JPH01155518A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造方法
に関する。

〔従来の技術〕

一般に磁気記録媒体は、種々の基板上に磁性層を形成す
る０本発明はこの磁気記録媒体の内、磁性層を磁性粒子
、熱硬化性結合剤およびその溶剤を含む磁性塗料を基板
上に塗布し、熱硬化して製造される塗布型磁気記録媒の
製造方法に関する。

従来、磁気ディスク等の熱硬化性樹脂を結合剤として用
いる磁気記録媒体の硬化は、空気中で、２００〜２５０
℃という高温で行なわれている。

この方法は、γ酸化鉄のように熱酸化に対して安定な磁
性粒子を用いる場合には特に問題は無かった。しかし１
例えば、金属磁性粉を用いた場合、熱硬化の際金属磁性
粉の酸化が進み、磁気特性が大巾に低下するという欠点
があった。この問題対策の方法として、不活性ガス中で
熱硬化する方法が提案されていた（特開昭５９−３３６
２７　）　。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、磁気ディスクの大量生産に関する配慮
がされていない。すなわち、大量生産の場合、大型の硬
化炉全体を高温の不活性ガスで置換する必要があり、技
術的・経済的に多くの問題があった。

本発明の目的は、熱酸化され易い磁性粉、例えば金属磁
性粉を含む磁性膜を磁気的に劣化させることなく大気中
で熱硬化する方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、磁気ディスクを表面平坦性の高い非接着接
の基体を介して密着積層し、磁気ディスク表面の空気を
遮断して、磁性塗膜を熱硬化することにより達成される
。

該非接着性の基体は、磁性塗膜が相互に接着しないよう
に掃離する役割と磁性塗膜表面の空気を遮断する役割が
要求されるため、塗膜と接着しにくい表面物性と磁気デ
ィスク表面と同程度以上の表面平坦性を必要とする。こ
のため、基体表面は含フッ素系の有機物で覆われた低エ
ネルギー表面であることが望ましい。例えば、表面が平
坦な加工を施されたテトラフルオロエチレンシート、あ
るいは、平坦性の良い基板表面をテトラフルオロエチレ
ンあるいは他のフッ素系有機物で処理された基板等が好
ましい。また、空気を遮断するには、磁気ディスク表面
と非接着性基体とを十分に密着する必要があるが、積層
した磁気ディスクを上部から加圧するのが望ましい。

上記のように密着積層した磁気ディスクを、加熱硬化す
る場合、従来のように熱源で加熱された空気を循環させ
て、磁気ディスクを熱つする方法もとれる。しかし、磁
気ディスクの基板および／又は、非接着性基体の熱伝導
が悪い場合には、磁気ディスクの温度分布を一様にする
ことが難かしい。しかし、この欠点は磁気ディスク等の
基板が金属などの導体である場合、あるいは、非接着性
基体が金属などの導体に低エネルギー表面処理を施した
ものである場合には、上記導体を電磁誘導により加熱す
る（以後誘導加熱と呼ぶ）方法により温度分布が均一に
なるように加熱することができる。勿論誘導加熱を用い
る場合、熱源で加熱された循環空気による加熱を併用し
ても良い。この場合にも磁気ディスクの基板あるいは非
接着性基体の基板が導体であることが被硬化物の温度分
布の均一性向上に有効に働く。

なお、上記の方法で作成された磁気ディスクは必要に応
じて表面研摩、潤滑処理を施してから用いられる。

〔作用〕

上記方法によれば、非接着性基体は表面が平坦で非接着
性を有するため、磁気ディスク表血上の空気を遮断する
と同時に磁気ディスク相互の接着性を防いでいるため、
磁性塗膜中の磁性粉の酸化を抑え、かつ磁気ディスク表
面の平坦性を損なうことなく積層された多数の磁気ディ
スクを同時に硬化処理できる。また、非接着性基体の基
板および／又は、磁気ディスクの基板に導体を選び、誘
導加熱器を用いることにより、いずれかの基板が熱源と
なるため均一な温度で磁気ディスクを熱硬化処理できる
。

〔実施例〕

以下本発明を実施例に基づき詳細に説明する。

実施例および比較例の磁気ディスクは以下の通り作成さ
れ評価された。

磁性塗料は、針状鉄粉９００重量部、補強剤（α−Ａ　
Ｑ　ｚｏ＋ｓ）　２０の重量部、エポキシ・フェノール
系結合剤３８０重量部に溶剤３０００重量部を適宜加え
て、ニーダ−およびボールミルにより混線を行ない調整
した。

磁気ディスクの基板として５インチ径で約１．９Ｉ厚の
アルミニウム基板を用意し、その基板表面に上述の磁性
塗料を膜厚約０．６　　μｍとなるようにスピンコード
法により塗布し、磁場配向後乾燥した。上記磁気ディス
クの表面粗さはＲａ値で０．０１５　　μｍであった。

実施例１ 上記磁気ディスク１を、第１図に示すような硬化炉Ｆで
熱硬化した。非接着性基体２としては、約４ｒｒａ厚、
５インチ径のアルミニウム円板を準備し、その表面にテ
フロンオリゴマー（分子量的１．５００）を約０．１　
　μｍ厚に塗布したものを用いた。このときの非接着性
基体２の表面粗さは約０．００４　　μｍであった。

上記磁気ディスク１を５０枚と非接着性基体２を交互に
積層し、その上から加圧子（図示せず）で約２０ｋｇの
荷重を印加した。次にこのディスクを第１図の硬化炉Ｆ
に入れ誘導加熱源５により２００．２２０，２４０℃の
各温度で２時間硬化処理した。なおこのとき補助加熱源
として抵抗加熱源６も用いた。第１表に熱処理前後の塗
膜の磁気量変化率を示す。

比較例１ 実施例と同様の方法で磁性膜を塗布し、加熱した空気を
磁性膜表面に送り、２００，２２０゜２４０℃で２時間
硬化処理したものの磁気量変化率を比較例１として第１
表に示す。

比較例２ 実施例と同様の方法で磁性膜を塗布し、加熱した窒素を
磁性表面に送り、２００，２２０，２４０℃で２時間硬
化処理したものの磁気量変化率を比較例２として第１表
に示す。

第１表　磁性膜の硬化前後の磁気量変化率第１表に示さ
れるように、従来法により空気中で熱硬化処理した磁気
ディスクの磁気量は硬化前後で著しく変化するが、本発
明のように密着積層して硬化処理した磁気ディスクは、
窒素中で硬化処理した磁気ディスクと同様に磁気量変化
は非常に少ない。

また、実施例の硬化法では、ディスク面温度を従来法と
同様±５℃以下に制御することができた。

なお、非接着性基体２は十分効果的に働き、磁性膜に欠
陥を発生することはなかった。

以上の実施例では鉄粉を用いたが、Ｎｉ、Ｃ。

あるいは、これらの合金粉末を用いても同様の結果が得
られた。

〔発明の効果〕

以上説明したように１本発明によれば、金属磁性粉等の
熱酸化され易い磁性粉を用いた磁気ディスクの磁気特性
を劣化させることなく熱硬化した磁性膜を容易に経済的
に形成することができる。

このため、高性能な磁気ディスクの生産が可能になる効
果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施態様の一例を示す熱硬化処理炉の
断面図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、熱酸化し易い磁性粒子、結合剤およびその溶剤を含
   有する磁性塗料を基板上に塗布し磁性塗膜を形成し、そ
   の後該塗膜を熱硬化する工程を有する磁気記録媒体製造
   方法に於いて、該磁気記録媒体を非接着性基体を介して
   密着積層し、空気を遮断して磁性粒子の酸化を防ぎなが
   ら、加熱器により加熱し、結合剤を熱硬化して磁気記録
   媒体を形成する磁気記録媒体の製造方法。 ２、磁気記録媒体の基板及び／又は、磁気記録媒体間に
   挿入する非接着性基体の主構成要素が、導体であること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
   の製造方法。 ３、磁気記録媒体の基板及び／又は、該磁気記録媒体間
   に挿入する非接着性基体を、電磁誘導により加熱し、結
   合剤を熱硬化して磁気記録媒体を形成する特許請求の範
   囲第２項記載の磁気記録媒体の製造方法。