JPH01201306A - 光学材料 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F16/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
- C08F16/12—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
- C08F16/32—Monomers containing two or more unsaturated aliphatic radicals
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、低吸水性で光学的均一性、耐熱性、4Q
耐摩耗性等に優れた光学材料に関するものである。
〈従来の技術〉
合成樹脂は、ガラスに比較して、軽量であること、成形
性に優れていること、大量生産が可能であること等の利
点を有するtめ、近年、レンズ、!リズム、光デイスク
基板等光学材料分野への需要が増大してrる。
性に優れていること、大量生産が可能であること等の利
点を有するtめ、近年、レンズ、!リズム、光デイスク
基板等光学材料分野への需要が増大してrる。
従来、光学材料としては、ポリスチレン樹脂、ぼりメチ
ルメタクリレート樹脂、Iリカー−ネート樹脂等の熱可
塑性樹脂、およびジエチレングリコールビスアリルカー
ゴネートのごとき熱硬化性樹脂等が用いられている。
ルメタクリレート樹脂、Iリカー−ネート樹脂等の熱可
塑性樹脂、およびジエチレングリコールビスアリルカー
ゴネートのごとき熱硬化性樹脂等が用いられている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、上記樹脂では、光学材料に要求される光学的均
一性、低吸水性、耐熱性および耐摩耗性を全て具備して
いるものではない。例えば、上記の各々の樹脂をレンズ
や光デイスク基板等に用いた場合、/ IJスチレンは
光学的均一性、耐熱性および耐摩耗性に劣り、ポリメチ
ルメタクリレートは吸水性および耐熱性に問題がある。
一性、低吸水性、耐熱性および耐摩耗性を全て具備して
いるものではない。例えば、上記の各々の樹脂をレンズ
や光デイスク基板等に用いた場合、/ IJスチレンは
光学的均一性、耐熱性および耐摩耗性に劣り、ポリメチ
ルメタクリレートは吸水性および耐熱性に問題がある。
ポリカー♂ネートは光学的均一性に欠け、ジエチレング
リコールビスアリルカーゴネートは吸水性が大きいため
吸水変形し易いという問題点がある。
リコールビスアリルカーゴネートは吸水性が大きいため
吸水変形し易いという問題点がある。
これらの欠点を改良する目的で、特開昭61−2879
13号公報において、ビス(オキシメチルトリシクロ(
5,2,1,0”’ Eデヵンジ(メタ)アクリレート
とフルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとの共
重合体からなる光学材料が提案されている。しかし、こ
の脂環式化合物の共重合体からなる光学材料は、低吸水
性、耐熱性、耐摩耗性に改善は見られるものの、原料で
ある脂環式化合物の嫌気性が強い友め、酸素によシ重合
むらが発生し易く、光学的均一性に劣るという欠点があ
シ、実用上問題を有している。
13号公報において、ビス(オキシメチルトリシクロ(
5,2,1,0”’ Eデヵンジ(メタ)アクリレート
とフルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとの共
重合体からなる光学材料が提案されている。しかし、こ
の脂環式化合物の共重合体からなる光学材料は、低吸水
性、耐熱性、耐摩耗性に改善は見られるものの、原料で
ある脂環式化合物の嫌気性が強い友め、酸素によシ重合
むらが発生し易く、光学的均一性に劣るという欠点があ
シ、実用上問題を有している。
本発明の目的は、前記従来の合成樹脂からなる光学材料
の欠点を克服して、光学材料として望まれる光学的均一
性、低吸水性、耐熱性、耐摩耗性等の諸物性を兼備し次
バランスのとれt光学材料を提供することにある。
の欠点を克服して、光学材料として望まれる光学的均一
性、低吸水性、耐熱性、耐摩耗性等の諸物性を兼備し次
バランスのとれt光学材料を提供することにある。
く課題を解決するtめの手段〉
本発明者等は、かかる現状にかんがみ鋭意研究の結果、
問題点解決の手段を見い出し、本発明に一到達しfcも
のである。
問題点解決の手段を見い出し、本発明に一到達しfcも
のである。
) すなわち、本発明の要旨は、下記一般式(I)で
表わされる化合物から選ばれ友少なくとも1櫨の化合物
の重合体、まtは下記一般式(I)で衣わされる化合物
と該化合物と共重合可能な他の化合物との共重合体から
なることを特徴とする光学材料である。
表わされる化合物から選ばれ友少なくとも1櫨の化合物
の重合体、まtは下記一般式(I)で衣わされる化合物
と該化合物と共重合可能な他の化合物との共重合体から
なることを特徴とする光学材料である。
〔式中、R1およびR2は同一まtは異種であって、水
素原子ま几はメチル基である。A#i1〜3の整数を示
す。mおよびnは0〜8の整数を示す。友だし、mと1
の総計個数はO≦m−)−n≦8である。〕前記一般式
(I)で表わされる化合物は、脂環式(メタ)アリルエ
ーテル化合物であり、シクロペンタジェンの付加体よシ
誘導される下記一般式(I)で表わされるジオール、ま
念は該ジオールとエチレンオキシドを塩基性触媒を用い
て合成して得られる下記一般式(III)で表わされる
長鎖のジオールを、例えばソジウムハイドライト等を使
用してジアルコキシトトシたものに1例えばアリルプロ
ミド等の71フルハライドおよび/ま友はメタリルクロ
リド等のメタリルハライドを反応させて得ることができ
る。
素原子ま几はメチル基である。A#i1〜3の整数を示
す。mおよびnは0〜8の整数を示す。友だし、mと1
の総計個数はO≦m−)−n≦8である。〕前記一般式
(I)で表わされる化合物は、脂環式(メタ)アリルエ
ーテル化合物であり、シクロペンタジェンの付加体よシ
誘導される下記一般式(I)で表わされるジオール、ま
念は該ジオールとエチレンオキシドを塩基性触媒を用い
て合成して得られる下記一般式(III)で表わされる
長鎖のジオールを、例えばソジウムハイドライト等を使
用してジアルコキシトトシたものに1例えばアリルプロ
ミド等の71フルハライドおよび/ま友はメタリルクロ
リド等のメタリルハライドを反応させて得ることができ
る。
〔式中、tは1〜3の整数を示す。〕
〔式中、tは1〜3の整数を示す。pおよびqはθ〜8
の整数を示す。tだし、pとqの総計個数紘1≦p+q
≦8である。〕 前記一般式(I)で表わされる化合物の具体例としては
、 等があげられる。これらの脂環式(メタ)アリルエーテ
ル化合物は、2種以上併用してもよい。
の整数を示す。tだし、pとqの総計個数紘1≦p+q
≦8である。〕 前記一般式(I)で表わされる化合物の具体例としては
、 等があげられる。これらの脂環式(メタ)アリルエーテ
ル化合物は、2種以上併用してもよい。
前記−紋穴(I)で表わ場れる脂環式(メタ)アリルエ
ーテル化合物には、該化合物の粘度の調整や、重合体の
硬度および耐衝撃性等を改良する九めに、該化合物と共
重合可能な他の化合物を配合することができる。配合さ
れる他の化合物としては、ラジカル重合性を有し、3次
元網目構造を形成させ、かつ重合したのちその重合体が
透明性を損わない化合物であれば、どの様なものでも良
く、具体例としては次の様なものがあげられる。
ーテル化合物には、該化合物の粘度の調整や、重合体の
硬度および耐衝撃性等を改良する九めに、該化合物と共
重合可能な他の化合物を配合することができる。配合さ
れる他の化合物としては、ラジカル重合性を有し、3次
元網目構造を形成させ、かつ重合したのちその重合体が
透明性を損わない化合物であれば、どの様なものでも良
く、具体例としては次の様なものがあげられる。
(I) アリル系化合物およびアリリデン系化合物エ
チレンダリコールビスアリルカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーゴネート(CR−39) 、
) 17エチレングリコールビスアリルカーIネート、
テトラエチレングリコールビスアリルカーゴネート、ヘ
ンタエチソングリコールビスアリルカーゴネート、ポリ
プロピレンダリコー゛ルビス7リルカーがネート、トリ
メチレングリコールピスアリルカーゲネート、3−ヒド
ロギシゾロIキ゛シグロノ中ノールビスアリルカーゴネ
ート、グリセリンビスアリルカーゴネート、トリグリセ
リンビスアリルカーゴネート、ゾアリルカー〆ネート、
ジアリリデン(メタエリスリトール、トリアリリデンソ
ルビトール、ジアリリデン−2,2,6,6−チトラメ
チロールシクロヘキサノン、トリアリリデンへキサメチ
ロールメラミン、ジアリリデン−D−グルコース、ビス
フェノールA−/アリルエーテル、ビスフェノールSジ
アリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテル
、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレ
ンダリコールジアリルエーテル、18111− ) り
メ?el −ルデロノ臂ン) +77リルエーテル、
ネオヘンチルクリコールジアリ〃エーテル、ジアリルフ
タレート、トリアリルイソシアヌレート等txはこれら
の予備反応物。
チレンダリコールビスアリルカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーゴネート(CR−39) 、
) 17エチレングリコールビスアリルカーIネート、
テトラエチレングリコールビスアリルカーゴネート、ヘ
ンタエチソングリコールビスアリルカーゴネート、ポリ
プロピレンダリコー゛ルビス7リルカーがネート、トリ
メチレングリコールピスアリルカーゲネート、3−ヒド
ロギシゾロIキ゛シグロノ中ノールビスアリルカーゴネ
ート、グリセリンビスアリルカーゴネート、トリグリセ
リンビスアリルカーゴネート、ゾアリルカー〆ネート、
ジアリリデン(メタエリスリトール、トリアリリデンソ
ルビトール、ジアリリデン−2,2,6,6−チトラメ
チロールシクロヘキサノン、トリアリリデンへキサメチ
ロールメラミン、ジアリリデン−D−グルコース、ビス
フェノールA−/アリルエーテル、ビスフェノールSジ
アリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテル
、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレ
ンダリコールジアリルエーテル、18111− ) り
メ?el −ルデロノ臂ン) +77リルエーテル、
ネオヘンチルクリコールジアリ〃エーテル、ジアリルフ
タレート、トリアリルイソシアヌレート等txはこれら
の予備反応物。
〔l〕(メタ)アクリレート系化合物
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)
アクリレ−)、1−(メタ)アクリロイル−2−ヒドロ
キシ−3−(メタ)アクリロイルグロノ母ン、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレート、1,1.1
−トリメチロールグロノやントリ(メタ)アクリレート
、947タエリスリトールへキサアクリレート、4g4
1−ビス(2−[:2−7クリロイルオキシエチルオキ
シ〕エチルオキシ]−2,2−ジフェニルグロノダン、
ヘキサメチロールメラミンへキサ(メタ)アクリレート
、N、N’、N1− )リス(2−(メタ)アクリロイ
ルキシエチル)イソシアヌレート、ネオベンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート等またはこれらの予備反応
物。
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)
アクリレ−)、1−(メタ)アクリロイル−2−ヒドロ
キシ−3−(メタ)アクリロイルグロノ母ン、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレート、1,1.1
−トリメチロールグロノやントリ(メタ)アクリレート
、947タエリスリトールへキサアクリレート、4g4
1−ビス(2−[:2−7クリロイルオキシエチルオキ
シ〕エチルオキシ]−2,2−ジフェニルグロノダン、
ヘキサメチロールメラミンへキサ(メタ)アクリレート
、N、N’、N1− )リス(2−(メタ)アクリロイ
ルキシエチル)イソシアヌレート、ネオベンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート等またはこれらの予備反応
物。
上記(I)と(II)の化合物は混合して使用してもよ
い。
い。
(III) 上記(I)および/まtは(II)の化
合物とポリチオール化合物との混合物もしくは予備反応
物 a) !リチオール化合物 4ンタエリスリトールテトラチオグリコレート、1.1
.1− トリメチロールグロノ臂ントリチオグリコレー
ト、ペンタエリスリトールトリチオグリコレート、エチ
レングリコールジチオグリコレート、ジエチレングリコ
ールノチオダリコL/−)、トリエチレングリコールジ
チオグリコレート、テトラエチレングリコールジチオグ
リコレート、ネオペンチルグリコールジチオグリコレー
ト等上記〔I〕および/または[11)の化合物とポリ
チオール化合物の混合比は特に限定はないが、チオール
の割合が(I)またはC1l〕の化合物と等官能基量以
下の範囲内であることが好ましい。
合物とポリチオール化合物との混合物もしくは予備反応
物 a) !リチオール化合物 4ンタエリスリトールテトラチオグリコレート、1.1
.1− トリメチロールグロノ臂ントリチオグリコレー
ト、ペンタエリスリトールトリチオグリコレート、エチ
レングリコールジチオグリコレート、ジエチレングリコ
ールノチオダリコL/−)、トリエチレングリコールジ
チオグリコレート、テトラエチレングリコールジチオグ
リコレート、ネオペンチルグリコールジチオグリコレー
ト等上記〔I〕および/または[11)の化合物とポリ
チオール化合物の混合比は特に限定はないが、チオール
の割合が(I)またはC1l〕の化合物と等官能基量以
下の範囲内であることが好ましい。
なお、上記具体例は本発明に用いられる極く一部の例で
あって、何らこれらに限定されるものではない。
あって、何らこれらに限定されるものではない。
併用される他の化合物の混合割合は、脂環式(メタ)ア
リルエーテル化合物の有する光学的均一性、低吸水性、
耐熱性等を損なわない範囲ならばいかなる混合割合でも
よく、通常、脂環式(メタ)アリルエーテル化合物と他
の化合物との合計量100iifi部中85重量部以下
5、好ましくは50重量部以下である。
リルエーテル化合物の有する光学的均一性、低吸水性、
耐熱性等を損なわない範囲ならばいかなる混合割合でも
よく、通常、脂環式(メタ)アリルエーテル化合物と他
の化合物との合計量100iifi部中85重量部以下
5、好ましくは50重量部以下である。
前記−紋穴(I)で表わされる脂環式(メタ)アリルエ
テル化合物から選ばれた少なくとも一部の化合物、ま几
は脂環式(メタ)アリルエーテル化合物と該化合物と共
重合可能な他の化合物との混合物を1合させる方法とし
ては、下記の手法があけられる。
テル化合物から選ばれた少なくとも一部の化合物、ま几
は脂環式(メタ)アリルエーテル化合物と該化合物と共
重合可能な他の化合物との混合物を1合させる方法とし
ては、下記の手法があけられる。
(I) 熱による方法
熱によって原料化合物を重合させる場合、重合開始剤は
使用しても使用しなくてもよい。1合莞始剤の具体例と
しては、 2.2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメ
チルバレロニトリル)、2.2’−アゾビスイソッチロ
ニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスインプチレー
)、2.2’−7ゾビス(2−メチルプf口二トリル)
、1.1’−アゾビス(I−シクロヘキサンカーゲニト
リル)、2−フェニルア:/−2,4−シメfk−4−
メトキシパレロニ) リ/l/% 2#2’−7ゾビス
(2−メチルゾロパン)等のアゾ系重合開始剤、 オ!ヒl、1−ビス(ターシャリ−ブチルパーオキシ)
−3,3,5−)リメチルシクロヘ中サン、1.1−
ビス(ターシャリ−ブチルノーオキシ)シクロヘキサン
、ノルマルブチル−4,4’−ヒス(ターシャリーラチ
ル/臂−オキシ)バレレート、rカッイル/譬−オキサ
イド、ラウロイル14−オキサイド、ベンゾイルパーオ
キサイド、メタ−トルオイルツク−オキサイド、ジイソ
デロピルノ!−オキシシカーMネー)、ジー2−エチル
へキシルノ譬−オキシシカー〆ネート、ジノルマルゾロ
ビルノや−オキシジカーがネート、ジメトキシイソゾロ
ビルノe−オキシシカ−がネート、クミルノ譬−オキシ
ネオデカノエート、ターシャリープチルノ臂−オキシ−
2−エチルヘキサノエート、ターシャリ−ブチルパーオ
キシ−3,5,5−)リスチルヘキサノエート、ジター
シャリープチルジパーオキシイソフタレート、ターシャ
リープチルノヤーオキシイソゾロピルカーIネート等の
過酸化物系重合開始剤等があげられる。
使用しても使用しなくてもよい。1合莞始剤の具体例と
しては、 2.2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメ
チルバレロニトリル)、2.2’−アゾビスイソッチロ
ニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスインプチレー
)、2.2’−7ゾビス(2−メチルプf口二トリル)
、1.1’−アゾビス(I−シクロヘキサンカーゲニト
リル)、2−フェニルア:/−2,4−シメfk−4−
メトキシパレロニ) リ/l/% 2#2’−7ゾビス
(2−メチルゾロパン)等のアゾ系重合開始剤、 オ!ヒl、1−ビス(ターシャリ−ブチルパーオキシ)
−3,3,5−)リメチルシクロヘ中サン、1.1−
ビス(ターシャリ−ブチルノーオキシ)シクロヘキサン
、ノルマルブチル−4,4’−ヒス(ターシャリーラチ
ル/臂−オキシ)バレレート、rカッイル/譬−オキサ
イド、ラウロイル14−オキサイド、ベンゾイルパーオ
キサイド、メタ−トルオイルツク−オキサイド、ジイソ
デロピルノ!−オキシシカーMネー)、ジー2−エチル
へキシルノ譬−オキシシカー〆ネート、ジノルマルゾロ
ビルノや−オキシジカーがネート、ジメトキシイソゾロ
ビルノe−オキシシカ−がネート、クミルノ譬−オキシ
ネオデカノエート、ターシャリープチルノ臂−オキシ−
2−エチルヘキサノエート、ターシャリ−ブチルパーオ
キシ−3,5,5−)リスチルヘキサノエート、ジター
シャリープチルジパーオキシイソフタレート、ターシャ
リープチルノヤーオキシイソゾロピルカーIネート等の
過酸化物系重合開始剤等があげられる。
ま九、これらの重合開始剤は2種以上併用してもよい。
上記の重合開始剤は、それらの種類によって異なるが、
原料化合物100重量部に対して、0.001〜lO重
量部用いられ、耐候着色を考慮すると0.001〜5重
量部が望ましい。
原料化合物100重量部に対して、0.001〜lO重
量部用いられ、耐候着色を考慮すると0.001〜5重
量部が望ましい。
加熱温度は、重合開始剤の使用の有無、それらの種類及
び配合割合などによって異なるが、通常室温ないし30
0℃であシ、と9わけ50〜130℃が好適である。加
熱温度は段階的に上昇させてもよい。加熱温度が室温未
満では、重合時間が長くなるために生産性がよくない。
び配合割合などによって異なるが、通常室温ないし30
0℃であシ、と9わけ50〜130℃が好適である。加
熱温度は段階的に上昇させてもよい。加熱温度が室温未
満では、重合時間が長くなるために生産性がよくない。
一方、300℃を越えるならば、熱によって劣化する。
ま九、加熱時間は温度および重合開始剤の使用の有無、
それらの種類および使用割合などによって異なるが、一
般には0.1〜100時間であり、特に1〜20時間が
好適である。
それらの種類および使用割合などによって異なるが、一
般には0.1〜100時間であり、特に1〜20時間が
好適である。
(2)活性エネルギー線を照射させる方法この方法は、
r線、X線、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照
射させることによって原料化合物を重合させる方法であ
る。照射エネルイー量は一般には0. OI Jlcd
’以上、500 J/m2以下であればよく、特に0.
1〜100 J/cm;’の範囲内が好ましい。照射エ
ネルイー量が0. OI J/crs2未満では、重合
が不完全である。一方、500J/aR2を越えて照射
すると、得られる重合体の一部が劣化したり、着色する
などして、良好な光学材料を得ることができない。
゛照射は2回以上に分けても、1度に行なってもか
まわない。必要に応じて特開昭58−175877号公
報明細書に記載されている光重合開始剤、安定剤などの
添加剤を加えてもよい。この方法については、特開昭5
9−86001号及び特開昭59−89330号の各公
報明細書に詳細に記載されている。
r線、X線、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照
射させることによって原料化合物を重合させる方法であ
る。照射エネルイー量は一般には0. OI Jlcd
’以上、500 J/m2以下であればよく、特に0.
1〜100 J/cm;’の範囲内が好ましい。照射エ
ネルイー量が0. OI J/crs2未満では、重合
が不完全である。一方、500J/aR2を越えて照射
すると、得られる重合体の一部が劣化したり、着色する
などして、良好な光学材料を得ることができない。
゛照射は2回以上に分けても、1度に行なってもか
まわない。必要に応じて特開昭58−175877号公
報明細書に記載されている光重合開始剤、安定剤などの
添加剤を加えてもよい。この方法については、特開昭5
9−86001号及び特開昭59−89330号の各公
報明細書に詳細に記載されている。
以上の熱による方法および活性エネルギー線を照射させ
る方法を併用させることもできる。
る方法を併用させることもできる。
まt、本発明においては、重合禁止剤、紫外朦吸収剤、
酸化防止剤、離型剤、帯電防止剤、色調整染料などを任
意に添加して用いることができる。
酸化防止剤、離型剤、帯電防止剤、色調整染料などを任
意に添加して用いることができる。
本発明に係る光学材料は、注型重合法等によって作製さ
れる。原料化合物を、例えばガラス、セラミック、グラ
スチック等で作られている所定の形状のモールドに注入
し、前記の手法で重合させる。
れる。原料化合物を、例えばガラス、セラミック、グラ
スチック等で作られている所定の形状のモールドに注入
し、前記の手法で重合させる。
本発明に係る原料化合物に、染料ま友は顔料を加えたも
のを用いるか、まtは重合体を形成した後染色すること
によって、着色した光学材料を作製することができる。
のを用いるか、まtは重合体を形成した後染色すること
によって、着色した光学材料を作製することができる。
本発明において得られる光学材料とは、例えばスチール
カメラ用、ビデオカメラ用1遠鏡用、眼鏡用等のいわゆ
るレンズ類、VD基板用、DRAW基板用、光磁気ディ
スク基板用等の光ディスク基板顛等、光を透過または反
射することによって機能を発揮する光学用素子をいう。
カメラ用、ビデオカメラ用1遠鏡用、眼鏡用等のいわゆ
るレンズ類、VD基板用、DRAW基板用、光磁気ディ
スク基板用等の光ディスク基板顛等、光を透過または反
射することによって機能を発揮する光学用素子をいう。
〈実施例〉
以下、実施例および比較例をあげて本発明をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
なお、実施例および比較例において得られる諸物性は、
下記の方法により測定し次。
下記の方法により測定し次。
(I)屈折率
アツベ屈折率計(島津製作所製3L型)を用いて、20
℃における屈折率を測定し九。
℃における屈折率を測定し九。
(2)光透過率
分光光度針(日立製作所製124型)を用いて、厚さ3
閣の試料の波長550nmの光による透過率の測定を行
った。
閣の試料の波長550nmの光による透過率の測定を行
った。
(3) ガラス転移温度T2
粘弾性測定装置(オリエンチック社製レオパイツロンD
DV−n−EP型)を用いて、−一のピーク(変曲点)
を読むことによシ、試料(厚さ0.1■)のガラス転移
温度とした。
DV−n−EP型)を用いて、−一のピーク(変曲点)
を読むことによシ、試料(厚さ0.1■)のガラス転移
温度とした。
(4) 耐摩耗性
荷重soo、pにて+0000スチールウールで試料(
厚さ3−)表面t−10往復こすり、キズがなIrfレ
バh、ジエチレングリコールピスアリルヵーメネート樹
脂程度をB、ジエチレングリコールビスアリルカーゲネ
ート樹脂とプリ°メチルメタクリレート樹脂の中間をC
1ポリメチルメタクリレート樹脂と同程度をDとした。
厚さ3−)表面t−10往復こすり、キズがなIrfレ
バh、ジエチレングリコールピスアリルヵーメネート樹
脂程度をB、ジエチレングリコールビスアリルカーゲネ
ート樹脂とプリ°メチルメタクリレート樹脂の中間をC
1ポリメチルメタクリレート樹脂と同程度をDとした。
(5)重合むら
80謹φのガラスモールドを15mの厚みになるようガ
スケットで組み、実施例の条件に添って重合しt際、特
に周辺部に現われる酸素阻害による重合むらの有無を示
し念。
スケットで組み、実施例の条件に添って重合しt際、特
に周辺部に現われる酸素阻害による重合むらの有無を示
し念。
(6)吸水性
JIS −K −7209の試料片を用い、50℃で5
日間減圧乾燥させ比サンダルを100℃の水中に2時間
浸漬した際の重量の増加の割合を乾燥重量を基準にして
示した。
日間減圧乾燥させ比サンダルを100℃の水中に2時間
浸漬した際の重量の増加の割合を乾燥重量を基準にして
示した。
実施例1〜10
第1表に示し念脂環式(メタ)アリルエーテル化合物と
、第2表に示しeam式(メタ)アリルエーテル化合物
と共重合可能な他の化合物を、第3表に示し次割合で配
合した原料化合物100重量部に対し、ジイソプロピル
・ヤーオキシジカーゲネート3.5重量部を添加し、攪
拌溶解させ友。このモノマー溶液を濾過後、真空Iング
を用いて15鴫Hgで30分間脱気処理を行なうt0得
られ九モノマー溶液を80■φの平板ガラス2枚を用い
、15 m 、 3 m 、および0.11の厚みにな
るよう組まれt型中に注入し、35℃から50℃までは
3℃/時にて昇温、50℃から80Cまでは6℃/時に
て昇温、80℃から900までは10℃/時にて昇温し
、その後90℃で3時間保持し7を後、型からはずし、
100℃にて1時間アニーリングを行なり友。なお、注
型、重合、およびアニーリングの各工程はすべて通常の
大気中の雰囲気にて行なり几。得られた重合体(平板)
は、無色透明であう九。実施例1〜lOの各重合体の物
性直を@4表に示す。
、第2表に示しeam式(メタ)アリルエーテル化合物
と共重合可能な他の化合物を、第3表に示し次割合で配
合した原料化合物100重量部に対し、ジイソプロピル
・ヤーオキシジカーゲネート3.5重量部を添加し、攪
拌溶解させ友。このモノマー溶液を濾過後、真空Iング
を用いて15鴫Hgで30分間脱気処理を行なうt0得
られ九モノマー溶液を80■φの平板ガラス2枚を用い
、15 m 、 3 m 、および0.11の厚みにな
るよう組まれt型中に注入し、35℃から50℃までは
3℃/時にて昇温、50℃から80Cまでは6℃/時に
て昇温、80℃から900までは10℃/時にて昇温し
、その後90℃で3時間保持し7を後、型からはずし、
100℃にて1時間アニーリングを行なり友。なお、注
型、重合、およびアニーリングの各工程はすべて通常の
大気中の雰囲気にて行なり几。得られた重合体(平板)
は、無色透明であう九。実施例1〜lOの各重合体の物
性直を@4表に示す。
第 2 表
第3表
比較例1
実施例1に於いて用いた脂環式アリルエーテル化合物の
代りに、ジエチレングリコールビスア1」ルカーIネー
トを用いた以外は、実施例1と同一の方法で重合体を得
た。物性値を第4表に示す。
代りに、ジエチレングリコールビスア1」ルカーIネー
トを用いた以外は、実施例1と同一の方法で重合体を得
た。物性値を第4表に示す。
比較例2
メチルメタクリレート100重量部に対して、アゾビス
イソブチロニトリル0.2重量部を添加し、溶解混合し
念。このモノマー溶液を実施例1と同様の方法で濾過、
脱気、注型し、35℃で6時間保持後、35℃から50
℃まで2.5℃/時にて昇温、50℃から80℃まで6
℃/時にて昇温し、その後80℃で2時間保持しt0脱
型後80℃で1時間アニーリングを行ない重合体を得念
。物性値を第4表に示す。
イソブチロニトリル0.2重量部を添加し、溶解混合し
念。このモノマー溶液を実施例1と同様の方法で濾過、
脱気、注型し、35℃で6時間保持後、35℃から50
℃まで2.5℃/時にて昇温、50℃から80℃まで6
℃/時にて昇温し、その後80℃で2時間保持しt0脱
型後80℃で1時間アニーリングを行ない重合体を得念
。物性値を第4表に示す。
比較例3
4.8−ビス(メタクリロイルオキシメチル)トリシク
ロ(5,2,1,021’ )デカン100重量部に、
ベンゾイルパーオキサイ・ド1.θ重1部を溶解混合し
几モノマーを用い几以外は、比較例2と同一の方法にて
重合体を得た。物性値を第4表に示す。
ロ(5,2,1,021’ )デカン100重量部に、
ベンゾイルパーオキサイ・ド1.θ重1部を溶解混合し
几モノマーを用い几以外は、比較例2と同一の方法にて
重合体を得た。物性値を第4表に示す。
第4表
〈発明の効果〉
本発明の光学材料は、従来の光学材料と比較して、光学
的均一性、耐熱性、耐摩耗性等に優れ、かつ低吸水性で
ある等、光学材料として要求される性質を全て充足し九
極めてバランスのよい光学材料である。従って、レンズ
、!リズム、光デイスク基板等、および透明性が要求さ
れる用途に広く用いることができる。
的均一性、耐熱性、耐摩耗性等に優れ、かつ低吸水性で
ある等、光学材料として要求される性質を全て充足し九
極めてバランスのよい光学材料である。従って、レンズ
、!リズム、光デイスク基板等、および透明性が要求さ
れる用途に広く用いることができる。
特許出願人 昭和電工株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式( I )で表わされる化合物から選ばれ
た少なくとも1種の化合物の重合体、または下記一般式
( I )で表わされる化合物と該化合物と共重合可能な
池の化合物との共重合体からなることを特徴とする光学
材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1およびR_2は同一または異種であって
、水素原子またはメチル基である。lは1〜3の整数を
示す。mおよび1は0〜8の整数を示す。ただし、mと
nの総計個数は0≦m+n≦8である。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026367A JPH01201306A (ja) | 1988-02-06 | 1988-02-06 | 光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026367A JPH01201306A (ja) | 1988-02-06 | 1988-02-06 | 光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201306A true JPH01201306A (ja) | 1989-08-14 |
Family
ID=12191529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026367A Pending JPH01201306A (ja) | 1988-02-06 | 1988-02-06 | 光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01201306A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092414A1 (fr) * | 2000-05-31 | 2001-12-06 | Tokuyama Corporation | Composition durcissable et article a traitement photochrome |
| US6364934B1 (en) | 2000-07-31 | 2002-04-02 | Bausch & Lomb Incorporated | Method of making ocular devices |
| WO2001036517A3 (en) * | 1999-08-11 | 2002-05-10 | Bausch & Lomb | Method of making ocular devices |
-
1988
- 1988-02-06 JP JP63026367A patent/JPH01201306A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001036517A3 (en) * | 1999-08-11 | 2002-05-10 | Bausch & Lomb | Method of making ocular devices |
| WO2001092414A1 (fr) * | 2000-05-31 | 2001-12-06 | Tokuyama Corporation | Composition durcissable et article a traitement photochrome |
| US6698883B2 (en) * | 2000-05-31 | 2004-03-02 | Tokuyama Corporation | Curable composition and photochromic cured article |
| US6364934B1 (en) | 2000-07-31 | 2002-04-02 | Bausch & Lomb Incorporated | Method of making ocular devices |
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