミン及びN、N’−ジメチルピペラジンが好まし
い酸受容体である。酸受容体は、反応中に発生する酸群
に対して過剰の酸受容体群が存在するような量で、好ま
しくは存在させる。
過剰のアミン反応物が存在すると、この過剰分も酸受容
体の役をする。一般にアミン反応物に加える酸受容体は
0.05乃至5重量%、より好ましくは1乃至2重量%
の濃度で存在させ得る。
体の役をする。一般にアミン反応物に加える酸受容体は
0.05乃至5重量%、より好ましくは1乃至2重量%
の濃度で存在させ得る。
弁別層の製造に使用される多官能性アシルハライド反応
物は好都合にはトリアジルハライド又はトリアジルハラ
イドとジアシルハライドの混合物である。ポリアミンが
二官能性又はそれより高い官能性の時は、ジアシルハラ
イド反応物を使用できる。好都合なのはハライドがブロ
マイド又はクロライドであることである。脂肪族アシル
ハライドも用いられるが、芳香族アシルハライドが一般
に好ましい。
物は好都合にはトリアジルハライド又はトリアジルハラ
イドとジアシルハライドの混合物である。ポリアミンが
二官能性又はそれより高い官能性の時は、ジアシルハラ
イド反応物を使用できる。好都合なのはハライドがブロ
マイド又はクロライドであることである。脂肪族アシル
ハライドも用いられるが、芳香族アシルハライドが一般
に好ましい。
特に好ましいのはトリメソイルクロライド又はトリメソ
イルクロライドとインフタロイルクロライド又はテレフ
タロイルクロライドとの混合物である。好ましくは、ア
シルハライドの少なくとも45モル%が、より好ましく
は少なくとも75モル%がトリメソイルクロライドであ
る。水に極めて良(溶けるようなことが無いか又は水と
混り合わない有機溶媒にアシルハライド化合物は実質的
程度に望ましくは可溶である。アシルハライド用の適当
な溶媒には5乃至8個の炭素原子を持ったアルカン及び
1乃至3個の炭素原子を持ったハロゲン化脂肪族化合物
がある。好ましくはアシルハライドを有機溶媒中に0.
03乃至5%の重量%で、より好ましくは0.06乃至
3重量%存在させるのが望ましい。場合によってアシル
ハライドは気相で存在し得るが、一般にこれは好ましく
はない。
イルクロライドとインフタロイルクロライド又はテレフ
タロイルクロライドとの混合物である。好ましくは、ア
シルハライドの少なくとも45モル%が、より好ましく
は少なくとも75モル%がトリメソイルクロライドであ
る。水に極めて良(溶けるようなことが無いか又は水と
混り合わない有機溶媒にアシルハライド化合物は実質的
程度に望ましくは可溶である。アシルハライド用の適当
な溶媒には5乃至8個の炭素原子を持ったアルカン及び
1乃至3個の炭素原子を持ったハロゲン化脂肪族化合物
がある。好ましくはアシルハライドを有機溶媒中に0.
03乃至5%の重量%で、より好ましくは0.06乃至
3重量%存在させるのが望ましい。場合によってアシル
ハライドは気相で存在し得るが、一般にこれは好ましく
はない。
ここに記載する弁別層は覆合逆浸透膜に従来使用されて
いる種類の多孔性基体上に形成される。好ましい支持体
には、ポリスルホン、塩素化ポリビニルクロライド、ポ
リエーテルスルホン、ポリビニリデンフルオロライド、
スチレン−アクリロニトリルコポリマー、セルロースエ
ステル等から製造されたものがある。ポリスルホン基体
は本発明の膜用の特に有効な支持体物質であることが判
明した。かかる多孔性ポリスルホンの製造方法は米国特
許第3.926゜798 ; 4.039,440及び
4,277.344号に記載されている。本明細畜記載
の弁別層の形成方法は疎水性表面について特に有効であ
る。
いる種類の多孔性基体上に形成される。好ましい支持体
には、ポリスルホン、塩素化ポリビニルクロライド、ポ
リエーテルスルホン、ポリビニリデンフルオロライド、
スチレン−アクリロニトリルコポリマー、セルロースエ
ステル等から製造されたものがある。ポリスルホン基体
は本発明の膜用の特に有効な支持体物質であることが判
明した。かかる多孔性ポリスルホンの製造方法は米国特
許第3.926゜798 ; 4.039,440及び
4,277.344号に記載されている。本明細畜記載
の弁別層の形成方法は疎水性表面について特に有効であ
る。
支持体の多孔度は所望の物理的強度を有しつつ、可能な
限り都合良く大であるものとする。一般に多孔性支持体
は40乃至80%の範囲の多孔度を有する。好ましくは
支持体は多孔度圧ついて非対称であって、弁別層が形成
される側に稠密領域を有している。好ましくは、その上
に弁別層を形成する表面の細孔の平均側孔径は15乃至
1.000オングストローム、より好ましくは25乃至
300オングストロームの帥、囲であるのが望ましい。
限り都合良く大であるものとする。一般に多孔性支持体
は40乃至80%の範囲の多孔度を有する。好ましくは
支持体は多孔度圧ついて非対称であって、弁別層が形成
される側に稠密領域を有している。好ましくは、その上
に弁別層を形成する表面の細孔の平均側孔径は15乃至
1.000オングストローム、より好ましくは25乃至
300オングストロームの帥、囲であるのが望ましい。
本発明の好ましい一態様では、0.1乃至5重量%の、
より好ましくは0.5乃至3重量%の範囲のピペラジン
濃度を持つ水溶液としてピペラジンを使用する。ピペラ
ジン自身、塩化水素受容体として作用するか又は、場合
によっては別の酸受容体の有効量を水溶液中に存在させ
ても良い。
より好ましくは0.5乃至3重量%の範囲のピペラジン
濃度を持つ水溶液としてピペラジンを使用する。ピペラ
ジン自身、塩化水素受容体として作用するか又は、場合
によっては別の酸受容体の有効量を水溶液中に存在させ
ても良い。
本発明の別の好ましい態様では4−アミノメチルビペラ
ジン(”AMp“と略記)をピペラジンと同様な方法で
アミンとして使用できる。驚くべきことには、AMPは
2価アニオンの塩のすぐれた排除率と良好な塩化す)
IJウム排除率を有している膜の製造に使用出来、一方
ビペラジン膜はより低い塩化す) IJウム排除率を示
すが2価アニオン塩については同じくすぐれた排除率を
示すことが判明した。
ジン(”AMp“と略記)をピペラジンと同様な方法で
アミンとして使用できる。驚くべきことには、AMPは
2価アニオンの塩のすぐれた排除率と良好な塩化す)
IJウム排除率を有している膜の製造に使用出来、一方
ビペラジン膜はより低い塩化す) IJウム排除率を示
すが2価アニオン塩については同じくすぐれた排除率を
示すことが判明した。
AMP及びピペラジン膜は良好な水フラックス(透水量
)と化学(的)耐性(耐薬品性)も有している。ポリア
ミンとし″(AAIpかピペラジンのいずれかを選択す
ると、・2価アニオン塩のすぐれた排除率と異なった塩
化ナトリウム排除率を有する膜を製造することができる
。
)と化学(的)耐性(耐薬品性)も有している。ポリア
ミンとし″(AAIpかピペラジンのいずれかを選択す
ると、・2価アニオン塩のすぐれた排除率と異なった塩
化ナトリウム排除率を有する膜を製造することができる
。
本発明の方法では、支持体は後述のイオン性高分子湿潤
剤で前処理するか又はポリアミンを含有する水溶液中に
有効量の湿勾剤が存在している必要がある。基体の前処
8!にはより旨い濃度の湿潤剤を必要とするので、アミ
ンを含有する溶液中にイオン性高分子湿潤剤を使用する
のが好ましい。所定の用途についてのイオン性高分子湿
潤剤の最適濃度は実験的に決定できる。好ましくは、イ
オン性高分子湿潤剤は活性固体基準で250乃至20,
000重量pptps、より好ましくは1.000乃至
5.000重hkpp惰の範囲で存在させる。ある好ま
しい態様では湿潤剤を好1しくは、水相の気液界面での
表面張力を40乃至70ダイン/crn。
剤で前処理するか又はポリアミンを含有する水溶液中に
有効量の湿勾剤が存在している必要がある。基体の前処
8!にはより旨い濃度の湿潤剤を必要とするので、アミ
ンを含有する溶液中にイオン性高分子湿潤剤を使用する
のが好ましい。所定の用途についてのイオン性高分子湿
潤剤の最適濃度は実験的に決定できる。好ましくは、イ
オン性高分子湿潤剤は活性固体基準で250乃至20,
000重量pptps、より好ましくは1.000乃至
5.000重hkpp惰の範囲で存在させる。ある好ま
しい態様では湿潤剤を好1しくは、水相の気液界面での
表面張力を40乃至70ダイン/crn。
より好ましくは45乃至60ダイン/crILの範囲の
値に低下させる憧で存在させる。
値に低下させる憧で存在させる。
多官能性アミン溶液の多孔性支持体への塗布は当業界で
使用される通常の方法、例えば溶液中への支持体の浸漬
、又は溶液の支持体上への散布、によって都合良く達成
される。支持体を単にポリアミンの水溶液に浸漬して支
持体にポリアミンの溶液を塗布するのが一般に好都合で
ある。過剰の水溶液の除去は、ローラーかけ又は別法と
して基体を損傷させずに基体に圧力を加えて過剰の溶液
fj!:無(することで行なわれる。別の方法では、基
体を垂直にして液切りすることで、乾燥ガス流VC嚇し
て、又は遠心分離して過剰の液体?:無くする仁とがで
きる。
使用される通常の方法、例えば溶液中への支持体の浸漬
、又は溶液の支持体上への散布、によって都合良く達成
される。支持体を単にポリアミンの水溶液に浸漬して支
持体にポリアミンの溶液を塗布するのが一般に好都合で
ある。過剰の水溶液の除去は、ローラーかけ又は別法と
して基体を損傷させずに基体に圧力を加えて過剰の溶液
fj!:無(することで行なわれる。別の方法では、基
体を垂直にして液切りすることで、乾燥ガス流VC嚇し
て、又は遠心分離して過剰の液体?:無くする仁とがで
きる。
基体は複合膜の製造に先行技術で都合良く使用されてい
る如何なる形状もとり得る。例えば基体は平坦なシート
の形、中空繊維、又は管状構造で使用できる。かかる形
状の形成方法は先行技術で一般的に知られている。
る如何なる形状もとり得る。例えば基体は平坦なシート
の形、中空繊維、又は管状構造で使用できる。かかる形
状の形成方法は先行技術で一般的に知られている。
アミンとアシルハライドとの間の反応は、ポリアミンと
アシルハライドとの間の界面反応についての従来の条件
下で都合良〈実施できる。好ましくは、水溶液に実質上
不溶の有機溶媒中にあるアシルハライドを基体に加える
。この態様ではアシルハライド溶液を、アミンについて
先に使用したのと同一の方法又は他の公知の方法で、基
体に塗布することができる。
アシルハライドとの間の界面反応についての従来の条件
下で都合良〈実施できる。好ましくは、水溶液に実質上
不溶の有機溶媒中にあるアシルハライドを基体に加える
。この態様ではアシルハライド溶液を、アミンについて
先に使用したのと同一の方法又は他の公知の方法で、基
体に塗布することができる。
好ましくはアシルハライドとポリアミンは0℃乃至50
℃の範囲の、よシ好ましくは10℃乃至30℃の範囲の
温度で反応させる。反応は通常、常圧で実施する。
℃の範囲の、よシ好ましくは10℃乃至30℃の範囲の
温度で反応させる。反応は通常、常圧で実施する。
アシルハライドとポリアミンの間の反応は一般に急速に
起きる。1乃至300秒の、好ましくは10乃至60秒
の反応時間が一般に所望の薄い弁別層を充分に形成する
。弁別層を通過するフラックスは厚さに反比例するので
、欠陥の無い薄層が望ましい。多孔性基体とその上に粘
着した弁別層から成る得られた複合体は次に20℃乃至
130℃の範囲の温度で1乃至30分間、都合良(空気
乾燥できる。
起きる。1乃至300秒の、好ましくは10乃至60秒
の反応時間が一般に所望の薄い弁別層を充分に形成する
。弁別層を通過するフラックスは厚さに反比例するので
、欠陥の無い薄層が望ましい。多孔性基体とその上に粘
着した弁別層から成る得られた複合体は次に20℃乃至
130℃の範囲の温度で1乃至30分間、都合良(空気
乾燥できる。
ここで使用するイオン性高分子湿潤剤は好ましくは、複
数個のカチオン性及び/又はアニオン性基を持つ高分子
である。かかる高分子は適当な単祉体の反応でも又は高
分子をカチオン性又はアニオン性基を形成する試薬で処
理しても製造できる。高分子湿潤剤は複数個の懸垂イオ
ン性基を持つ高分子である。アニオン性及びカチオン性
の側基!有する両性高分子湿潤剤が所望の界面活性を与
えれば使用できる。アニオン性基、例えばスルホネート
基又はカルボキシレート基(カルボン酸残基)が使用で
きる。カチオン性基、例えばオニウム部分が好ましい。
数個のカチオン性及び/又はアニオン性基を持つ高分子
である。かかる高分子は適当な単祉体の反応でも又は高
分子をカチオン性又はアニオン性基を形成する試薬で処
理しても製造できる。高分子湿潤剤は複数個の懸垂イオ
ン性基を持つ高分子である。アニオン性及びカチオン性
の側基!有する両性高分子湿潤剤が所望の界面活性を与
えれば使用できる。アニオン性基、例えばスルホネート
基又はカルボキシレート基(カルボン酸残基)が使用で
きる。カチオン性基、例えばオニウム部分が好ましい。
好ましくはイオン性高分子湿潤剤は1乃至100%σ入
より好ましくは5乃至95%の、最も好ましくは10乃
至90%の範囲のオニウム含有部分又はアニオン性基の
モル%無を有している。
より好ましくは5乃至95%の、最も好ましくは10乃
至90%の範囲のオニウム含有部分又はアニオン性基の
モル%無を有している。
カチオン性筒分子湿潤剤は米国特許第4.337.18
5 ;4.426.489及び4,525,526号に
記載されている。
5 ;4.426.489及び4,525,526号に
記載されている。
アニオン性高分子湿潤剤は良く知られている。場合によ
っては、高分子湿潤剤の混合物も使用できるが、湿潤剤
は望−ましくは同種の電荷を有しているものとする。イ
オン性高分子湿潤剤を在来の湿潤剤又は界面活性剤例え
ばポリビニルアルコールと組合わせ使用もできるが、一
般に好ましいことでは無い。
っては、高分子湿潤剤の混合物も使用できるが、湿潤剤
は望−ましくは同種の電荷を有しているものとする。イ
オン性高分子湿潤剤を在来の湿潤剤又は界面活性剤例え
ばポリビニルアルコールと組合わせ使用もできるが、一
般に好ましいことでは無い。
望ましくは、高分子のカチオン性又はアニオン性基は他
の反応物との通常の組合わせに対して充分に安定なもの
とする。例えば芳香族ジアゾニウム高分子は脂肪族ジア
ゾニウムよりも安定であって、本発明の方法により適し
又いる。
の反応物との通常の組合わせに対して充分に安定なもの
とする。例えば芳香族ジアゾニウム高分子は脂肪族ジア
ゾニウムよりも安定であって、本発明の方法により適し
又いる。
高分子が有するカチオン性基は好ましくはスルホニウム
、第4級アンモニウム、アゼチジニウム又はホスホニウ
ムである。より好ましくはカチオン性基はスルホニウム
部分又は第4級アンモニウムである。最も好ましくはカ
チオン性基はスルホニウムである。それを高分子に結合
している部分収外にオニウム基は所望の原子価を与える
のに充分な数の炭化水素基を有している。これらの炭化
水素基は場合によっては本発明の反応に有害で無い他の
置換体を有し得る。
、第4級アンモニウム、アゼチジニウム又はホスホニウ
ムである。より好ましくはカチオン性基はスルホニウム
部分又は第4級アンモニウムである。最も好ましくはカ
チオン性基はスルホニウムである。それを高分子に結合
している部分収外にオニウム基は所望の原子価を与える
のに充分な数の炭化水素基を有している。これらの炭化
水素基は場合によっては本発明の反応に有害で無い他の
置換体を有し得る。
特に好ましいのは、各アルキル基が1乃至4個の、より
好ましくは1乃至2個の炭素原子を持った、ベンジルジ
アルキルスルホニウム又はベンジルトリアルキルアンモ
ニウム部分を持っている高分子である。場合によっては
2個のアルキル基の代りに単一のアルキレン基を存在さ
せて、スルホニウム又はアン汚ニウムを含む5又は6員
環を形成させても良い。
好ましくは1乃至2個の炭素原子を持った、ベンジルジ
アルキルスルホニウム又はベンジルトリアルキルアンモ
ニウム部分を持っている高分子である。場合によっては
2個のアルキル基の代りに単一のアルキレン基を存在さ
せて、スルホニウム又はアン汚ニウムを含む5又は6員
環を形成させても良い。
好ましくは高分子湿潤剤は膜が通常曝される条件での加
水分解に耐える主鎖(バックボーン)を有している。高
分子湿潤剤は縮合重合体でもよいが、好ましくはビニル
付加重合体である。代表的な縮合重合体にはイオン性基
を有するポリアルキレンイミン又はポリアルキレンエー
テルがある。かかる高分子は当業者に良く知られている
。
水分解に耐える主鎖(バックボーン)を有している。高
分子湿潤剤は縮合重合体でもよいが、好ましくはビニル
付加重合体である。代表的な縮合重合体にはイオン性基
を有するポリアルキレンイミン又はポリアルキレンエー
テルがある。かかる高分子は当業者に良く知られている
。
適切な高分子湿潤剤はビニルベンジルジアルキルスルホ
ニウム又はトリアルキルアンモニウムと他の相容性エチ
レン性不飽和単量体との反応で製造できる。好ましくは
イオン性高分子湿潤剤は5乃至100モル%のオニウム
基を有する部分、より好ましくは5乃至95モル%のか
かる部分、最も好ましくは10乃至90モル%のかかる
部分に誘導される。相容性のエチレン性不飽沌単量体は
、湿潤剤が製品中に残留した時に膜の弁別層に有害な影
響を与えないような単量体である。適切な相容性単量体
には、メタクリル酸、ヒドロキシエチルメタクリレート
、ヒドロキシプロピルメタクリレート、アミノエチルメ
タクリレート、メチルメタクリレート及びメタクリル酸
の他のエステルがある。1乃至36個の炭素原子を有す
る炭化水素又は有機部分を持つメタクリル酸エステルは
、かかる部分が高分子に界面活性剤としての活性を賦与
するのに使用できるために、特に好ましい。例えば次式
の相容性単量体が使用できる:R之 但し、R′は1乃至36個の炭素原子のアルキル、より
好ましくは1乃至12個の炭素原子のアルキル、最も好
ましくはCI乃至C,アルキル、 又は+C’H,CB、0九”11Hty+t であり
、式中2はl乃至20の整数であり、Vはl乃至18の
整数であり、R2は水素又はメチルで、得られた高分子
のより大きな加水分解安定性のためにより好ましくはメ
チルである。一般に側鎖の疎水性基の高分子湿潤剤中の
存在も許容できるが、好ましくは無い。本発明の好まし
い態様ではオニウムを有する部分以外に、高分子はO乃
至95モル%のメタクリル酸エステルと残余量の他の相
容性単量体から誘導される。好ましくは、メタクリル酸
エステルはメタクリル酸のCI乃至C4アルキルエステ
ルである。メチルメタクリレートが特に好ましい。相容
性単量体の混合物も使用し得る。
ニウム又はトリアルキルアンモニウムと他の相容性エチ
レン性不飽和単量体との反応で製造できる。好ましくは
イオン性高分子湿潤剤は5乃至100モル%のオニウム
基を有する部分、より好ましくは5乃至95モル%のか
かる部分、最も好ましくは10乃至90モル%のかかる
部分に誘導される。相容性のエチレン性不飽沌単量体は
、湿潤剤が製品中に残留した時に膜の弁別層に有害な影
響を与えないような単量体である。適切な相容性単量体
には、メタクリル酸、ヒドロキシエチルメタクリレート
、ヒドロキシプロピルメタクリレート、アミノエチルメ
タクリレート、メチルメタクリレート及びメタクリル酸
の他のエステルがある。1乃至36個の炭素原子を有す
る炭化水素又は有機部分を持つメタクリル酸エステルは
、かかる部分が高分子に界面活性剤としての活性を賦与
するのに使用できるために、特に好ましい。例えば次式
の相容性単量体が使用できる:R之 但し、R′は1乃至36個の炭素原子のアルキル、より
好ましくは1乃至12個の炭素原子のアルキル、最も好
ましくはCI乃至C,アルキル、 又は+C’H,CB、0九”11Hty+t であり
、式中2はl乃至20の整数であり、Vはl乃至18の
整数であり、R2は水素又はメチルで、得られた高分子
のより大きな加水分解安定性のためにより好ましくはメ
チルである。一般に側鎖の疎水性基の高分子湿潤剤中の
存在も許容できるが、好ましくは無い。本発明の好まし
い態様ではオニウムを有する部分以外に、高分子はO乃
至95モル%のメタクリル酸エステルと残余量の他の相
容性単量体から誘導される。好ましくは、メタクリル酸
エステルはメタクリル酸のCI乃至C4アルキルエステ
ルである。メチルメタクリレートが特に好ましい。相容
性単量体の混合物も使用し得る。
ポリアミンがピペラジンの場合には、5乃至100モル
%のビニルベンジルスルホニウム塩、0乃至95モル%
のメタクリル酸エステル及び残余量の相容性単量体から
誘導された高分子湿潤剤が好ましい。ポリアミンがAM
pの場合[は、5乃至95モル%のビニルベンジルスル
ホニウム塩、0乃至95モル%のメタクリル酸及び残余
量の相容性単量体から誘導された高分子湿潤剤が好まし
い。
%のビニルベンジルスルホニウム塩、0乃至95モル%
のメタクリル酸エステル及び残余量の相容性単量体から
誘導された高分子湿潤剤が好ましい。ポリアミンがAM
pの場合[は、5乃至95モル%のビニルベンジルスル
ホニウム塩、0乃至95モル%のメタクリル酸及び残余
量の相容性単量体から誘導された高分子湿潤剤が好まし
い。
ここに記載しであるオニウム基のすべてが等しい反応性
であるとはかぎらない。一般にスルホニウム又はジアゾ
ニラム基が第4級アンモニウム基よりも容易に弁別層と
反応する。本発明の好ましい態様では、イオン性高分子
湿潤剤は少なくとも部分的に膜中の反応性水素を有する
部分と反応するとみられる。場合によっては、イオン性
高分子湿潤剤はいくつかの第1級アミン又は第2級アミ
ン基又はアシルハライド又はアミンと反応性の他の基を
有していて、イオン性高分子湿潤剤は形成されたポリア
ミド中に反応して入ることがある。
であるとはかぎらない。一般にスルホニウム又はジアゾ
ニラム基が第4級アンモニウム基よりも容易に弁別層と
反応する。本発明の好ましい態様では、イオン性高分子
湿潤剤は少なくとも部分的に膜中の反応性水素を有する
部分と反応するとみられる。場合によっては、イオン性
高分子湿潤剤はいくつかの第1級アミン又は第2級アミ
ン基又はアシルハライド又はアミンと反応性の他の基を
有していて、イオン性高分子湿潤剤は形成されたポリア
ミド中に反応して入ることがある。
ある態様で照射硬化性の部分を弁別層の形成に使用する
反応体中に存在させ得る。次に化学線又は他の照射を用
いてこの層の硬化を促進する。
反応体中に存在させ得る。次に化学線又は他の照射を用
いてこの層の硬化を促進する。
ここに記載した高分子湿潤剤はビニルベンジルクロライ
ドと相容性単量体から高分子を形成する反応でも製造で
きる。この高分子を次に所望のカチオン性基の前駆体と
反応させることができる。2種以上のオニウム基を導入
することも可能である。例えば、ビニルベンジルクロラ
イド重合体ラジアルキルサルファイドと反応させてペン
ジルスルホニラム基を持っている高分子をつ(ることが
できる。別の方法では、ビニルベンジルクロライド重合
体を第3級アミンと反応させて第4級アンモニウム基を
形成することができる。場合によっては第3級アミンが
疎水性基を有していて、所望の界面活性を高分子に賦与
し得る。
ドと相容性単量体から高分子を形成する反応でも製造で
きる。この高分子を次に所望のカチオン性基の前駆体と
反応させることができる。2種以上のオニウム基を導入
することも可能である。例えば、ビニルベンジルクロラ
イド重合体ラジアルキルサルファイドと反応させてペン
ジルスルホニラム基を持っている高分子をつ(ることが
できる。別の方法では、ビニルベンジルクロライド重合
体を第3級アミンと反応させて第4級アンモニウム基を
形成することができる。場合によっては第3級アミンが
疎水性基を有していて、所望の界面活性を高分子に賦与
し得る。
高分子湿潤剤の分子せは贋の弁別層の最終特性に影響し
得る。最適の分子電は、微孔性支持体の性質、高分子湿
潤剤中のオニウム部分のモル%、使用したポリアミン及
びアシルハライド反応体及び他の因子に左右される。本
町細■中に記載した特定の湿潤剤の最適分子短は経験的
に容易に決定できる。
得る。最適の分子電は、微孔性支持体の性質、高分子湿
潤剤中のオニウム部分のモル%、使用したポリアミン及
びアシルハライド反応体及び他の因子に左右される。本
町細■中に記載した特定の湿潤剤の最適分子短は経験的
に容易に決定できる。
ここに記載されたカチオン性基はそれに付随するアニオ
ン性の対イオンを有じている。−版にアニオン件対イオ
ンは、得られた生成物の膜特性に有害な影4iIを与え
ない限り、臨界的では無い。好都合なのは、付随するア
ニオン性剤イオンがハロゲン化物、重炭酸又は水酸化物
部分である。特に好ましいのは塩化物又は水酸化物アニ
オン又はメタクリル酸の分子内塩である。
ン性の対イオンを有じている。−版にアニオン件対イオ
ンは、得られた生成物の膜特性に有害な影4iIを与え
ない限り、臨界的では無い。好都合なのは、付随するア
ニオン性剤イオンがハロゲン化物、重炭酸又は水酸化物
部分である。特に好ましいのは塩化物又は水酸化物アニ
オン又はメタクリル酸の分子内塩である。
本明細書に記載した改良された膜組成物は2価又は多価
アニオンの塩に対し、特に硫酸マグネシウムに対して高
い排除率を有することが見出された。本発明の膜は、汽
水往水脱塩、食品加工、電気メツキ溶液からの薬品の回
収、局地的又は家庭用用途又はボイラー送入用の水処理
での硬水の軟化のような用途で特に有効である。
アニオンの塩に対し、特に硫酸マグネシウムに対して高
い排除率を有することが見出された。本発明の膜は、汽
水往水脱塩、食品加工、電気メツキ溶液からの薬品の回
収、局地的又は家庭用用途又はボイラー送入用の水処理
での硬水の軟化のような用途で特に有効である。
好ましい態様で使用されるイオン性高分子湿潤剤は膜特
性の改良に有効である。改良される特性は膜組成に左右
されるが、高い水フラックス(通水量→、改良された塩
排除率、より良いpM耐(久)性及び/又は弁別層(活
性層)の多孔性支持体への改良された密着性がそれらに
包含される。
性の改良に有効である。改良される特性は膜組成に左右
されるが、高い水フラックス(通水量→、改良された塩
排除率、より良いpM耐(久)性及び/又は弁別層(活
性層)の多孔性支持体への改良された密着性がそれらに
包含される。
本明細書中での目的に対して苛性耐性を標準的試験で測
定した。これは、膜の送入側に0.1規定の水酸化ナト
リウム水溶液(13のpH)を1551Pa(2257
ss)のゲージ圧で20℃乃至25℃の温度で接触させ
る。一定の間隔で硫酸マグネシウムの排除率を中性pH
で測定した。
定した。これは、膜の送入側に0.1規定の水酸化ナト
リウム水溶液(13のpH)を1551Pa(2257
ss)のゲージ圧で20℃乃至25℃の温度で接触させ
る。一定の間隔で硫酸マグネシウムの排除率を中性pH
で測定した。
硫酸マグネシウム排除率が90%より低下する迄の時間
迄、苛性処理を続行した。本発明の好ましい態様は0.
1規定水酸化ナトリウムに48時間曝露した後に、少な
くとも90%の硫酸マグネシウム排除率を示す。米国特
許第4,619゜767号の教示のように膜の形成の湿
潤剤として使用したポリビニルアルコールは高い水フラ
ックスを与えることが見出されている。ポリビニルアル
コールは得られた膜が低下した苛性耐性を有していると
いう点で一般に欠点があることが見出された。
迄、苛性処理を続行した。本発明の好ましい態様は0.
1規定水酸化ナトリウムに48時間曝露した後に、少な
くとも90%の硫酸マグネシウム排除率を示す。米国特
許第4,619゜767号の教示のように膜の形成の湿
潤剤として使用したポリビニルアルコールは高い水フラ
ックスを与えることが見出されている。ポリビニルアル
コールは得られた膜が低下した苛性耐性を有していると
いう点で一般に欠点があることが見出された。
本発明の好ましい態様では、本発明の膜は少なくとも0
.49m”/−日(12ガロン/f t 2日(yfd
) )、好ましくは少なくとも0.82m’/−日(
20g/d)、より好ましくは少なくとも1.22WL
s/−日(30gfd)そして最も好ましくは1.63
m”/−日(40yfd )の水フラックス(透水量)
を標準的硫酸ナトリウム試験条件で示す。
.49m”/−日(12ガロン/f t 2日(yfd
) )、好ましくは少なくとも0.82m’/−日(
20g/d)、より好ましくは少なくとも1.22WL
s/−日(30gfd)そして最も好ましくは1.63
m”/−日(40yfd )の水フラックス(透水量)
を標準的硫酸ナトリウム試験条件で示す。
更に好ましい態様の該膜は少なくとも90%の、好まし
くは少なくとも95%の、より好ましくは少なくとも9
7%の、最も好ましくは少なくとも99%の硫酸マグネ
シウム排除率を同一条件で示す。本明細書中で一般に使
用される標率的硫酸マグネシウム試験条件は1551P
G(225psi)ゲージの送入圧力、0.2%の硫酸
マグ坏シウム濃度、20℃乃至25℃の温度、6乃至7
の範囲のpIi、平坦シートについて約1%の回収率及
び少なくとも1時間の性能安定化のための試験時間であ
る。好ましくは膜に接触する送入水溶液中に存在する硫
酸塩の少なくとも80モル%を膜は除去する。
くは少なくとも95%の、より好ましくは少なくとも9
7%の、最も好ましくは少なくとも99%の硫酸マグネ
シウム排除率を同一条件で示す。本明細書中で一般に使
用される標率的硫酸マグネシウム試験条件は1551P
G(225psi)ゲージの送入圧力、0.2%の硫酸
マグ坏シウム濃度、20℃乃至25℃の温度、6乃至7
の範囲のpIi、平坦シートについて約1%の回収率及
び少なくとも1時間の性能安定化のための試験時間であ
る。好ましくは膜に接触する送入水溶液中に存在する硫
酸塩の少なくとも80モル%を膜は除去する。
〈実施例〉
以下の実施例は本発明を例示するために示すものである
。
。
当業者にとっては本明細書に記載した発明が実施例に示
した特定のものに限定されないことは明白である。特記
しない限り、部(割合)と%はすべて重量による。
した特定のものに限定されないことは明白である。特記
しない限り、部(割合)と%はすべて重量による。
ポリスルホン基体は、45vのポリスルホン(UDEL
■。
■。
グレードP−3500、ユニオン・カーバイド・コーポ
レーションの製品)7f(255tのジメチルスルホア
ミドに溶着して15重量%溶液にして製造した。減圧で
ポリスルホン溶液を脱ガスし、筒分子溶液のビードを必
要′il′ヲガラス板上に置き152.4マイクロメー
タ(6m4L )のドローダウンバーでつくった均一の
厚さのフィルムとした。板を次に純水に浸漬してフィル
ムをゲル化した。7.62c!rL(3インチ)径のポ
リスルホンのディスクを湿ったままシートから切出して
膜をつくる迄、水に浸漬しておいた。
レーションの製品)7f(255tのジメチルスルホア
ミドに溶着して15重量%溶液にして製造した。減圧で
ポリスルホン溶液を脱ガスし、筒分子溶液のビードを必
要′il′ヲガラス板上に置き152.4マイクロメー
タ(6m4L )のドローダウンバーでつくった均一の
厚さのフィルムとした。板を次に純水に浸漬してフィル
ムをゲル化した。7.62c!rL(3インチ)径のポ
リスルホンのディスクを湿ったままシートから切出して
膜をつくる迄、水に浸漬しておいた。
4重量%のピペラジンと4重量%のトリエチルアミンを
純水に含む溶液を調製した。純水に活性固体ベースで2
.000重#pp%に相当する含有tを有する湿潤剤水
溶液を調製した。湿潤剤水溶液の50−を50−のピペ
ラジン/トリエチルアミン溶液に加えた。この水溶液は
普通、調製した日に使用した。得られた溶液を濾過し、
微孔性ポリスルホン支持体フィルムの7.62cIrL
(3−インチ)後試料をp液に1−2分浸漬した。
純水に含む溶液を調製した。純水に活性固体ベースで2
.000重#pp%に相当する含有tを有する湿潤剤水
溶液を調製した。湿潤剤水溶液の50−を50−のピペ
ラジン/トリエチルアミン溶液に加えた。この水溶液は
普通、調製した日に使用した。得られた溶液を濾過し、
微孔性ポリスルホン支持体フィルムの7.62cIrL
(3−インチ)後試料をp液に1−2分浸漬した。
ピペラジンと同様な方法で、酸受容体として2重量%の
N、N’−ジメチルピペラジンCDMP>を有する脂肪
族ジアミン又は他のジアミンの2重量%溶液を¥A製し
た。(特記しない限り)、この溶液に実施例に示したオ
ニウム湿潤剤を0.1重量%加えた。
N、N’−ジメチルピペラジンCDMP>を有する脂肪
族ジアミン又は他のジアミンの2重量%溶液を¥A製し
た。(特記しない限り)、この溶液に実施例に示したオ
ニウム湿潤剤を0.1重量%加えた。
ポリスルホン支持体をアミン溶液から取出し、液を切っ
てガラス板上に置いた。なめらかなゴムローラを用いて
そっと押してポリスルホン支持体から過剰の溶液を押出
した。
てガラス板上に置いた。なめらかなゴムローラを用いて
そっと押してポリスルホン支持体から過剰の溶液を押出
した。
抜機したポリスルホン支持体をトリメソイルクロライド
の0.1重量/容量%の1.1.2−)リクロロトリフ
ルオロエタン溶液に浸漬した。1分後、支持体をトリメ
ソイルクロライド溶液から取出した。膜から過剰の液体
を切るようにし、そして膜を室温で少なくとも12時間
乾燥してから試験した。
の0.1重量/容量%の1.1.2−)リクロロトリフ
ルオロエタン溶液に浸漬した。1分後、支持体をトリメ
ソイルクロライド溶液から取出した。膜から過剰の液体
を切るようにし、そして膜を室温で少なくとも12時間
乾燥してから試験した。
実施例1−14゜
前記した方法で、ピペラジンとトリエチルアミン酸受容
体を有するトリメソイルクロライドからの膜を製造する
のに数種のイオン性高分子湿潤剤を使用した。これらの
湿潤剤は通常のビニル付加重合によって以下の単量体か
ら製造した:ヒドロキシエチルメタクリレート(IiE
MA)、ビニルベンジルジメチルスルホニウム(VBD
MS) 、jl−ノニルフェノキシノナエトキシエチル
メタクリレート(9N−10MA )、メタクリル酸(
i>IAA)及びアミノエチルメタクリレ−) (AE
M)。湿潤剤の製造に実施例13で用いたビニルベンジ
ルジメチルスルホニウム塩はハイドロオキサイド型であ
ったが、他の実施例ではクロライド型であった。単量体
+2表1に示した比で使用した。各組成物はかなりの数
の試料で試験を行ない、表示した水フラックス(透水t
)と硫酸マグネシウム排除率は、複数個の最良の結果の
一般的平均である。ある場合には、実施例を繰返した時
に報告したものより貧弱な結果を生じたこともあったが
、実験方法及び条件の変化に起因すると考えられる。上
記された標準的硫酸マグネシウム試験条件で立方メート
ル/平方メートル・日(m’/ln”r日)及びガロン
/平方フィートロ(afd)の透水!(水フラックス)
と硫酸マグネシウム排除率(%)を測定した。当初のベ
ースライン試験で少−なくとも90%の硫酸マグネシウ
ム排除率を有するすべての試料の苛性耐性は硫酸マグネ
シウム排除率が約90%より下る迄、前記した条件で試
験した。きまった組成物の個々の試料のRO試験性能が
時によってはかなり変ったので、実施例4−6の平均塩
排除率は90%より低かった。実施例4−6については
それぞれ苛性耐性試験の基準に合格する90%よシ大の
個々の試料について示してあり、試験は該試料について
竹なった。日数で示した苛性耐性及び−/−2日及びガ
ロン/f t ”日の透水量(水フラックス)を表1に
示す。
体を有するトリメソイルクロライドからの膜を製造する
のに数種のイオン性高分子湿潤剤を使用した。これらの
湿潤剤は通常のビニル付加重合によって以下の単量体か
ら製造した:ヒドロキシエチルメタクリレート(IiE
MA)、ビニルベンジルジメチルスルホニウム(VBD
MS) 、jl−ノニルフェノキシノナエトキシエチル
メタクリレート(9N−10MA )、メタクリル酸(
i>IAA)及びアミノエチルメタクリレ−) (AE
M)。湿潤剤の製造に実施例13で用いたビニルベンジ
ルジメチルスルホニウム塩はハイドロオキサイド型であ
ったが、他の実施例ではクロライド型であった。単量体
+2表1に示した比で使用した。各組成物はかなりの数
の試料で試験を行ない、表示した水フラックス(透水t
)と硫酸マグネシウム排除率は、複数個の最良の結果の
一般的平均である。ある場合には、実施例を繰返した時
に報告したものより貧弱な結果を生じたこともあったが
、実験方法及び条件の変化に起因すると考えられる。上
記された標準的硫酸マグネシウム試験条件で立方メート
ル/平方メートル・日(m’/ln”r日)及びガロン
/平方フィートロ(afd)の透水!(水フラックス)
と硫酸マグネシウム排除率(%)を測定した。当初のベ
ースライン試験で少−なくとも90%の硫酸マグネシウ
ム排除率を有するすべての試料の苛性耐性は硫酸マグネ
シウム排除率が約90%より下る迄、前記した条件で試
験した。きまった組成物の個々の試料のRO試験性能が
時によってはかなり変ったので、実施例4−6の平均塩
排除率は90%より低かった。実施例4−6については
それぞれ苛性耐性試験の基準に合格する90%よシ大の
個々の試料について示してあり、試験は該試料について
竹なった。日数で示した苛性耐性及び−/−2日及びガ
ロン/f t ”日の透水量(水フラックス)を表1に
示す。
表
13 70.6
28.3 1゜14” 70,6
28.3 1゜螢 ハイドロオキサ
イド型 骨脅 クロライドμN。
28.3 1゜14” 70,6
28.3 1゜螢 ハイドロオキサ
イド型 骨脅 クロライドμN。
0.94(23) 92 <10.4
5(11) 94 <11.06
(26) 91 20.45(1
1) 70 <10.73(1
8) 89 <10.81(20)
88 31.02 (25)
98.7 30.65(16)
94 30.86(21)
96 <10.57 (14)
98.8 20.69(17)
98.6 31.06 (2
6) 98.6 41 1
.30(32) 97.8 4
1 1.18(29) 98
5実施例4.5及び6以外は表1に示した湿
潤剤はすぐれた透水量(水フラックス)と硫酸マグネシ
ウム排除率を有している。実施例4.5及び6で認めら
れた低くなった硫酸マグネシウム排除率は膜の欠陥又は
他の原因によるものであって、これらの湿潤剤が膜の製
造に適していないことをかならすしも示しているもので
は無い。実施例12.13及び14に示した試料は特に
すぐれた透水量(水フラックス)、硫酸マグネシウム排
除率と苛性耐性の組合わせt有している。
5(11) 94 <11.06
(26) 91 20.45(1
1) 70 <10.73(1
8) 89 <10.81(20)
88 31.02 (25)
98.7 30.65(16)
94 30.86(21)
96 <10.57 (14)
98.8 20.69(17)
98.6 31.06 (2
6) 98.6 41 1
.30(32) 97.8 4
1 1.18(29) 98
5実施例4.5及び6以外は表1に示した湿
潤剤はすぐれた透水量(水フラックス)と硫酸マグネシ
ウム排除率を有している。実施例4.5及び6で認めら
れた低くなった硫酸マグネシウム排除率は膜の欠陥又は
他の原因によるものであって、これらの湿潤剤が膜の製
造に適していないことをかならすしも示しているもので
は無い。実施例12.13及び14に示した試料は特に
すぐれた透水量(水フラックス)、硫酸マグネシウム排
除率と苛性耐性の組合わせt有している。
実施例15−17゜
実施例1に類似した一連の実施例では、異なった構成の
湿潤剤を用いて複合膜?:製造した。この湿潤剤の組成
(構成)は75.5モル%のメチルメタクリレート(M
MA)、16モル%のVBDNS、5.3モル%の式I
の単量体及び3.2モル%の式■の単量体であった:活
性固体ベースで湿潤剤を0.1乃至0.4%に変え、た
。標準試験で記録した透水量(水ブランクス)と硫酸マ
グネシウム排除率を6膜について表2に示す。
湿潤剤を用いて複合膜?:製造した。この湿潤剤の組成
(構成)は75.5モル%のメチルメタクリレート(M
MA)、16モル%のVBDNS、5.3モル%の式I
の単量体及び3.2モル%の式■の単量体であった:活
性固体ベースで湿潤剤を0.1乃至0.4%に変え、た
。標準試験で記録した透水量(水ブランクス)と硫酸マ
グネシウム排除率を6膜について表2に示す。
懺 2
15 0.1 (J、94 (23)
9816 0.2 0.89 (22
) 9717 0.4 1.02
(25) 964倍の範囲にわたる湿潤剤金蓋
の変化は生成した膜の性状に顕著な変化を生じないこと
が表2から明らかとなっている。
9816 0.2 0.89 (22
) 9717 0.4 1.02
(25) 964倍の範囲にわたる湿潤剤金蓋
の変化は生成した膜の性状に顕著な変化を生じないこと
が表2から明らかとなっている。
実施例18゜
水相中のピペラジンとトリエチルアミンの濃度がそれぞ
れ1%である以外は、この実施例では実施例15と同一
の方法で膜を製造した。得られた腰は0.89 m’/
−日(22aid)の透水量(水フラックス)と98%
の硫酸マグネシウム排除率を有していた。
れ1%である以外は、この実施例では実施例15と同一
の方法で膜を製造した。得られた腰は0.89 m’/
−日(22aid)の透水量(水フラックス)と98%
の硫酸マグネシウム排除率を有していた。
実施例19及び20゜
実施例12には輩同−の方法で2種の複合膜を製造した
。
。
実施例19では膜を周囲温度で12時間空気乾燥して試
験した。実施例20では空気乾燥の代りに110℃で1
0分間(炉中で)乾燥した。これらの方法のそれぞれで
調製及び乾燥した複数個の膜について得られた1965
Pa(285paj)の圧力とそれ以外は椋卑条件で測
定した透水it(水フラックス)と塩排除率の範囲を表
3に示す。炉で乾燥した膜は孕気乾燥したものよりゃ\
低い透水量を有していることが明らかである。
験した。実施例20では空気乾燥の代りに110℃で1
0分間(炉中で)乾燥した。これらの方法のそれぞれで
調製及び乾燥した複数個の膜について得られた1965
Pa(285paj)の圧力とそれ以外は椋卑条件で測
定した透水it(水フラックス)と塩排除率の範囲を表
3に示す。炉で乾燥した膜は孕気乾燥したものよりゃ\
低い透水量を有していることが明らかである。
表3
19 空気 1.63−2.04(40−50)
97−9920 炉 1.39−1.59(3
4−39) 98−99実施例21及び22゜ 実施例12及び13で製造したのと同様な膜yjl−該
膜(ついての硫酸マグネシウム除去率と塩化ナトリウム
除去率の両方について試験した。硫酸マグネシウム試験
は上記の標準的方法であった。塩化ナトリウム除去率は
0.2%の塩化ナトリウム含有する送入水溶液を155
1Pα(2251si)の縁膜的圧力と20℃乃至25
℃の温度で用い、試験を1時間続けて膜性能を安定化し
て測定した。硫酸マグ坏シウム及び塩化ナトリウム試験
溶液の両方について得られた結果?:表4に示す。(な
お透水量の単位は表1〜3と同一である。) 両膜の塩化ナトリウム排除率が硫酸マグネシウム排除率
よりも遥かに低いことは注目に値する。送入溶液が塩化
ナトリウム溶液でも硫酸マグネシウム溶液で本いずれの
場合も透水量(水フラックス)ははソ等しい。
97−9920 炉 1.39−1.59(3
4−39) 98−99実施例21及び22゜ 実施例12及び13で製造したのと同様な膜yjl−該
膜(ついての硫酸マグネシウム除去率と塩化ナトリウム
除去率の両方について試験した。硫酸マグネシウム試験
は上記の標準的方法であった。塩化ナトリウム除去率は
0.2%の塩化ナトリウム含有する送入水溶液を155
1Pα(2251si)の縁膜的圧力と20℃乃至25
℃の温度で用い、試験を1時間続けて膜性能を安定化し
て測定した。硫酸マグ坏シウム及び塩化ナトリウム試験
溶液の両方について得られた結果?:表4に示す。(な
お透水量の単位は表1〜3と同一である。) 両膜の塩化ナトリウム排除率が硫酸マグネシウム排除率
よりも遥かに低いことは注目に値する。送入溶液が塩化
ナトリウム溶液でも硫酸マグネシウム溶液で本いずれの
場合も透水量(水フラックス)ははソ等しい。
実施例23−30゜
ポリスルホン支持体を脂肪族アミンの2重量%と、71
.43ji蓋%のVBDMSCクロライド型)及び28
.6重量%のメタクリル酸及び2重量%のDMPの共重
合体の0.1%で被覆した。脂肪族ジアミンは1,3−
プロパンジアミンCPDA)、1.4−ブタンジアミン
(BDA)、1.6−ヘキサンジアミン(liDA)、
N、N’−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン(DM
HDA)及びN、N’−ジメチルエチレンジアミン(D
MEI)A)から選んだ。被覆した支持体を上述のトリ
メソイルクロライドの0.1%トリクロトリフルオロエ
タン溶液と接触させた。1379Pa(200p8s)
及び/又は4137Pα(600pgj) ゲージで
の0.2%溶液でのMg5O,排除率と透水量(水フラ
ックス)’に6膜について測定した。手での被覆では欠
陥のある膜にしばしばなるので、最良の結果のみ表5に
示す。
.43ji蓋%のVBDMSCクロライド型)及び28
.6重量%のメタクリル酸及び2重量%のDMPの共重
合体の0.1%で被覆した。脂肪族ジアミンは1,3−
プロパンジアミンCPDA)、1.4−ブタンジアミン
(BDA)、1.6−ヘキサンジアミン(liDA)、
N、N’−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン(DM
HDA)及びN、N’−ジメチルエチレンジアミン(D
MEI)A)から選んだ。被覆した支持体を上述のトリ
メソイルクロライドの0.1%トリクロトリフルオロエ
タン溶液と接触させた。1379Pa(200p8s)
及び/又は4137Pα(600pgj) ゲージで
の0.2%溶液でのMg5O,排除率と透水量(水フラ
ックス)’に6膜について測定した。手での被覆では欠
陥のある膜にしばしばなるので、最良の結果のみ表5に
示す。
表5
23 PI)A l379200 95 0.16(
4)24 PDA 4137600” 9 s
0.73(18)25 BDA l379200 8
3 0.04(1)26 HDA 4137600
94 0.29(7)2711DA 1379200
55 0.04(1)2811DA 413760
0 79 0.04(1)29 DMEDA 1379
200 49 1.06(26)30 DMIiDA
1379200 85 0.33(8)実施例31−3
6゜ 実施例23−30にはソ類似した方法で別のオニウム湿
潤剤を用いて膜を製造した。オニウム湿潤剤は以下の単
量体の重合体であった(重量%):20.9%メチルメ
タクリレート(MMA)、62.5%VIJDMSCク
ロライド型)、8.9%の実施例I5の式!の単量体及
び7.7%の実施例150式■で示したカチオン性ビニ
ル界面活性剤。結果を表6に示す。
4)24 PDA 4137600” 9 s
0.73(18)25 BDA l379200 8
3 0.04(1)26 HDA 4137600
94 0.29(7)2711DA 1379200
55 0.04(1)2811DA 413760
0 79 0.04(1)29 DMEDA 1379
200 49 1.06(26)30 DMIiDA
1379200 85 0.33(8)実施例31−3
6゜ 実施例23−30にはソ類似した方法で別のオニウム湿
潤剤を用いて膜を製造した。オニウム湿潤剤は以下の単
量体の重合体であった(重量%):20.9%メチルメ
タクリレート(MMA)、62.5%VIJDMSCク
ロライド型)、8.9%の実施例I5の式!の単量体及
び7.7%の実施例150式■で示したカチオン性ビニ
ル界面活性剤。結果を表6に示す。
表 6
31 PI)A 4137600990.20(a)
321JDA 4137600960.08(2)3
311DA 1379200420.04(1)34
11DA 4137600900.08(2)35
DMEDA 1379200531.1g(29)36
DMHDA 1379200860.43(9)実施
例37−43゜ 実施例23−30にはソ類似した方法で、別の湿潤剤を
用いてaを製造した。この湿潤剤は次の単量体(重量%
)の重合体であった:55.2%MMA、25%のVB
DNS(クロライド型)、12%の実施例1゛5の式■
の単量体及び(実施例15で式■で示した)カチオン性
ビニル界面活性剤。結果を表7に示す。
321JDA 4137600960.08(2)3
311DA 1379200420.04(1)34
11DA 4137600900.08(2)35
DMEDA 1379200531.1g(29)36
DMHDA 1379200860.43(9)実施
例37−43゜ 実施例23−30にはソ類似した方法で、別の湿潤剤を
用いてaを製造した。この湿潤剤は次の単量体(重量%
)の重合体であった:55.2%MMA、25%のVB
DNS(クロライド型)、12%の実施例1゛5の式■
の単量体及び(実施例15で式■で示した)カチオン性
ビニル界面活性剤。結果を表7に示す。
表 7
37 PDA 1379 200 9g
0.04(1)38 PDA 4137 600
98 0.29(6)39 BDA l3
79 200 68 0.12(3)40 ED
A 4137 600 90 0.08(2)
41 11DA 4]37 600 73 0
.04(1)42 1)MEDA 1379 200
50 0.81(20)43 DMHDA
1379 200 87 0.43(9)実施例4
4及び45゜ 実施例1の普遍的方法で、第4級アンモニウム湿潤剤を
用いて、ピペラジンとトリメンイルクロライドから複合
膜な製造した。実施例44の湿潤剤はビニルベンジルト
リメチルアンモニウムクロライド(VBTMAC)のホ
モポリマーであり、実施例45では71.1重量%のV
HTMACと28.9重量%のMAAのコポリマーであ
った。最良の結果についての1379Pa(200pa
j )ゲージでの0.2Mg504排除率と透水量(水
フラックス)を表8に示す。
0.04(1)38 PDA 4137 600
98 0.29(6)39 BDA l3
79 200 68 0.12(3)40 ED
A 4137 600 90 0.08(2)
41 11DA 4]37 600 73 0
.04(1)42 1)MEDA 1379 200
50 0.81(20)43 DMHDA
1379 200 87 0.43(9)実施例4
4及び45゜ 実施例1の普遍的方法で、第4級アンモニウム湿潤剤を
用いて、ピペラジンとトリメンイルクロライドから複合
膜な製造した。実施例44の湿潤剤はビニルベンジルト
リメチルアンモニウムクロライド(VBTMAC)のホ
モポリマーであり、実施例45では71.1重量%のV
HTMACと28.9重量%のMAAのコポリマーであ
った。最良の結果についての1379Pa(200pa
j )ゲージでの0.2Mg504排除率と透水量(水
フラックス)を表8に示す。
表 8
44 55 0.53(13)
45 98 0.77(19)
これらの結果は、湿潤剤の特性を相容性の単量体の冷加
によって疎水性と電荷密度を変性して特定の用途に最適
化させる必要のあることを示している。
によって疎水性と電荷密度を変性して特定の用途に最適
化させる必要のあることを示している。
実施例46゜
複数個のアゼチジニウム基を有する水溶性ポリアミン(
ダイヤモンドジャムロックからFIBRABOにυ35
として市販)を湿潤剤として用い、他は実施例45のそ
れと同一の方法で1合体の製造に使用した。この諏合体
は式二の反復単位を有しているどみられる。得られた膜
は0,2%Mg5O,水溶液送入原料を用い13797
’a(200pgj)ゲージで試験した時、98%のM
QSO,排除率及び0.69−/−1日(17rtfd
)の透水量を示した。
ダイヤモンドジャムロックからFIBRABOにυ35
として市販)を湿潤剤として用い、他は実施例45のそ
れと同一の方法で1合体の製造に使用した。この諏合体
は式二の反復単位を有しているどみられる。得られた膜
は0,2%Mg5O,水溶液送入原料を用い13797
’a(200pgj)ゲージで試験した時、98%のM
QSO,排除率及び0.69−/−1日(17rtfd
)の透水量を示した。
実施例47−55゜
さまざまの比の単量体を用いて実施例15のものに類似
した湿潤剤を製造した。これらの湿潤剤を実施列1記載
のものと同様な方法で膜の製造に用いた。M gSO4
排除率、透水量(水フラックス)及び苛性耐性を実施例
1と同様にして測定した。結果を表9に示す。単量体比
は各湿潤剤についてのモル%である。
した湿潤剤を製造した。これらの湿潤剤を実施列1記載
のものと同様な方法で膜の製造に用いた。M gSO4
排除率、透水量(水フラックス)及び苛性耐性を実施例
1と同様にして測定した。結果を表9に示す。単量体比
は各湿潤剤についてのモル%である。
湿潤剤′″0
47 3/91.510.215.348 3
/82.5/9.215.349 3/76.5/
15.215.350 16/75.0/3.71
5.351 “38152.9/3.815.35
2 49/45.510.215.353 6
4.5/15/15.215.354 75/16/
3.715.3 55 79.5/1510.2/15.3畳 測定
せず 骨骨 モル% 表 9 0.65(16) 98 4 0.65(16) 97 4 0.61(15) 83 。
/82.5/9.215.349 3/76.5/
15.215.350 16/75.0/3.71
5.351 “38152.9/3.815.35
2 49/45.510.215.353 6
4.5/15/15.215.354 75/16/
3.715.3 55 79.5/1510.2/15.3畳 測定
せず 骨骨 モル% 表 9 0.65(16) 98 4 0.65(16) 97 4 0.61(15) 83 。
0.73(18) 98 5
0.65(16) 98 4
0.65(16) 94 4
0.81(20) 85 3
1.06(26) 80 畳
0.81(20) 93 4
実施例56−58゜
実施例12の湿潤剤を用い、ポリスルホン支持体を剤の
1000.500.100又は0ア惰嘱の水溶液rL次
漬した。支持体を水ですすいで次に2%ピペラジン72
%トリエチルアミン水溶液に浸漬した。被覆した支持体
の液切りをしてローラで圧して過剰の液体を除いた。支
持体を次に実施例1と同じ(トリメソイルクロライドの
0.1%トリフルオロトリクロロエタン溶液と接触させ
た。得られた膜を19657’a(285tg4)で0
.2%MgSO4溶液で試験した、結果を表1Oに示す
。広がりのある範囲は多重試験の結果である。
1000.500.100又は0ア惰嘱の水溶液rL次
漬した。支持体を水ですすいで次に2%ピペラジン72
%トリエチルアミン水溶液に浸漬した。被覆した支持体
の液切りをしてローラで圧して過剰の液体を除いた。支
持体を次に実施例1と同じ(トリメソイルクロライドの
0.1%トリフルオロトリクロロエタン溶液と接触させ
た。得られた膜を19657’a(285tg4)で0
.2%MgSO4溶液で試験した、結果を表1Oに示す
。広がりのある範囲は多重試験の結果である。
表 10
56 1.000 91−98 0.98−15
1(24−37)57 500 97
0.98 (24)58 100 30−
50 3.26−3.67(80−90)対照
0 30−60 2.44−2.85(60−70
)表10のデータは基体の前処理が排除率の向上に有効
であることを示唆している。
1(24−37)57 500 97
0.98 (24)58 100 30−
50 3.26−3.67(80−90)対照
0 30−60 2.44−2.85(60−70
)表10のデータは基体の前処理が排除率の向上に有効
であることを示唆している。
実施例59−74゜
実施例23とはソ同様な方法で、基体’&2%の(さま
ざまの)ジアミン、2%DMP及び(%記しない限り)
2a類の湿潤剤の一方の0.1%の溶液に浸漬して膜を
製造した。
ざまの)ジアミン、2%DMP及び(%記しない限り)
2a類の湿潤剤の一方の0.1%の溶液に浸漬して膜を
製造した。
ジアミンは4−アミノメチルピペリジンC4−AMP)
、1.3−シクロヘキサンビス(メチルアミン)(1,
3CHHMA)、1.2−ジアミノエタン(1,2−D
AE)、1.2−ジアミノシクロヘキサン(1,2−D
ACH)、1.3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパン
(DAIlp)、ジエチレントリアミン(DETA)、
ビビベリジンCBP)、トリス−(アミノエチル)アミ
ン(TAEA)、ビス(アミノプロピル)ピペラジンC
BAPP)、1.4−ジアミノシクロヘキサン(1,4
−DACH)である。湿潤剤は実施例23又は52で使
用したもののハイドロオキサイド型である。ジアミンは
トリフルオロトリクロロエタン中の0.1%トリメソイ
ルクロライドと架橋させて実施例61−63以外は、室
温で表11に示した時間硬化させた。実施例61−63
では、電源硬化後、膜を8G℃に2分間加熱した。6膜
の透水量(水フラックス)と排除率は別々の0.2%M
g5Oa水溶液で、そしである場合には0.2%5ac
L Ic ツいていずれも1379?a(200pas
)で測定した。結果、ジアミン、湿潤剤及び硬化時間を
表11に示した。範囲のある結果は多重の実験を示して
いる。
、1.3−シクロヘキサンビス(メチルアミン)(1,
3CHHMA)、1.2−ジアミノエタン(1,2−D
AE)、1.2−ジアミノシクロヘキサン(1,2−D
ACH)、1.3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパン
(DAIlp)、ジエチレントリアミン(DETA)、
ビビベリジンCBP)、トリス−(アミノエチル)アミ
ン(TAEA)、ビス(アミノプロピル)ピペラジンC
BAPP)、1.4−ジアミノシクロヘキサン(1,4
−DACH)である。湿潤剤は実施例23又は52で使
用したもののハイドロオキサイド型である。ジアミンは
トリフルオロトリクロロエタン中の0.1%トリメソイ
ルクロライドと架橋させて実施例61−63以外は、室
温で表11に示した時間硬化させた。実施例61−63
では、電源硬化後、膜を8G℃に2分間加熱した。6膜
の透水量(水フラックス)と排除率は別々の0.2%M
g5Oa水溶液で、そしである場合には0.2%5ac
L Ic ツいていずれも1379?a(200pas
)で測定した。結果、ジアミン、湿潤剤及び硬化時間を
表11に示した。範囲のある結果は多重の実験を示して
いる。
湿潤剤
59 4−AMP 23 2(
0,1%) 60 4−AMp 52 60(
1,5%) 61 4−AMp 52 2悔i%
(1,5%) 62 4−AMP 52 60(
0,1%) 63 4−AMP 52 2m1n
(0,1%) 対照 4−AMP None 1
664 1.3−3−C1iB 23
16(0,1%) 65 1.3−CEBMA 23 1
6(2%) 畳 測定せず 0.2% Mg50. 0.2% N
aCLo、94−1.06(23−26) 93−9
9 .86 (21) 70−740.77−
.90(19−22) 95 −
+0.69−0.77(17−19) 9
6−97 41 畳0.53
(13) 84
畳
畳0.53 (13) 70 + 費 0.40−0.86(1G−21) 78−79
骨 憂0.33−0.53(8−1
3) 86−93 0.20−0.53(a−13
)75−850.49−0.57(12−14) 9
6 0.33−0.40(8−10)85−94表1
1のデータは本発明の湿潤剤がさまざまのジアミンと共
にすぐれたMgSO4塩排除率を有する複合膜の製造に
使用できることを示している。実施例23に記載した湿
潤剤がより良い膜をつくるように見られた。
0,1%) 60 4−AMp 52 60(
1,5%) 61 4−AMp 52 2悔i%
(1,5%) 62 4−AMP 52 60(
0,1%) 63 4−AMP 52 2m1n
(0,1%) 対照 4−AMP None 1
664 1.3−3−C1iB 23
16(0,1%) 65 1.3−CEBMA 23 1
6(2%) 畳 測定せず 0.2% Mg50. 0.2% N
aCLo、94−1.06(23−26) 93−9
9 .86 (21) 70−740.77−
.90(19−22) 95 −
+0.69−0.77(17−19) 9
6−97 41 畳0.53
(13) 84
畳
畳0.53 (13) 70 + 費 0.40−0.86(1G−21) 78−79
骨 憂0.33−0.53(8−1
3) 86−93 0.20−0.53(a−13
)75−850.49−0.57(12−14) 9
6 0.33−0.40(8−10)85−94表1
1のデータは本発明の湿潤剤がさまざまのジアミンと共
にすぐれたMgSO4塩排除率を有する複合膜の製造に
使用できることを示している。実施例23に記載した湿
潤剤がより良い膜をつくるように見られた。
実施例75゜
連続的方法で、不織ポリエステルウェブを被覆した微孔
性ポリスルホンフィルムの表面を、1.25重量%ピペ
ラジン、1.25重量%N、N’−ジメチルピペラジン
及び、25モル%のメチルメタクリレート;68モル%
VBDMS(クロライド屋)、5.3モル%の実施例1
5の式Iの化合物及び実施例15の式■の化合物の1.
7モル%から誘導した高分子湿潤剤の063重量%の水
溶液で飽和した。過剰のピペラジン溶液を除去して後、
ポリスルホンフィルムをトリメソイルクロライドの0.
2重f/容量%の1−.1.2−トリクロロトリフルオ
ロエタン溶液と1分間接触させた。
性ポリスルホンフィルムの表面を、1.25重量%ピペ
ラジン、1.25重量%N、N’−ジメチルピペラジン
及び、25モル%のメチルメタクリレート;68モル%
VBDMS(クロライド屋)、5.3モル%の実施例1
5の式Iの化合物及び実施例15の式■の化合物の1.
7モル%から誘導した高分子湿潤剤の063重量%の水
溶液で飽和した。過剰のピペラジン溶液を除去して後、
ポリスルホンフィルムをトリメソイルクロライドの0.
2重f/容量%の1−.1.2−トリクロロトリフルオ
ロエタン溶液と1分間接触させた。
処理したフィルムを周囲温度の水浴、50℃の21盆%
のグリセリンと0.1重量%のラウリルサルフェートと
の水溶液を引続いて通し、次に2分間75℃で乾燥した
。
のグリセリンと0.1重量%のラウリルサルフェートと
の水溶液を引続いて通し、次に2分間75℃で乾燥した
。
得られた膜を1551Pa(225pss )の縁膜的
圧力で、0.2重量%のMgSO4水溶液及び0.2重
量%のi’JaC1水溶液を用いて試験した。(25℃
に正規化した)透水量(水フラックス)及び排除率はそ
れぞれhigso4について1.563悔3/−1日(
40glti)及び99%、及びNaCLについて1.
79 tn”7m” 、日(44rtfd )及び46
%であった。この膜はイオン性高分子湿潤剤無しで製造
した膜に比して改良された苛性耐性も示した。この場合
、標準試験条件下で2日間pH13の苛性溶液に耐えた
。
圧力で、0.2重量%のMgSO4水溶液及び0.2重
量%のi’JaC1水溶液を用いて試験した。(25℃
に正規化した)透水量(水フラックス)及び排除率はそ
れぞれhigso4について1.563悔3/−1日(
40glti)及び99%、及びNaCLについて1.
79 tn”7m” 、日(44rtfd )及び46
%であった。この膜はイオン性高分子湿潤剤無しで製造
した膜に比して改良された苛性耐性も示した。この場合
、標準試験条件下で2日間pH13の苛性溶液に耐えた
。
出 願 人 ザ ダウ ケミカル カンパニー化
理 人 弁理士 斉 藤 武 彦1 ;同
弁理士 川 瀬 良 治。
理 人 弁理士 斉 藤 武 彦1 ;同
弁理士 川 瀬 良 治。
手続補正書
昭和63年10月5日
特許庁長官 吉 1)文 毅 殴
1事件の表示
昭和63年特許願第221503号
2発明の名称
ポリアミド逆浸透膜
3補正をする者
事件との関係 特許出願人
名称 ザ ダウ ケミカル カンパニー4代理人
5補正の対象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水性溶液中に存在する本質上水溶性の反応性ポリア
ミンを、有機溶液中に存在する少なくとも2の平均アシ
ルハライド官能性を有する比較的水に不溶の多官能性ア
シルハライドと、多孔性支持体上で界面重合させて製造
した架橋したポリアミド弁別層を有する複合逆浸透膜を
製造するに際し; 界面重合を複数個のイオン性部分を有する高分子湿潤剤
の存在下で実施することを特徴とする、架橋したポリア
ミド弁別層を有する複合逆浸透膜の製造方法。 2、高分子湿潤剤が複数個のオニウム部分又はアゼチジ
ニウム基を有している請求項1記載の方法。 3、高分子湿潤剤がビニル付加重合体である請求項2記
載の方法。 4、高分子湿潤剤が複数個のアニオン性基とカチオン性
基の両方を有している請求項1記載の方法。 5、高分子湿潤剤が複数個のアニオン性基を有している
請求項1記載の方法。 6、高分子湿潤剤が縮合重合体である請求項1記載の方
法。 7、高分子湿潤剤が(a)5乃至95モル%のビニルベ
ンジルジ−又はトリ−アルキルスルホニウム塩又はビニ
ルベンジルアルキレンスルホニウム塩、但し各アルキル
は独立してC_1乃至C_4アルキルであるか又はアル
キレン基とスルホニウムが5−又は6−員環を形成する
、及び(b)残余量の相容性単量体、から誘導されたも
のである請求項3記載の方法。 8、高分子湿潤剤が複数個のベンジルジアルキルスルホ
ニウム、ベンジルシクロアルキレンスルホニウム、ベン
ジルアルキルシクロアルキレン第4級アンモニウム又は
ベンジルトリアルキル第4級アンモニウム基を有してい
る請求項2記載の方法。 9、ポリアミンがピペラジン、置換ピペラジン、少なく
とも2個の反応性アミン基を含有する置換ピペリジン又
は少なくとも2個の反応性アミン基を有する置換シクロ
ヘキサンである請求項1記載の方法。 10、アシルハライドが少なくとも50モル%のトリメ
ソイルクロライドと残余量のイソフタロイルクロライド
又はテレフタロイルクロライドである請求項9記載の方
法。 11、湿潤剤が(a)5乃至100モル%のビニルベン
ジルジアルキルスルホニウム塩又はビニルベンジルアル
キレンスルホニウム塩、但し各アルキルはC_1乃至C
_4アルキルであるか又はアルキレン基とスルホニウム
が5−又は6−員環を形成している、(b)0乃至95
モル%のC_1乃至C_4アルキルメタクリレート、及
び(c)残余量の相容性単量体;から誘導された高分子
より成る請求項10記載の方法。 12、ポリアミンが4−アミノメチルピリジンである請
求項10記載の方法。 13、高分子湿潤剤が複数個のカルボキシレート又はス
ルホネート基を有している請求項2記載の方法。 14、微孔性支持体にポリアミド弁別弁を有する複合逆
浸透膜であつて、 ポリアミド弁別層がピペラジン、置換ピペラジン、少な
くとも2個の反応性アミン基を含有する置換ピペリジン
又は少なくとも2個の反応性アミン基を有する置換シク
ロヘキサンと、平均して少なくとも2個の反応性アシル
ハライド基を有する芳香族又はシクロ脂肪族のアシルハ
ライドとを、複数個のオニウム基を有するイオン性高分
子湿潤剤の存在下、且つポリアミン又はアシルハライド
のいずれかが平均して2個より多い反応性官能性部分を
有する条件で反応させて誘導したものであることを特徴
とする複合逆浸透膜。 15、高分子湿潤剤が複数個のジアルキルスルホニウム
基を有している請求項14記載の膜。 16、ポリアミン反応物がピペラジンである請求項15
記載の膜。 17、アシルハライド化合物が少なくとも50モル%の
トリメソイルクロライド及び残余量のイソフタロイルク
ロライド又はテレフタロイルクロライドである請求項1
6記載の膜。 18、0.2%硫酸マグネシウム水溶液を用いて155
1Pa(225p■i)の膜通過(トランスメンプレン
)圧力で25℃で試験した時に、膜が少なくとも1.2
2m^3/m^2、日(30gfd)の水フラックス及
び少なくとも97%の硫酸酸マグネシウム排除率を有し
ている請求項17記載の膜。 19、0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液に48時間
曝露して後、同一の試験条件で少なくとも90%の硫酸
マグネシウム排除率を膜が維持している請求項18記載
の膜。 20、請求項14記載の膜を通して水を浸透させ、膜と
接触する送入水溶液中に存在する硫酸塩の少なくとも8
0%を除去することを特徴とする水溶液からの2価アニ
オンの除去方法。
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