JPH01192717A - ゼオライトzsm−5の合成法 - Google Patents
ゼオライトzsm−5の合成法Info
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- JPH01192717A JPH01192717A JP63015866A JP1586688A JPH01192717A JP H01192717 A JPH01192717 A JP H01192717A JP 63015866 A JP63015866 A JP 63015866A JP 1586688 A JP1586688 A JP 1586688A JP H01192717 A JPH01192717 A JP H01192717A
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- zsm
- molecule
- alkali metal
- sio2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、石油化学の分野において触媒等として有用な
ゼオライト ZSM−5の合成方法に関するものである
。
ゼオライト ZSM−5の合成方法に関するものである
。
(従来の技術)
従来、ゼオライト ZSM−sを合成する方法として、
各種の含窒素有機化合物をテンプレートとして用いる方
法が提案されている。例えば、各種四級アンモニウム塩
を用いる方法(Zeal 1 to Mo1ee−ul
ar 5ieves、 304〜312 + D、 W
、 Breeh著、 Wl l ey−Intar 5
cience (1974) )、アミド類を用いる方
法(米国特許fs4,472,366号明細書)等が挙
げられる。また、本出願人も以前に、ZSM−5を安価
に、しかも高純度で製造する方法として1分子中に3個
の一級アミン基を有するアミンを用いる方法を提案して
いる(特開昭59−26915号公報)。
各種の含窒素有機化合物をテンプレートとして用いる方
法が提案されている。例えば、各種四級アンモニウム塩
を用いる方法(Zeal 1 to Mo1ee−ul
ar 5ieves、 304〜312 + D、 W
、 Breeh著、 Wl l ey−Intar 5
cience (1974) )、アミド類を用いる方
法(米国特許fs4,472,366号明細書)等が挙
げられる。また、本出願人も以前に、ZSM−5を安価
に、しかも高純度で製造する方法として1分子中に3個
の一級アミン基を有するアミンを用いる方法を提案して
いる(特開昭59−26915号公報)。
一方、近年有機物を用いないZSM−5類重ゼオライト
の合成法も幾つか提案されている(特公昭56−498
51号公報、特開昭56−37215号公報、特公昭6
1−59246号公報)。
の合成法も幾つか提案されている(特公昭56−498
51号公報、特開昭56−37215号公報、特公昭6
1−59246号公報)。
(発明が解決しようとする問題点)
各種の含窒素有機化合物を用いる方法は、通常多量の有
機化合物を用いるため、生成したZSM−5中に多量の
有機物を含有する。これらの有機物は、通常行なわれる
イオン交換法で除去することができないため、通常、イ
オン交換の前に500C以上の高温での空気焼成によっ
て除去する必要があった。しかしながら、このような高
温焼成では、ゼオライトの格子からの脱アルミニウムが
起り、触媒性能の低下をもたらすという問題があった。
機化合物を用いるため、生成したZSM−5中に多量の
有機物を含有する。これらの有機物は、通常行なわれる
イオン交換法で除去することができないため、通常、イ
オン交換の前に500C以上の高温での空気焼成によっ
て除去する必要があった。しかしながら、このような高
温焼成では、ゼオライトの格子からの脱アルミニウムが
起り、触媒性能の低下をもたらすという問題があった。
一方、高温焼成の代シK、過マンガン酸塩や過酸化水素
等の酸化剤を用いて液相で、ある株の有機物を含有する
ゼオライトから有機物を酸化除去する方法が提案されて
いる(特開昭57−135718号公報)。しかしなが
ら、この方法においても、完全に含窒素有機化合物を除
去することは困難なため、やはシ触媒性能の低下をもた
らすという問題があった。
等の酸化剤を用いて液相で、ある株の有機物を含有する
ゼオライトから有機物を酸化除去する方法が提案されて
いる(特開昭57−135718号公報)。しかしなが
ら、この方法においても、完全に含窒素有機化合物を除
去することは困難なため、やはシ触媒性能の低下をもた
らすという問題があった。
また、これらの有機化合物の使用量を減らした場合には
、ゼオライトZSM−5が生成しないか、または多量の
副生物が生成するという問題があシ、触媒として満足な
活性を有するものを得ることはできなかった。
、ゼオライトZSM−5が生成しないか、または多量の
副生物が生成するという問題があシ、触媒として満足な
活性を有するものを得ることはできなかった。
一方、有機物を用いない合成法は、本質的に酸化除去工
程を必要としない利点はあるが、この系はモルデナイト
を非常に副生じ易いという問題と、初期に生成したZS
M−5が逐次的に急激にモルデナイトやα−石英へと変
化していくという問題があった。
程を必要としない利点はあるが、この系はモルデナイト
を非常に副生じ易いという問題と、初期に生成したZS
M−5が逐次的に急激にモルデナイトやα−石英へと変
化していくという問題があった。
(問題点を解決するための手段)
本発明者は上記のような問題点を解決するため鋭意検討
を行なった結果、テンプレートとして1分子中に3個の
第一級アミン基をもつアミンを用いる系で、原料をある
限定された組成範囲とPHKするととKよって使用する
アミンの量を極めて少量にすることができ、しかも高純
度で安定性よくZSM−5が得られる事を見い出し、本
発明を完成するに至つ九。
を行なった結果、テンプレートとして1分子中に3個の
第一級アミン基をもつアミンを用いる系で、原料をある
限定された組成範囲とPHKするととKよって使用する
アミンの量を極めて少量にすることができ、しかも高純
度で安定性よくZSM−5が得られる事を見い出し、本
発明を完成するに至つ九。
すなわち、本発明はシリカ源、アルミナ源、アルカリ金
属源を含む水性混合物を1分子中に3個の第一級アミノ
基を有するアミンの存在下で加熱結晶化させてゼオライ
トZSM−5を合成する際に、水性混合物のPHが10
〜12で、かつその組成が下記の範囲であることを特徴
とするゼオライトZSM−5の合成法を提供するもので
ある。
属源を含む水性混合物を1分子中に3個の第一級アミノ
基を有するアミンの存在下で加熱結晶化させてゼオライ
トZSM−5を合成する際に、水性混合物のPHが10
〜12で、かつその組成が下記の範囲であることを特徴
とするゼオライトZSM−5の合成法を提供するもので
ある。
S i Ch/A 1203 = 20〜40H20/
S i o、±7〜100 M鵞0/SiO,=0.1〜1.0 A/S i Q、=Q、Q OO2〜0.005(ただ
し、Mはアルカリ金属、Aは1分子中に3個の第一級ア
ミ7基を有するアミンを表わし、A以外は、酸化物のグ
ラムモル換算、人はグラムモルで表わす。) 本発明の方法によれば、極めて少量のアミンを用いるだ
けで、高結晶化度のZSM−5を高純度で得ることがで
きる。このことは、廃水処理等の簡略化や経済性の面で
有利である。さらに本発明の有利な点はこのように少量
のアミンを使用しても、生成したZSM−5中には含窒
素有機化合物が含まれているが、警くべき事にこの生成
物中に含まれる含窒素有機化合物はイオン交換操作のみ
でゼオライトから大部分を除去する事ができる点である
。
S i o、±7〜100 M鵞0/SiO,=0.1〜1.0 A/S i Q、=Q、Q OO2〜0.005(ただ
し、Mはアルカリ金属、Aは1分子中に3個の第一級ア
ミ7基を有するアミンを表わし、A以外は、酸化物のグ
ラムモル換算、人はグラムモルで表わす。) 本発明の方法によれば、極めて少量のアミンを用いるだ
けで、高結晶化度のZSM−5を高純度で得ることがで
きる。このことは、廃水処理等の簡略化や経済性の面で
有利である。さらに本発明の有利な点はこのように少量
のアミンを使用しても、生成したZSM−5中には含窒
素有機化合物が含まれているが、警くべき事にこの生成
物中に含まれる含窒素有機化合物はイオン交換操作のみ
でゼオライトから大部分を除去する事ができる点である
。
このことは、通常行なわれている高温での焼成や、液相
での酸化剤を用いる酸化除去工程が必要なくなる事を意
味し、工程の簡略化ならびに経済性の面で有利なだけで
なく、これらの除去工程での触媒性能の低下をなくすと
いう点でも極めて有利なことである。なぜ、このような
イオン交換操作のみで有機物を除くことができるのかは
明らかではないが、テンプレートが1分子中に3個の第
一級アミン基をもつアミンであることと、それを極めて
少量用いることの組み合せに起因するものと考えられる
。
での酸化剤を用いる酸化除去工程が必要なくなる事を意
味し、工程の簡略化ならびに経済性の面で有利なだけで
なく、これらの除去工程での触媒性能の低下をなくすと
いう点でも極めて有利なことである。なぜ、このような
イオン交換操作のみで有機物を除くことができるのかは
明らかではないが、テンプレートが1分子中に3個の第
一級アミン基をもつアミンであることと、それを極めて
少量用いることの組み合せに起因するものと考えられる
。
一方、本発明には、もう一つの特徴がある。それは、ア
ミンの量が非常に少ないにもかかわらず有機物を用いな
い系に比べて、生成するZSM−5の相が極めて安定で
、モルデナイトやα−石英への逐次的変化が極めて遅い
事である。このことは結果として高純度のZSM−5を
得易いことを意味しており、工業的に実施するうえで非
常に有利となる。
ミンの量が非常に少ないにもかかわらず有機物を用いな
い系に比べて、生成するZSM−5の相が極めて安定で
、モルデナイトやα−石英への逐次的変化が極めて遅い
事である。このことは結果として高純度のZSM−5を
得易いことを意味しており、工業的に実施するうえで非
常に有利となる。
本発明に用いられるシリカ源としては、通常ぜオライド
合成に用いられるケイ酸ノーダ、水ガラス、シリカゾル
、シリカゲル、無水ケイ酸等が使用できるが、好ましい
のは水ガラスである。
合成に用いられるケイ酸ノーダ、水ガラス、シリカゾル
、シリカゲル、無水ケイ酸等が使用できるが、好ましい
のは水ガラスである。
本発明に用いられるアルミナ源としては、通常ゼオライ
ト合成に用いられる硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウ
ム、アルミン酸ソーダ、水酸化アルミニウム、アルミナ
等が使用される。
ト合成に用いられる硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウ
ム、アルミン酸ソーダ、水酸化アルミニウム、アルミナ
等が使用される。
本発明に用いられるアルカリ金属源としては、通常ゼオ
ライト合成に用いられるアルカリ金属の硫酸塩、硝酸塩
、ハロゲン化物、水酸化物、アルミン酸塩等が使用でき
るが、好ましいのは水酸化物である。また、アルカリ金
属の中でも好ましいのはナトリウムである。
ライト合成に用いられるアルカリ金属の硫酸塩、硝酸塩
、ハロゲン化物、水酸化物、アルミン酸塩等が使用でき
るが、好ましいのは水酸化物である。また、アルカリ金
属の中でも好ましいのはナトリウムである。
本発明における1分子中に3個の第一級アミン基を有す
るアミンとしては、炭素数が3以上、好ましくけ7以上
のものがよい。特に好適なのは、式H2N CH2CH
2CH2CH2CH2CH2CH2CH2NH2? CH,NH2 で示される、1,8−ジアミノ−4−アミノメチルオク
タンである。
るアミンとしては、炭素数が3以上、好ましくけ7以上
のものがよい。特に好適なのは、式H2N CH2CH
2CH2CH2CH2CH2CH2CH2NH2? CH,NH2 で示される、1,8−ジアミノ−4−アミノメチルオク
タンである。
本発明における水性混合物中のシリカ源、アルミナ源、
アルカリ金属源、1分子中に3個の第一級アミン基を有
するアミンの組成は、下記の範囲である。
アルカリ金属源、1分子中に3個の第一級アミン基を有
するアミンの組成は、下記の範囲である。
S i02/ A 1203 = 20〜40H20/
5iO2=7〜10゜ M20/ S i 02 = 0.1〜1.0A/Si
O,=α0002〜0. OQ 5(ただし1Mはアル
カリ金属、Aはアミンを表わし、A以外は酸化物のグラ
ムモル換算、Aはグラムモルで表わす。) S i Ox/A ftzosモル比が20に満たない
場合は、モルデナイトの副生が多くまた、4oを超える
とα−石英の副生が多くなる。
5iO2=7〜10゜ M20/ S i 02 = 0.1〜1.0A/Si
O,=α0002〜0. OQ 5(ただし1Mはアル
カリ金属、Aはアミンを表わし、A以外は酸化物のグラ
ムモル換算、Aはグラムモルで表わす。) S i Ox/A ftzosモル比が20に満たない
場合は、モルデナイトの副生が多くまた、4oを超える
とα−石英の副生が多くなる。
胸0/5i(hモル比が7に情意ないと水性混合物の粘
度が高すぎて原料ゲルの組成が不均一になるため好まし
くなく、また100を超えると、反応速度の但下のため
生産性が低くなる。
度が高すぎて原料ゲルの組成が不均一になるため好まし
くなく、また100を超えると、反応速度の但下のため
生産性が低くなる。
Ms O/ S i Oz モル比がα工に満たない
場合は結晶が得られ難く、また、1.0を超えるとα−
石英の副生が著しくなる。
場合は結晶が得られ難く、また、1.0を超えるとα−
石英の副生が著しくなる。
A/5iOtモル比が0.0002に満たない場合は、
生成するZSM−5のモルデナイトへの変化が速く結果
としてモルデナイトの副生が多く、また、o、oosを
超えると、生成したZSM−5中に含まれる含窒素化合
物をイオン交換のみでは除去できなくなる。
生成するZSM−5のモルデナイトへの変化が速く結果
としてモルデナイトの副生が多く、また、o、oosを
超えると、生成したZSM−5中に含まれる含窒素化合
物をイオン交換のみでは除去できなくなる。
本発明における水性混合物のPHは、10〜12に調整
する必要がある。PHが10より低い場合は、結晶を得
る事が困難であり、また12よりも高い場合はモルデナ
イトの副生が多くなる。好ましいPHは1α4〜its
である。この水性混合物のPH調整は酸とアルカリの量
で調整される。その場合、用いる酸としては硫酸、塩酸
、硝酸等の無機酸が挙げられるが、好ましいのは硫酸で
ある。
する必要がある。PHが10より低い場合は、結晶を得
る事が困難であり、また12よりも高い場合はモルデナ
イトの副生が多くなる。好ましいPHは1α4〜its
である。この水性混合物のPH調整は酸とアルカリの量
で調整される。その場合、用いる酸としては硫酸、塩酸
、硝酸等の無機酸が挙げられるが、好ましいのは硫酸で
ある。
また、用いるアルカリとしては、例えば、アルカリ金属
水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩等が挙げられるが好ましいのは、アルカリ金属水酸化
物でちゃ、さらに好ましいのはNaOHである。
水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩等が挙げられるが好ましいのは、アルカリ金属水酸化
物でちゃ、さらに好ましいのはNaOHである。
本発明における水性混合物中には、必要に応じて種結晶
または種スラリーを共存させることができる。これらの
ものを共存させた場合は、合成時間が短くなる仁とや、
微粒子の結晶が得られるという有利な点があるが、逆に
大結晶を得るためには不利となる。種結晶またFi株ス
スラリ−用いる場合の水性混合物の組成とは、これらの
ものを含んだ組成を表わす。
または種スラリーを共存させることができる。これらの
ものを共存させた場合は、合成時間が短くなる仁とや、
微粒子の結晶が得られるという有利な点があるが、逆に
大結晶を得るためには不利となる。種結晶またFi株ス
スラリ−用いる場合の水性混合物の組成とは、これらの
ものを含んだ組成を表わす。
本発明における合成温度は90ないし250℃、好まし
くは100ないし200℃、さらに好ましくは130な
いし190℃である。圧力は反応物が液相を保つ限シど
のような圧力でもよいが、水蒸気による自己発生圧力下
で実施するのが好適である。また、合成時間は温度に依
存するため特に限定はないが、通常、5ないし100時
間の範囲である。
くは100ないし200℃、さらに好ましくは130な
いし190℃である。圧力は反応物が液相を保つ限シど
のような圧力でもよいが、水蒸気による自己発生圧力下
で実施するのが好適である。また、合成時間は温度に依
存するため特に限定はないが、通常、5ないし100時
間の範囲である。
本発明においては、合成を攪拌下において実施するのが
好ましい。
好ましい。
本発明において合成されたゼオライトZSM−5は、必
要に応じてプロトンまたは種々の金属陽イオンと公知の
方法によシイオン交換して、種々のカチオン型ZSM−
5にすることができる。特に固体酸として用いる場合に
は、硝酸、硫酸、塩酸等の無機酸でイオン交換してH型
にすることが好ましい。
要に応じてプロトンまたは種々の金属陽イオンと公知の
方法によシイオン交換して、種々のカチオン型ZSM−
5にすることができる。特に固体酸として用いる場合に
は、硝酸、硫酸、塩酸等の無機酸でイオン交換してH型
にすることが好ましい。
本発明によシ合成されたゼオライトZSM−5は、触媒
として種々の反応に用いることができる。例えば、オレ
フィンやシクロオレフィンの水和反応、メタノールから
の炭化水素の合成、パラフィンやオレフィンからの芳香
族の合成等が挙げられる。
として種々の反応に用いることができる。例えば、オレ
フィンやシクロオレフィンの水和反応、メタノールから
の炭化水素の合成、パラフィンやオレフィンからの芳香
族の合成等が挙げられる。
(発明の効果)
本発明の方法によれば、ゼオライトZSM−5を非常に
選択性よく合成でき、また、触媒とする場合にも、有機
物の酸化除去工程を経ずに、直接イオン交換ができるた
め高活性な触媒を得ることができる。これらのことは、
工業的に実施する上で非常に有利となる。
選択性よく合成でき、また、触媒とする場合にも、有機
物の酸化除去工程を経ずに、直接イオン交換ができるた
め高活性な触媒を得ることができる。これらのことは、
工業的に実施する上で非常に有利となる。
(実施例)
次に、実施例を挙げて本発明を説明する。ただし、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
水ガラス(S ion 2&2重量%、Aft、Os
O,065重量%、NIL107.35重t%、H!8
67.5重量%)(以下の実施例、比較例では同じ水ガ
ラスを使用する)130gにNaOH0,64gとH,
0150gを加えた溶液に人fi、 (804)、 1
6H109,7gと1.8−ジアミノ−4−アミノメチ
ルオフl170.3gをH2O250gK木かした溶液
を攪拌しながら加え、さらに、4.6重量%の硫酸14
0gを加えて均質なゲルを得念。このゲルの組成は、下
記の値であシまた、PHは1α8であつ九。
O,065重量%、NIL107.35重t%、H!8
67.5重量%)(以下の実施例、比較例では同じ水ガ
ラスを使用する)130gにNaOH0,64gとH,
0150gを加えた溶液に人fi、 (804)、 1
6H109,7gと1.8−ジアミノ−4−アミノメチ
ルオフl170.3gをH2O250gK木かした溶液
を攪拌しながら加え、さらに、4.6重量%の硫酸14
0gを加えて均質なゲルを得念。このゲルの組成は、下
記の値であシまた、PHは1α8であつ九。
S i Ox/A Its O3= 33H!0/S
102=63 Nano/ S 102=0.30 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン/StO
けや一汁=O,OO32 この原料ゲルを12のオートクレーブ中で185℃、6
0時間攪拌しながら結晶化させた。得られた結晶を濾過
、洗浄し、120℃で4時間乾燥した後X線回折分析を
行い、そのX線回折図を第1図に示す。第1図よりこの
生成物はZSM−5であり、モルデナイトやα−石英を
殆ど含まない高純度のものである事が分った。また、ケ
イ光X線分析より求めたS i O,/A 1,0此は
29であった。また、元素分析よシ求めた生成物中の炭
素と窒素の量は炭素が0.2重量%、9索が0.25重
′J!:tsであった。
102=63 Nano/ S 102=0.30 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン/StO
けや一汁=O,OO32 この原料ゲルを12のオートクレーブ中で185℃、6
0時間攪拌しながら結晶化させた。得られた結晶を濾過
、洗浄し、120℃で4時間乾燥した後X線回折分析を
行い、そのX線回折図を第1図に示す。第1図よりこの
生成物はZSM−5であり、モルデナイトやα−石英を
殆ど含まない高純度のものである事が分った。また、ケ
イ光X線分析より求めたS i O,/A 1,0此は
29であった。また、元素分析よシ求めた生成物中の炭
素と窒素の量は炭素が0.2重量%、9索が0.25重
′J!:tsであった。
このZSM−5をINのHNO3中で4時間室温でイオ
ン交換し*H−ZSM−5を、FJI、洗浄、120℃
で4時間乾燥した後、元素分析よシ求めた炭素と窒素の
量は炭素がO,OS重量%、窒素がα0”2重量%であ
った。この事から、含窒素有機化合物は、イオン交換に
よって、はとんどゼオライトから除去されたことが分る
。さらに、このH−ZSM−5の酸性度を液相イオン久
換−アルカリ滴定法(FifthInternatio
nal Confer@nce on Zeolite
、 1980.P2S5)によって測定したところ、酸
性度はL OOmmo 1/gであ、9 S i O,
/AfizO3モル比から求められる理論酸量1.06
mm o 1/gに非常に近いことが分った。
ン交換し*H−ZSM−5を、FJI、洗浄、120℃
で4時間乾燥した後、元素分析よシ求めた炭素と窒素の
量は炭素がO,OS重量%、窒素がα0”2重量%であ
った。この事から、含窒素有機化合物は、イオン交換に
よって、はとんどゼオライトから除去されたことが分る
。さらに、このH−ZSM−5の酸性度を液相イオン久
換−アルカリ滴定法(FifthInternatio
nal Confer@nce on Zeolite
、 1980.P2S5)によって測定したところ、酸
性度はL OOmmo 1/gであ、9 S i O,
/AfizO3モル比から求められる理論酸量1.06
mm o 1/gに非常に近いことが分った。
比較例1
1.8−Jアミノ−4−アミノメチルオクタンを7−0
g用いる以外は実施例1と同じ組成の原料を用いて均質
なゲルを得た。このゲルの組成は下記の値であり、PH
は11.0であった。
g用いる以外は実施例1と同じ組成の原料を用いて均質
なゲルを得た。このゲルの組成は下記の値であり、PH
は11.0であった。
S[)2/Aj!、O,=33
H20/S i O,= 63
N ago/ S i 02 = 0.301.8−ジ
アミノ−4−アミノメチルオクタン/S i 02=0
.021 このゲルをILのオートクレーブに仕込んで185℃で
60時間結晶化させた。
アミノ−4−アミノメチルオクタン/S i 02=0
.021 このゲルをILのオートクレーブに仕込んで185℃で
60時間結晶化させた。
得られた結晶を濾過・洗浄、120℃で4時間乾燥した
後のX線回折分析よシ、生成物はZSM−5であり、モ
ルデナイトやα−石英は殆ど含まれていない事が分った
。また、ケイ光X線分析より求めたS i 02 /A
fi203比は29であシ元素分析より求めた炭素と
窒素の量は炭素が10重量%、窒素がα7重量%であつ
な。
後のX線回折分析よシ、生成物はZSM−5であり、モ
ルデナイトやα−石英は殆ど含まれていない事が分った
。また、ケイ光X線分析より求めたS i 02 /A
fi203比は29であシ元素分析より求めた炭素と
窒素の量は炭素が10重量%、窒素がα7重量%であつ
な。
このZSM−5をINのHNO3中で4時間室温でイオ
ン交換した後、濾過・洗浄、120℃で4時間乾燥して
得たH−ZSM−5の元素分析よυ求めた炭素と窒素の
量は、炭素が0.5重量%、窒素が0.2重量%であつ
念。また、酸性度はO−75mmo 17gであった。
ン交換した後、濾過・洗浄、120℃で4時間乾燥して
得たH−ZSM−5の元素分析よυ求めた炭素と窒素の
量は、炭素が0.5重量%、窒素が0.2重量%であつ
念。また、酸性度はO−75mmo 17gであった。
以上の結果よシ、この様に含窒素有機化合物を多く用い
る系で合成されたZSM−5は、イオン交換のみでは生
成物中に含まれる含窒素化合物を完全に除去することが
できない事が分る。
る系で合成されたZSM−5は、イオン交換のみでは生
成物中に含まれる含窒素化合物を完全に除去することが
できない事が分る。
実施例2
水ガラス100gにNaOHα8gとH,0133gを
加え次溶液に、An、 (SO2)s 16H109,
7gと1゜8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン0
.08gを水230gに溶かした溶液を攪拌しながら加
え、さらに4.6重量%硫酸140gを加えて均質なゲ
ルを得た。このゲルの組成は下記の値でありPHは10
,9であった。
加え次溶液に、An、 (SO2)s 16H109,
7gと1゜8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン0
.08gを水230gに溶かした溶液を攪拌しながら加
え、さらに4.6重量%硫酸140gを加えて均質なゲ
ルを得た。このゲルの組成は下記の値でありPHは10
,9であった。
SiO宜/hl、03=26
H20/ S i 02 = 74
N a 20/ S i Ot = 0.311.8−
ジアミノ−4−アミノメチルオクタン/ S i O2
= O,OO1 このゲルを12のオートクレーブに仕込んで、190℃
で攪拌しながら、経時的にスラリーを抜き出し濾過、洗
浄、120℃で乾燥した後x、!!回折分析によシ、結
晶相の変化を追った。その結果を第2図に示す。
ジアミノ−4−アミノメチルオクタン/ S i O2
= O,OO1 このゲルを12のオートクレーブに仕込んで、190℃
で攪拌しながら、経時的にスラリーを抜き出し濾過、洗
浄、120℃で乾燥した後x、!!回折分析によシ、結
晶相の変化を追った。その結果を第2図に示す。
第2図から明らかなように杢糸では生成するZSM−5
の相が極めて安定であり、非常に純度の高いZSM−5
が得られる事が分る。
の相が極めて安定であり、非常に純度の高いZSM−5
が得られる事が分る。
比較例2
1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタンを用いな
いこと以外は、実施例2と同じ組成で均質なゲルを得た
。このゲルのP)Iは10.8であった。
いこと以外は、実施例2と同じ組成で均質なゲルを得た
。このゲルのP)Iは10.8であった。
このゲルを12のオートクレーブに仕込んで、実施例2
と同じ条件で経時変化を追った。その結果を第3図に示
す。
と同じ条件で経時変化を追った。その結果を第3図に示
す。
第3図から明らかなように、有機物を用いない系では、
生成するZSM−5のモルデナイト、α−石英への相変
化が急激に起り、高純度のZSM−5を得難いことが分
る。
生成するZSM−5のモルデナイト、α−石英への相変
化が急激に起り、高純度のZSM−5を得難いことが分
る。
実施例3
水ガラス87gKNaOF(α43gとH2O/SiO
!0100gを加えた溶液にAlI3 (SOOs ・
16H20a5gと1,8−ジアミノ−4−アミノメチ
ルオクタンα20gをH2O,168gに溶かした溶液
を攪拌しながら加え、さらに46重量%の硫酸94gを
加え均質なゲルを得た。このゲルに、さらに実施例1で
得られた合成スラリー227gを加えて下記の組成のゲ
ルを得た。
!0100gを加えた溶液にAlI3 (SOOs ・
16H20a5gと1,8−ジアミノ−4−アミノメチ
ルオクタンα20gをH2O,168gに溶かした溶液
を攪拌しながら加え、さらに46重量%の硫酸94gを
加え均質なゲルを得た。このゲルに、さらに実施例1で
得られた合成スラリー227gを加えて下記の組成のゲ
ルを得た。
またこのゲルのPI(は10.8であった。
SiO鵞/ A、g、Q、=33
H2O/S i 02=63
N azO/ S i 02= 0.301.8−ジア
ミノ−4−アミノメチルオクタン/5i02=0−00
32 このゲルをxXのオートクレーブ中で150℃、24時
間攪拌しながら結晶化させた。得られた結晶を濾過、洗
浄した後、INのHNO3中で4時間室温でイオン交換
を行い、さらに濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥した
。このM−ZSM−sはX線回折分析よりZSM−5と
同定された。又ケイ光X線分析より求めたS iOz
/A fl 203比は28であり、元素分析より求め
た炭素と窒素の量は炭素が0.02重量%、窒素が0.
01重量%であった。
ミノ−4−アミノメチルオクタン/5i02=0−00
32 このゲルをxXのオートクレーブ中で150℃、24時
間攪拌しながら結晶化させた。得られた結晶を濾過、洗
浄した後、INのHNO3中で4時間室温でイオン交換
を行い、さらに濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥した
。このM−ZSM−sはX線回折分析よりZSM−5と
同定された。又ケイ光X線分析より求めたS iOz
/A fl 203比は28であり、元素分析より求め
た炭素と窒素の量は炭素が0.02重量%、窒素が0.
01重量%であった。
比較例3
硫酸量を変えてPHを9.6と125に調整してその他
は実施例1と同じ組成の原料を用いて均質なゲルを得た
。この原料を実施例1と同条件で結晶化させた。
は実施例1と同じ組成の原料を用いて均質なゲルを得た
。この原料を実施例1と同条件で結晶化させた。
得られ次生成物を濾過、洗浄120で4時間乾燥した後
、X線回折分析を行った。
、X線回折分析を行った。
その結果、P H9,6の系は全く結晶化していなかっ
た。またPHIλ5の系は、モルデナイトが50チで残
りがZSM−530チ、α−石英20チであった。
た。またPHIλ5の系は、モルデナイトが50チで残
りがZSM−530チ、α−石英20チであった。
実施例4
実施例3で得られたH−ZSM−5を用いてシクロヘキ
センの水利反応を下記の条件で行った。
センの水利反応を下記の条件で行った。
仕込み容量;シクロヘキセン、26ccH,0、l 7
6 cc 触媒量140g 反応温度+120℃ 圧力;自己発生圧 攪拌回転数;800rpm 装置;ガラス製オートクレーブ 反応開始後10分でのオイル相中のシクロヘキサノール
の濃度は121重量%であった。
6 cc 触媒量140g 反応温度+120℃ 圧力;自己発生圧 攪拌回転数;800rpm 装置;ガラス製オートクレーブ 反応開始後10分でのオイル相中のシクロヘキサノール
の濃度は121重量%であった。
比較例4
比較例1で得られたH−ZSM−5を用いて実施例4と
同じ条件でシクロヘキセンの水利反応を行った。
同じ条件でシクロヘキセンの水利反応を行った。
反応開始後10分でのオイル相中のシクロヘキサノール
の濃度はa9重tチであった。
の濃度はa9重tチであった。
第1図は実施例1で得られた生成物のX線回折図、第2
図は実施例2において、X線回折分析より結晶相の変化
を調べた結果を示すグラフ、第3図は比較例2において
、X線回折分析によシ結晶相の変化を調べた結果を示す
グラフである。 特許出願人 旭化成工業株式会社 第1図 to 15 2025303540 第2図 合へ吟聞(hr〕
図は実施例2において、X線回折分析より結晶相の変化
を調べた結果を示すグラフ、第3図は比較例2において
、X線回折分析によシ結晶相の変化を調べた結果を示す
グラフである。 特許出願人 旭化成工業株式会社 第1図 to 15 2025303540 第2図 合へ吟聞(hr〕
Claims (2)
- (1)シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属源を含む水
性混合物を、1分子中に3個の第一級アミノ基をもつア
ミンの共存下で加熱結晶化させてゼオライトZSM−5
を合成する際に、水性混合物のPHが10〜12で、か
つその組成が下記の範囲である事を特徴とするゼオライ
トZSM−5の合成法 SiO_2/Al_2O_3=20〜40 H_2O/SiO_2=7〜100 M_2O/SiO_2=0.1〜1.0 A/SiO_2=0.0002〜0.005 (ただし、Mはアルカリ金属、Aは1分子中に3個の第
一級アミノ基をもつアミンを表わし、A以外は酸化物の
グラムモル換算、Aはグラムモルで表わす。) - (2)1分子中に3個の第一級アミノ基をもつアミンが
、1,8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタンである
特許請求の範囲第1項記載の方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63015866A JP2553609B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | ゼオライトzsm−5の合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63015866A JP2553609B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | ゼオライトzsm−5の合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01192717A true JPH01192717A (ja) | 1989-08-02 |
| JP2553609B2 JP2553609B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=11900723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63015866A Expired - Lifetime JP2553609B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | ゼオライトzsm−5の合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2553609B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302762A (en) * | 1991-10-07 | 1994-04-12 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for hydrating a cycloolefin |
-
1988
- 1988-01-28 JP JP63015866A patent/JP2553609B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302762A (en) * | 1991-10-07 | 1994-04-12 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for hydrating a cycloolefin |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2553609B2 (ja) | 1996-11-13 |
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