JPH01155247U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01155247U JPH01155247U JP5120788U JP5120788U JPH01155247U JP H01155247 U JPH01155247 U JP H01155247U JP 5120788 U JP5120788 U JP 5120788U JP 5120788 U JP5120788 U JP 5120788U JP H01155247 U JPH01155247 U JP H01155247U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- gas
- source chamber
- gas inlet
- ion
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図はこの考案の第１の実施例の説明図、第
２図はガス放出体の正面図、第３図はその―
線断面図、第４図は第２図―線断面図、第５
図は第２の実施例の説明図、第６図は従来例の説
明図である。 １……イオン源室、２……プラズマ発生手段、
３……ガス放出体、４……ガス導入口、５……イ
オン流出口。
２図はガス放出体の正面図、第３図はその―
線断面図、第４図は第２図―線断面図、第５
図は第２の実施例の説明図、第６図は従来例の説
明図である。 １……イオン源室、２……プラズマ発生手段、
３……ガス放出体、４……ガス導入口、５……イ
オン流出口。
Claims (1)
- ガス導入口およびイオン流出口を有するイオン
源室と、前記ガス導入口から前記イオン源室内に
導入された原料ガスにマイクロ波および磁界を供
給してプラズマ化するプラズマ発生手段とを備え
たイオン源において、前記原料ガスを前記イオン
源室内に均一に放出させる多数の孔を形成したガ
ス放出体を前記イオン源室内の前記ガス導入口に
接続したことを特徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5120788U JPH01155247U (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5120788U JPH01155247U (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01155247U true JPH01155247U (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=31277238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5120788U Pending JPH01155247U (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01155247U (ja) |
-
1988
- 1988-04-15 JP JP5120788U patent/JPH01155247U/ja active Pending