JPH01179934A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH01179934A
JPH01179934A JP335888A JP335888A JPH01179934A JP H01179934 A JPH01179934 A JP H01179934A JP 335888 A JP335888 A JP 335888A JP 335888 A JP335888 A JP 335888A JP H01179934 A JPH01179934 A JP H01179934A
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JP
Japan
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photosensitive resin
resin composition
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aqueous solution
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JP335888A
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Tadashi Fujii
正 藤井
Katsunori Tsuchiya
勝則 土屋
Katsushige Tsukada
塚田 勝重
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷版
製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の感光
性樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク、化学め
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
及び長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持すること
である。
通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂、アミノプラ
スト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする印刷マスクが
用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、また導
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
そこで写真法(像的露光に続く現像により画像を形成す
る方法)で厚膜(通常導体上25μmが望まれている)
で、かつ寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形
成する感光性樹脂組成物の出現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
アクリル系ポリマー及び光重合性モノマーを主成分とす
る感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公報、
特開昭54−1018号公報等)が知られている。
しかしながら、これらの感光性樹脂組成物にはフィルム
性付与のためアクリル系ポリマーを多量に使用している
ため、硬化皮膜の耐熱性が十分でないという欠点がある
一方、耐熱性の良好な感光性樹脂組成物として主鎖にカ
ルコン基を有する感光性エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂
硬化剤を主成分とする組成物(特開昭54−82073
号公報、特開昭58−62636号公報等)が提案され
ている。しかし、これら光二量化型感光性樹脂組成物は
感度が低いため厚膜のレジスト形成が困難であり、更に
現像液としてシクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を使
用する必要があるため安全上も好ましくない。
厚膜硬化可能なソルダマスク形成用感光性樹脂組成物と
しては、エポキシ基を含有するノボラック型エポキシア
クリレート及び光重合開始剤を主成分とする組成物(特
開昭61−272号公報等)が提案されている。これら
の組成物は耐熱性も優れ、有用であるが、現像液として
1.1.1−)リクロルエタン/低級アルコール混合液
を用いる必要があり、現像液管理に問題がある。また1
゜1.1−トリクロルエタンの使用は地下水汚染の恐れ
があり、環境保全上好ましくない。
安全性及び経済性に優れたアルカリ水溶液で現像可能な
ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としてはカルボキ
シル基含有ポリマー、単量体、光重合開始剤及び熱硬化
性樹脂を主成分とする組成物(特開昭48−73148
号公報、特開昭58−42040号公報、特開昭59−
151152号公報等)が知られている。これら組成物
では熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂、メラミン樹脂
、尿素樹脂等が用いられ、トリグリシジルイソシアヌレ
ート等、有機溶剤に不溶性のエポキシ樹脂を分散使用す
る例も開示されている。しかし、これらの組成物は解像
度、耐溶剤性、吸湿時の半田耐熱性等の特性が必ずしも
充分とはいえない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、安全性
及び経済性に優れたアルカリ水溶液により現像でき、か
つ解像度及び吸湿時の半田耐熱性にも優れた高信頼性ソ
ルダマスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を
提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明は、 (a)アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性
のポリ−p−ビニルフェノール又はその誘導体、 (b)トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.3〜
0.9の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合
物の二級水酸基にイソシアナートエチルメタクリレート
をイソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2
の範囲になるように反応させて得られるエポキシ基含有
不飽和化合物及び(c)活性光線の照射により遊離ラジ
カルを生成する増感剤及び/又は増感剤系を含有してな
る感光性樹脂組成物に関する。
本発明になる感光性樹脂組成物は、必須成分(a)とし
てアルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性のポ
リ−p−ビニルフェノール又はその誘導体を含有する。
このようなポリ−p−ビニルフェノールの例として、下
記のものが挙げられる: 式(1): で表される丸善石油化学■製、商品名マルゼンレジンM
、その臭素付加体である(2)式:で表される丸善石油
化学■製、商品名マルゼンレジンMB。
ポリ−p−ビニルフェノールの誘導体の例として、(3
)式: %式% で表されるポリ−p−ビニルフェノールとメタクリル酸
メチルとの共重合物である丸善石油化学■製、商品名レ
ジンCMM、(4)式: %式% で表されるポリ−p−ビニルフェノールと2−エチルへ
キシルメタクリレート共重合物である丸善石油化学■製
、商品名レジンCHM、(5)式:%式% で表すれるポリ−p−ビニルフェノールと無水マレイン
酸共重合物である丸善石油化学■製、商品名レジンMA
A等を挙げることができる。これらのポリ−p−ビニル
フエノール若しくはその誘導体は、アルカリ水溶液に可
溶性であり、かつ水に不溶性であればよい。
本発明になる感光性樹脂組成物は、必須成分(a)のポ
リ−p−ビニルフェノール又はその誘導体に、アルカリ
水溶液に可溶性でありかつ水に不溶性である高分子結合
剤を併用しても良い。このような高分子結合剤は既に公
知であり、カルボキシル基、無水カルボン酸基、スルホ
ン酸基、スルホンアミド基等のアルカリ可溶性付与基を
有する高分子結合剤が使用され、例えば特開昭59−1
51152号公報、特開昭58−42040号公報、特
開昭48−73148号公報等に記載されている。
好ましい高分子結合剤としては、例えばメタクリル酸、
アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸
からなる群から選ばれる不飽和基を1個有するカルボン
酸又は酸無水物とビニル単量体との共重合体を挙げるこ
とができる。
共重合されるビニル単量体の例としては、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アク
リル酸ブチル、2−エチルへキシルメタクリレート、2
−エチルへキシルアクリレート、α−メチルスチレン、
ビニルトルエン、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、テトラフル
オロプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメ
タクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、2
.3−ジブロモプロピルメタクリレート、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、ブタジェン等を挙げることがで
きる。
特に好ましい高分子結合剤の例としては、メチルメタク
リレート/エチルアクリレート/メタクリル酸共重合体
、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリ
ル酸共重合体、メチルメタクリレート/メタクリル酸ブ
チル/2−ヒドロキシエチルアクリレート/メタクリル
酸共重合体、メチルメタクリレート/トリブロモフェニ
ルアクリレート/メタクリル酸共重合体等を挙げること
ができる。これらの高分子結合剤は、カルボキシル基含
有量が20〜50モル%であるものが好ましい。
本発明になる感光性樹脂組成物は必須成分(b)として
、トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有モノ
カルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.3〜0.
9の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合物の
二級水酸基にイソシアナートエチルメタクリレートをイ
ソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2の範
囲になるように反応させて得られるエポキシ基含有不飽
和化合物を含有する。トリグリシジルイソシアヌレート
は公知の化合物であり、商業的にも入手可能であり、例
えば日産化学工業■が製造販売しているTEPI C−
3,TEP I C−G、TEP I C−P等を使用
することができる。不飽和基含有モノカルボン酸として
は、アクリル酸、メタクリル酸等が用いられる。また、
イソシアナートエチルメタクリレートとしては、ダウケ
ミカル社製のものがある。
本発明において、トリグリシジルイソシアヌレートと不
飽和基含有モノカルボン酸との付加反応は、酸当量/エ
ポキシ当量比を0.3〜0.9の範囲として常法により
行われる。酸当量/エポキシ当量比が0.3未満では、
イメージ露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しや
すく、また、酸当量/エポキシ当量比が0.9を超える
場合には、密着性、半田耐熱性等の特性が低下する。
本発明において、特に好ましい不飽和化合物としてはト
リグリシジルイソシアヌレートとアクリル酸との付加反
応物(酸当量/エポキシ当量比を0.4〜0.7)、ト
リグリシジルイソシアヌレートとメタクリル酸との付加
反応物(酸当量/エポキシ当量比を0.3〜0.7)等
を挙げることができる。
次に、トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.3〜
0.9の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合
物の二級水酸基に対するイソシアナートエチルメタクリ
レートの反応は、下記の式(6)に示すように進行し、
イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2の
範囲になるように常法により行われる。イソシアナート
当量/水酸基当量比が0.1未満の場合には、光硬化が
低く、また、イソシアナート当1/水酸基当量比が1.
2を超える場合には、反応時にゲル化しやすくなり、ま
た耐熱性等の特性が低下する。
反応後、メタノール、エタノール、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート等の一級アルコールを用いて残存する
イソシアナートエチルメタクリレートをウレタン化し、
失活させることが安全上及び保存安定性向上の上で望ま
しい。
エポキシ基含有不飽和化合物の配合割合は、ポリ−p−
ビニルフェノール又はその誘導体100重量部に対して
60〜300重量部とすることが、解像度及び半田耐熱
性に優れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線の照射により遊
離ラジカルを生成する増感剤及び/又は増感剤系を必須
成分(C)として含有する。
増感剤としては、置換又は非置換の多核キノン類、例え
ば、2−エチルアントラキノン、2−を−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベン
ズアントラキノン、2.3−ジフェニルアントラキノン
等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、ベ
ンゾイン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類
及びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイン類
、例工1.t、α−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジ
ェトキシアセトフェノン等、ペイシフエノン、4゜4′
−ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケト
ン類、2−メチルチオキサントン、2゜4−ジエチルチ
オキサントン、2−クロルチオキサントン、2−イソプ
ロピルチオキサントン、2−エチルチオキサントン等の
チオキサントン類、2−メチル−1−(4−(メチルチ
オ)フェニルツー2−モルホリノ−プロパノン−1が用
いられ、これらは単独でも組み合わせて使用してもよい
増感剤系としては、例えば2,4.5−トリアリルイミ
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチルア
ミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組み合わせが
用いられる。またそれ自体では光開始性はないが、前記
物質と組み合わせて用いることにより全体として光開始
性能のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば
、ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の三
級アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安
息香酸イソアミル、N−メチルジェタノールアミン、と
スエチルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる
本発明の感光性樹脂組成物は、上記のエポキシ基含有不
飽和化合物(b)100重量部に対して、増感剤及び/
又は増感剤系(C)を0.1〜30重量部の範囲で用い
ることが、解像度及び半田耐熱性に優れたソルダマスク
を形成する上で好ましい。
更に、本発明の組成物は、他の光重合性化合物を含有し
てもよい。他の光重合性化合物としては、例えばトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリッ
トトリアクリレート、トリメチルへキサメチレンジイソ
シアナート/2−ヒドロキシエチルアクリレート(1/
2モル比)反応物、イソシアナートエチルメタクリレー
ト/水(2/1モル比)反応物等が挙げられる。また、
特開昭53−56018号公報に示される光重合性化合
物を用いることもできる。しかし、これら他の光重合性
化合物の含有量は、耐熱性の保持上から、(a)成分の
ポリ−p−ビニルフェノール又はその誘導体に対して1
0重量%以下であることが好ましい。
更に、本発明の感光性樹脂組成物は、微粒状充填剤を含
をしてもよい。
微粒状充填剤としては、例えばタルク、シリカ、酸化チ
タン、クレイ、炭酸カルシウム、含水珪酸、水酸化アル
ミニウム、アルミナ、硫酸バリウム、三酸化アンチモン
、炭酸マグネシウム、マイカ粉、珪酸アルミニウム、珪
酸マグネシウム等が用いられる。微粒状充填剤の粒径は
、解像度、硬化被膜の密着性等の低下防止の点から、好
ましくは0.01〜10μm1より好ましくは0.01
〜1.5μmである。微粒状充填剤は、感光性樹脂組成
物中に均一に分散されていることが好ましい。充填剤と
前記光重合性不飽和化合物との間の接着力を増すために
、充填剤の表面を、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビ
ニル基等の官能基を有するシランカップリング剤で処理
することもできる。シランカップリング剤としては、例
えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、β−アミ
ノエチル−T−アミノプロピルトリメトキシシラン、T
−グリシドオキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ
る。
更に、本発明になる感光性樹脂組成物は、他の副次的成
分を含有していてもよい。副次的成分としては、高分子
結合剤、熱重合防止剤、染料、顔料、塗工性向上剤、消
泡剤、難燃剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬
化剤等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、デイップコート法、フロ
ーコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工保
護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μmの
感光層を容易に形成することができる。塗工にあたり、
必要ならば組成物を溶剤に溶解させて行うこともできる
。溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、シ
クロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、塩化メチレン、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等を挙げること
ができる。
こうして形成された感光層の露光及び現像は常法により
行われる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高圧水
銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接又はポリ
エチレンテレフタレートフィルム等の透明フィルムを介
し、ネガマスクを通して像的に露光する。露光後、透明
フィルムが残っている場合には、これを剥離した後、現
像する。
現像処理に用いられる現像液としては、アルカリ水溶液
が用いられ、その塩基としては、リン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、炭酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩等を例示でき、特に炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜としての特性を持ってい
るが、現像後に80〜200 ’Cで加熱処理を行うこ
とにより、密着性、耐熱性、耐溶剤等の特性を向上でき
、ソルダマスクとしての特性を満足する永久的な保護膜
が得られる。
(実施例) 次に、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれ
に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は
「重量部」を意味する。
実施例1 (1)エポキシ基含有不飽和化合物(b)の合成A、 
TEP I C−G (日量化学工業■製トリグリシジ
ルイソシアヌレート、 エポキシ当tllo)      1100部B、アク
リル酸          480部p−メトキシフェ
ノール      1部C,プロピレングリコールモノ メチルエーテルアセテート   527部り、イソシア
ナートエチルメタクリレ レート              990部ジブチル
錫ジラウレート      3部E、メタノール   
        60部温度計、撹拌装置、冷却管及び
滴下器の付いた加熱及び冷却可能な52の反応器に、前
記Aを加え、撹拌しなから140°Cに昇温し、均一に
溶解させた後、110°Cに冷却し、反応温度を110
°Cに保ちながら1時間かけて均一にBを滴下した。
Bの滴下後、110°Cで約7時間撹拌を続け、反応系
の酸価を1以下にした後、Cを添加し、温度を60’C
に低下させ、反応温度を60°Cに保ちながら約3時間
かけて均一にDを滴下した。Dの滴下後、約5時間かけ
て徐々に反応温度を80°Cまで昇温した後、温度を再
び60°Cに低下させ、Eを加え、約1時間撹拌を続け
た。こうして不揮発分81重量%のトリグリシジルイソ
シアヌレート/アクリル酸/イソシアナートエチルメタ
クリレート(酸当量/エポキシ当量比0.67、イソシ
アナート当量/水酸基当量比0.9)系エポキシ基含有
不飽和化合物の溶液(I)を得た。
(2)感光性樹脂組成物の調製 ポリ−p−ビニルフェノール(丸善石油化学■製、商品
名レジンMS−2、重量平均分子量5000)200部
(エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート5
0重量%溶液)、(1)で得られたエポキシ基含有不飽
和化合物の溶液(1)185部、2−メチル−1−(4
−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパ
ン−1゜15部、4.4’ −ビスジエチルアミノベン
ゾフェノン1.5部及びプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル175部を配合し、均一に撹拌溶解して本発
明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
(3)硬化被膜の形成 (2)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を銅張り積層
板上に塗布し、室温で20分、80°Cで20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いで、ネガマ
スクを通してオーク製作所■製フェニックス3000型
露光機を用い、400m J / c+aで露光した。
露光後80 ”Cで5分間加熱し、常温で30分放置し
た後、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、30°Cで
60秒間スプレー現像し、直ちに60秒間スプレー水洗
いした0次いで150″Cで30分間加熱処理して、ネ
ガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダマスクを得
た。
このソルダマスクは、吸湿後の半田耐熱性に優れ、沸騰
水に1時間浸漬後、ロジン系フラックA−226(タム
ラ化研■製)を用いて260 ’Cで60秒間半田処理
してもマスクの剥がれ、フクレは認められなかった。ま
た、このソルダマスクは耐溶剤性にも優れており、塩化
メチレン/メタノール(3部1重量比)混合溶剤に25
°Cで1部分間浸漬しても被膜の膨潤や剥がれは認めら
れなかった。
実施例2 (1)エポキシ基含有不飽和化合物(b)の合成A、T
EP IC−3(日産化学工業■製トリグリシジルイソ
シアヌレート、 エポキシ当量105)      1050部B、メタ
クリル酸         430部p−メトキシフェ
ノール      1部C,プロピレングリコールモノ メチルエーテルアセテート   494部り、イソシア
ナートエチルメタクリレ レート              700部ジブチル
錫ジラウレート      2部E、メタノール   
        60部A〜Eを用い、その他は実施例
1 (1)と同様にして、不揮発分80重量%のトリグ
リシジルイソシアヌレート/メタクリル酸/イソシアナ
ートエチルメタクリレート(酸当量/エポキシ当量比=
0.5、イソシアナート当量/水酸基当量比0.9)系
エポキシ基含有不飽和化合物の溶液(II)を得た。
(2)感光性樹脂組成物の調製 ポリ−p−ビニルフェノール(丸善石油化学■製、商品
名レジンMS−3、重量平均分子量7500)200部
、(1)で得られたエポキシ基含有不飽和化合物の溶液
(II)200部、メタクリル酸メチル/2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート/メタクリル酸(7015/2
5重量比)共重合体(分子量約6万、カルボキシル基2
7モル%、プロピレングリコールモノメチルエーテル5
0重量%溶液)35部、ベンゾフェノン9部、4.4′
−ビスジエチルアミノベンゾフェノン1部及びプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル138部を配合して、
均一に撹拌溶解して、本発明の感光性樹脂組成物の溶液
を調製した。
以下実施例1(3)と同様にして、耐熱性に優れた硬化
被膜が得られた。
実施例3 ポリ−p−ビニルフェノールと2−エチルへキシルメタ
クリレート共重合物(丸善石油化学■製、商品名レジン
CHM、(4)式中、重量平均分子量6500)200
部(エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
50重量%溶液)、実施例1(1)で得られたエポキシ
基含有不飽和化金物の溶液(1)185部、2−メチル
−1−(4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリ
ノ−プロパン−115部、4.4゛−ビスジエチルアミ
ノベンゾフェノン1.5部及びプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル175部を配合し、均一に撹拌溶解し
て、本発明の感光性樹脂組成物を得た。
以下、実施例1(3)と同様にして、耐熱性に優れた硬
化被膜が得られた。
実施例4 実施例1(2)で用いたポリ−p−ビニルフェノール2
00部(エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート50重量%溶液)、三酸化アンチモン12部、タル
ク粉(日本タルク■製、商品名ミクロエースP−4、平
均粒径1.5μm)85部及びフタロシアニングリーン
9部を混合し、三本ロールを用いてフィラ分散液を調製
した。
次に、実施例1(1)で得られたエポキシ基含有不飽和
化合物の溶液(1)185部、2−メチル−1−(4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン
−1,15部、2.4−ジメチルチオキサントン2部及
びプロピレングリコールモノメチルエーテル228部を
配合し、均一に撹拌溶解し、次いで、上記フイラ分散液
200部を配合し、撹拌分散して、本発明の感光性樹脂
組成物を得た。
以下、実施例1(3)と同様にして、耐熱性に優れた硬
化被膜が得られた。
実施例から明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物
を用いることにより、写真法による厚膜の画像形成が可
能であり、また、アルカリ水溶液を用いて、解像度及び
耐熱性に優れた高信頼性のソルダマスクを形成すること
ができる。
(発明の効果) 本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、安全性
及び経済性に優れたアルカリ水溶液により現像でき、か
つ解像度及び耐熱性にも優れた高信頼性ソルダマスクを
形成することができる。しかも、本発明の感光性樹脂組
成物を用いれば、写真法により厚膜のソルダマスクを形
成することもできる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保1
を被膜は、塩化メチレン、メタノール、トリクレン、メ
チルエチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン
等の有機溶剤に十分耐え、酸性水溶液にも耐える。更に
、この保護被膜は耐熱性や耐冷熱衝撃性等の機械的特性
にも優れているため、ソルダマスク等の永久的な保護膜
として充分な特性を有するものである。
更に、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護
被膜は、優れた化学的及び物理的特性を有し、このため
多層印刷配線板の眉間絶縁層、感光性接着剤、塗料、プ
ラスチックレリーフ、印刷版材料、金属精密加工材料等
にも使用することができる。
特許出願人 日立化成工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不
    溶性のポリ−p−ビニルフェノール又はその誘導体、 (b)トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
    モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.3〜
    0.9の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合
    物の二級水酸基にイソシアナートエチルメタクリレート
    をイソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2
    の範囲になるように反応させて得られるエポキシ基含有
    不飽和化合物及び(c)活性光線の照射により遊離ラジ
    カルを生成する増感剤及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性の
    ポリ−p−ビニルフェノール又はその誘導体が単独ある
    いは二種以上を組合せたものである請求項1記載の感光
    性樹脂組成物。 3、不飽和基含有モノカルボン酸がアクリル酸及び/又
    はメタクリル酸である請求項1又は2記載の感光性樹脂
    組成物。 4、(a)アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不
    溶性のポリ−p−ビニルフェノール又はその誘導体を1
    00重量部、 (b)トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
    モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.3〜
    0.9の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合
    物の二級水酸基にイソシアナートエチルメタクリレート
    をイソシアナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2
    の範囲になるように反応させて得られるエポキシ基含有
    不飽和化合物を60〜300重量部及び (c)活性光線の照射により遊離ラジカルを生成する増
    感剤及び/又は増感系をエポキシ基含有不飽和化合物(
    b)100重量部に対して0.1〜30重量部 含む請求項1、2又は3記載の感光性樹脂組成物。
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