JPH01146132A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPH01146132A JPH01146132A JP30487487A JP30487487A JPH01146132A JP H01146132 A JPH01146132 A JP H01146132A JP 30487487 A JP30487487 A JP 30487487A JP 30487487 A JP30487487 A JP 30487487A JP H01146132 A JPH01146132 A JP H01146132A
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- Japan
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- island
- film
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、情報処理システムに於けるファイル記憶と
して用いられるような磁気ディスクに関するものである
。
して用いられるような磁気ディスクに関するものである
。
情報処理システムの高度化・大規模化に伴い。
磁気ディスク装ｆは大容量化、高速化が強く要求されて
いる。
いる。
以下、従来の磁気ディスクの二個ｆζついて図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
第５図、第６図は例えば特開昭６１−２３０６１１１号
公報および特開昭８１−２３０６１９号公報に示された
従来の磁気ディスクの断面を示Ｔものである。
公報および特開昭８１−２３０６１９号公報に示された
従来の磁気ディスクの断面を示Ｔものである。
第５図において、Ｃ！）は合金基板、（２）は下地硬化
層、（３）は磁気記録媒体である。
層、（３）は磁気記録媒体である。
また、第６図は磁気記録媒体の傷付・腐食防止のため、
磁気記録媒体（３）上に保護膜（４）を形成したもので
ある。例えば１合金基板（１）にはＡ／−Ｍｇ合金、下
地硬化層（２）には、アルマイトやＮ１−Ｃｕ −Ｐや
Ｎ１−Ｐ、磁気記録媒体（３）にはスパッタｒ −Ｆｅ
２０３やスパッタＣＱＮｉ やメツキ膜、保護膜（４
１にはスパッタ日１ｏ２やスパッタＣ０その他が使われ
ている。
磁気記録媒体（３）上に保護膜（４）を形成したもので
ある。例えば１合金基板（１）にはＡ／−Ｍｇ合金、下
地硬化層（２）には、アルマイトやＮ１−Ｃｕ −Ｐや
Ｎ１−Ｐ、磁気記録媒体（３）にはスパッタｒ −Ｆｅ
２０３やスパッタＣＱＮｉ やメツキ膜、保護膜（４
１にはスパッタ日１ｏ２やスパッタＣ０その他が使われ
ている。
磁気ディスク装置は、高速回転する磁気ディスク亡この
上をサブミクロンの微少すきまで浮とする浮動ヘッドの
主構成部から構成されている。浮動ヘッドは負荷ばねｌ
ζよル押圧され、起動停止時にはディスク面に接触した
まま走行Ｔる（コンタクト・スタート・ストップ；Ｃ５
５）。
上をサブミクロンの微少すきまで浮とする浮動ヘッドの
主構成部から構成されている。浮動ヘッドは負荷ばねｌ
ζよル押圧され、起動停止時にはディスク面に接触した
まま走行Ｔる（コンタクト・スタート・ストップ；Ｃ５
５）。
この際、ヘッドとディスクとの非接触相対運動の安定性
および安全性が重要な課題となっている。
および安全性が重要な課題となっている。
そのため、ディスクの表面精度は年々向とする傾向にあ
る。現在では、ディスクのＲｍａｘは１００ｒ前後きな
っている。
る。現在では、ディスクのＲｍａｘは１００ｒ前後きな
っている。
しかしながら磁気ディスクの表面積度の向上に伴い、摩
擦係数が増加するため、コンタクト・スタート・ストッ
プ方式で使用した際、耐摩耗性が劣シ、傷の発生につな
がる。また、吸着力が増加するなどの問題点があった。
擦係数が増加するため、コンタクト・スタート・ストッ
プ方式で使用した際、耐摩耗性が劣シ、傷の発生につな
がる。また、吸着力が増加するなどの問題点があった。
これは例えば雑誌（ＥｏＭ、Ｒｏｓｓｉ他、ジャーナル
・オプ・アプライド・フィジックス（Ｊ 、 Ａｐｐｌ
、Ｐｈ７す５５巻、６号。
・オプ・アプライド・フィジックス（Ｊ 、 Ａｐｐｌ
、Ｐｈ７す５５巻、６号。
２２５４頁）等に記載されている。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、磁気ディスク亡ヘッドの耐摩耗性を向上さ
せるとともに、吸着を防止できる磁気ディスクを得るこ
とを目的としている。
れたもので、磁気ディスク亡ヘッドの耐摩耗性を向上さ
せるとともに、吸着を防止できる磁気ディスクを得るこ
とを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
この発明に係る磁気ディスクは、平担な磁気記録媒体ま
たはこの磁気記録媒体上に成膜された保護膜に、金属、
シリコン、およびポロンのうちの１種で形成され酸化ま
たは窒化により硬化される島状の突起を有するものであ
る。
たはこの磁気記録媒体上に成膜された保護膜に、金属、
シリコン、およびポロンのうちの１種で形成され酸化ま
たは窒化により硬化される島状の突起を有するものであ
る。
この発明における島状の突起は、磁気へラドスライダ七
の真実接触面積を小さくする。そのため磁気ディスクさ
磁気へラドスライダ間の吸着力。
の真実接触面積を小さくする。そのため磁気ディスクさ
磁気へラドスライダ間の吸着力。
摩擦力が減少する上に、突起は硬化処理が施されている
ので耐摩耗性も向とする。
ので耐摩耗性も向とする。
第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクを示す
断面図で９図において、（１）は例えばＡ／−Ｍｇ合金
基板、（２）は例えばＮ１−ｐ メツキ膜の下地硬化
層、（３）は例えばスパッタＣとよるＣ□ −Ｎｉ Ｏ
）磁気記録媒体、（４）は例えばスパッタによる８１０
２の保護膜、（５）は例えば、 Ａ／２０３ の島状の
突起である。
断面図で９図において、（１）は例えばＡ／−Ｍｇ合金
基板、（２）は例えばＮ１−ｐ メツキ膜の下地硬化
層、（３）は例えばスパッタＣとよるＣ□ −Ｎｉ Ｏ
）磁気記録媒体、（４）は例えばスパッタによる８１０
２の保護膜、（５）は例えば、 Ａ／２０３ の島状の
突起である。
次に製造方法について説明する。Ａ／−Ｍｇ合金基板（
１１の表面ｌこＮ１ −ｐメツキ膜の下地硬化層（２）
を成膜して鏡面加工しであるものは１通常サブストレイ
トと呼ばれ、市販されている。市販サブストレイト上ξ
ζスパッタによりｃ（、−Ｎｉの磁気記録媒体膜（３）
を８００ＡＩ成膜し、その上にスパッタにより保設膜で
ある５１０２膜（４）を５００Ａ”成膜した。
１１の表面ｌこＮ１ −ｐメツキ膜の下地硬化層（２）
を成膜して鏡面加工しであるものは１通常サブストレイ
トと呼ばれ、市販されている。市販サブストレイト上ξ
ζスパッタによりｃ（、−Ｎｉの磁気記録媒体膜（３）
を８００ＡＩ成膜し、その上にスパッタにより保設膜で
ある５１０２膜（４）を５００Ａ”成膜した。
上記の８１０２保Ｍ膜（４）上にスパッタｆζよシＡｌ
の島状突起（５）を設ける。
の島状突起（５）を設ける。
さらに上記ディスクを酸素雰囲気中１例えば３００℃で
熱処理Ｔることにより、 Ａ／を酸化させ、硬化して
Ａ／２０３の島状突起を生成した。
熱処理Ｔることにより、 Ａ／を酸化させ、硬化して
Ａ／２０３の島状突起を生成した。
以上のように製造した磁気ディスクの表面粗さをタリス
テップで測定し、その結果を第３図及び第４図に示す。
テップで測定し、その結果を第３図及び第４図に示す。
即ち、第３図は上記第１図のこの発明の一実施例による
磁気ディスクの表面粗さを示Ｔ％性図、第４図は第４図
の従来例の磁気ディスクの表面粗さを示Ｔ特性図であシ
、縦軸は粗さ（４，横軸は走査方向（μｍ）を示す。な
お１図中。
磁気ディスクの表面粗さを示Ｔ％性図、第４図は第４図
の従来例の磁気ディスクの表面粗さを示Ｔ特性図であシ
、縦軸は粗さ（４，横軸は走査方向（μｍ）を示す。な
お１図中。
縦軸の矢印間は１００Ａ’に相当する長さを、横軸の矢
印間は５μｍに相当する長さを示す。図から明らかなよ
うに、この発明の一実施例による磁気ディスクには微少
な突起が認められる。この突起の高さは最大１００Ａ’
程度であシ、ヘッドの浮上特性ｌζはなんら影響を与え
ない。
印間は５μｍに相当する長さを示す。図から明らかなよ
うに、この発明の一実施例による磁気ディスクには微少
な突起が認められる。この突起の高さは最大１００Ａ’
程度であシ、ヘッドの浮上特性ｌζはなんら影響を与え
ない。
次に、上記一実施例による磁気ディスクと従来の磁気デ
ィスクの表面に３３８０形薄膜ヘツドを接触させ１周囲
を５０℃、８０％ＲＨにして２４時間放置後、静摩擦係
数を測定した。一実施例による磁気ディスクではＮ２４
．従来のディスクではＮ７４であシ、従来のディスクで
は吸着現象が認められた。このようｌζ、均一な凹凸に
よフ吸着に対しては飛躍的な改善となった。また、島状
突起（５）は熱処理により硬化されているので耐摩耗性
６ζ優れている。
ィスクの表面に３３８０形薄膜ヘツドを接触させ１周囲
を５０℃、８０％ＲＨにして２４時間放置後、静摩擦係
数を測定した。一実施例による磁気ディスクではＮ２４
．従来のディスクではＮ７４であシ、従来のディスクで
は吸着現象が認められた。このようｌζ、均一な凹凸に
よフ吸着に対しては飛躍的な改善となった。また、島状
突起（５）は熱処理により硬化されているので耐摩耗性
６ζ優れている。
なお、上記実施例では、島状の突起（５）をスパッタで
形成したが、蒸着、ＣＶＤ、メツキ、その他で形成して
もよい。また、スパッタ、蒸着、 ＣＶＤの条件は、
上記実施例に限定されるものでなく要は微少突起が均−
Ｉζ生じる条件であればよい。
形成したが、蒸着、ＣＶＤ、メツキ、その他で形成して
もよい。また、スパッタ、蒸着、 ＣＶＤの条件は、
上記実施例に限定されるものでなく要は微少突起が均−
Ｉζ生じる条件であればよい。
また、上記実施例では、島状の突起（５）がＡ／２０３
の場合について説明したが、他の金属酸化物、金属窒化
物、酸化ケイ素、酸化ポロン、窒化ケイ素。
の場合について説明したが、他の金属酸化物、金属窒化
物、酸化ケイ素、酸化ポロン、窒化ケイ素。
窒化ボロンなどであってもよく１例えばＴｉＯ２。
Ｚ ｒ０２．ＴＩＮ 、８１０２ 、Ｂ２Ｏ３、ｓｉ
３Ｎ４ 、ＢＮ等が挙げられる。
３Ｎ４ 、ＢＮ等が挙げられる。
また、上記実施例では、保護膜（４１が８１０２の場合
を示したが、他の無機酸化物、無機炭化物、無機窒化物
、無機はう化物、金属、炭素などであっテモヨく０例え
ば、 Ａ／２０３ 、 ＺｒＯ２、ＴＩＣ。
を示したが、他の無機酸化物、無機炭化物、無機窒化物
、無機はう化物、金属、炭素などであっテモヨく０例え
ば、 Ａ／２０３ 、 ＺｒＯ２、ＴＩＣ。
ＷＣ、ＢＮ 、 ８ｉ３Ｎ４ 、 ＮｉＢ 、 ＭｏＢ
、 Ｃｕ 、 Ｃ。
、 Ｃｕ 、 Ｃ。
ＯＦｎ等が挙げられる。
また、上記実施例では保護膜（４１上に島状突起（５）
を設けた場合について説明したが、保護膜なしの磁気デ
ィスクにおいては、第２図に示すように島状突起を直接
磁気記録媒体（３）上ｌζ設けてもよく。
を設けた場合について説明したが、保護膜なしの磁気デ
ィスクにおいては、第２図に示すように島状突起を直接
磁気記録媒体（３）上ｌζ設けてもよく。
上記実施例と同様の効果を奏するこきは勿論である。
また、実施例では突起高さが１００Ａ’程度のものを示
したが、これに限らず１ ＧＯＡ’〜１５００Ａ０．好
ましくは１２０Ａ”〜ｚｏｏａ’程度の突起まで許され
る。
したが、これに限らず１ ＧＯＡ’〜１５００Ａ０．好
ましくは１２０Ａ”〜ｚｏｏａ’程度の突起まで許され
る。
以上のように、この発明によれば、平担な磁気記録媒体
またはこの磁気記録媒体上に成膜された保膿膜ｌζ、金
属、シリコン、およびボロンのうちの１種で形成され酸
化または窒化により硬化される島状の突起を有するので
、耐摩耗性が向とすると共に吸着を防止できる効果があ
る。
またはこの磁気記録媒体上に成膜された保膿膜ｌζ、金
属、シリコン、およびボロンのうちの１種で形成され酸
化または窒化により硬化される島状の突起を有するので
、耐摩耗性が向とすると共に吸着を防止できる効果があ
る。
第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクを示す
断面図、第２図はこの発明の他の実施例による磁気ディ
スクを示す断面図、第３図は第１図のこの発明の一実施
例１ζよる磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第４
図は従来の磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第５
図、第６図はそれぞれ従来の磁気ディスクを示Ｔ断面図
である。 図において、（１）は合金基板、（２）は下地硬化層。 （３）は磁気記録媒体、（４）は保＠膜、 （５）は島
状突起である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
断面図、第２図はこの発明の他の実施例による磁気ディ
スクを示す断面図、第３図は第１図のこの発明の一実施
例１ζよる磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第４
図は従来の磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第５
図、第６図はそれぞれ従来の磁気ディスクを示Ｔ断面図
である。 図において、（１）は合金基板、（２）は下地硬化層。 （３）は磁気記録媒体、（４）は保＠膜、 （５）は島
状突起である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 平担な磁気記録媒体またはこの磁気記録媒体上に成膜さ
れた保護膜に、金属、シリコン、およびボロンのうちの
１種で形成され酸化または窒化により硬化される島状の
突起を有することを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30487487A JPH01146132A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30487487A JPH01146132A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01146132A true JPH01146132A (ja) | 1989-06-08 |
Family
ID=17938318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30487487A Pending JPH01146132A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01146132A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03198218A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-29 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| US5474830A (en) * | 1992-08-06 | 1995-12-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for the manufacture thereof including spaced apart deposits |
-
1987
- 1987-12-02 JP JP30487487A patent/JPH01146132A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03198218A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-29 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| US5474830A (en) * | 1992-08-06 | 1995-12-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for the manufacture thereof including spaced apart deposits |
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