JPH01135565A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH01135565A
JPH01135565A JP62295904A JP29590487A JPH01135565A JP H01135565 A JPH01135565 A JP H01135565A JP 62295904 A JP62295904 A JP 62295904A JP 29590487 A JP29590487 A JP 29590487A JP H01135565 A JPH01135565 A JP H01135565A
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    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
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    • G—PHYSICS
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はレティクル及びフォトマスクなどの製造に用い
られるフォトマスク基板（以下基板という）又は液晶デ
イスプレィに用いられるガラス基板のパターンを形成す
る＃１暎上に塗布液（塗布拡散剤、ホトレジスト液）を
塗布する装置に関し、特に皮布液の膜厚を均一化するた
めの塗布装置に関するものである。
（従来技術と問題点） 各種基板（ｙ４Ｊ形、角形）に対°シ塗布拡散剤の塗布
やホトレジスト液等を塗布するにはスピンド〃の回転遠
心力を利用した回転塗布装置の使用が一般的である。
この回転塗布装置はスピンドρの上面に基板を吸層させ
て保持し、スピンドμの回＠を停止させた状態で基板表
面の中心に塗布液を滴下すると共にスピンドルを回転さ
せ、該スピンドμの回転遠心力によシ塗布液を全面に拡
がらせ、同時に不必要な液を基板外へ９ＩＩ敗させ、基
板表面に均一厚さの拡散剤映やホトレジスト模を形成す
るようになすのであるが、所有る回転塗布装置で塗布膜
を形成する場合、基板上の塗布液表面のうち周辺部分が
回転によって発生する風の影響を受け、その周辺部分か
ら乾燥し始め、粘度が置くなシ、その結果周辺部分の塗
布液が固化して基板表面全体を均一な膜厚に塗布するこ
とが困難なものとなっている。特に大型基板になればな
るほどこの影響は大であシ、また矩形基板では特に問題
となっている。
ところで塗布膜厚を均一化する方法として第１図に示す
如きスピンド／Ｌ／　１’の上面に基板２′を保持し、
スピンドルと同期して口伝する容器３′をスピンドｙ上
の基板ＩＩを包むように構成した塗布装置も提案されて
いるが、塗布膜形成で不必要となった塗布液は基板外の
容器８１底部や側壁に完敗されるため、基板を連続的に
スピン処理することは不可能で生産性に劣る問題がある
。
（問題点を解決するための手段） 本発明は叙上の点に鑑み、基板を載置して回転するスピ
ンド〃に対し、これと同期し且つスピンドρ上の基板を
包むようにして回転する容器を容器本体と蓋体の分ｗｉ
構造に構成し、且つ容器本体底部にはＲ液排出用の複数
の小孔やチューブなどを設けることにより、均一な被膜
の形成された基板を生産性良く連続生産可能となさしめ
たものである。
以下、本発明装置は次の実施例によって具体的に説明さ
れる。
（実施例１） 第２図は本発明装置の部分縦断面図で１はスピンドμ、
２は該上部で真窒吸引手埃を備えたチャックヘッド、８
は基板であってチャックヘッド２に吸着されてなる。４
及び４１は上記基板３を包むように配設される容器本体
及び蓋体であって、次の如き構成である。
第８図に於いて４ａは回転容器本体の底板で該底板中心
部にはスピンドルチャックヘッド２が突出する透孔５が
穿設されると共に、−定高さに立設した周ｔｉｌｌ壁４
ｂによυ皿状に形成され、且つ皿状外局部の複数箇所に
は小孔やチューブ管５ａ、６に、　６ｇ・・・が設けで
ある。なお、７・・・は周側壁４ｂの上方外周面部に突
設させた鉤片で人達する蓋体４′と脱着自在に係合する
ようになっている。
蓋体４１は中心部に塗布液滴下用のノズル管８が軸承体
９を介し設けてあシ、該軸承体９を介し回動自在となさ
れるのであシ、且つ蓋体４′の周辺鍔体内部には上記鉤
片７・・・が弾撥的に保合する孔１ｏが設けである。１
１は上記蓋体、ｉｌ　ｔ−支承してなるノズル管８をピ
ストンロッドを介し一定高さ範囲で昇下降させるための
流体シリンダーであ）、且つ該流体シリンダ−１１／ｆ
ｉ図示しない歯車手段を介し扇形回動させられることに
ょル、蓋体４′を容器本体４上方の邪魔とならない位置
に逃避させるようになっている。
１２はドーナツ状で上記容器本体４及び蓋体４′を中心
内部で包むようＫなすカップであって、カップ底部は廃
液孔１３が設けられ、排気ファンを匍えたパイプと連結
されてなる。
上記構成に於いて容器本体４は底板４ａがスピンドρ上
面部に取付けてあ夕、これにより蓋体４′が容器本体４
と保合止層された状態では両者は一体となって回動する
のでｈＦ）、１４は駆動モーターである。
次に作用について述べると、流体シリンダー１１の作動
で蓋体４′を上昇させると共に扇形回動させて容器本体
４上方部を開放し、スピンド〃のチャックヘッド２に基
板ａを吸着させ、次に蓋体４′を元に戻して容器本体４
と係合させると共に七−ター１４の駆動で容器本体４を
蓋板４′と一体に回動させる。これによに基板ａ上の塗
布液は遠心力作用で顔布暎形成の行われるものとなるが
、基板３は密閉された容器内の溶剤雰囲気中で行われる
ため、回転によって発生する風の影響は防止され、。
均一な膜形成の行われるものとなるのである。
とのさい回転遠心力によシ飛散される不必要な塗布液は
密閉容器の底部に突設させたチューブ管６’％６ｋ・・
・を介し容器内の不要塗布ｇｉ番容器外へ自動的に排出
させるようになすのである。具体的ぼけ、スピンド／Ｌ
／１が回励されると各チューブ管（３ｍ、（３ｋ・・・
の先端部と容器本体の孔箇所で圧力勾配が生ずるものと
なシ、即ち先端では低圧に、容器本体の孔箇所では高圧
となシ、そのため容器底部の側壁部に貯っていた塗布液
はこのチューブ管の圧力勾配のため容器外へ自動排出さ
れるものとなるのであ〕、従って塗布処理が終了し蓋体
４′が容器本体４から開放されると、基板２を取出すの
と入れ代えに新しい基板８を直ちにチャックヘッド２へ
吸着させ、以下同様にして連続実施するのである。
（実施例２） ｗｊ４図は他の例の部分縦断面図であって、上記実施例
では蓋板４１をノズル管８に支承させて一体となしたも
のであるが、本例では両者を別々に分離させた構成で蓋
板４１の中心内部にはノズル管８の先端が嵌入される孔
１５が穿設されている。
本実施例で１６は蓋板４′を一定高さ範囲で昇下降させ
るための今１つの流体シリンダーであシ、且つ該流体シ
リンダー１６は図示しない歯車手段で置板４′を基板３
の取出しゃ装着を便ならしめるべく邪魔にならない位置
へ扇形回動するようになっておシ、その他の構成及び作
用は前例と同様である。
（５ｆｉ！施例８） 第５図は更に他の例の部分縦断面図である。
本例では実施例１に於いて基板８の脱着操作を基板８の
搬送ライン上で行うべく蓋板４′がノズ／Ｉ／ｆ８と共
に一定高さ上方に逃げたさい、スピンドルのチャックヘ
ッド２を容器本体４とは分離して昇下降可能ならしめた
ものであシ、即ちスピンド１ｖ１ｔ−流体シリンダ−１
７のｆＩＦ、鋤で一定高さ範囲の昇下降を行わしめ、そ
の上昇限でチャックヘッド２に対する基板３の着脱を、
下降限で塗布液処理が行われるようになすのであシ、こ
のさいチャックヘッド２と′：４器本体４との脱着操作
はチャツクヘッド２外周部へ弾撥的に内臓させた鉤片ｐ
が容。
器本体４の内周面に穿設した透孔Ｗと適宜係合すること
によシ行われる。なお、１８．１９．２０はスピンド／
Ｉ／１を駆動させるためのモーター及び歯車機構であシ
、その他の構成は第１実施例の場合と変シがない。
本例で共基板３の脱着操作を基板の搬送ライン上で行う
ことができることから、自動化作業を能率的に行う上で
優れたものとなる。
（発明の効果ン 本発明は以上の如くスピンドルのチャックヘッドに吸着
させた基板を容器本体及び蓋板で密閉状態となさしめ、
基板に対する塗布膜形成を塗布液溶剤雰囲気下で行わし
めるよう、になすのであシ、従って従来のものに於ける
如く回転によって発生する風の影４が防止されて均一な
膜形成が可能とな）、しかも回転遠心力によシ飛散され
る不必要な塗布液は容器本体に設けた小孔及びチューブ
管などを介して容器外方へ常時排出されるこ、とができ
るため、基板に対する上記均一な窪布処理を円滑且つ連
続的に実施することのできるものとなシ、品質向上と生
Ｍ性向上に寄与すること極めて大ならしめるものである
。　　　　。
【図面の簡単な説明】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）塗布液を塗布する基板を載置して回転するスピン
    ドルと、該スピンドル上の基板を包むようになすと共に
    スピンドルと同期して回転する容器を容器本体と蓋体の
    分離構造に構成し、且つ容器本体底部には廃液排出用の
    複数の小孔やチューブなどを設けたことを特徴とした塗
    布装置。
  2. （２）蓋体中心部に塗布液滴下用ノズル管を設け、該ノ
    ズル管を流体シリンダーのピストン杆と連結させ、蓋体
    とノズル管を一定高さ範囲の昇降可能に構成したことを
    特徴とする特許請求の範囲第１項記載の塗布装置。
JP62295904A 1987-11-23 1987-11-23 塗布装置 Expired - Lifetime JPH0669545B2 (ja)

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