JPH01163290A - 微細な光学的異方性構造を有するピッチ微粒体の製造方法 - Google Patents

微細な光学的異方性構造を有するピッチ微粒体の製造方法

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JPH01163290A
JPH01163290A JP63246179A JP24617988A JPH01163290A JP H01163290 A JPH01163290 A JP H01163290A JP 63246179 A JP63246179 A JP 63246179A JP 24617988 A JP24617988 A JP 24617988A JP H01163290 A JPH01163290 A JP H01163290A
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東明 竹川
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  • Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野J この発明は、等方性高密度炭素材料、炭素・炭素複合材
料(C/Cコンポジット)、UHP電極等の製造に適し
た微細な光学的異方性構造を有するピッチ微粒体および
その製造方法に関する。
[従来の技術および課題] 一般に放電加工用電極材やアルミ蒸着用ルツボあるいは
核融合炉用壁材として等方性高密度炭素材料が使用され
ている。この高密度炭素材料を製造する場合、一般に石
油系コークスまたは石炭系コークスを微粉砕して骨材と
して用いる。骨材そのものでは粘結性を持たないので、
そのままで加圧成形しても成形できないため、バインダ
ーを使用して成形される。この成形は、性状の等方性を
図るため通常冷間静水圧プレスが行われる。得られた成
形体は1〜b 昇温速度で炭化されその後2000〜3000℃の間で
黒鉛化処理される。
また、上記2元系(骨材とバインダーピッチ)に対して
バルクメソフェーズやメンカーボンマイクロビーズ(以
下、MCBと記す)を用いる一元系の製造方法がある。
バルクメソフェーズは、石油系あるいは石炭系ピッチを
400〜450℃の範囲で熱処理して得られるもので、
光学的異方性組織(液晶)が全面的に展開したもので、
等方性高密度炭素材の原料としては微粉砕して用いられ
る(特開昭59−164604号)、これは、自己焼結
性を保持しているため、成形することで、それ自身が相
互に融着するため、バインダー等の接着前を添加する必
要がない、また他に、MCBを用いる方法(特開昭49
−2379号)が提案されている0MCBは、各種ピッ
チを熱処理する過程で生成してくる微小な10μm程度
の直径を有する異方性小球体であり、所定の熱処理の後
、多量の溶剤を加えることによって分ili!!精製さ
れる。この方法によって得られるMCBは、それ自身は
光学的異方性構造をもっているが、その形状が球形であ
るため、成形に際してはランダムに配向し5、成形体と
しては等方性を有し、しかも、MCB・自身は自己焼結
性があるなめバインダーを使用することなく、所望する
等方性性状の炭素材料が得られる。また、この改良的方
法として各粒子間の自己焼結性の向上や点接触による高
密度化の阻害を克服するため、ピッチから分離する際に
、熱処理ピッチのキノリン可溶分からなるβ成分を主体
とする成分を残存させること(特開昭54−15779
1号)、また、このβ成分を主体とする成分をMCBの
表面にイ(I若さ・せること(特開昭62−41707
号)で炭素材ギ1の高密度化と機械強度の向上を図るこ
とが提案されている。
しかしながら、上記のものを原料とした等方性高密度炭
素材料には次のような問題がある。
(1)2元系のフィラーとして用いられるコークスは、
光学的異方性の展開度合が大きいため、微粉砕しても異
方性の展開が微粉砕粒度以下になることはない、したが
って、性状の等方性を確保するためには、かなり細く微
粉砕しなければならず高価なものとなる。また、焼成時
に要するバインダー量もそれに応じて多量となるため、
高密度化が図りにくい、さらに2元系ではフィラーとマ
トリックスの性状の差が大きく、微視的なレベルでの等
方性化には限界がある。
(2)バルクメソフェーズを用いた場合は、自己焼結性
のため、バインダーを加える必要は免かれるが、異方性
の展開が微粉砕粒度以下に細く展開することはなく、製
品炭素材の等方性化を図るためには、その等方性の度合
に応じて微粉砕を図らbばならない。
(3)最近、特にメンカーボンマイクロビーズ(MCB
’)が自己焼結性のある瓜れた原f1として脚光を浴び
ているが、光学的異方性組織がMCBの粒子全体に一様
に広がっているため、得られる製品の等方的性状は(1
)、 (2)と同様に製品に含有されるMCBの粒径(
約10〜2OALm)以下では期待できない、そして、
MCBの場合は通常の熱処理による限りではその収率が
原料ピッチをペースとして高々15重孟%位であること
、又その単離のためMCBを含有したピッチ100ff
jL部に対して200重社部以上の溶剤を使用しなけれ
ばならないという欠点があり、等方性高密度炭素材の原
料としては高価となるため工業的にはあまり適切なプロ
セスとは言えない。
一方、宇宙往PA機用ノーズコーン、ロゲッ1〜ノズル
ブレーキ材等として炭素繊維複合材(以下、c / c
コンポジットと記ず)が使用されている。
c / cコンポジットは、フィラーである炭素繊維と
マトリックスとなるtfff脂あるいはバインダーピッ
チを原料として製造される。フィラーである炭素繊維と
しては、高強度品、高弾性品、通常品のいずれも用いら
れており、出発原料の種属はPAN系、ピッチ系、レー
ヨン系が主体である。また、形状はトウ状の長繊維ある
いはフェルI−状の短繊維で使用されている。長m維を
用いて成形体を作る方法は、−船釣なFRP成形方法が
適用されており、繊維も一軸方向に引き揃えたシートや
織物に樹脂等のバインダーを含浸させてプリプレグを作
り、これを積層し加圧成形する方法、フィラメントワイ
ンディング法によって繊維を巻きつけ、加熱硬化する方
法がある。また、3次元以上の多次元の文体m物を作成
し、Wi脂を含浸硬化させる方法などがある。また、短
繊維を使用する場合には、開繊したのちインジェクト法
やスプレー法によりマトリックス樹脂と混合する。一方
、マトリックスとしては、フェノール樹脂、フラン樹脂
等の熱硬化性樹脂が良く用いられ、エポキシ樹脂ポリフ
ェニレン、ポリイミド等も検討されている。
また、炭化収率の高く、安価なマトリックスとしてピッ
チが良く用いられている。マトリックスとして上記樹脂
、ピッチを加えた後、通常不活性雰囲気中で約1000
℃で処理し、マトリックス樹脂を炭素化する。しかし、
マトリックス樹脂の炭化収率は高々50〜60重1%で
あるため、これだけではC/ Cコンポジットの嵩密度
は1.2〜1゜3と低くなる゛、そこで、この嵩密度を
向上させるために、含浸工程によりピッチ含浸と炭化処
理を繰り返す、その結果1 、7〜1 、8 g / 
an 3の嵩密度の製品が最終的に得られる。
この嵩密度を高める方法として、CVD等による含浸方
法及び高圧炭化法が実施されており、CVD法では試料
内部に温度勾配、圧力勾配をつけることで内部までの含
浸を効果的に行う技術が開発されている(  +4.V
、にotlelsky  Chelistry and
 Physics of Carbon  9.174
(1973) ) 、また、炭化収率向上の−・貫とし
て電着性を有した自己焼結性をもつ炭素微粉末を炭素繊
維基材中に均一に分散させる工夫もなされている。
しかしながら、C/ Cコンポジットには次のような問
題がある。
よく使用されるフェノール樹脂等熱硬化性樹脂は、炭化
収率が高々50〜60重皿%でありそれだけでは嵩密度
が1.2〜1.3位にしかならない、このため含浸処理
−炭化を4〜5回以上繰り返して行わなければならない
また、上記フェノール樹脂を炭化処理して得られるマト
リックスは収縮が非常に太きくM&維の抜は出しやマト
リックスに亀裂が発生しやすいなどの問題点がある。こ
のようなフェノール樹脂のマトリックスは、高硬度であ
るために耐機械NS性に弱く脆い、さらに′炭化組織が
等方性であるため、各種の化学反応性、あるいは中性子
イオンによる損傷度合が高い、また、石油系、石炭系の
ピッチを用いる方法があるがこの方法によるものでは熱
硬化性でないため熱間成形等を行うとピッチが流出して
しまう欠点がある。さらに、その炭化組織は、高度に発
達した光学的異方性組織を示す、このため製造したC 
/ Cコンポジットを使用する際に生成する亀裂は、発
達した異方性組織に沿って伝幡するという欠点がある。
また、製鋼用UHPE極等の炭素・黒鉛電極に用いる特
殊炭素原料が開発されている。この特殊炭素原料は、各
種の電極材のうち製鋼用アーク炉における電極の使用条
件が極めて苛酷で高い電流密度の中で、高度な耐熱、i
ii[械的衝撃性が要求される。特に゛、最近tl+H
p操業をはじめとする′;気製鋼技術の進歩によって電
極の品物に対する要求特性が益々苛酷なものになってい
る。この炭素・黒鉛電極の製造方法を簡単に説明すれば
、石油コークスなどのフィラーとピッチなどのバインダ
ーとを混合し、これを所定の形状に成形したのち熱処理
によって炭素・黒鉛化して製品を作る。成形は、等方性
高密度炭素材に用いるCIPとは異なり、押し出しや型
込めによって行う、焼成炭化過程でバインダーの約30
〜401盪%は、揮散してしまうため、また、フィラー
コークス粒子中に開気孔が存在することから、ピッチの
含浸、再焼成を実施している。
しかしながら、炭素・黒鉛電極の製造には次のような問
題がある。すなわち、使用されるバインダーの歩留は、
高々60〜70%fc量%であり、炭化あるいは黒鉛化
した後、再び含浸−炭化を繰り返す必要がある。また、
炭化組織は、高度に発達した光学的異方性組織を示すの
で、製造した電極を使用する際に生成する亀裂は異方性
組織に沿って伝幡するという欠点がある。
本発明iよかかる点に鑑みてなされたものであり、等方
性高密度炭素材用自己焼結性原料、C/Cコンポジット
マトリックス用原料、あるいはUHP電極等の炭素・黒
鉛電極のバインダー原料として極めて有用な微細な異方
性組織を持つ微小粒体からなるピッチ微粒体およびその
製造方法を提供するものである。
[:X1題を解決するための手段] 上記課題を解決するために、この発明は、所定原料ピッ
チから製造され、微細な光学的異方性構造がランダム配
こされた平均粒子径1〜300μmの微小粒体からなる
ことを特徴とする微細な光学的異方性構造を有するピッ
チ微粒体を提供する。
このようなピッチ微粒体は、光学的異方性組織含有率を
20容埴%以上に調製した原料ピッチを不活性ガスで噴
霧することによって製造できる。あるいは、この発明の
ピッチ微粒体は、水添したピッチを原料とした光学的異
方性組織含有率20容埴%以上の原料ピッチを不活性ガ
スで噴霧することによっても製造できる。
いずれの方法によるものでも、得られたピッチ微粒体を
、自己焼結性が損なわれない程度に不融化することが好
ましい。
以下、この発明をさらに詳しく説明する。
上に述べたように、この発明のピッチ微粒体は、その組
織において、ピッチマトリックス中に微細な、ピッチ微
粒子の径よりも小さな光学的異方性構造体がランダムに
配置された組織構造を右している。この光学的異方性構
造体の大きさは、通常、1ルm以下である。
この発明の微粒体の平均粒子径は、一般に1〜300μ
mであり、好ましくは1〜50μmである。この微粒体
は、実質的に球形であることが好ましい。
このピッチ微粒体を製造するには、この発明の第1の態
様によれば、光学的異方性組織含有率を20容埴%以上
に調製した原料ピッチを不活性ガス中で噴霧する。ピッ
チとしては、コールタール系ピッチ、石油系ピッチ等い
ずれのピッチをも使用することができる。このピッチを
、約350℃ないし約500℃の温度で、不活性ガス雰
囲気下あるいは不活性ガスを吹込みながら、熱処理する
ことにより光学的異方性組織含有率を20容埴%以ヒに
調整できる。
上記のように光学的異方性組織含有率を調製した原料ピ
ッチを、予熱槽に投入し、撹拌して光学的異方性組織を
呈するバルクメソフェーズと等方性マトリックスとを均
一に混合した後、既知の二流体ノズル等を用いて噴霧す
る。こうして、この発明のピッチ微粒体が得られる。
この発明の特に好ましい第2の態様の方法において、ピ
ッチ微粒体を製造するに当り、水添したピッチを原料と
した光学的異方性組織含有率20容μ%以上の原料ピッ
チを不活性ガスで噴霧する。
高密度、高強度炭素材料を得るためには異方性率を非常
に高めた原料を用いることが好ましいが、あまり光学的
異方性組織含有率を高めると、噴霧時のピッチの粘度が
高くなり、微粒子化することが困難になり、場合によっ
ては球形化されずに歪んだ形状となったり、繊維化する
こともある。特に、噴霧により微粒子化する際に光学的
異方性組織部分と光学的等方性部分をランダムに配置す
ることが困難なことがある。場合によっては、光学的異
方性部分が浮島のように孤立した微粒体となることもあ
る。このことは、等方性高密度炭素材料を製造する上で
好ましくない。すなわち、微細な光学的異方性組織がラ
ンダムに展開せず異方性組織が浮島のように孤立した微
粒体を等方性高密度炭素材料の原料とした場合、異方性
組織の浮島部分が炭素材料成形物の中に残り、微小部分
では等方性を示さず、均一性を阻害し、例えば放電加工
用電極としての利用を考えた場合、均一な放電が起こら
ず、加工面粗度に悪影響を及ぼす、また、炭化焼成した
場合、局在化した等方性マトリックス部分が熱分解し、
気孔が偏在して発生することがある。そのため、得られ
た等方性高密度炭素材料は高強度のものとならない恐れ
がある。また、使用するピッチ微粒体の形状が球形でな
く、短繊維状のものを含んでいると充填性が悪く、炭化
焼成したとき、収縮率が各粒子で異なるため亀裂が生じ
やすくなる場合もある。
これに対して、第2の態様による方法におけるように、
原料ピッチとして、水添したピッチを原料とした光学的
異方性組織含有率20容量%以上のものを使用すると、
水添しないピッチに比べて光学的異方性組織含有率が高
い割に粘度が低いバルクメソフェーズ含有ピッチが得ら
れる。このバルクメソフェーズ含有ピッチは、粘度が低
いため、噴霧のための予熱槽における撹拌により、バル
クメソフェーズと等方性マトリックスとの均一混合が充
分におこなわれ、また噴霧により短m維状のものはでき
ず、微細な光学的異方性組織がランダムに展開配置した
球状の微粒体がほぼ完全に得られ、上記問題点が解決で
きるのである。
ここで使用する水添前のピッチは、第1の態様による方
法におけると同様のものである。水添は、触媒を使用す
る方法または溶剤を使用する方法のいずれの方法によっ
てもよい、いずれの方法によっても、製品ピッチの水素
含有率は原料ピー2千の水素含有率の0.1〜0.5%
の範囲で増加する程度に水添をおこなうことが望ましい
水添したピッチは、光学的異方性組織含有率を調製する
ために、上記第1の態様による方法と同様に熱処理する
のであるが、この場合も、光学的異方性組織の含有率は
20容量%以上とすればよい、噴霧は、上記第1の態様
による方法と同様におこなうことができる。
上記いずれの方法によって得られたピッチ微粒体でも、
微細な光学的異方性組織を固定化するために、不融化処
理をおこなうことが望ましい、この不融化は、酸化処理
または溶剤抽出処理により達成することができる。いず
れの場合にも、不融化処理は、ピー2チ微粒体の自己焼
結性を損なわない程度におこなう、不融化処理に使用す
る酸化剤は、空気などの気体酸化剤でもよいし、硝酸な
どの液体酸化剤でもよい、また不融化処理に使用する溶
剤としては、キノリン、キノリンとトルエンとの混合溶
液、アントラセン油等の石炭系重質油留分、石油系重質
油留分等を用いることができる。
こうして得られるこの発明のピッチ微粒体は、放電加圧
用TttF7A材料やアルミ蒸着用ルツボあるいは核融
合炉用炉壁材として用いられる等方性高密度炭素材料の
原料あるいは宇宙往還機用ノーズコーン、ロケットノズ
ル、ブレーキ材等として用いられる炭素−炭素繊維複合
材(C/Cコンボジフト)用マトリックス原料、さらに
は製鋼用UHP電極等の炭素・黒鉛電極に用いる特殊炭
素材料に適用でき、従来よりも均質で緻密な高強度、高
密度の炭素材料を与えることができる。
[実施M] 以下1本発明の実施例について説明する。
実施例 l 光学的異方性に1織含有率70容量%のビー2チ1kg
に対して、窄;にガス2 N m3の比率で噴霧して微
細な光学的異方性構造を持つ微粒体を製造し、その後自
己焼結性を不融化処理によってコントロールした。これ
を冷nn”1方圧装置により3T/ c m” で成形
したところ嵩密度1 、377 c m3の直径62m
m、長さ52mmの円柱状の成形体が得られた。この成
形体を昇温速度6℃/時で室温より900℃まで加熱し
、自然放冷を図った。得られた成形体を0.5℃/分で
室温から2200℃まで昇温し黒鉛化したところ、1.
96g/cm  の嵩密度の黒鉛化製品が得られた。得
られた製品の曲げ強度は1000kg/Cm8で電気抵
抗は1.7X10 0cmであった。また、光学顕微鏡
によって製品の組織を観察したところ、第1図に示す如
く、異方性の大きさがIILm程度の微小粒体(1)が
点在していることが分った。また等力比は、電気抵抗値
からみると1.01以下であった。
実施例 ? 実施例1で得た微小粒体をマトリックスとし、PAN系
炭素m維織物と積層させ、高温成形した。この成形物を
ピッチにより含浸炭化を4回繰返したところ、嵩密度1
.98g/cmミ、曲げ強度1500kg/cm” (
CF含有率34容丑%)のC/Cコンポジットが得られ
た。
比較例 l 軟化点120℃の石炭系ピッチで460℃までシ1温し
、20分間保持して光学的異方性小球体(MCB)を出
現させた。この異方性小球体を分けするために、得られ
た熱処理ピッチに200重41部の石炭系溶剤(沸点3
70〜538℃)を加えてIル釈した。稀釈したピッチ
と溶剤の混合物を加熱遠心分離機にかけてMCBを分離
した。収率は、供給ピッチ100重量に対して5重量部
であった。このMCBを冷間等方圧装置により3T/c
m”で成形したところ、嵩密度1.34g/Cm3の直
径64 m m 、長さ56mmの円柱状の成形体が得
られた。
この成形体を実施例1と同様の条件で炭化・黒鉛化した
ところ、1.80g/cm3の嵩密度の製品が得られた
。得られた製品の曲げ強度は、877kg/cm”で電
気抵抗値は1.42XIO−3ΩCmであった。また光
学顕微鏡によって製品の組織を観察したところ第2図に
示すように散在する微粒体の異方性は20 μm以、E
の大きなものであった。
比較例 2 実施例2で、微小粒体の代りに、炭化収率85%、軟化
点300℃のピッチ系パイ。ンダーを用い、同様に高温
成形した後4回含浸拳炭化をおこなって得られたC/C
コンポジットの嵩密度は1.69g/cm3.曲げ強度
は900kg/cm、(CF金含有率1容量%)であっ
た、これに比べて微小粒体を用いた実施例2の方が収縮
性が良く、実質的にはCF含有率が高いことが分った。
実施例 3 コールタールピッチを熱処理して軟化点300℃、光学
的異方性組織含有率70容量%のバルクメソフェーズ含
有ピッチ(B P)を調製した。このBPを窒素ガスで
噴霧して平均粒径10gmの微粒体を得た。この微粒体
を光学偏光顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの微
粒体中においても14m以下の微細な光学的異方性組織
がランダムに展開していることが認められた。
この微粒体を空気中で不融化処理した。
また、不融化処理した微粒体を径100mm、長さ15
0mmのラバー袋に入れ、  1 トy/ c m”の
圧力で冷間静水圧プレス(CI P)成形した。
イ1?られた成形体の密度は1.34g/cm3 であ
った。
この成形品を6℃/時の速度で1000℃までシl温し
て炭化処理し、さらに30℃/時の速度で2000℃ま
で昇温して黒鉛化処理をおこなった。 f’)られた黒
鉛化成形体(A)は直径約60mm、 反さ40mmの
大きさであった。この黒鉛化成形体の性状を下記表1に
示す。
比較例 3 比較のため、10gmに微粉砕したニードルコークスと
バインダーを、ニードルコークス:バインダー=60:
40(重縫比)で混合し、実施例3と同様の条件でCI
P成形、炭化処理および黒鉛化処理をおこなった。その
結果直径50mm、長さ30mmの黒鉛化成形体(B)
を得た。この成形体(B)の性状を表1に併記する。
表  1 また、黒鉛化成形体AおよびBを顕微鏡で比較したとこ
ろ、成形体Aは空隙が殆どなく、lILmの微細な光学
的異方性!laが展開しているのに対し、成形体Bは光
学的異方性組織の大きさが最大lOμmと大きく、気孔
も多数生成していた。
比較例 4 中ピツチ(軟化点87℃)に350℃で3時間窒素ガス
を吹込みながら熱改質をおこなった。得られた熱処理ピ
ッチは光学的に等方性であった。
このピッチを、窒素ガスで噴霧して平均粒径10gmの
微粒体を得た。この微粒体を光学偏光顕微鏡で観察した
ところ、実施例3の微粒体のような微細な異方性組織が
ランダムに展開している状況は観察できなく、その代り
メソフェーズ小球体が点在しているのが観察された。
この微粒体を空気中にてO12、および65!f間それ
ぞれ不融化処理した。各不融化微粒体を実施例3と同様
にCIP成形、炭化処理、黒鉛化処理をおこなって黒鉛
化成形体(C,D、E)を得た。これら黒鉛化成形体の
性状を下記衣2に示す。
表  2 実施例 4 触媒水添したコールタール系ピッチ(&他点150℃)
を、窒素を吹込みながら反応温度440℃で熱処理し、
光学的異方性組織含有率70%のバルクメソフェーズ含
有ピッチを調製した。このバルクメソフェーズ含有ピッ
チを予熱し、これを、加熱した窒素ガスで二流体ノズル
を用いて噴霧した。こうして、微細な光学的異方性組織
がランダムに展開した球状ピッチ微粒体(平均粒径10
pm)を得た。このピッチ微粒体を空気を酸化剤として
不融化処理し、その組織を固定化した。この酸化処理し
たピッチ微粒体を用い、3T/cm”でCIP成形し、
直径50mm、長さ50mmの成形体を得た。
この成形体を6℃/時の速度で1000℃まで昇温した
後、高周波加熱で2200℃まで昇温し黒鉛化した。こ
の黒鉛化成形体の曲げ強度は1200kg/cmZであ
った。また、密度も1.97g/Cm−’であり、高強
度で高密度の等方性炭素材料が得られた。
実施例 5 溶剤水添した石油系ピッチ(軟化点120℃)を窒素ガ
ス雰囲気下で反応温度420℃で熱処理し、光学的異方
性組織含有率60*量%のバルクメソフェーズ含有ピッ
チを調製した。このピッチを、実施例4と同様に噴霧、
不融化処理し、微細な光学的異方性組織がランダムに展
開した微粒体を得た。この不融化処理したピッチ微粒体
を用い、 2T/Cm” ff1c I P成形し、直
径50mm、長さ50mmの成形体を得た。
この成形体を6℃/時の速度で1000’Cまで昇温し
た後、高周波加熱で2200℃まで昇温し黒鉛化した。
この黒鉛化成形体の曲げ強度は1000kg/Cm≧で
あった。また、密度も1.93g/cm3であり、高強
度で高密度の等方性炭素材料が得られた。
[発明の効果] 以上述べたこの発明によれば、次のような効果を奏する
(1)等方性高密度炭素材の原料として、本発明の微粒
体を適用することにより、製Wの性状の高度な等方性が
図れ、放電加工用電極としての用途範囲の拡大が図れる
(2)本発明の微粒体をC/Cコンポジットのマトリッ
クスに適用すると、そのマトリックスの炭化組織が光学
的に微細な異方性組織を有するため、亀裂の伝播を抑制
することができ、高強度高靭性のC/Cコンポジットが
できる。
更に、通常のバインダーピッチ、樹脂に比べて炭化収率
が高く92重v%の炭化収率が1000℃の熱処理で得
られることが確認されている。
(3)本発明の微粒体を、UHP′¥L極等、炭素−黒
鉛電極の製造工程におけるバインダーピッチ原料として
用いることにより、マトリックスの光学的u方性組織の
展開を微細なものとすることができるため、製品の電極
の機械強度の向上が図れる。更に炭化収率を上げること
ができる。
(4)特に、水添したピッチを原料とする木発1!11
のビー2チ微粒体の製造方法によれば、微細な光学的異
方性組織がランダムに展開したピッチ微粒体を実質的に
球の形態で効率よ〈製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、ピッチ微粒体の微小粒体の異方
性の大きさを示す説明図である。 1.2・Φ・微小粒体 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 1 図 第2図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定原料ピッチから製造され、かつ微細な光学的
    異方性構造がランダム配置された平均粒子径1〜300
    μmの微小粒体からなることを特徴とする微細な光学的
    異方性構造を有するピッチ微粒体。
  2. (2)請求項1記載のピッチ微粒体を製造する方法であ
    って、光学的異方性組織を20容量%以上に調整した原
    料ピッチを不活性ガスで噴霧することを特徴とするピッ
    チ微粒体の製造方法。
  3. (3)得られたピッチ微粒体を、自己焼結性を損なわな
    い程度に不融化することを特徴とする請求項2記載の製
    造方法。
  4. (4)請求項1記載のピッチ微粒体を製造する方法であ
    って、水添したピッチを原料とした光学的異方性組織含
    有率20容量%以上の原料ピッチを不活性ガスで噴霧す
    ることを特徴とするピッチ微粒体の製造方法。
  5. (5)得られたピッチ微粒体を、自己焼結性を損なわな
    い程度に不融化することを特徴とする請求項4記載の製
    造方法。
JP63246179A 1987-09-30 1988-09-30 微細な光学的異方性構造を有するピッチ微粒体の製造方法 Granted JPH01163290A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6395291A (ja) * 1986-10-09 1988-04-26 Kawasaki Steel Corp 光学的異方性小球体の製造方法

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