JPH01173310A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH01173310A JPH01173310A JP62329860A JP32986087A JPH01173310A JP H01173310 A JPH01173310 A JP H01173310A JP 62329860 A JP62329860 A JP 62329860A JP 32986087 A JP32986087 A JP 32986087A JP H01173310 A JPH01173310 A JP H01173310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- head
- magnetic layer
- layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/332—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
更に詳述すると本発明は、第一磁性体層と第二磁導体層
との２層の薄膜によって磁極を構成する薄膜磁気ヘッド
及びその製造方法に関する。
との２層の薄膜によって磁極を構成する薄膜磁気ヘッド
及びその製造方法に関する。
（技術用語）
本明細書において、ｒ対接面Ｊとは、記録再生を磁気記
録媒体とヘッドとが接触して行うタイプの場合、磁気記
録＃Ｘ体と接触する面を、また記録再生を磁気記録媒体
とヘッドとが接触せずに行うタイプでは、記録再生を行
うに足る間隔まで磁気記録媒体と近接している面を意味
する。
録媒体とヘッドとが接触して行うタイプの場合、磁気記
録＃Ｘ体と接触する面を、また記録再生を磁気記録媒体
とヘッドとが接触せずに行うタイプでは、記録再生を行
うに足る間隔まで磁気記録媒体と近接している面を意味
する。
（従来の技術）
従来の薄膜磁気ヘッドは、第１２図、第１３図に示すよ
うに、非磁性基板３上に第二磁性体層２）ギャップ材８
、コイル導体層４及び前記第二磁性体層２と共に磁極を
構成する第一磁性体層１を順次積層して作成されている
０通常、この種の薄膜磁気ヘッドでは、第一磁性体層１
、ギャップ材８、コイル導体層４及び第二磁性体層２は
非磁性基返３の表面と全て平行な平面内にあり、しかも
この平面と直交する方向にヘッドが磁気記録媒体（図示
省略）上を走行することにより記録・再生ができるよう
に設けられている。しかしながらこのようなＷｉ膜磁気
ヘッドでは、第１４図に示すように、第一磁性体層１及
び第二磁性体層２の厚さに起因する波形歪、疑似パルス
の発生を免れ得ない。
うに、非磁性基板３上に第二磁性体層２）ギャップ材８
、コイル導体層４及び前記第二磁性体層２と共に磁極を
構成する第一磁性体層１を順次積層して作成されている
０通常、この種の薄膜磁気ヘッドでは、第一磁性体層１
、ギャップ材８、コイル導体層４及び第二磁性体層２は
非磁性基返３の表面と全て平行な平面内にあり、しかも
この平面と直交する方向にヘッドが磁気記録媒体（図示
省略）上を走行することにより記録・再生ができるよう
に設けられている。しかしながらこのようなＷｉ膜磁気
ヘッドでは、第１４図に示すように、第一磁性体層１及
び第二磁性体層２の厚さに起因する波形歪、疑似パルス
の発生を免れ得ない。
そこで、この波形歪を軽減する方法として、例えば特開
昭６２−２０５５０８号公報に記載されているような発
明がある。これは、第１５図に示すように、第一磁性体
層１の厚さをトラック幅方向で変えて、ギャップ材８と
接する面の反対側の面９をギャップ材８に対して傾ける
ようにしたものである。
昭６２−２０５５０８号公報に記載されているような発
明がある。これは、第１５図に示すように、第一磁性体
層１の厚さをトラック幅方向で変えて、ギャップ材８と
接する面の反対側の面９をギャップ材８に対して傾ける
ようにしたものである。
また、第１６図に示すように、非磁性基板３上の第一磁
性体層１と、第二磁性体層２をトラック幅方向Ａに分離
して形成するものもある（特開昭６２−９５７１３号公
報）。
性体層１と、第二磁性体層２をトラック幅方向Ａに分離
して形成するものもある（特開昭６２−９５７１３号公
報）。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、波形歪は磁気記録媒体１０と対向する対
接面と平行な疑似ギャップが形成される場合に起り、特
に薄膜磁気ヘッドでは第一磁性体層１と第二磁性体層２
とから成る一対の磁極のそれぞれの層の厚みが記録波長
と接近した寸法となっているため疑似ギャップによる疑
似パルスが本来のギャップから再生される信号波形を歪
ませ、品質を低下させている。この従来の磁気ヘッドに
よる歪の発生状態を第１４図の孤立再生波形図で示して
いる。
接面と平行な疑似ギャップが形成される場合に起り、特
に薄膜磁気ヘッドでは第一磁性体層１と第二磁性体層２
とから成る一対の磁極のそれぞれの層の厚みが記録波長
と接近した寸法となっているため疑似ギャップによる疑
似パルスが本来のギャップから再生される信号波形を歪
ませ、品質を低下させている。この従来の磁気ヘッドに
よる歪の発生状態を第１４図の孤立再生波形図で示して
いる。
このため、第一磁性体層のギャップ材８と接する面の反
対側の面だけが傾斜した第１５図の磁気ヘッドでは、疑
似ギャップにより再生される疑似信号の出力を抑えてそ
の影響を低減させることはできても、波形歪を完全に取
除くことはできない。
対側の面だけが傾斜した第１５図の磁気ヘッドでは、疑
似ギャップにより再生される疑似信号の出力を抑えてそ
の影響を低減させることはできても、波形歪を完全に取
除くことはできない。
しかも、第１５図の磁気ヘッドによれば、非磁性基板３
に予め角度θ傾いた底面を持つ溝を形成する必要があり
、更にその基板３の上に第一磁性体層１をスパッタリン
グにより形成してからその上で表面のラッピングをする
必要があるなど、機械加工、機械研磨の工程が多く、薄
膜ヘッド製造プロセスとしては好ましくない、加うるに
、角度θ傾いた底面の表面粗さを良くすることが困難で
あるなめ第一磁性体層の磁気特性の劣化の虞もある。
に予め角度θ傾いた底面を持つ溝を形成する必要があり
、更にその基板３の上に第一磁性体層１をスパッタリン
グにより形成してからその上で表面のラッピングをする
必要があるなど、機械加工、機械研磨の工程が多く、薄
膜ヘッド製造プロセスとしては好ましくない、加うるに
、角度θ傾いた底面の表面粗さを良くすることが困難で
あるなめ第一磁性体層の磁気特性の劣化の虞もある。
また、第１６図の磁気ヘッドの場合、波形歪を取除くこ
とはできるが、第二磁性体層２のエツジ部分Ｅに因る他
トラツクからのクロストークや他トラツクへのオーバラ
イドが問題となる。
とはできるが、第二磁性体層２のエツジ部分Ｅに因る他
トラツクからのクロストークや他トラツクへのオーバラ
イドが問題となる。
そこで、本発明は疑似パルスによる波形歪が生じない薄
膜磁気へ、ラドを提供することを目的とする。また、本
発明は、第一磁性体層を形成するプロセスにおいて機械
加工、機械研磨プロセスを全く必要としない薄膜磁気ヘ
ッド製造プロセスを提供することを目的とする。
膜磁気へ、ラドを提供することを目的とする。また、本
発明は、第一磁性体層を形成するプロセスにおいて機械
加工、機械研磨プロセスを全く必要としない薄膜磁気ヘ
ッド製造プロセスを提供することを目的とする。
（問題源を解決するための手段）
かかる目的を達成するため、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、ヘッド走行方向と平行な面に非磁性層、コイル導体層
及び第二磁性体層を形成し、ヘッド走行方向と非平行な
面に第一磁性体層を形成し、ヘッド走行方向にギャップ
及び疑似ギャップが生じないようにしている。
、ヘッド走行方向と平行な面に非磁性層、コイル導体層
及び第二磁性体層を形成し、ヘッド走行方向と非平行な
面に第一磁性体層を形成し、ヘッド走行方向にギャップ
及び疑似ギャップが生じないようにしている。
また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、基板上に
第二磁性体層、コイル導体層、コイル絶縁層、第二磁性
体層と一対の磁極を形成する第一磁性体層をこの順に膜
付けし、これらの膜面と平行方向に走行方向をとる薄膜
磁気ヘッドの前記第一磁性体層を、所望のトラック幅相
当の厚さに形成し、それをフォトリソグラフィ及びエツ
チングあるいはイオンビームミリングで、対接面で第二
磁性体層の膜面に対して平行な角度以外の任意の角度で
かつ０．０５μＩｎ〜１．０μ■の線幅となり、対接面
より離れるに従って徐々に幅広となる形状に形成してい
る。
第二磁性体層、コイル導体層、コイル絶縁層、第二磁性
体層と一対の磁極を形成する第一磁性体層をこの順に膜
付けし、これらの膜面と平行方向に走行方向をとる薄膜
磁気ヘッドの前記第一磁性体層を、所望のトラック幅相
当の厚さに形成し、それをフォトリソグラフィ及びエツ
チングあるいはイオンビームミリングで、対接面で第二
磁性体層の膜面に対して平行な角度以外の任意の角度で
かつ０．０５μＩｎ〜１．０μ■の線幅となり、対接面
より離れるに従って徐々に幅広となる形状に形成してい
る。
（作用）
したがって、ヘッド走行方向と平行な第二磁性体層には
ギャップ及び疑似ギャップが生ぜず、またヘッド走行方
向と対接面で非平行な第一磁性体層はヘッド走行方向に
対し記録波長より十分短い薄膜に形成できる。
ギャップ及び疑似ギャップが生ぜず、またヘッド走行方
向と対接面で非平行な第一磁性体層はヘッド走行方向に
対し記録波長より十分短い薄膜に形成できる。
また、第一磁性体層の製造にあっては、エツチングまた
はイオンビームミリングによって第一磁性体層の対接面
でのヘッド走行方向の厚さを機械加工、機械研磨プロセ
スを実施せずに作成することができる。
はイオンビームミリングによって第一磁性体層の対接面
でのヘッド走行方向の厚さを機械加工、機械研磨プロセ
スを実施せずに作成することができる。
（実施例）
以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基づいて詳細
に説明する。尚、本実施例において、従来の薄膜磁気ヘ
ッドと同一構成ないし同一部位については同一符号を付
し、その詳細な説明を省略する。
に説明する。尚、本実施例において、従来の薄膜磁気ヘ
ッドと同一構成ないし同一部位については同一符号を付
し、その詳細な説明を省略する。
第１図及び第２図に本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例
を示す。語口において、１は第一磁性体層、２は第二磁
性体層、３は非磁性基板、４はコイル導体層、５はヘッ
ド保護膜、６はコイル絶縁層、７は溶着または接着剤で
ある。第一磁性体層１と第二磁性体層２とは一対の磁極
を構成し、その間隔はコイル絶縁層６によって保たれて
いる。
を示す。語口において、１は第一磁性体層、２は第二磁
性体層、３は非磁性基板、４はコイル導体層、５はヘッ
ド保護膜、６はコイル絶縁層、７は溶着または接着剤で
ある。第一磁性体層１と第二磁性体層２とは一対の磁極
を構成し、その間隔はコイル絶縁層６によって保たれて
いる。
この薄膜磁気ヘッドは、第一磁性体層１と第二磁性体層
２が互いに非平行に配置されており、かつヘッド走行方
向は第二磁性体層２と平行な方向となっている。
２が互いに非平行に配置されており、かつヘッド走行方
向は第二磁性体層２と平行な方向となっている。
尚、本明細書において、第一磁性体層１が非平行である
とは、対接面ではいずれの面もヘッド走行方向・第二磁
性体層２に対して平行でないという意味に使用されてい
る。こうすることによって、第二磁性体層２はヘッド走
行方向に対し疑似ギャップがないため、疑似パルスは発
生しない。一方、第一磁性体層１のヘッド走行方向の厚
さｔは記録波長に対し、十分短い寸法例えば０．０５１
ｍ〜１．０四にできる。第１０図は本発明による薄膜磁
気ヘッドの孤立再生波形とその再生過程を示したもので
、波形歪か原理的に生じないことが理解できる。
とは、対接面ではいずれの面もヘッド走行方向・第二磁
性体層２に対して平行でないという意味に使用されてい
る。こうすることによって、第二磁性体層２はヘッド走
行方向に対し疑似ギャップがないため、疑似パルスは発
生しない。一方、第一磁性体層１のヘッド走行方向の厚
さｔは記録波長に対し、十分短い寸法例えば０．０５１
ｍ〜１．０四にできる。第１０図は本発明による薄膜磁
気ヘッドの孤立再生波形とその再生過程を示したもので
、波形歪か原理的に生じないことが理解できる。
第３図（Ａ）〜（Ｆ）に第１図に示した薄膜磁気ヘッド
の第一磁性体層を製作するための製造工程を示す。まず
、第一磁性体層１を非磁性基板３上に記録波長より十分
短い厚さ例えば、約０．０５μｍ〜１．０ＩＩＩＩに蒸
着あるいは電着若しくはスパッタリングにより形成する
［第３図（Ａ）参照コ。そして、形成された第一磁性体
層１をフォトリソグラフィ等によりバターニングを行い
トラック幅に対応する幅Ｗのくし歯状にエツチングする
［第３図（Ｂ）参照］、その後、くし歯状のパターンを
切断する［第３図（、Ｃ）参照コ。この時、基板平面に
対し切断面のなす角θは０°、１８０°Ｃ以外の自由な
値をとりうる。次いで、切断されたチップを第一磁性体
層をはさみ込むようにして溶着あるいは接着し、更にこ
れを他の非磁性基板３に溶着または接着する［第３図（
Ｄ）参照］。その後、第一磁性体層１を挾み込んだ非磁
性基板の表面を研牽し、上面に第一磁性体層１の一部を
露出させる［第３図（Ｅ）参照］。研摩面の洗浄をする
［第３図（Ｆ）参照］。こうして得られた非磁性基板３
と第一磁性体層１の複合基板の第一磁性体層１の一部が
露出した部分のまわりにコイル導体層４を配置し、この
第一磁性体層の露出部と磁気的に結合し、一対の磁極を
構成する第二磁性体層２を形成し、しかる後にヘッド保
護ｆｙＡ５を順次積層して薄膜磁気ヘッドを作成する。
の第一磁性体層を製作するための製造工程を示す。まず
、第一磁性体層１を非磁性基板３上に記録波長より十分
短い厚さ例えば、約０．０５μｍ〜１．０ＩＩＩＩに蒸
着あるいは電着若しくはスパッタリングにより形成する
［第３図（Ａ）参照コ。そして、形成された第一磁性体
層１をフォトリソグラフィ等によりバターニングを行い
トラック幅に対応する幅Ｗのくし歯状にエツチングする
［第３図（Ｂ）参照］、その後、くし歯状のパターンを
切断する［第３図（、Ｃ）参照コ。この時、基板平面に
対し切断面のなす角θは０°、１８０°Ｃ以外の自由な
値をとりうる。次いで、切断されたチップを第一磁性体
層をはさみ込むようにして溶着あるいは接着し、更にこ
れを他の非磁性基板３に溶着または接着する［第３図（
Ｄ）参照］。その後、第一磁性体層１を挾み込んだ非磁
性基板の表面を研牽し、上面に第一磁性体層１の一部を
露出させる［第３図（Ｅ）参照］。研摩面の洗浄をする
［第３図（Ｆ）参照］。こうして得られた非磁性基板３
と第一磁性体層１の複合基板の第一磁性体層１の一部が
露出した部分のまわりにコイル導体層４を配置し、この
第一磁性体層の露出部と磁気的に結合し、一対の磁極を
構成する第二磁性体層２を形成し、しかる後にヘッド保
護ｆｙＡ５を順次積層して薄膜磁気ヘッドを作成する。
第４図及び第５図に本発明の薄膜磁気ヘッドの他の実施
例を示す。この実施例の磁気ヘッドは、第１図の実施例
における第一磁性体層１と第二磁性体層２の間隔をつめ
たものである。コイル絶縁層６をヘヅド摺動面側におい
て薄くし、第二磁性体Ｍ２を非磁性基板３側へ接近させ
て第一磁性体層１と第二磁性体層２との間隔を小さく設
けている。
例を示す。この実施例の磁気ヘッドは、第１図の実施例
における第一磁性体層１と第二磁性体層２の間隔をつめ
たものである。コイル絶縁層６をヘヅド摺動面側におい
て薄くし、第二磁性体Ｍ２を非磁性基板３側へ接近させ
て第一磁性体層１と第二磁性体層２との間隔を小さく設
けている。
第６図及び第７図に本発明の薄膜磁気ヘッドの他の実施
例を示す、このヘッドは、前述の実施例と異なり、非磁
性基板３上に先ず第二磁性体層２を形成し、その上にコ
イル導体層４とコイル絶縁層６、更に第一磁性体Ｎ１を
形成してヘッド保護ｒＩＡ５で被膜して成る。この第一
磁性体層１の積層方向の厚みｔ２はトラック幅に相当す
る厚さとする。この時第−磁性体層のヘッド走行方向の
厚さｔを対接面で０．０５１１１Ｉｌ〜１．０−とし対
接面より離れるに従って徐々に厚くなる形状に形成する
。また、第一磁性体層の対接面での厚さｔの膜は第二磁
性体層２に対する角度θ２が０’ 、１８０℃以外の任
意の、例えば本実施例のは場合９０°方向に形成されて
いる。
例を示す、このヘッドは、前述の実施例と異なり、非磁
性基板３上に先ず第二磁性体層２を形成し、その上にコ
イル導体層４とコイル絶縁層６、更に第一磁性体Ｎ１を
形成してヘッド保護ｒＩＡ５で被膜して成る。この第一
磁性体層１の積層方向の厚みｔ２はトラック幅に相当す
る厚さとする。この時第−磁性体層のヘッド走行方向の
厚さｔを対接面で０．０５１１１Ｉｌ〜１．０−とし対
接面より離れるに従って徐々に厚くなる形状に形成する
。また、第一磁性体層の対接面での厚さｔの膜は第二磁
性体層２に対する角度θ２が０’ 、１８０℃以外の任
意の、例えば本実施例のは場合９０°方向に形成されて
いる。
第８図及び第９図に本発明の薄膜磁気ヘッドの、更に他
の実施例を示す、このヘッドの製造プロセスは第６図及
び第７図に示すヘッドと同じであるが、本実施例では第
６図及び第７図に示す磁気ヘッドの第一磁性体層１の上
に更に２番目のコイル導体層４ａと２番目の第二磁性体
層２ａを積層し、最後に非磁性基板３ａを接着または溶
着したものである。コイル導体層４，４ａを差動的に連
結することにより、外部の電磁妨害の影響を受けにくい
薄膜磁気ヘッドとすることができる。
の実施例を示す、このヘッドの製造プロセスは第６図及
び第７図に示すヘッドと同じであるが、本実施例では第
６図及び第７図に示す磁気ヘッドの第一磁性体層１の上
に更に２番目のコイル導体層４ａと２番目の第二磁性体
層２ａを積層し、最後に非磁性基板３ａを接着または溶
着したものである。コイル導体層４，４ａを差動的に連
結することにより、外部の電磁妨害の影響を受けにくい
薄膜磁気ヘッドとすることができる。
第６図〜第９図に例示されたタイプの磁気ヘッドの製造
方法を以下に示す。
方法を以下に示す。
まず非磁性基板３上に第二磁性体層２を形成し、それに
コイル導体層４を作りその上にコイル絶縁層６を形成し
平坦化処理をする。こうして作られた基板上に第一磁性
体層１を所望のトラック幅に相当する厚さし２まで蒸着
、電着あるいはスパッタリングで形成する［第１１図（
Ａ）参照］。次に、第一磁性体層１の上にフォトレジス
ト２１を塗布し、フォトリソグラフィ等によって対接面
での線幅即ちヘッド走行方向厚みｔが０．０５ｇｍ〜１
．０四であり、対接面より離れるに従って徐々に線幅ｔ
が広がっていくような形状に成形する［第１１図（Ｂ）
参照］、これをドライエツチング又はウェットエツチン
グあるいはイオンビームミリング等により異方性を持た
せてエツチングする。尚、符号２２はイオンビームであ
る０本図では、エツチングの方位θ２をθ２ ＝９０’
の例で示しであるが、θ２は０°、１８０°以外の自由
な値をとりうる。エツチング後、フォトレジスト２１を
除去し［第１１図（Ｃ）参照］、ヘッド保護膜をつける
［第１１図（Ｄ）参照］、この工程図からも理解できる
ようにトラック幅に相当する積層方向厚さｔ２は蒸着、
電着あるいはスパッタにより形成するため、狭いトラッ
ク幅の場合でも膜厚制御によって非常に精度良く作れる
。
コイル導体層４を作りその上にコイル絶縁層６を形成し
平坦化処理をする。こうして作られた基板上に第一磁性
体層１を所望のトラック幅に相当する厚さし２まで蒸着
、電着あるいはスパッタリングで形成する［第１１図（
Ａ）参照］。次に、第一磁性体層１の上にフォトレジス
ト２１を塗布し、フォトリソグラフィ等によって対接面
での線幅即ちヘッド走行方向厚みｔが０．０５ｇｍ〜１
．０四であり、対接面より離れるに従って徐々に線幅ｔ
が広がっていくような形状に成形する［第１１図（Ｂ）
参照］、これをドライエツチング又はウェットエツチン
グあるいはイオンビームミリング等により異方性を持た
せてエツチングする。尚、符号２２はイオンビームであ
る０本図では、エツチングの方位θ２をθ２ ＝９０’
の例で示しであるが、θ２は０°、１８０°以外の自由
な値をとりうる。エツチング後、フォトレジスト２１を
除去し［第１１図（Ｃ）参照］、ヘッド保護膜をつける
［第１１図（Ｄ）参照］、この工程図からも理解できる
ようにトラック幅に相当する積層方向厚さｔ２は蒸着、
電着あるいはスパッタにより形成するため、狭いトラッ
ク幅の場合でも膜厚制御によって非常に精度良く作れる
。
−第１１図に例示する本発明の製造工程を用いれば、第
８図、第９図に示す外部電磁妨害に強い薄Ｐｌｕｍ気ヘ
ッドの製造も容易であるし、更にこれを繰返することに
よってクロストークの少ないインラインマルチチャンネ
ル薄膜磁気ヘッドの製造も可能である。
８図、第９図に示す外部電磁妨害に強い薄Ｐｌｕｍ気ヘ
ッドの製造も容易であるし、更にこれを繰返することに
よってクロストークの少ないインラインマルチチャンネ
ル薄膜磁気ヘッドの製造も可能である。
尚、上述の実施例は好適な実施例の一つではあるが、こ
れに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲において種々変形実施可能である０例えば、本実
施例においてコイル導体層４．４ａを磁気抵抗素子ある
いは強磁性共鳴を利用したものとすることもできるし、
本実施例構造のヘッドを同じ手順で更に繰返してマルチ
ヤンネル化できることも当然である。また第６図、第７
図、第８図、第９図において、非磁性基板３の代りに磁
性基板を用いても良い、この場合、第二磁性体層２は省
略することができる。また高周波特性改善のため第一磁
性体層、第二磁性体層を各々非磁性中間膜をもつ積層膜
としても良い。
れに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲において種々変形実施可能である０例えば、本実
施例においてコイル導体層４．４ａを磁気抵抗素子ある
いは強磁性共鳴を利用したものとすることもできるし、
本実施例構造のヘッドを同じ手順で更に繰返してマルチ
ヤンネル化できることも当然である。また第６図、第７
図、第８図、第９図において、非磁性基板３の代りに磁
性基板を用いても良い、この場合、第二磁性体層２は省
略することができる。また高周波特性改善のため第一磁
性体層、第二磁性体層を各々非磁性中間膜をもつ積層膜
としても良い。
（発明の効果）
以上の説明より明らかなように、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドは、一対の磁極を各々非平行となるように形成し、そ
の一方の磁極・第二磁性体層の膜面と平行にヘッドを走
行させるので、疑似ギャップを取除くことができ、疑似
パルスによる波形歪の発生を防止することができると共
にディジタル記録におけるピクシフト量の低減、アナロ
グ記録における高調波歪、周波数特性のうねり（コンタ
−エフェクト）を低減することができる。
ドは、一対の磁極を各々非平行となるように形成し、そ
の一方の磁極・第二磁性体層の膜面と平行にヘッドを走
行させるので、疑似ギャップを取除くことができ、疑似
パルスによる波形歪の発生を防止することができると共
にディジタル記録におけるピクシフト量の低減、アナロ
グ記録における高調波歪、周波数特性のうねり（コンタ
−エフェクト）を低減することができる。
しかも、第一磁性体層を少なくとも対接面でヘッド走行
方向とは非平行に形成し、しかもこのヘッド走行方向に
対する膜厚を記録波長より十分短い厚さに形成すること
ができ、他トラツクがらのタロストークや、他トラツク
へのオーバライドを解消できる。
方向とは非平行に形成し、しかもこのヘッド走行方向に
対する膜厚を記録波長より十分短い厚さに形成すること
ができ、他トラツクがらのタロストークや、他トラツク
へのオーバライドを解消できる。
また、第８図、第９図のような構造をとれば、外部から
の電磁誘導妨害に強い薄膜磁気ヘッドを提供することが
できる。
の電磁誘導妨害に強い薄膜磁気ヘッドを提供することが
できる。
また、本発明によれば非平行となる磁極をトラック幅相
当の厚さに積層した後、フォトリソグラフィー手法及び
エツチングによって対接面におけるヘッド走行方向の厚
みが所望厚さの磁極を形成するようしているので、機械
加工、機械研磨工程を薄膜磁気ヘッド製造工程の中で削
減することができ、生産性、経済性の向上が期待できる
。更に機械加工、研磨での基板の歪の増大、磁性膜の劣
化、基板の表面の粗れの増加等の影響を受けない薄膜磁
気ヘッド即ち波形歪、疑似パルス発生のない薄Ｈ！Ｈａ
気ヘッドを提供できる。特にマルチチャンネルの薄膜磁
気ヘッドに本発明を適用すれば隣接トラックからのタロ
ストークが軽減され、優れた記録・再生特性が得られる
。
当の厚さに積層した後、フォトリソグラフィー手法及び
エツチングによって対接面におけるヘッド走行方向の厚
みが所望厚さの磁極を形成するようしているので、機械
加工、機械研磨工程を薄膜磁気ヘッド製造工程の中で削
減することができ、生産性、経済性の向上が期待できる
。更に機械加工、研磨での基板の歪の増大、磁性膜の劣
化、基板の表面の粗れの増加等の影響を受けない薄膜磁
気ヘッド即ち波形歪、疑似パルス発生のない薄Ｈ！Ｈａ
気ヘッドを提供できる。特にマルチチャンネルの薄膜磁
気ヘッドに本発明を適用すれば隣接トラックからのタロ
ストークが軽減され、優れた記録・再生特性が得られる
。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
要部断面斜視図、第２図はそのヘッドを摺動面側から見
た平面図、第３図（Ａ）〜（Ｆ）は第１図の第一磁性体
層を製作する工程の一例を示す製造工程図、第４図は本
発明の他の実施例を示す要部断面斜視図、第５図はその
ヘッドを摺動面側から見た平面図、第６図は本発明の他
の実施例を示す要部断面斜視図、第７図はそのヘッドを
摺動面側から見た平面図、第８図は本発明の他の実施例
を示す要部断面斜視図、第９図はそのヘッドを摺動面側
から見た平面図、第１０図は本発明の薄膜磁気ヘッドの
再生過程及び孤立再生波形を示した説明図、第１１図（
Ａ）〜（Ｂ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を説明する製造工程図、第１２図は従来の薄膜磁
気ヘッドの一例を示す要部断面斜視図、第１３図はその
ヘッドを摺動面側から見た平面図、第１４図は従来の薄
膜磁気ヘッドの再生過程及び孤立再生波形を示した説明
図、第１５図は従来の薄膜磁気ヘッドの一例を示す摺動
面から見た平面図、第１６図は他の従来のヘッドを示す
斜視図である。 １・・・第一磁性体層、２・・・第二磁性体層、３・・
・非磁性基板、４・・・コイル導体層、５・・・ヘッド
保護膜、６・・・コイル絶縁層（非磁性）、２ａ・・・
２番目の第二磁性体層、 ３ａ・・・２番目の非磁性基板、 ４ａ・・・２番目のコイル導体層、 ６ａ・・・２番目のコイル絶縁層（非磁性）。 し・・・第一磁性体層の摺動面におけるヘッド走行方向
厚み（線幅）、 Ｌ２・・・第一磁性体層の積層方向の厚み、Ｗ・・・ト
ラック幅。 第１図 ヘッド走行方向 第３図 第４図 第５図 ヘット疋何万１川 第６図 第７図 へｌド走行方向 第８図 ヘッド走行方向 第１０図 第１２図 第１４１ 一−Ｎ
−−ＮＱ
Ｏ ζ−一
−−Ｉ第１３ ＩＩ 第１６図 手続補正書（方創 昭和６３年３月３０日
要部断面斜視図、第２図はそのヘッドを摺動面側から見
た平面図、第３図（Ａ）〜（Ｆ）は第１図の第一磁性体
層を製作する工程の一例を示す製造工程図、第４図は本
発明の他の実施例を示す要部断面斜視図、第５図はその
ヘッドを摺動面側から見た平面図、第６図は本発明の他
の実施例を示す要部断面斜視図、第７図はそのヘッドを
摺動面側から見た平面図、第８図は本発明の他の実施例
を示す要部断面斜視図、第９図はそのヘッドを摺動面側
から見た平面図、第１０図は本発明の薄膜磁気ヘッドの
再生過程及び孤立再生波形を示した説明図、第１１図（
Ａ）〜（Ｂ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を説明する製造工程図、第１２図は従来の薄膜磁
気ヘッドの一例を示す要部断面斜視図、第１３図はその
ヘッドを摺動面側から見た平面図、第１４図は従来の薄
膜磁気ヘッドの再生過程及び孤立再生波形を示した説明
図、第１５図は従来の薄膜磁気ヘッドの一例を示す摺動
面から見た平面図、第１６図は他の従来のヘッドを示す
斜視図である。 １・・・第一磁性体層、２・・・第二磁性体層、３・・
・非磁性基板、４・・・コイル導体層、５・・・ヘッド
保護膜、６・・・コイル絶縁層（非磁性）、２ａ・・・
２番目の第二磁性体層、 ３ａ・・・２番目の非磁性基板、 ４ａ・・・２番目のコイル導体層、 ６ａ・・・２番目のコイル絶縁層（非磁性）。 し・・・第一磁性体層の摺動面におけるヘッド走行方向
厚み（線幅）、 Ｌ２・・・第一磁性体層の積層方向の厚み、Ｗ・・・ト
ラック幅。 第１図 ヘッド走行方向 第３図 第４図 第５図 ヘット疋何万１川 第６図 第７図 へｌド走行方向 第８図 ヘッド走行方向 第１０図 第１２図 第１４１ 一−Ｎ
−−ＮＱ
Ｏ ζ−一
−−Ｉ第１３ ＩＩ 第１６図 手続補正書（方創 昭和６３年３月３０日
Claims (5)
- （１）非磁性基板上に第一磁性体層、非磁性層、コイル
導体層、前記第一磁性体層と共に一対の磁極を構成する
第二磁性体層を順次積層してなる薄膜磁気ヘッドにおい
て、ヘッド走行方向と平行な面に前記非磁性層、前記コ
イル導体層及び前記第二磁性体層を形成し、少なくとも
対接面でヘッド走行方向と非平行な面に前記第一磁性体
層を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載のヘッドにおいて、
第二磁性体層の対接面ヘッド走行方向にエッジを有さな
いことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （３）特許請求の範囲第１項又は第２項のいずれかに記
載のヘッドにおいて、第一磁性体層のヘッド走行方向の
厚さが対接面で０．０５μｍ〜１．０μｍであることを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （４）特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに
記載のヘッドにおいて、コイル導体の代りに磁気抵抗素
子あるいは強磁性共鳴を利用した素子を用いることを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （５）基板上に第二磁性体層、ギャップ材あるいは非磁
性酸化物層、コイル導体層、コイル絶縁層、前記第二磁
性体層と一対の磁極を形成する第一磁性体層をこの順に
膜付けし、これらの膜面と平行方向に走行させる薄膜磁
気ヘッドを製造する方法において、前記第一磁性体層を
所望のトラック幅相当の厚さに形成し、それをフォトリ
ソグラフィ及びエッチングあるいはイオンビームミリン
グで、対接面で第二磁性体層の膜面に対して平行な角度
以外の任意の角度でかつ０．０５μｍ〜１．０μｍの線
幅となり、対接面より離れるに従って徐々に幅広となる
形状に形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62329860A JP2613906B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| PCT/JP1988/001338 WO1989006422A1 (fr) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | Tete magnetique a film mince et procede de production |
| US07/408,492 US5027246A (en) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | Thin film magnetic head and a method for manufacturing thereof |
| KR1019890701361A KR970008167B1 (ko) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | 박막자기헤드 및 그 제조방법 |
| EP89900921A EP0353304B1 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | Thin-film magnetic head and method of producing the same |
| DE3852031T DE3852031T2 (de) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | Dünnfilmmagnetischer kopf und verfahren zur herstellung. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62329860A JP2613906B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01173310A true JPH01173310A (ja) | 1989-07-10 |
| JP2613906B2 JP2613906B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=18226043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62329860A Expired - Fee Related JP2613906B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5027246A (ja) |
| EP (1) | EP0353304B1 (ja) |
| JP (1) | JP2613906B2 (ja) |
| KR (1) | KR970008167B1 (ja) |
| DE (1) | DE3852031T2 (ja) |
| WO (1) | WO1989006422A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5155646A (en) * | 1989-07-26 | 1992-10-13 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Multiple layered thin-film magnetic head for magnetic recording and reproducing apparatus |
| US5146379A (en) * | 1990-05-30 | 1992-09-08 | Alps Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
| EP0911809A3 (en) * | 1992-01-20 | 2006-11-15 | Fujitsu Limited | Magnetic head assembly, method of manufacturing the same, and magnetic disk apparatus |
| JPH11354860A (ja) | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Read Rite Smi Kk | スピンバルブ磁気変換素子及び磁気ヘッド |
| US6259583B1 (en) * | 1998-09-16 | 2001-07-10 | International Business Machines, Corporation | Laminated yoke head with a domain control element |
| US6442047B1 (en) | 1999-10-08 | 2002-08-27 | Lambda Electronics, Inc. | Power conversion apparatus and methods with reduced current and voltage switching |
| US6898053B1 (en) | 1999-10-26 | 2005-05-24 | Seagate Technology Llc | Perpendicular recording head with trackwidth defined by plating thickness |
| JP2001126219A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-11 | Read Rite Corp | スピンバルブ型磁気抵抗センサ及び薄膜磁気ヘッド |
| US6560069B1 (en) * | 1999-11-29 | 2003-05-06 | Seagate Technology, Llc | Perpendicular recording head defining the trackwidth by material deposition thickness |
| US6693768B1 (en) | 2000-03-15 | 2004-02-17 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording head having a flux focusing main pole |
| JP3593312B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2004-11-24 | アルプス電気株式会社 | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
| JP3799322B2 (ja) * | 2002-11-15 | 2006-07-19 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 磁気ディスク装置 |
| JP2008010123A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toshiba Corp | ヨーク型磁気ヘッド、および磁気ディスク装置 |
| US8028399B2 (en) * | 2007-12-16 | 2011-10-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Magnetic write pole fabrication |
| JP2012150863A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Toshiba Corp | 記録ヘッド、およびこれを備えたディスク装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5880118A (ja) * | 1981-11-04 | 1983-05-14 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS6059516A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-05 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録再生用複合ヘッド |
| JPS60138717A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-07-23 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 磁気ヘツド |
| JPS61172206A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Mitsubishi Electric Corp | 垂直磁気記録ヘツド |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57164415A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
| US4745509A (en) * | 1981-08-21 | 1988-05-17 | Matsushita Electric Industrial Company, Limited | Magnetic head with improved supporter for perpendicular magnetization recording |
| JPS58203611A (ja) * | 1982-05-20 | 1983-11-28 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS62262212A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| EP0317633B1 (en) * | 1986-09-11 | 1993-07-14 | Nippon Hoso Kyokai | Vertical magnetic recording/reproducing head |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62329860A patent/JP2613906B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-12-27 US US07/408,492 patent/US5027246A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-27 DE DE3852031T patent/DE3852031T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-27 KR KR1019890701361A patent/KR970008167B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-27 WO PCT/JP1988/001338 patent/WO1989006422A1/ja not_active Ceased
- 1988-12-27 EP EP89900921A patent/EP0353304B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5880118A (ja) * | 1981-11-04 | 1983-05-14 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS6059516A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-05 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録再生用複合ヘッド |
| JPS60138717A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-07-23 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 磁気ヘツド |
| JPS61172206A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Mitsubishi Electric Corp | 垂直磁気記録ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0353304B1 (en) | 1994-11-02 |
| WO1989006422A1 (fr) | 1989-07-13 |
| KR900700996A (ko) | 1990-08-17 |
| US5027246A (en) | 1991-06-25 |
| EP0353304A1 (en) | 1990-02-07 |
| KR970008167B1 (ko) | 1997-05-21 |
| DE3852031D1 (de) | 1994-12-08 |
| EP0353304A4 (en) | 1991-07-03 |
| DE3852031T2 (de) | 1995-03-09 |
| JP2613906B2 (ja) | 1997-05-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5027246A (en) | Thin film magnetic head and a method for manufacturing thereof | |
| JP2895680B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS645367B2 (ja) | ||
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| KR100189880B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| JPH06150236A (ja) | 磁気ヘッド | |
| KR100206058B1 (ko) | 자기헤드 제조방법 | |
| KR100200804B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| KR0179517B1 (ko) | 자기헤드 | |
| KR100200809B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| KR0119801B1 (ko) | 복합 자기 헤드 제조 방법 | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH0461008A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS60254408A (ja) | 多層膜磁気ヘツド | |
| JPH0438606A (ja) | 積層型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0668106U (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS60226008A (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS63234404A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH01296418A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH04159603A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH04221408A (ja) | 積層型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH06223324A (ja) | 磁気ヘッドとその製造法 | |
| JPS6029916A (ja) | 磁気ヘツドコア及びその製造方法 | |
| JPS62266708A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0636221A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |