JPH01140102A - カラー固体撮像素子用色分解フィルターの形成方法 - Google Patents
カラー固体撮像素子用色分解フィルターの形成方法Info
- Publication number
- JPH01140102A JPH01140102A JP62298637A JP29863787A JPH01140102A JP H01140102 A JPH01140102 A JP H01140102A JP 62298637 A JP62298637 A JP 62298637A JP 29863787 A JP29863787 A JP 29863787A JP H01140102 A JPH01140102 A JP H01140102A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color separation
- vernier
- separation filter
- main scale
- semiconductor wafer
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は色分解フィルター用透明基板又は固体撮像素子
を形成した半導体ウェーハ上に色分解フィルターを良好
な位置精度を以って形成する方法に関する。
を形成した半導体ウェーハ上に色分解フィルターを良好
な位置精度を以って形成する方法に関する。
（従来の技術および問題点ン
透明基板又は固体撮像素子を形成した半導体ウェーバに
色分解フィルターを形成する場合、数層の色分解フィル
ターを重ね合せる必要があり、その際の位置合せ精度も
０．５なｔｎ ｔ、 １．０μｍ以下の誤差範囲に抑え
ることが要求されている。
色分解フィルターを形成する場合、数層の色分解フィル
ターを重ね合せる必要があり、その際の位置合せ精度も
０．５なｔｎ ｔ、 １．０μｍ以下の誤差範囲に抑え
ることが要求されている。
従来、この色分解フィルター形成時の位置合せは、主と
して色分解フィルターのメインパターン部のずれを目測
で判断しておこなわれていた。そのため、位置合せに長
時間を要するとともに、ズレ量の確認が不明瞭とな）、
歩留シの低下および品質の安定化等の点で問題があった
。
して色分解フィルターのメインパターン部のずれを目測
で判断しておこなわれていた。そのため、位置合せに長
時間を要するとともに、ズレ量の確認が不明瞭とな）、
歩留シの低下および品質の安定化等の点で問題があった
。
したがって、本発明は色分解フィルターを透明基板又は
固体撮像素子上に高精度を以って迅速に位置ずれ量を検
査することができるカラ一固体撮像素子用色分解フィル
ターの形成方法を提供することを目的とする。
固体撮像素子上に高精度を以って迅速に位置ずれ量を検
査することができるカラ一固体撮像素子用色分解フィル
ターの形成方法を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記問題点を解決するため、色分解フィルター
形成時の位置合せにバーニアを利用するという手段を講
じた。
形成時の位置合せにバーニアを利用するという手段を講
じた。
さらに詳述すると、本発明は、色分解フィルター用透明
基板、又は固体撮ま素子を形成した半導体ウェーバの余
白部に主尺（又はパーニラ）を形成し、色分解フィルタ
ー形成用マスクに上記バーニア（又は主尺）を形成し、
これら主尺とバーニアとの組合せにより、上記透明基板
又は半導体ウェーバと、上記マスクとの位置精度を確認
しつつ、上記透明基板又は半導体ウェーバ上に色分解フ
ィルターを形成することを特徴とするカラー固体撮像素
子用色分解フィルターの形成方法を提供するものである
。
基板、又は固体撮ま素子を形成した半導体ウェーバの余
白部に主尺（又はパーニラ）を形成し、色分解フィルタ
ー形成用マスクに上記バーニア（又は主尺）を形成し、
これら主尺とバーニアとの組合せにより、上記透明基板
又は半導体ウェーバと、上記マスクとの位置精度を確認
しつつ、上記透明基板又は半導体ウェーバ上に色分解フ
ィルターを形成することを特徴とするカラー固体撮像素
子用色分解フィルターの形成方法を提供するものである
。
主尺またはバーニアが形成される半導体ウェーバの余白
部としてはチップ間のスクライブライン等を利用するこ
とができる。
部としてはチップ間のスクライブライン等を利用するこ
とができる。
又、上記透明基板又は半導体ウェー７１には各チップの
中央部を示す補助マークを設けるようにしてもよい。
中央部を示す補助マークを設けるようにしてもよい。
（作用）
本発明によれば、主尺の目盛ル関隔をＸＩＮＢとしたと
き、バーニアの目盛間隔を例えばｘ ＋ ０．１μｍ。
き、バーニアの目盛間隔を例えばｘ ＋ ０．１μｍ。
ｘ −０，１ｐｍ 、 ｘ ＋ ０．２ Ｊｉｍ又はｘ
−０，２μｍとすることにより、色分解フィルターの
位置合せ精度を０．１μｍ又は０．２μｍオーダーの精
度を以って管理することが可能となる。
−０，２μｍとすることにより、色分解フィルターの
位置合せ精度を０．１μｍ又は０．２μｍオーダーの精
度を以って管理することが可能となる。
（実施例）
図面の本発明の一実施例に係わる主尺とバーニア（副尺
）との関係を説明するための平面図であって、主尺１は
透明基板、又は固体撮像素子が形成されている半導体ウ
ェーバ上面の余白部分、例えばスクライブライン等の邪
魔にならない部分に、アルミニウム蒸着膜等により予め
形成されたものである。この主尺１を構成する単位パタ
ーンの中心部相互間、例えば＠０”を示す単位Ｉくター
ンと。
）との関係を説明するための平面図であって、主尺１は
透明基板、又は固体撮像素子が形成されている半導体ウ
ェーバ上面の余白部分、例えばスクライブライン等の邪
魔にならない部分に、アルミニウム蒸着膜等により予め
形成されたものである。この主尺１を構成する単位パタ
ーンの中心部相互間、例えば＠０”を示す単位Ｉくター
ンと。
＠１１を示す単位パターンの中心部の間隔、あるいは＠
０”を示す単位パターンと、”−１”を示す単位パター
ンの中心部の間隔等は全て、Ｘμｍの間隔を以って離間
されている。
０”を示す単位パターンと、”−１”を示す単位パター
ンの中心部の間隔等は全て、Ｘμｍの間隔を以って離間
されている。
他方、バーニア２は各々の色分解フィルター形成用マス
クに例えば開ロバターン（色分解フィルター構成材料が
ネガタイプの場合）で形成される。
クに例えば開ロバターン（色分解フィルター構成材料が
ネガタイプの場合）で形成される。
このバーニア２を構成する単位パターンは主尺１を構成
する単位パターンを少なくとも同−巾を以って形成され
、かつ、単位パターンの中心部相互間、例えば＠０”を
示す単位パターンと、″１”を示す単位パターンの中心
部の間隔、あるいは＠０”を示す単位パターンと、”−
１”を示す単位パターンの中心部の間隔等は全て（ｘ＋
０．１）μｍあるいは（ｘ＋ｏ、２）ｓｎの間隔を以っ
て離間されている。
する単位パターンを少なくとも同−巾を以って形成され
、かつ、単位パターンの中心部相互間、例えば＠０”を
示す単位パターンと、″１”を示す単位パターンの中心
部の間隔、あるいは＠０”を示す単位パターンと、”−
１”を示す単位パターンの中心部の間隔等は全て（ｘ＋
０．１）μｍあるいは（ｘ＋ｏ、２）ｓｎの間隔を以っ
て離間されている。
したがって、主尺１の＠０“の単位パターンに色分解フ
ィルター形成用マスクのバーニア２の＠０”の単位パタ
ーンを合せるようにして、色分解フィルターの色素層を
透明基板等の上面に形成し、同時にバーニア２を形成す
ることにより、これら＠０”の単位パターン相互間のず
れの有無、程度を数値的に読み取ることができる。すな
わち、バーニア２の目盛）間隔が（ｘ＋０．１）Ｊ＆ｎ
の場合、例えば主尺１の＠２”の単位パターンと、／４
−ニア２の＠２″の単位パターンとが位置的に合致して
いたとすれば、この色分解フィルターの色素層は左に０
．２μｍのずれを以って形成されていることが判断でき
る。このようにして読み取られ九情報はフィードバック
されることＫより位置合せの正確性を期することができ
る。
ィルター形成用マスクのバーニア２の＠０”の単位パタ
ーンを合せるようにして、色分解フィルターの色素層を
透明基板等の上面に形成し、同時にバーニア２を形成す
ることにより、これら＠０”の単位パターン相互間のず
れの有無、程度を数値的に読み取ることができる。すな
わち、バーニア２の目盛）間隔が（ｘ＋０．１）Ｊ＆ｎ
の場合、例えば主尺１の＠２”の単位パターンと、／４
−ニア２の＠２″の単位パターンとが位置的に合致して
いたとすれば、この色分解フィルターの色素層は左に０
．２μｍのずれを以って形成されていることが判断でき
る。このようにして読み取られ九情報はフィードバック
されることＫより位置合せの正確性を期することができ
る。
以上の操作は色分解フィルターの各色素層についておこ
なわれ、これら相互間の位置合せがおこなわれる。
なわれ、これら相互間の位置合せがおこなわれる。
なお、上記実施例ではバーニア２の目盛シ間隔を（ｘ＋
０．１）、ｍ又は（ｘ ＋ ０．２ ）μのとする例に
ついて述べたが、このプラスする数値は必要に応じ適宜
選ぶことができるとともに、（ｘ−０，１）μｍ、（ｘ
−Ｑ、２）ｔｕｂ等のマイナス数値を加えるものであっ
てもよい。また、主尺とバーニアの単位パターンを±５
の単位までのものを用いる例について説明したが、この
単位パターンの数を必要により増減してもよい。
０．１）、ｍ又は（ｘ ＋ ０．２ ）μのとする例に
ついて述べたが、このプラスする数値は必要に応じ適宜
選ぶことができるとともに、（ｘ−０，１）μｍ、（ｘ
−Ｑ、２）ｔｕｂ等のマイナス数値を加えるものであっ
てもよい。また、主尺とバーニアの単位パターンを±５
の単位までのものを用いる例について説明したが、この
単位パターンの数を必要により増減してもよい。
との主尺とバーニアの組合せは必要に応じ、透明基板あ
るいは半導体ウェーハ、ならびに色分解フィルター形成
用マスクに適数組成される。
るいは半導体ウェーハ、ならびに色分解フィルター形成
用マスクに適数組成される。
また、主尺を色分解フィルター形成用マスク上に形成し
、バーニアを透明基板あるいは半導体ウェーハ上に形成
するようにしてもよい。主尺又はバーニアを透明基板又
は半導体ウェーハのスクライブライン上に形成した場合
は、位置合せ確認の対象となるチップの位置を示す補助
マーク（例えば矢印）をスクライブライン上に主尺又は
バーニアと同時にパターニングすることが望ましい。
、バーニアを透明基板あるいは半導体ウェーハ上に形成
するようにしてもよい。主尺又はバーニアを透明基板又
は半導体ウェーハのスクライブライン上に形成した場合
は、位置合せ確認の対象となるチップの位置を示す補助
マーク（例えば矢印）をスクライブライン上に主尺又は
バーニアと同時にパターニングすることが望ましい。
（発明の効果）
本発明によれば色分層フィルターを透明基板又は固体撮
は素子が形成された半導体ウェーハ上に形成するに際し
、主尺およびバーニアをそれぞれに形成し、これを利用
して目視するだけ位置ずれ量を０．１．ａｍ程度の精度
で直ちにｐこなうようにしたから、各色素層の位置ずれ
を数値的に管理、検査することが可能となるため、これ
らのデータをフィードバックして工程管理に−おいて位
置合せ操作を高精度を以っておこなうことができる。
は素子が形成された半導体ウェーハ上に形成するに際し
、主尺およびバーニアをそれぞれに形成し、これを利用
して目視するだけ位置ずれ量を０．１．ａｍ程度の精度
で直ちにｐこなうようにしたから、各色素層の位置ずれ
を数値的に管理、検査することが可能となるため、これ
らのデータをフィードバックして工程管理に−おいて位
置合せ操作を高精度を以っておこなうことができる。
図面は本発明の一実施例を説明するための主尺とバーニ
アとの組合せを示す平面図である。 図中、１・・・主尺、２・・・バーニア。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦１ξＭロロロロ
ロロロロロロ 手続補正書坊式） 昭和 年９３・青°−７日
アとの組合せを示す平面図である。 図中、１・・・主尺、２・・・バーニア。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦１ξＭロロロロ
ロロロロロロ 手続補正書坊式） 昭和 年９３・青°−７日
Claims (6)
- （１）色分解フィルター用透明基板、又は固体撮像素子
を形成した半導体ウェーハの余白部に主尺（又はバーニ
ア）を形成し、色分解フィルター形成用マスクに上記バ
ーニア（又は主尺）を形成し、これら主尺とバーニアと
の組合せにより、上記透明基板又は半導体ウェーハと、
上記マスクとの位置精度を確認しつつ、上記透明基板又
は半導体ウェーハ上に色分解フィルターを形成すること
を特徴とするカラー固体撮像素子用色分解フィルターの
形成方法。 - （２）主尺が互いに等間隔を以って離間して並列した複
数の同一形状の単位パターンからなり、バーニアが主尺
の単位パターンより所定寸法だけ大きく又は小さく互い
に等間隔を以って離間して並列した複数の主尺と同一形
状の単位パターンからなることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の形成方法。 - （３）主尺の単位パターンの中心間の間隔をｘμｍとし
たとき、バーニアの単位パターンの中心間の間隔をｘ±
０．１μｍとする特許請求の範囲第２項記載の形成方法
。 - （４）主尺の単位パターンの中心間の間隔をｘμｍとし
たとき、バーニアの単位パターンの中心間の間隔をｘ±
０．２μｍとする特許請求の範囲第２項記載の形成方法
。 - （５）半導体ウェーハの余白部がスクライブラインであ
る特許請求の範囲第１項記載の形成方法。 - （６）上記透明基板又は半導体ウェーハに、各チップの
中央部を示す補助マークが予め施されているものである
特許請求の範囲１項記載の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62298637A JPH01140102A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | カラー固体撮像素子用色分解フィルターの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62298637A JPH01140102A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | カラー固体撮像素子用色分解フィルターの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01140102A true JPH01140102A (ja) | 1989-06-01 |
Family
ID=17862314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62298637A Pending JPH01140102A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | カラー固体撮像素子用色分解フィルターの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01140102A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05503171A (ja) * | 1990-02-14 | 1993-05-27 | イーストマン・コダック・カンパニー | ウェブの位置の決定 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59194433A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | マスクアライメント方法 |
| JPS6095435A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-28 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光用マスク |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP62298637A patent/JPH01140102A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59194433A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | マスクアライメント方法 |
| JPS6095435A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-28 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光用マスク |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05503171A (ja) * | 1990-02-14 | 1993-05-27 | イーストマン・コダック・カンパニー | ウェブの位置の決定 |
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