JPH0636221A - 磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １個の磁気ヘッドで記録、再生効率の両方に
優れ、製造コストの安い磁気ヘッドとその製造方法を得
る。 【構成】 磁気ギャップ３ａに隣接して磁気コア２ａ，
２ｂよりも低い飽和磁束密度Ｂｓを有する磁性薄膜層６
ａを設ける。１個の磁気ギャップ３ａでも、記録時は低
い飽和磁束密度Ｂｓを有する磁性薄膜層６ａが飽和して
も高保磁力媒体に飽和記録可能な磁界を発生できないの
で実効的磁気ギャップ長が磁気ギャップ３ａの長さより
も広く動作し、再生時は高保磁力媒体からの磁界は弱い
ので磁気ギャップ３ａの長さで動作する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、ＶＴＲ等に適した磁
気ヘッドとその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図３は例えば特開昭５７−５５５２６号
公報に示された従来のＶＴＲ用磁気ヘッドを示す斜視図
である。図３において、１は非磁性基板、２ａ，２ｂは
磁気コア、３は磁気ギャップ膜、３ａは磁気ギャップ膜
３による磁気ギャップ、４は非磁性の保護板、５は巻線
窓Ｗに巻かれたコイルである。磁気ギャップ３ａを挟ん
で磁気コア２ａ，２ｂが左右に形成されている。

【０００３】図４は上記従来の磁気ヘッドの記録再生面
を示す正面図である。Ｔｗはトラック幅であり、磁気コ
ア２ａの膜厚に相当する。磁気ギャップ３ａは、非磁性
基板１の垂線に対して所定のアジマス角θで傾いてい
る。通常、アジマス角θは０〜３０度の間に設定され
る。アジマス角の符号が異なる２個の磁気ヘッドで交互
にトラックを記録すれば、隣のトラックからのクロスト
ークが少なくできるのでガードバンドを設ける必要がな
く高密度磁気記録が可能になる。

【０００４】図５は、図３に示された従来の磁気ヘッド
の製造工程を示す図である。図５（ａ）はセラミック、
ガラス等の非磁性基板１上に磁気コア２ａとなるパーマ
ロイ、センダスト等の磁性薄膜２Ａをトラック幅Ｔｗに
相当する膜厚分、スパッタ、蒸着等の手法で形成する工
程である。

【０００５】図５（ｂ）は磁性薄膜２Ａの一部を除去し
て磁気ギャップ形成面Ｇを形成して磁気コア２ａを形成
する工程である。磁性薄膜２Ａの除去方法としては、ダ
イヤモンドバイトによる切削、イオンビームエッチン
グ、化学エッチング等の手法がある。磁気ギャップ形成
面Ｇはアジマス角θになるように設定する。

【０００６】図５（ｃ）は磁気ギャップ形成面Ｇ上に磁
気ギャップ３ａを形成するために、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ
₂ 等の非磁性の磁気ギャップ膜３をスパッタ、蒸着等の
手法で形成する工程である。磁気ギャップ膜３による磁
気ギャップ３ａの基板面方向の長さ（以下、単に長さと
記す。）ｇは、所望の磁気ギャップ長になるようにす
る。図では全面にわたって磁気ギャップ膜３が形成され
たものを示したが、形成時にマスクをする事によって磁
気ギャップ形成面Ｇ上以外に膜が形成されないようにす
る事もできる。

【０００７】図５（ｄ）は全面に磁気コア２ｂとなる磁
性膜２Ｂを図５（ａ）の工程と同様に形成する工程であ
る。磁性薄膜２Ｂの膜厚はトラック幅Ｔｗより多少厚め
が望ましい。

【０００８】図５（ｅ）は少なくとも磁性薄膜２Ｂ及び
磁気ギャップ膜３の不要部を除去して、磁性薄膜２Ｂを
磁気コア２ｂとし、磁気コア２ａ，２ｂを平坦化する工
程である。平坦化の手法としては、研磨、エッチバック
法等がある。最後に保護板４を接合して、図４に示す磁
気ヘッドが完成する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従来のＶＴＲ用磁気ヘ
ッドは、１個の磁気ヘッドで記録と再生を兼用してい
る。磁気記録の原理からすれば、記録時の磁気ギャップ
長は広い方が、再生時の磁気ギャップ長は狭い方が望ま
しい。よって、従来のＶＴＲ用磁気ヘッドでは、記録、
再生効率のバランスを考慮して磁気ギャップ長を設定し
ている。理想的には最適な磁気ギャップ長を有した記録
用と再生用の２個の磁気ヘッドを設ける事が望ましい。
しかし、２個の磁気ヘッドを設ける事は約２倍の製造コ
ストがかかるという問題点があった。

【００１０】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、１個の磁気ヘッドでも記録と
再生効率の両方に優れ、製造コストの低い磁気ヘッドと
その製造方法を得ることを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この発明の磁気ヘッド
は、磁気ギャップに隣接して磁気コアよりも低い飽和磁
束密度を有する磁性薄膜層を設けたものである。

【００１２】この発明の磁気ヘッドの製造方法は、非磁
性基板上に第１の磁気コアを形成する工程と、その磁気
ギャップ形成面上に磁気ギャップを形成する工程と、こ
の磁気ギャップに隣接して磁気コアよりも低い飽和磁束
密度を有する磁性薄膜層を形成する工程と、第２の磁気
コアを形成する工程とから成る。

【００１３】

【作用】この発明に係る磁気ヘッドは、１個の磁気ギャ
ップが記録時は実効磁気ギャップ長が磁気ギャップの長
さよりも広く動作し、再生時には磁気ギャップの長さで
動作する。

【００１４】この発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、
磁気ギャップに隣接して磁気コアよりも低い飽和磁束密
度を有する磁性薄膜層を形成することにより、２個の磁
気ヘッドを形成する必要がなく、記録と再生に効率良く
兼用できる磁気ヘッドを製造できる。

【００１５】

【実施例】

実施例１．図１はこの発明の一実施例による磁気ヘッド
の記録、再生面を示す正面図である。図１において、１
は非磁性基板、２ａ，２ｂは非磁性基板１上に非平行に
形成された磁気ギャップ３ａとこの磁気ギャップ３ａに
隣接する磁性薄膜層６ａを挟んで左右に形成された一対
の磁気コア、４は一対の磁気コア２ａ，２ｂから見て非
磁性基板１とは反対側に接合された保護板である。

【００１６】磁性薄膜層６ａは磁気コア２ａ，２ｂより
も低い飽和磁束密度Ｂｓを有する磁性薄膜６から成り、
その長さはｈである。また、磁気ギャップ３ａは、磁気
ギャップ膜３から成り、その長さはｇであり、非磁性基
板１の垂線に対して所定のアジマス角θ（図示せず）で
傾いている。例えば、磁気コア２ａ，２ｂとしてはセン
ダスト、Ｃｏアモルファス合金、窒素化鉄等の飽和磁束
密度Ｂｓが１Ｔ以上のものが挙げられ、磁性薄膜６とし
ては飽和磁束密度Ｂｓが０．８Ｔのパーマロイ等が挙げ
られる。この実施例の磁気ヘッドが従来例のものと異な
る点は、磁気ギャップ３ａに隣接して磁性薄膜層６ａを
設けた点である。

【００１７】この実施例において、磁気ギャップ３ａの
長さはｇであるが、記録時はコイルに流した記録電流に
より発生する磁束により磁気ギャップ３ａ近傍の磁気コ
ア２ａ，２ｂ及び磁性薄膜層６ａは飽和するが、磁性薄
膜６の飽和磁束密度Ｂｓは磁気コア２ａ，２ｂよりも低
いので、磁性薄膜層６ａの部分は高保磁力媒体に飽和記
録可能な充分な記録磁界を発生する事ができない。従っ
て、記録時の実効的磁気ギャップ長は、磁気ギャップ３
ａの長さｇよりも大きくなり、磁気ギャップ３ａの長さ
と磁性薄膜層６ａの長さとの和ｇ＋ｈに近い値で動作す
る。

【００１８】一方、再生時は高保磁力媒体からの漏れ磁
界は非常に小さいので、磁性薄膜層６ａは低い飽和磁束
密度Ｂｓでも飽和する事がなく、磁気ギャップ３ａの長
さｇで動作する。従って、記録、再生効率が最適にな
る、磁気ギャップ３ａの長さｇと磁性薄膜層６ａの長さ
ｈの組み合わせを選択すれば良い。

【００１９】図２は、実施例１を示す磁気ヘッドの製造
工程図である。磁気ギャップ膜３を形成するまでの工程
は、従来例の図５（ａ）〜図５（ｃ）の工程と同様なの
で、その説明を省略する。なお、図５（ｂ）の第１の磁
気コアとしての磁気コア２ａとなる第１の磁性薄膜とし
ての磁性薄膜２Ａの一部を除去する工程で、非磁性基板
１を磁気ギャップ膜３の平坦部での膜厚だけ同時に除去
しておくことが、磁気コア２ａと第２の磁気コアとして
の磁気コア２ｂの膜厚を揃える上で望ましく、実施例１
では上記工程を実施した。

【００２０】図５（ｃ）と同様の工程の次に、図２
（ａ）では、磁気コア２ａ，２ｂよりも低い飽和磁束密
度Ｂｓを有する磁性薄膜６を磁気ギャップ膜３上に形成
して磁気ギャップ３ａに隣接する長さｈの磁性薄膜層６
ａを形成する。図では、磁性薄膜６は、全面に形成され
たものを示したが、磁気ギャップ膜３の場合と同じく少
なくとも磁気ギャップ形成面Ｇ上に形成されればよい。

【００２１】図２（ｂ）は、全面に、磁気コア２ｂとな
る第２の磁性薄膜としての磁性薄膜２Ｂを従来と同様に
形成する工程である。

【００２２】図２（ｃ）では、少なくとも不要な磁性薄
膜２Ｂ部分と磁性薄膜６部分と磁気ギャップ膜３部分を
除去して、磁気コア２ａ，２ｂを平坦化する。この平坦
化の手法としては、研磨、エッチバック法等がある。な
お、この除去に際し、磁気コア２ａの上部を除去する場
合もある。最後にこの平坦化面に保護板４を接合して、
図１に示す磁気ヘッドが完成する。

【００２３】なお、本発明は非磁性基板と保護板以外の
コイル等を薄膜化した薄膜磁気ヘッドについても適用可
能な事は勿論言うまでもない。

【００２４】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、磁気
ギャップに隣接して磁気コアよりも飽和磁束密度の低い
磁性薄膜層を設けるように磁気ヘッドを構成したので、
１個の磁気ギャップが記録時と再生時で実効的磁気ギャ
ップ長が最適な値に変化でき、１個の磁気ヘッドでも記
録、再生効率の両方に優れた磁気記録が可能となる。

【００２５】上記構成の磁気ヘッドを製造することで、
製造コストの低い磁気ヘッドを容易に製造することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例１による磁気ヘッドを示す正
面図である。

【図２】この発明の実施例１の製造工程を示す図であ
る。

【図３】従来の磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図４】従来の磁気ヘッドを示す正面図である。

【図５】従来の磁気ヘッドの製造工程を示す図である。

【符号の説明】

１ 非磁性基板 ２Ａ，２Ｂ 磁性薄膜 ２ａ，２ｂ 磁気コア ３ａ 磁気ギャップ ６ａ 磁性薄膜層 Ｇ 磁気ギャップ形成面

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板上に、前記非磁性基板面に非
   平行に形成された磁気ギャップを挟んで左右に形成され
   た一対の磁気コアを有する磁気ヘッドにおいて、前記磁
   気ギャップに隣接して前記磁気コアよりも低い飽和磁束
   密度を有する磁性薄膜層を設けた事を特徴とする磁気ヘ
   ッド。
2. 【請求項２】 非磁性基板上に第１の磁気コアとなる第
   １の磁性薄膜を形成する工程と、前記第１の磁性薄膜の
   一部を除去して前記非磁性基板の垂線に対して所望のア
   ジマス角を有する磁気ギャップ形成面を形成する工程
   と、前記磁気ギャップ形成面上に磁気ギャップを形成す
   る工程と、前記磁気ギャップに隣接して前記第１の磁気
   コアを含む磁気コアよりも低い飽和磁束密度を有する磁
   性薄膜層を形成する工程と、第２の磁気コアとなる第２
   の磁性薄膜を全面に形成する工程と、少なくとも前記第
   ２の磁性薄膜の不要部分を除去して前記第１及び第２の
   磁気コアを平坦化する工程を順次行うことを特徴とする
   磁気ヘッドの製造方法。