JPH01133230A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明９は、レーザー光により記録・再生・消去を行う
光ディスクの製造方法に係り、特にディスクの長寿命化
、高信頼化を達成するのに好適な光ディスクの製造方法
に関する。

〔従来の技術〕

高度情報化社会の進展に伴ない、高密度、大容量のファ
イルメモリーに対するニーズが高まっている。この要求
を満たすファイルメモリーとして光ディスが注目されて
おり、各所で研究がなされている。光ディスクにはり一
ドオンリ型、追記型、光磁気型及び相変化型の４つのタ
イプがある。いずれのタイプのディスクとも、従来、種
々の基板上に情報記録媒体を形成したディスク単体をは
り合わせ光ディスクを作成していた０通常用いられてい
るディスク基板材としては、ガラス、各種プラスチック
、アルミニウム等がある。これらの中で最も安価で広範
囲に利用されているのがプラスチック基板である。情報
記録媒体を形成したプラスチック基板同志を貼り合わせ
る場合、種々の接着剤を用いたり、或いはエアーサンド
イツチ法を用いたりして行なう手法が知られている。こ
れらの例として、特開昭６１−６３９４１号、特開昭５
７−２７４９４号、特開昭５８−１４３４２号、特開昭
６１−１６９２３８号等をあげることができる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術では、二枚の熱可塑性樹脂基板の間に情報
記録媒体をはさみ込む形で貼り合わせる場合、エアーサ
ンドイッチ構造を用いると２枚の基板間の空気層が周囲
の気温や湿度の変化に追従できず、媒体表面に水が結露
し記録膜を腐食するという問題があった。また、接着剤
を用いた密着貼り合わせでは、接着剤層が吸水率及び透
水率が大きくかつ酸素の拡散も容易に行えるために、水
が接着層を拡散してゆく際に接着剤中に含まれる腐食性
物質を溶出するので、水、酸素及び腐食性物質が協会し
て記録媒体、特に記録膜を腐食するという問題があった
。

本発明の目的は、環境中の水分の侵入を小さくして、長
寿命を有する樹脂製の光ディスクを提供することにある
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、二枚のディスク単板を、熱を用いて基板の
端部を融着させることにより達成される。

この融着はレーザ光等を照射することによる熱融着でも
よいし、あるいは超音波振動を用いてその際に発生する
熱を利用するような熱融着でもよい。

〔作用〕

２枚の熱可塑性基板を直接貼り合わせるのに接着剤等を
熱により直接融着することにより、吸水率及び透水率の
大きな接着剤層がないので、腐食性物質を含んだ水によ
る情報記録媒体の腐食を抑制することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の詳細を実施例１および２により説明する
。

［実施例１コ 本実施例は、記録媒体が三層構造を有する光ディスクに
関するものである。

作製した光ディスクの断面構造を示す模式図を第１図に
示す。表面に凹凸パターンを有するポリカーボネート等
の熱可塑性樹脂基板（３）上に情報記録媒体（２）を形
成した。まず最初にスパッタリング法により５ｉａＮａ
下地膜を形成した。装置はインライン方式マグネトロン
スパッタ装置を用い、放電ガスにＡｒ／Ｎｚ（＝８０／
２０）混合ガスを。

ターゲットに５ｉａＮ番焼結体をそれぞれ使用した。

スパッタ条件は、放電ガス圧：　Ｉ　Ｘ　１０−”Ｔｏ
ｒｒ、投入ＲＦ電力密度：　４．５　Ｗ／ｃｓｉ、基板
回転数：２０ｒｐ■である。できた膜は、膜厚８００人
、屈折率２．０５であった。ひきつづき、ＴｂＦｅＣｏ
Ｎｂ膜を形成した。放電ガスはＡｒ、ターゲットはＴｂ
ｚｓ、ｓＦｅ＋ｓｓ、ｏＣｏｚｓ、５Ｎｂｅ、ｏなる組
成の合金ターゲットを使用した。スパッタ条件は、放電
ガス圧ｓ　ｘ　ｉ　ｏ−”（丁ｏｒｒ）　、投入ＲＦ電
力密度：４．５Ｗ／ａＪ、基板回転数：２０ｒｐ＋＊で
ある。できた膜は、膜厚１０．００人、保持カニＨｃ＝
７．０ＫＯｅ、カバー回転角＝θに＝ｏ、３３＠である
。そして最後に、５ｉａＮａ保護膜を形成した。スパッ
タ条件は、下地膜形成の場合と同様とした。得られた膜
は、膜厚１５００人、屈折率は２．０５であった。これ
ら三層の膜はすべて真空を破ることなく形成した。

尚、ここでは、上記下地膜、ＴｂＦｅＣｏＮｂ膜、保護
膜の三層を一括して情報記録媒体と称する。

こうして作成した単板ディスク２枚を、膜形成側が内側
になるように合わせて、レーザ光を用いた熱融着法によ
りはり合わせた。融着部分（１）は、ディスクの外周か
ら５ｗｎまでの部分と内周からＬｏａｎまでの部分とし
た。尚、ここで超音波振動を用いた熱融着法を用いても
よい。この光磁気ディスクを６０℃−９５％ＲＨ中に放
置し、孔食の発生状況を顕微鏡によりその個数で調べた
。ここで、二枚の昨板ディスクを室温硬化型のエポキシ
樹脂系接着剤ではり合わせた光ディスクを同様の環境中
に放置したときと比較した。その結果、まず本発明のデ
ィスクは１作成直後で３　Ｘ　１０１（コ／１ａｌ）で
あった孔食が２０００時間放置後で４ＸＩＯ２（コ／ｃ
ｄ）とやや増加した。これに対して、本発明を用いず作
成した。ディスク（比較例）は、作成初期が３　Ｘ　１
０’コ／ｄであったものが２０００時間後でｌＸ１０’
ｌ／ｌｄ　と太きく増大した。これは、接着剤を用いて
貼り合わせた場合、接着剤層を介して水及び酸素が侵入
し、かつ接着剤層中の腐食成分（例えば硬化剤のアミン
化合物等）も作用し、保護膜の欠陥部分から記録膜を腐
食したために、孔食が多数発生したのである。これに対
し熱融着した基板は、接着剤を用いていないため、基板
の樹脂中における水や酸素特に水の拡散係数（吸水率及
び透水係数）が接着剤のそれと比べて著しく小さく、か
つ樹脂基板中には腐食性物質は含まれていないので孔食
の発生は著しく小さい。

この効果は、希土類−鉄族元素を主体とする光磁気ディ
スクに限らず、水や酸素と反応するカルコゲナイド系等
を用いるライトワンス型光ディスク、相変化型光ディス
クに対しても同様の効果を有する。

［実施例２］ 本実施例は、光磁気記録膜−層のみを熱可塑性樹脂基板
上に形成した場合である。すなわち、第１図における情
報記録媒体が一層のみの場合である。作製した光ディス
クの断面構造は実施例１と同様で第１図に示すとおりで
ある。ディスクの作製は以下に述べる手順で行なった０
表面に凹凸パターンを有する熱可塑性樹脂基板（３）上
に情報記録媒体（２）を形成した。情報記録媒体は、Ｔ
ｂＦｅＣｏＮｂＰｔ膜−層よりなる。膜形成はスパッタ
リング法により行なった。放電ガスにＡｒ、ターゲット
にＴ　ｂｚ＋Ｆ　ｅｙ＋ｓｃ　ｏｔｅＮ　ｂａ、ａＰ　
ｔ４．ｓなる組成の合金ターゲットをそれぞれ用い、放
電ガス圧：５Ｘ１０−８（Ｔｏｒｒ）　、投入ＲＦｉｌ
力密度：４．５Ｗ／ｃｄ、基板回転数：２Ｏｒｐｍであ
る。得た記録膜は膜厚が８００人、カー回転角θｂ”０
．３２人、保磁カニ　Ｈｃ＝８　Ｋ　Ｏｅ　、キュリー
温度Ｔ　ｃ　＝　２００℃、補償温度Ｔｃｏ、ｐ＝　８
０　’ｃ反射率Ｒ＝４８％である。膜組成は、ターゲッ
トの組成とほぼ同じで、組成ずれはない。

このようにして作製した単板ディスク２枚を膜形成側が
互いに向き合うように合わせ、熱融着法により、貼り合
わせた。熱融着の方法は実施例１と同様であり、また貼
り合せ部分も実施例１の場合と同様とした。この光磁気
ディスクを６０℃−９５％ＲＨ中に放置し、顕微鏡によ
り一定の視野内にある孔食の個数をカウントすることで
孔食発生状況を調べた。ここで、二枚の単板ディスクを
実施例１で用いたものと同じ室温硬化型のエポキシ樹脂
系の接着剤によりはり合わせて作製した光ディスクを同
様の環境中に放置した場合と比較した。その結果、まず
、本発明のディスクは１作成直後で２　Ｘ　１０１コ／
ｄであった孔食が、２０００時間放置後で２．５　Ｘ　
１０ｆコ／ｄとわずかに増加した。これに対し、本発明
によらないディスク（比較例）では、２０００時間後で
８　Ｘ　１０”コ／ｄと大きく増加した。この孔食発生
の違いの原因については、実施例１と同じである。

〔発明の効果〕

本発明によれば、熱可塑性基板２枚を直接熱により貼り
合わせることにより、水や酸素の拡散係数の大きな層及
び腐食物質を含む層が存在しないので、大気中の水や酸
素が侵入を大きく抑制できるので、これら物質による情
報記録媒体の腐食を防ぐことができ、ディスクの信頼性
を向上させる効果がある。さらに、２枚の単板ディスク
の貼り合せに接着剤を用いないので、接着剤による情報
記録媒体の腐食を抑制するとともに、貼り合せプロセス
の簡略化及び自動化が可能になり、ディスクコストの低
減につながる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例のディスクの断面構造を示す模
式図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、レーザー光を用いて記録・再生・消去を行う光ディ
   スクの製造方法において、２枚の基板に形成されたガイ
   ドトラックが同心となるように基板を互いに対向させ前
   記基板の端部に熱を用いた直接融着により前記２枚の基
   板の貼り合わせを行なうことを特徴とする光ディスクの
   製造方法。 ２、前記熱を用いた直接融着を、レーザ光照射による発
   熱によつて行なうことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の光ディスクの製造方法。 ３、前記熱を用いた直接融着を、超音波振動による発熱
   によつて行なうことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の光ディスクの製造方法。