JPH01155508A - 高密度記録用磁気ヘッド - Google Patents
高密度記録用磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH01155508A JPH01155508A JP31426187A JP31426187A JPH01155508A JP H01155508 A JPH01155508 A JP H01155508A JP 31426187 A JP31426187 A JP 31426187A JP 31426187 A JP31426187 A JP 31426187A JP H01155508 A JPH01155508 A JP H01155508A
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- magnetic
- groove parts
- core half
- parts
- thin films
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- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気記録を行なうための磁気ヘッドに係り、特
に高密度記録用磁気ヘッドに関するものである。
に高密度記録用磁気ヘッドに関するものである。
［従来の技術１
磁気記録において、より＾密度の記録を行うためには、
磁気記録媒体の保磁力を高める必要がある。しかし、従
来のフェライトヘッドでは、このような高保磁力媒体を
磁化するにト分な磁界を得ることができない。そこで、
フェライトコアのギャップ近傍にＣＯ系非晶貿あるいは
、ｒｅ−Ａ７−３ｉのような飽和磁束密度の高い材料を
被着したヘッドが考案され、多くの例が開示されている
。
磁気記録媒体の保磁力を高める必要がある。しかし、従
来のフェライトヘッドでは、このような高保磁力媒体を
磁化するにト分な磁界を得ることができない。そこで、
フェライトコアのギャップ近傍にＣＯ系非晶貿あるいは
、ｒｅ−Ａ７−３ｉのような飽和磁束密度の高い材料を
被着したヘッドが考案され、多くの例が開示されている
。
例えば、第１４図に示すようなヘッドがある。
このヘッドの作製工程は、以下の通りである。第９図に
示すように、）１ライトＷ１５ｉ４にＷ型溝部９を加工
し、次に第１０図に示すように該Ｗ型溝部９に磁性薄膜
１をスパッタあるいは蒸着により成膜する。さらに、第
１１図に示すようにガラス２を溶融充填し、平面研磨加
工を行い、コア半体ブロックとする。一方のコア半体ブ
ロックは、第１２図に示すように、溝部６の加工を行い
、さらに、第１３図に示すように、両コア半体の平面部
を突き合わせて、ガラスを溶融して接合する。この合体
ブロックを切断後、研磨加工を行い第１４図に示す磁気
ヘッドを作製する。
示すように、）１ライトＷ１５ｉ４にＷ型溝部９を加工
し、次に第１０図に示すように該Ｗ型溝部９に磁性薄膜
１をスパッタあるいは蒸着により成膜する。さらに、第
１１図に示すようにガラス２を溶融充填し、平面研磨加
工を行い、コア半体ブロックとする。一方のコア半体ブ
ロックは、第１２図に示すように、溝部６の加工を行い
、さらに、第１３図に示すように、両コア半体の平面部
を突き合わせて、ガラスを溶融して接合する。この合体
ブロックを切断後、研磨加工を行い第１４図に示す磁気
ヘッドを作製する。
［発明が解決しようとする問題点］
上記ヘッドは、第９図に示すようにＷ型溝部９を１つの
基板に士数個〜数十個形成するが、各Ｗ型溝部９間の距
離を一定に保つことが難しいこと、また、第１１図に示
すように、トラック幅どなるべき、磁性薄膜の幅も、各
コア半体で同じにすることが難しいことにより、コア半
体を接合した場合に接合部の幅が一致Ｕず、第１５図の
ようなずれδが生ずる。そのため、このずれ部分で磁束
のもれが生じ、隣接するｌ・ラックの情報を著しく消去
してしまう場合があるという問題点があった。
基板に士数個〜数十個形成するが、各Ｗ型溝部９間の距
離を一定に保つことが難しいこと、また、第１１図に示
すように、トラック幅どなるべき、磁性薄膜の幅も、各
コア半体で同じにすることが難しいことにより、コア半
体を接合した場合に接合部の幅が一致Ｕず、第１５図の
ようなずれδが生ずる。そのため、このずれ部分で磁束
のもれが生じ、隣接するｌ・ラックの情報を著しく消去
してしまう場合があるという問題点があった。
［問題点を解決するためのｆ段１
本発明は、上記問題点を解決するために、フェライト基
板、あるいは非磁性基板にＶ字型溝部を設け、該溝部に
高飽和磁気密度の磁性薄膜を被着したコア半体を当接さ
せて接合し、該簿膜をギＶツブ面と略垂直に設けた磁気
ヘッドを提供するものである。
板、あるいは非磁性基板にＶ字型溝部を設け、該溝部に
高飽和磁気密度の磁性薄膜を被着したコア半体を当接さ
せて接合し、該簿膜をギＶツブ面と略垂直に設けた磁気
ヘッドを提供するものである。
［作 用］
従来は、第１５図に示すようにギャップ面３と磁性薄ｙ
Ａ１のなす角０が鋭角であるため鋭角部分での磁束のも
れが発生し易く、書きにじみが生じていたが、薄膜をギ
ャップ面と略垂直にすると、ギャップ両側の磁束のもれ
が非常に少なくなり、南きにじみ帝が激減する。
Ａ１のなす角０が鋭角であるため鋭角部分での磁束のも
れが発生し易く、書きにじみが生じていたが、薄膜をギ
ャップ面と略垂直にすると、ギャップ両側の磁束のもれ
が非常に少なくなり、南きにじみ帝が激減する。
［実施例］
第１図は本発明の実施例を示す図であり、第２図は、媒
体接触部の拡大図である第１図及び第２図において１は
ｒｅ−Ａ、ｅ−ｓｔ磁性薄膜、２は溝部６に充填された
ガラス、３はギャップ面、４はフェライト基板である。
体接触部の拡大図である第１図及び第２図において１は
ｒｅ−Ａ、ｅ−ｓｔ磁性薄膜、２は溝部６に充填された
ガラス、３はギャップ面、４はフェライト基板である。
該磁性薄膜１はギャップ面３と垂直になっている。
本実施例では、第３図に示すように、フェライト基板４
にＶ字型の溝部９を研削加工により作成その際Ｖ字型溝
部９の片斜面が、ギャップとなる基板面と垂直になるよ
うにする。溝部９に第４図に示すようにＢ５ｏ＝１２，
０ＯＯＧ 、 ２．５ＨＨ７および５ＨＨｚの透磁率
がそれぞれ１８００および１０００のｒｅ−ＡＩ−３ｉ
Ｉ！ｌを、スパッタリングで２，５μｍ被着する。
にＶ字型の溝部９を研削加工により作成その際Ｖ字型溝
部９の片斜面が、ギャップとなる基板面と垂直になるよ
うにする。溝部９に第４図に示すようにＢ５ｏ＝１２，
０ＯＯＧ 、 ２．５ＨＨ７および５ＨＨｚの透磁率
がそれぞれ１８００および１０００のｒｅ−ＡＩ−３ｉ
Ｉ！ｌを、スパッタリングで２，５μｍ被着する。
さらに、第５図に示すように、ガラス２を溝部６に溶融
充填し、平面研磨加工を行ない、コア半体ブロックとす
る。一方のコア半体ブロックは溝部６の加工を行い、さ
らに第６図のように両コア半体の平面部を突き合わせて
、ガラスを溶融して接合する。この合体ブロックを切１
ｆＪｉ’ｌｋ、研磨加工を行い、第１図に示す磁気ヘッ
ドとする。
充填し、平面研磨加工を行ない、コア半体ブロックとす
る。一方のコア半体ブロックは溝部６の加工を行い、さ
らに第６図のように両コア半体の平面部を突き合わせて
、ガラスを溶融して接合する。この合体ブロックを切１
ｆＪｉ’ｌｋ、研磨加工を行い、第１図に示す磁気ヘッ
ドとする。
このようにして作製したヘッドの古きにじみｍを従来ヘ
ッドと比較した。測定に用いた媒体は、保磁力１４５０
０ｅのＦＯ粉塗布テープであり、磁気ヘッド相対速度３
．５ｍ／ｓで接触させて行った。測定は第７図のように
媒体１０に信号を記録した後ヘツド１２を媒体走行方向
と直角方向に１μｍずつ移動させ再生を行い、そのつと
出力をみる。この場合、書きにじみがなければ、トラッ
ク幅１１だけヘッドを移動させると出力はゼロとなるは
ずである。第８図に、従来ヘッドと本発明のヘッドの測
定結果を示す。使用したヘッドは両者ともトラック幅２
０μｍ、ギＶツブ艮０．３μｍ、トラックずれ２μ輪で
ある。横軸にヘッドの移ａｍ、 ｓｉ軸に出力をとった
。（イ）は肉ぎにじみがない理想的なヘッドを仮定した
場合の直線である。（ロ）は従来ヘッド、（ハ）は本発
明によるヘッドを示す。この図より、明らかに、本発明
によるヘッドは書きにじみが少ないことが分る。
ッドと比較した。測定に用いた媒体は、保磁力１４５０
０ｅのＦＯ粉塗布テープであり、磁気ヘッド相対速度３
．５ｍ／ｓで接触させて行った。測定は第７図のように
媒体１０に信号を記録した後ヘツド１２を媒体走行方向
と直角方向に１μｍずつ移動させ再生を行い、そのつと
出力をみる。この場合、書きにじみがなければ、トラッ
ク幅１１だけヘッドを移動させると出力はゼロとなるは
ずである。第８図に、従来ヘッドと本発明のヘッドの測
定結果を示す。使用したヘッドは両者ともトラック幅２
０μｍ、ギＶツブ艮０．３μｍ、トラックずれ２μ輪で
ある。横軸にヘッドの移ａｍ、 ｓｉ軸に出力をとった
。（イ）は肉ぎにじみがない理想的なヘッドを仮定した
場合の直線である。（ロ）は従来ヘッド、（ハ）は本発
明によるヘッドを示す。この図より、明らかに、本発明
によるヘッドは書きにじみが少ないことが分る。
［発明の効果］
以上述べたように、本発明によれば、トラックずれが発
生した部分での磁束のもれが小さいため、♂きにじみ岱
の少ない高密度記録ヘッドを提供できる。
生した部分での磁束のもれが小さいため、♂きにじみ岱
の少ない高密度記録ヘッドを提供できる。
第１図および第２図は、本発明による磁気ヘッドの説明
図、第３図〜第６図は、本発明による磁気ヘッドの製造
工程を示す説明図、第７図は、古きにじみ世の測定方法
を示す図、第８図は、従来ヘッドと本発明ヘッドの書き
にじみ頃の測定結果を示す図、第９図〜第１５図は、従
来の磁気ヘッドの製造工程を示す説明図である。 １・・・磁性薄膜、３・・・ギャップ面、４・・・フェ
ライト基板、６．９・・・溝部。 第３図 第４図 第７区 第８図 ヘッド移動量（Ｐｍ） 第１１図 第１２図
図、第３図〜第６図は、本発明による磁気ヘッドの製造
工程を示す説明図、第７図は、古きにじみ世の測定方法
を示す図、第８図は、従来ヘッドと本発明ヘッドの書き
にじみ頃の測定結果を示す図、第９図〜第１５図は、従
来の磁気ヘッドの製造工程を示す説明図である。 １・・・磁性薄膜、３・・・ギャップ面、４・・・フェ
ライト基板、６．９・・・溝部。 第３図 第４図 第７区 第８図 ヘッド移動量（Ｐｍ） 第１１図 第１２図
Claims (1)
- フェライト基板、あるいは非磁性基板にＶ字型溝部を設
け、該溝部に高飽和磁束密度の磁性薄膜を被着したコア
半体を当接させて接合し、該薄膜をギャップ面と略垂直
に設けたことを特徴とする高密度記録用磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31426187A JPH01155508A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31426187A JPH01155508A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01155508A true JPH01155508A (ja) | 1989-06-19 |
Family
ID=18051222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31426187A Pending JPH01155508A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01155508A (ja) |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP31426187A patent/JPH01155508A/ja active Pending
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