JPH0117748B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被処理物の表面に溶液を滴下するノズ
ルを備えた液滴下装置に関し、特にノズル先端の
周縁部において溶液が濃縮されたり、溶質が析出
しないようにした液滴下装置に関する。

ノズルを用いて被処理物表面に溶液を滴下する
装置は、ホトレジスト或いは金属酸化膜形成用の
溶液、若しくは拡散剤を含んだ溶液などを被処理
物表面に塗布する場合に広く用いられる。

例えばIC，LSI等の製作過程において、ホトレ
ジスト或いは拡散剤等の塗布液をウエハー上に塗
布するには第２図に示す如き装置を用いている。
即ち、斯る装置は上面を開口した円筒状のケース
２０内に、スピンナー２１を回転自在に配し、こ
のスピンナー２１上に載置したウエハー２２の表
面中心部にノズル２３から塗布液を数滴滴下せし
めた後、スピンナー２１によつてウエハー２２を
高速回転せしめ、遠心力により塗布液をウエハー
２２表面に均等に塗布するようにしたものであ
る。

そしてノズル２３から塗布液を滴下すると、表
面張力などの影響によつて若干の溶液がノズル先
端周縁部２３ａに残留することになる。ここで塗
布液は樹脂又は拡散剤等を有機溶媒等の溶剤で溶
解した溶液からなつており、且つ該溶剤は揮発度
が高いため、ノズル先端周縁部に残留した塗布液
は、時間の経過につれて溶剤のみが揮散して徐々
に濃縮され、最終的には溶質たる樹脂又は拡散剤
等を析出する。

このような濃縮溶液、或いは析出物が被処理物
であるウエハー上に落下すると、塗布ムラとウエ
ハー間の被膜厚のバラツキを生じ不良品を製作す
ることとなり、製品歩留りの面等において極めて
不利である。

斯る不利を解消すべく従来にあつては、スポン
ジ、布若しくはこれらに溶剤を浸み込ませたもの
を用いてノズル先端周縁部を拭きとり、濃縮した
溶液又は析出物がウエハー上に落下するのを防い
でいる。しかしながら、このような手段では手作
業に頼らざるを得ず、ノズルとスピンナーヘツド
との空間が狭い場合には拭き取り作業が困難とな
る。また拭き取り作業を行なうとスピンナヘツド
上或いはスピンナケース底面に異物が落下し、ス
ピンナーの回転でこれが舞い上り、ウエハー表面
に異物が付着する虞れが多分にある。そして更
に、塗布工程とこれに前後する他の工程とを連続
せしめた場合に、塗布工程において作業が一時中
断することになり、自動化を企図することができ
ず量産性の向上を阻害している。

本発明者は上述の如き技術的課題に鑑み、これ
を有効に解決すべく本発明を為したものであり、
その目的とする処はノズル先端部を拭き取り等の
洗浄作業を行なわなくとも、先端周縁部において
溶液が濃縮したり、或いは溶質が析出したりする
ことがない液滴下装置を提供するにある。

斯る目的を達成すべく本発明はノズル先端部を
囲む遮蔽体によつて遮蔽室を形成し、この遮蔽室
内を溶剤蒸気雰囲気とするための溶剤の貯留部を
遮蔽室内に設けたことをその要旨としている。

以下に本発明の好適な実施例を添付図面に従つ
て詳述する。

第１図は本発明に係る液滴下装置１の要部を示
すものであり、２は装置１のスピンナーケースに
回転自在に支承されたスピンナーである。このス
ピンナー２は回転軸３と載置盤４とからなり、軸
３には真空ポンプ等と連通する貫通孔を穿設する
とともに、載置板４にはこの貫通孔に連なる凹溝
を形成し、載置板４上に載置したウエハー５を吸
引固定するようにしている。

またスピンナー２の上方にはノズル６と、この
ノズル６を囲む遮蔽体７を配設し、この遮蔽体７
によつてノズル６の先端部６ａが臨む遮蔽室８を
形成している。即ち、遮蔽体７は略々円筒状の側
壁７ａと、この側壁７ａの上端部に設けられノズ
ルの挿通孔９が形成された上蓋７ｂと、側壁７ａ
の下端部に設けられ中央部が上方に立ち上つた裁
頭円錐形の底蓋７ｃとからなつており、この底蓋
７ｃの中央部にノズル６から落下する滴下液が通
過する穴１０を形成している。

このように側壁７ａ、上蓋７ｂ、底蓋７ｃとに
よつて構成される遮蔽体７の上蓋７ｂの挿通孔９
にノズル６を通し、ノズル６の中間部に上蓋７ｂ
を一体的に固着し、遮蔽体７で区画される遮蔽室
８の中央部にノズル先端６ａを位置せしめてい
る。そして上記底蓋７ｃと側壁７ａとによつて溶
剤１１の貯留部であるパン１２を形成している。
尚、遮蔽室８に臨むノズル６は、上記上蓋７ｂの
挿通孔９に昇降自在に挿通せしめてもよい。

而して、遮蔽室８内は上記パン１２から蒸発す
る有機溶剤等の蒸気によつて飽和され、ノズル先
端周縁部に表面張力等によつて残留する溶液中の
溶剤は蒸発することがない。

次に第１図に示した装置を用いた場合の実施例
をもつて本発明の具体的効果を説明する。

実験例 溶剤パンにあらかじめ有機溶剤たるエチルアル
コールを入れておき、遮蔽室内をエチルアルコー
ルの蒸気雰囲気として、内径１mmのノズルから東
京応化工業(株)製の拡散剤（OCD SiFilm，SiO₂濃
度5.9％：主溶剤はエチルアルコール）を滴下し
た。

滴下後１時間放置しておいても、ノズルの先端
周縁部には固形物の析出及び拡散剤溶液の濃縮は
認められなかつた。

一方パンの中に有機溶剤を入れず、遮蔽室内を
空気で満した状態で、上記と同様に拡散剤溶液を
滴下した。この場合には滴下後５分経過したとき
すでにノズル先端周縁部に固形物が析出してい
た。以上の実験条件は温度25℃、湿度60％であつ
た。

以上の説明で明らかな如く、本発明によれば、
ノズルを遮蔽体によつて囲んで遮蔽室を形成し、
この遮蔽室に溶剤の貯留部を設けたので、ノズル
先端部が臨む遮蔽室内が常に溶剤蒸気によつて飽
和状態とされ、このためノズル先端部に残つた溶
液から溶剤が蒸発することがなく、ノズル先端部
において溶液が濃縮されたり、或いは溶質が析出
することがない。

したがつて被処理物表面への濃縮溶液或いは溶
質である固形物の落下を未然に防ぐことができ、
製品歩留りを飛躍的に向上せしめることができ
る。更に手作業によりノズル先端周縁部を拭き取
り等する必要がなく、塗布工程とこれに前後する
工程とを一体連続工程化することができるので量
産性の向上を図ることができ、製品のコストダウ
ンに資する等多大の利点を発揮する。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の好適実施例及び従来例を示すも
のであり、第１図は本発明に係る液滴下装置の要
部の縦断側面図、第２図は従来装置の縦断側面図
である。 尚図面中１は液滴下装置、５は被処理物、６は
ノズル、７は遮蔽体、７ａは側壁、７ｃは底蓋、
８は遮蔽室、１２は溶剤の貯留パンである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 被処理物上に溶液を滴下するノズルと、この
   ノズルが臨むとともに、ノズルからの滴下液が通
   過するための開口部を有する遮蔽室を形成する遮
   蔽体と、上記遮蔽室内を溶剤蒸気雰囲気とすべく
   遮蔽室内に設けられた溶剤の貯留パンとからな
   り、該溶剤の貯留パンは、遮蔽室の側壁と、この
   側壁の下端部に設けられ中央部が上方に立ち上が
   つた裁頭円錐形の底蓋とから形成されていること
   を特徴とする液滴下装置。