JPH01201655A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/142—Dye mordant
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野ン
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、特に鮮鋭
度を改良するために必要とする処理にエリ脱色可能なア
ンチ・ハレーション機能を有する下塗層を有する感光材
料で、該下塗層を良好な面状で、迅速処理でも脱色性が
良く、染料の該j@への固定率を高めた状態でかつ乾燥
負荷増を伴なわずに塗設する方法に関する。とりわけ、
支持体が透明ポリエチレンテレフタレートであり、その
両面に本発明の下塗層を有する直接医療用Xレイフィル
ムの支持体に関する。
度を改良するために必要とする処理にエリ脱色可能なア
ンチ・ハレーション機能を有する下塗層を有する感光材
料で、該下塗層を良好な面状で、迅速処理でも脱色性が
良く、染料の該j@への固定率を高めた状態でかつ乾燥
負荷増を伴なわずに塗設する方法に関する。とりわけ、
支持体が透明ポリエチレンテレフタレートであり、その
両面に本発明の下塗層を有する直接医療用Xレイフィル
ムの支持体に関する。
(従来の技術]
米国特Tf≠、/30.弘2りや特開昭61−//63
6弘号、特開昭A/−//43弘2号にはマゼンタ染料
やイエロー染料なオルソタイプの感光材料に加えること
により、鮮鋭度を改良する技術が開示されている。しか
し、単にハロゲン化乳剤層に染料を添加すれば、その光
学的吸収によりかなりの写真的減感をしいられることに
なる。そこで、これらの染料をハロゲン化銀乳剤層と支
持体との間の中間層に添mi″る方法が当業界でにしば
しば実施される。しかし、ただ単に中間層を設けるだけ
でに、乳剤層を塗布した時に染料の拡散がおこり、程度
の差はあれ写真的な減感を生ずる。
6弘号、特開昭A/−//43弘2号にはマゼンタ染料
やイエロー染料なオルソタイプの感光材料に加えること
により、鮮鋭度を改良する技術が開示されている。しか
し、単にハロゲン化乳剤層に染料を添加すれば、その光
学的吸収によりかなりの写真的減感をしいられることに
なる。そこで、これらの染料をハロゲン化銀乳剤層と支
持体との間の中間層に添mi″る方法が当業界でにしば
しば実施される。しかし、ただ単に中間層を設けるだけ
でに、乳剤層を塗布した時に染料の拡散がおこり、程度
の差はあれ写真的な減感を生ずる。
さらに都合の悪いことに、中間層を塗布するためには、
少なからぬゼラチン、もしくはゼラチンに替わるバイン
ダーが必要となり、このバインダー塗布量増により、乾
燥性が悪化してしまう。
少なからぬゼラチン、もしくはゼラチンに替わるバイン
ダーが必要となり、このバインダー塗布量増により、乾
燥性が悪化してしまう。
この欠点に対し、特開昭62−70130、特開昭よj
−73/7λには、塩基性高分子媒染剤を用いて、写真
処理中に脱色可能な水溶性染料を、支持体の下塗層に固
定する手段が開示されている。
−73/7λには、塩基性高分子媒染剤を用いて、写真
処理中に脱色可能な水溶性染料を、支持体の下塗層に固
定する手段が開示されている。
これらの方法は、本発明の目的にとって、非常に有効な
ものであるが、一般に下塗層はゼラチン塗布量が0.1
117m2以下と少なく、このような少ないゼラチン層
に塩基性高分子媒染剤を塗布すると下塗層の面状ムラ(
スジ状ムラ、ハジキ等)が実用的に計容され得ないレベ
ルになってしまい、その優れた性能を実用に供すること
ができなかつた。
ものであるが、一般に下塗層はゼラチン塗布量が0.1
117m2以下と少なく、このような少ないゼラチン層
に塩基性高分子媒染剤を塗布すると下塗層の面状ムラ(
スジ状ムラ、ハジキ等)が実用的に計容され得ないレベ
ルになってしまい、その優れた性能を実用に供すること
ができなかつた。
さらに、特開昭62−70130VC,f’X、従来技
術に較べて優れた特性な有丁石高分子媒染剤と染料との
組み合わせが開示されているが、本発明の媒染剤と染料
は、その各々の素材において染料の固定率と処理時の脱
色性が改良されており、より優れた効果を有するもので
ある。
術に較べて優れた特性な有丁石高分子媒染剤と染料との
組み合わせが開示されているが、本発明の媒染剤と染料
は、その各々の素材において染料の固定率と処理時の脱
色性が改良されており、より優れた効果を有するもので
ある。
(発明の目的)
従って本発明の目的は鮮鋭度が良好で現像処理によい脱
色可能なアンチハレーション機能を有する下塗JfIを
有する写真感光材料を提供することにありさらに該下塗
層を効率的に塗設する方法を提供することにある。
色可能なアンチハレーション機能を有する下塗JfIを
有する写真感光材料を提供することにありさらに該下塗
層を効率的に塗設する方法を提供することにある。
(本発明を達成するための手段J
本発明は以下の感光材料により達成された。すなわち、
下塗j−に一般式(I)であられされる構造のポリマー
と一般式(II)であられさねる染料の少なくとも一種
及びノニオン界面活性剤を含有させることにより達成さ
れた。
下塗j−に一般式(I)であられされる構造のポリマー
と一般式(II)であられさねる染料の少なくとも一種
及びノニオン界面活性剤を含有させることにより達成さ
れた。
一般式(I)
一般式(II)
RI R。
一般式(I)で
式中At1mエチレン性不飽和モノマー単位を表わ丁。
R1は水素原子または炭素数l〜約6の低級アルキル基
を、Lにl〜約/、2個の炭素原子を有する二価基を表
わす。R2、R3お工びR4はそれぞれ同一または異種
のl〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、もしく
は7〜約20個の炭素原子を有するアラルキル基または
水素原子を表わし、lt2、R3及びR4i相互に連結
してQとともに環状構造を形成してもよい。好ましくは
R2、R3s R4のうち1つのみが水素原子である。
を、Lにl〜約/、2個の炭素原子を有する二価基を表
わす。R2、R3お工びR4はそれぞれ同一または異種
のl〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、もしく
は7〜約20個の炭素原子を有するアラルキル基または
水素原子を表わし、lt2、R3及びR4i相互に連結
してQとともに環状構造を形成してもよい。好ましくは
R2、R3s R4のうち1つのみが水素原子である。
QはNfiたはPであり、Xeは沃素イオン以外のアニ
オンを表わ丁。
オンを表わ丁。
Aのエチレン性不飽和モノマーの例としては、たとえば
オレフィン類(たとえば、エチレン、プロピレン、l−
ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソブチン、臭
化ビニルなど)、ジエン類(たとえばブタジェン、イソ
プレン、クロロプレンなど)、脂肪酸又は芳香族カルボ
ン酸のエチレン性不飽和エステル(たとえば酢酸ビニル
、酢酸アリル、ビニルプロピオネート、ビニルグチレー
ト、安息香酸ビニルなど)、エチレン性不飽和酸のエス
テル(たとえば、メチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェ
ニルメタクリレート、オクチルメタクリレート、アミル
アクリレート、λ−エチルへキシルアクリレート、ベン
ジルアクリレート、マレイン酸シフチルエステル、フマ
ル酸ジエチルエステル、クロトン酸エチル、メチレンマ
ロン酸ジブチルエステルなど)、スチレン類(たとえば
、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロルメチルスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ナど)、不飽和ニトリル(たとえ
ばアクリロニトリル、メタクリレートリル、シナン化ア
リル、クロトンニトリルなど)がある。この中でも、乳
化重合性、疎水性等の点からスチレン類、メタクリル酸
エステル類が特に好ましい。Afl上記モノマーの2種
以上を含んでもよい。
オレフィン類(たとえば、エチレン、プロピレン、l−
ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソブチン、臭
化ビニルなど)、ジエン類(たとえばブタジェン、イソ
プレン、クロロプレンなど)、脂肪酸又は芳香族カルボ
ン酸のエチレン性不飽和エステル(たとえば酢酸ビニル
、酢酸アリル、ビニルプロピオネート、ビニルグチレー
ト、安息香酸ビニルなど)、エチレン性不飽和酸のエス
テル(たとえば、メチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェ
ニルメタクリレート、オクチルメタクリレート、アミル
アクリレート、λ−エチルへキシルアクリレート、ベン
ジルアクリレート、マレイン酸シフチルエステル、フマ
ル酸ジエチルエステル、クロトン酸エチル、メチレンマ
ロン酸ジブチルエステルなど)、スチレン類(たとえば
、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロルメチルスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ナど)、不飽和ニトリル(たとえ
ばアクリロニトリル、メタクリレートリル、シナン化ア
リル、クロトンニトリルなど)がある。この中でも、乳
化重合性、疎水性等の点からスチレン類、メタクリル酸
エステル類が特に好ましい。Afl上記モノマーの2種
以上を含んでもよい。
R1tic 、重合反応性などの点から水素原子または
メチル基が好ましい。
メチル基が好ましい。
■
く、耐アルカリ性などの点から−C−f’1−R5−1
上式に於いてR5’/’Xs アルキレン(例えばメチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレンなト)
、アニーレン、アラルキレン(例えば子を有するアルキ
レン)を表わし、R6は水素原子またにR2を表わ丁。
上式に於いてR5’/’Xs アルキレン(例えばメチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレンなト)
、アニーレン、アラルキレン(例えば子を有するアルキ
レン)を表わし、R6は水素原子またにR2を表わ丁。
nは1またに2の整数である。
Qは原料の有害性などの点からへが好ましい。
Xeは沃素イオン以外のアニオンであり例えばハロゲン
イオン(−たとえば塩素イオン、臭素イオン、など)、
アルキル硫酸イオン(たとえばメチル硫酸イオン、エチ
ル硫酸イオンなど)、アルキル或いはアリールスルホン
酸イオン(たとえばメタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸など
)、硝酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオンなどがある。
イオン(−たとえば塩素イオン、臭素イオン、など)、
アルキル硫酸イオン(たとえばメチル硫酸イオン、エチ
ル硫酸イオンなど)、アルキル或いはアリールスルホン
酸イオン(たとえばメタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸など
)、硝酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオンなどがある。
これらの中でも塩素イオン、アルキル硫酸イオン、アリ
ールスルホン酸イオン、硫酸イオンが特に好ましい。
ールスルホン酸イオン、硫酸イオンが特に好ましい。
R2、R3及びR4のアルキル基およびアラルキル基に
は置換アルキル基および置換アラルキル基が含まれる。
は置換アルキル基および置換アラルキル基が含まれる。
アルキル基としては無置換アルキル基、たとえば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エテルヘ
キシル基、ドデシル基ナト、置換アルキル基たとえばア
ルコキシアルキル基(たとえば、メトキシメチル基、メ
トキシブチル基、メトキシメチル基、ブトキシエチル基
、ビニロキシエチル基なとン、ンアノアルキル基(たと
えばコーシアノエチル基、3−シアノプロピル基ナト]
、ハロゲン化アルキル基(たとえば、λ−フルオロエチ
ル基、λ−クロロエチルM%’−フロロプロピル&な、
1.アルコキシカルボニルアルキル基(たとえば、エト
キシ力ルポニルメチル基など)、アリル基、コープテニ
ル基、プロノミキル基などがある。
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エテルヘ
キシル基、ドデシル基ナト、置換アルキル基たとえばア
ルコキシアルキル基(たとえば、メトキシメチル基、メ
トキシブチル基、メトキシメチル基、ブトキシエチル基
、ビニロキシエチル基なとン、ンアノアルキル基(たと
えばコーシアノエチル基、3−シアノプロピル基ナト]
、ハロゲン化アルキル基(たとえば、λ−フルオロエチ
ル基、λ−クロロエチルM%’−フロロプロピル&な、
1.アルコキシカルボニルアルキル基(たとえば、エト
キシ力ルポニルメチル基など)、アリル基、コープテニ
ル基、プロノミキル基などがある。
アラルキル基としては、無置換アラルキル基、たとえば
、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、ナ
フチルメチル基など、置換アラルキル基、たとえばアル
キルアラルキル基(たとえば、≠−メチルベンジル基、
コ、!−ジメチルベンジル基、弘−イソプロピルベンジ
ル基、≠−オクチルベンジル基など)、アルコキシアラ
ルキル基(りとえば、弘−メトキシベンジル基、≠−ベ
ンタフaロプロはニルオキシベンジル基、弘−エトキシ
ベンジル基など]、シアノアラルキル基(たと、tば≠
−シアノベンジル基、弘−(弘−シアノフェニルンベン
ジル基なとλ、ハロケン化アラルキル基(たとえば、弘
−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、弘−ブロ
モベンジル基、≠−(≠−クロロフェニル]ヘンシルa
lニド)7’にとがある。
、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、ナ
フチルメチル基など、置換アラルキル基、たとえばアル
キルアラルキル基(たとえば、≠−メチルベンジル基、
コ、!−ジメチルベンジル基、弘−イソプロピルベンジ
ル基、≠−オクチルベンジル基など)、アルコキシアラ
ルキル基(りとえば、弘−メトキシベンジル基、≠−ベ
ンタフaロプロはニルオキシベンジル基、弘−エトキシ
ベンジル基など]、シアノアラルキル基(たと、tば≠
−シアノベンジル基、弘−(弘−シアノフェニルンベン
ジル基なとλ、ハロケン化アラルキル基(たとえば、弘
−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、弘−ブロ
モベンジル基、≠−(≠−クロロフェニル]ヘンシルa
lニド)7’にとがある。
アルキル基の炭素数は/−/−個が好ましく、アラルキ
ル基の炭素数は好ましくは7〜l≠個である。
ル基の炭素数は好ましくは7〜l≠個である。
XはQ〜りQモル饅であり、好ましくはコQ〜60モル
係である。
係である。
yはり、りないしタタ、タモルチモル饅、好ましくは7
0〜りjモル慢である。
0〜りjモル慢である。
Zは0./ないしjOモモル饅あり好ましくは1ないし
30モモル饅ある。
30モモル饅ある。
Bはエチレン性不飽和基を少なくとも2個有する共重合
可能なモノマーを共重合させた構造単位である。Bの例
ハたとえばエチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、ネオにンチルグリ
コールジメタクリレート、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、アリルメタク
リレート、アリルアクリレート、ジアリルフタレート、
メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリル
アミド、トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン
、へ。
可能なモノマーを共重合させた構造単位である。Bの例
ハたとえばエチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、ネオにンチルグリ
コールジメタクリレート、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、アリルメタク
リレート、アリルアクリレート、ジアリルフタレート、
メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリル
アミド、トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン
、へ。
ヘービス(ビニルベンジル) −N、N−ジメチルアン
モニウムクロリド、N、N−ジエチル−へ−(メタクリ
ロイルオキシエチル)−IN−(ビニルベンジル)アン
モニウムクロリド、N、I’ll、IN’。
モニウムクロリド、N、N−ジエチル−へ−(メタクリ
ロイルオキシエチル)−IN−(ビニルベンジル)アン
モニウムクロリド、N、I’ll、IN’。
h′−テトラエチル−へ、へ′−ビス(ビニルベンジル
)−p−キシリレンジアンモニウムジクロリド、〜、へ
′−ビス(ビニルベンジル)−トリエチレンジアンモニ
ウムジクロリド、N、f’ll、l’l’。
)−p−キシリレンジアンモニウムジクロリド、〜、へ
′−ビス(ビニルベンジル)−トリエチレンジアンモニ
ウムジクロリド、N、f’ll、l’l’。
へ′−テトラブチルーへ、へ′−ビス(ビニルベンジル
ツーエチレンジアンモニウムジクロリドなどがある。こ
れらの中でも、疎水性、耐アルカリ性などの点から、ジ
ビニルベンゼン、トリビニルシクロヘキサンが41!に
好ましい。
ツーエチレンジアンモニウムジクロリドなどがある。こ
れらの中でも、疎水性、耐アルカリ性などの点から、ジ
ビニルベンゼン、トリビニルシクロヘキサンが41!に
好ましい。
以下に一般式(I)で表わされるポリマーの化合物例を
示す。
示す。
化合物例
x:y:z=≠7.!二≠7.6:!
l−2)
x:y:z=弘z:4Ls:i。
■−3)
y : z=りj:よ
l−弘λ
1Φ
C)i3−IN −CH3
貫
(’)13
x:y:z=4Lj:lAj:10
1−rン
y:z=IO:20
I−6)
CI(3
x:y=jO: jo
■−7)
Q
C6”13−N c6”13
6H13
これらのポリマーは云わゆるポリマーラテックスの形で
用いるのが好ましい。好ましい添加11H下塗層−j−
につきj〜300ダ/m2、好ましくBto−toOF
n9/−である。
用いるのが好ましい。好ましい添加11H下塗層−j−
につきj〜300ダ/m2、好ましくBto−toOF
n9/−である。
次に一般式(II)の染料について説明する。
一般式(Il)においてR1は少くとも7個のカルボン
酸基又はスルホン酸基を有するアリール基、アルキル基
、アラルキル基又に複素環基を表わし、R2は−CON
R3R4又は−へR3COR4(ここにR3は水素原子
又はアルキル基を表わし、R4は疎水性置換基定数πが
1.60≦π≦3゜り0の範囲にあるアルキル基を表わ
丁。)を表わし、Ll、R2、R3は各々メチン基を表
わし、nは0./又はコを表わす。
酸基又はスルホン酸基を有するアリール基、アルキル基
、アラルキル基又に複素環基を表わし、R2は−CON
R3R4又は−へR3COR4(ここにR3は水素原子
又はアルキル基を表わし、R4は疎水性置換基定数πが
1.60≦π≦3゜り0の範囲にあるアルキル基を表わ
丁。)を表わし、Ll、R2、R3は各々メチン基を表
わし、nは0./又はコを表わす。
以下に一般式(It)における各基の媒体例を記す。
R1で表わされるアリール基、アルキル基、アラルキル
基又は複素環基が有するカルボン酸基又はスルホン酸恭
はアリール基、アルキル基、アラルキル基又は複素環基
に直接結合するだけでなく、2価の連結基〔例えばアル
キレンオキシ基(例えば2−力ルポキシエトキシ、3−
スルホプロポキン、グースルホフ゛トキシン、アルキレ
ンアシルアミノ基(例えばβ−カルボキシブaピオニル
アミノ]フェニレンM (flJ (ij o−スルホ
フェニル、p−カルボキシフェニル)、アルキレンアミ
ノカルボニル基(例えば2−スルホエチルアミノカルボ
ニル]、アルキレンスルホニルM(IflJtば3−ス
ルホプロピルスルホニル等]を介して結合していても良
い。
基又は複素環基が有するカルボン酸基又はスルホン酸恭
はアリール基、アルキル基、アラルキル基又は複素環基
に直接結合するだけでなく、2価の連結基〔例えばアル
キレンオキシ基(例えば2−力ルポキシエトキシ、3−
スルホプロポキン、グースルホフ゛トキシン、アルキレ
ンアシルアミノ基(例えばβ−カルボキシブaピオニル
アミノ]フェニレンM (flJ (ij o−スルホ
フェニル、p−カルボキシフェニル)、アルキレンアミ
ノカルボニル基(例えば2−スルホエチルアミノカルボ
ニル]、アルキレンスルホニルM(IflJtば3−ス
ルホプロピルスルホニル等]を介して結合していても良
い。
R1で表わされるアリール基、アルキル基、アラルキル
基又は複素環基はカルボン酸、スルホン酸以外の置換基
〔例えばハロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素)
、アリール基(例えばフェニル、カフチル]、水酸基、
炭素数/−1のアルキル基(例えばメチル、エチル、プ
ロピル、グチル、イソプロピル)、炭素数l〜乙のアル
コキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、λ−ヒドロキシ
エトキシ、λ−メトキシエトキシ)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ)、アミノ基(例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミン)、アシルアミノ基(例えばアセチ
ルアミノ)、シアン基、ニトロ基等〕を有していても良
い。
基又は複素環基はカルボン酸、スルホン酸以外の置換基
〔例えばハロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素)
、アリール基(例えばフェニル、カフチル]、水酸基、
炭素数/−1のアルキル基(例えばメチル、エチル、プ
ロピル、グチル、イソプロピル)、炭素数l〜乙のアル
コキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、λ−ヒドロキシ
エトキシ、λ−メトキシエトキシ)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ)、アミノ基(例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミン)、アシルアミノ基(例えばアセチ
ルアミノ)、シアン基、ニトロ基等〕を有していても良
い。
1(Iで表わされるアルキル基は、少くと%、1個のカ
ルボン酸基又にスルホン酸基な有する炭素数/−4のア
ルキル基(例えば、スルホメチル、カルボキンメチル、
コースルホエチル、コーカルポキンエチル、3−スルホ
プロピル、3−スルホーコーメチルプロピル、3−スル
ホーコ、コージメチルブロビル、≠−スルホブチル、弘
−カルボキシブチル、!−スルホペンチル、6−スルホ
ヘキシル、!−カルボキンペンチル、6−カルボキシへ
キシル)が好ましい。
ルボン酸基又にスルホン酸基な有する炭素数/−4のア
ルキル基(例えば、スルホメチル、カルボキンメチル、
コースルホエチル、コーカルポキンエチル、3−スルホ
プロピル、3−スルホーコーメチルプロピル、3−スル
ホーコ、コージメチルブロビル、≠−スルホブチル、弘
−カルボキシブチル、!−スルホペンチル、6−スルホ
ヘキシル、!−カルボキンペンチル、6−カルボキシへ
キシル)が好ましい。
R1で表わされるアラルキル基は少くとも7個のカルボ
ン酸基又はスルホン酸基炭素数7〜l!のアラルキル基
(例えば、≠−スルホベンジル、2−スルホベンジル、
λ、弘−ジスルホベンジル、2−(≠−スルホブチルオ
キシ)ベンジル、弘−メチル−2−スルホベンジル、弘
−スルホフェネチル、μ−カルボキシベンジル、2.弘
−ジ(3−スルホプロビルオキシノベンジンレ、λ−ヒ
ト°ロキシー≠−(,2−スルホエトキシ)ベンジル)
が好ましい。
ン酸基又はスルホン酸基炭素数7〜l!のアラルキル基
(例えば、≠−スルホベンジル、2−スルホベンジル、
λ、弘−ジスルホベンジル、2−(≠−スルホブチルオ
キシ)ベンジル、弘−メチル−2−スルホベンジル、弘
−スルホフェネチル、μ−カルボキシベンジル、2.弘
−ジ(3−スルホプロビルオキシノベンジンレ、λ−ヒ
ト°ロキシー≠−(,2−スルホエトキシ)ベンジル)
が好ましい。
R1で表わされるアリール基は少くとも1個のカルボン
酸基又はスルホン酸基を有するフェニルM (LfIJ
えば、≠−スルホフェニル、弘−カルボキシフェニル、
λ−メチルー弘−スルホフェニル、3−スルホフェニル
、+2I4L−ジスルホフェニル、3、j−ジスルホフ
ェニル、コークロルー弘−スルホフェニル、λ−メトキ
シーグースルホフェニル、e−pコル−3−スルホフェ
ニル、λ−メトキシーよ一スルホフェニル、コーヒドロ
キシ+ −スルホフェニル、λ、!−ジクロルー弘−ス
ルホフェニル、弘−)二ツキシー3−スルホフェニル、
μ−(3−スル示プロピルオキシ)フェニル、弘−(N
−メチルーヘースルホエチルアミノ)フェニル、3−カ
ルボキシ−λ−ヒドロキシーよ一スルホフェニル、λ、
6−ジニチルー弘−スルホフェニル)又はナフチル基(
例えば3.6−ジスルホ−α−ナフチル、t−ヒドロキ
シ−3,6−ジスルホ−α−カフチル、!−ヒドロキシ
ー7−スルホーβ−カフチル、6.t−ジスルホ−β−
カフチル)が好ましい。
酸基又はスルホン酸基を有するフェニルM (LfIJ
えば、≠−スルホフェニル、弘−カルボキシフェニル、
λ−メチルー弘−スルホフェニル、3−スルホフェニル
、+2I4L−ジスルホフェニル、3、j−ジスルホフ
ェニル、コークロルー弘−スルホフェニル、λ−メトキ
シーグースルホフェニル、e−pコル−3−スルホフェ
ニル、λ−メトキシーよ一スルホフェニル、コーヒドロ
キシ+ −スルホフェニル、λ、!−ジクロルー弘−ス
ルホフェニル、弘−)二ツキシー3−スルホフェニル、
μ−(3−スル示プロピルオキシ)フェニル、弘−(N
−メチルーヘースルホエチルアミノ)フェニル、3−カ
ルボキシ−λ−ヒドロキシーよ一スルホフェニル、λ、
6−ジニチルー弘−スルホフェニル)又はナフチル基(
例えば3.6−ジスルホ−α−ナフチル、t−ヒドロキ
シ−3,6−ジスルホ−α−カフチル、!−ヒドロキシ
ー7−スルホーβ−カフチル、6.t−ジスルホ−β−
カフチル)が好ましい。
R1で表わされる複素環基は少くとも7個の窒素原子な
有する!又は6員の含窒素複素環基(例えばj−スルホ
ピリジン−コーイル、!−カルボキシピリジンーλ−イ
ル、6−スルホキツリンーコーイル、6−スルホキノリ
ン−弘−イル、!−スルホベンゾチアゾールーコーイル
、j−力Azボキシベンゾチアゾールーコーイル、6−
スルホベンゾオキサゾール−λ−イル、6−カルポキシ
ベンゾオキサゾールーコーイル、t−スルホメチルビリ
ジン−λ−イル、j−スルホビリミジンーコーイル)が
好ましい。
有する!又は6員の含窒素複素環基(例えばj−スルホ
ピリジン−コーイル、!−カルボキシピリジンーλ−イ
ル、6−スルホキツリンーコーイル、6−スルホキノリ
ン−弘−イル、!−スルホベンゾチアゾールーコーイル
、j−力Azボキシベンゾチアゾールーコーイル、6−
スルホベンゾオキサゾール−λ−イル、6−カルポキシ
ベンゾオキサゾールーコーイル、t−スルホメチルビリ
ジン−λ−イル、j−スルホビリミジンーコーイル)が
好ましい。
R3[水素原子又はアルキル基(炭素数l〜3のアルキ
ル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピルフが好ましい。)を表わ丁が好ましくは水素原子を
表わす。
ル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピルフが好ましい。)を表わ丁が好ましくは水素原子を
表わす。
R4は疎水性置換基定数πが7.6Q≦π≦3゜りOの
範囲にあるアルキル基を表わすが、πが7゜60≦π≦
3.りOの範囲にあれば置換基(列えば、水酸基、カル
ボン酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基
、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)、アミノ
基(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ)、アミド
基(例えばアセチルアミノ、メタンスルホンアミド]、
カルバモイル基(flltハメチル力ルバモイル、エチ
ルカルバモイル)、スルファモイル基(例えばメチルス
ルファモイル、エチルスルファモイル])ヲ有していて
も良い。
範囲にあるアルキル基を表わすが、πが7゜60≦π≦
3.りOの範囲にあれば置換基(列えば、水酸基、カル
ボン酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基
、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)、アミノ
基(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ)、アミド
基(例えばアセチルアミノ、メタンスルホンアミド]、
カルバモイル基(flltハメチル力ルバモイル、エチ
ルカルバモイル)、スルファモイル基(例えばメチルス
ルファモイル、エチルスルファモイル])ヲ有していて
も良い。
上記疎水性#換基定数πの値は、C,Hansch。
A、Leo [5ubstituent Con5
tants forCorrelation An
alysis in Chemistryand
BiologyJ Tohn Wiley &
5ons。
tants forCorrelation An
alysis in Chemistryand
BiologyJ Tohn Wiley &
5ons。
Inc(/り7り)4j頁−/A7頁に記載されており
、同刊行物に記載されていない置換基のπの直は、同刊
行物又にC,HanschらrJournal of
Medicinal ChemistryJ第、2
(I7巻、30弘頁〜306頁(lり77年2に記載の
方法で計算により求めることができる。例えば、置換基
Xの疎水性It侠基定数πXは、置換基Xを有するベン
ゼン誘導体(X−C6Hs)の分配係数log PX−
C6Hsよりベンゼンの分配係数lo g P Cs
Hs (ここでは10gPo6H6=2./3を用いる
。)を差し引いて求めることができる。
、同刊行物に記載されていない置換基のπの直は、同刊
行物又にC,HanschらrJournal of
Medicinal ChemistryJ第、2
(I7巻、30弘頁〜306頁(lり77年2に記載の
方法で計算により求めることができる。例えば、置換基
Xの疎水性It侠基定数πXは、置換基Xを有するベン
ゼン誘導体(X−C6Hs)の分配係数log PX−
C6Hsよりベンゼンの分配係数lo g P Cs
Hs (ここでは10gPo6H6=2./3を用いる
。)を差し引いて求めることができる。
なおlogPx−66)(sは前記刊行物([5ubs
tituent Con5tonts forCo
rrelation Analysis in C
hemistryand BiologyJ )/
を頁〜37頁に記載の方法で求めることができる。
tituent Con5tonts forCo
rrelation Analysis in C
hemistryand BiologyJ )/
を頁〜37頁に記載の方法で求めることができる。
一般式(II)において特に好ましくelRaが水素原
子を表わしR4が、炭素数μ〜乙の無置換のアルキル基
(例えばn−ブチルM% 11−ペンチルn−ヘキシル
、イソブチル、5eC−ブチル1ter t−ブチル、
/−エチルプロピル、l−メチルブチル、λ−メチルブ
チル、3−メチルグチル、/、/−ジメチルプロピル、
λ、コージメチルプaピル)又は≠−クロルグチル基、
7−ヒドロキシへブチル基、を−カルボキシヘキシル基
、?−ヒドロキ7オクチル基、2−エチルブチル基、!
−シアノにメチル基、を表わ7%のである。
子を表わしR4が、炭素数μ〜乙の無置換のアルキル基
(例えばn−ブチルM% 11−ペンチルn−ヘキシル
、イソブチル、5eC−ブチル1ter t−ブチル、
/−エチルプロピル、l−メチルブチル、λ−メチルブ
チル、3−メチルグチル、/、/−ジメチルプロピル、
λ、コージメチルプaピル)又は≠−クロルグチル基、
7−ヒドロキシへブチル基、を−カルボキシヘキシル基
、?−ヒドロキ7オクチル基、2−エチルブチル基、!
−シアノにメチル基、を表わ7%のである。
Ll、R2、R3で表わされるメチン基は置換基(例え
ばメチル基、エチル基、コースルホエチル基、シアノ基
、酸素原子等)を有していても良S0 上記一般式(■)においてカルボン酸基又はスルホン酸
基は遊離の酸でも塩(例えばへa塩、K塩、(C2H5
J3NH塩、ピリジニウム塩、アンモニウム塩等)を形
成しても良い。
ばメチル基、エチル基、コースルホエチル基、シアノ基
、酸素原子等)を有していても良S0 上記一般式(■)においてカルボン酸基又はスルホン酸
基は遊離の酸でも塩(例えばへa塩、K塩、(C2H5
J3NH塩、ピリジニウム塩、アンモニウム塩等)を形
成しても良い。
上記一般式(II)において特に好ましいものはR,が
少くとも1個のスルホン酸基を有するフェニル基、炭素
数l−弘のアルキル基、ベンジル基又はフェネチル基を
表わ丁ものである。
少くとも1個のスルホン酸基を有するフェニル基、炭素
数l−弘のアルキル基、ベンジル基又はフェネチル基を
表わ丁ものである。
以下に一般式(It)で表わされる染料の興体例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明におけるノニオン界面活性剤は、一般式(I)で
表わされるポリマーを含有する下塗層の面状を良好に保
つ役割を果た丁。ノニオン界面活性剤としては当業界で
公知の化合物を使用できる9以下に本発明に好ましく用
いられるノニオン界面活性剤の風体例を示す。
表わされるポリマーを含有する下塗層の面状を良好に保
つ役割を果た丁。ノニオン界面活性剤としては当業界で
公知の化合物を使用できる9以下に本発明に好ましく用
いられるノニオン界面活性剤の風体例を示す。
化合物例
■−t C11h23C00(−Ct−12C)
120す8H1[2C15H31COO+C1(2CH
20す15H1l−7 ■−弘 cs”1〕O+C)12ct−120す7
HIII−j Cl2)1250(CH2CH2
0す、。Hl−4C16)1330(−C)12CH2
0す12Hc18)1350+CH2C)1C)120
+T+CH2Ct−120+Tot−1h yl−r c22h45o+ct−t2ct−i
2oす25’■−タ ■−ii [1−/、2 C16H330(−CH2CH20h+CH2C)i
CH2f@ CH2CH201−、)iH 11−/3 111−/j a+b=/j 1[−/A C1(3 ci 3827 C0N(−CI(2−C)120す、
□H■−77 a + b =−〇 III / 9 Cl2)125S(−CH2
CH20す16’[1−,20 Ct 2)12sO+CtiCH20す、(ct−i2
ct−i2oす15”晶3 [1−2/ CH2CR20(−CH2CH20す、□h1−.2J C5H11−t C5”1l−1ill−2≠ C41−19−t C41−19−t■−2
j これらのノニオン界面活性剤のうち、下記一般式(A)
、(B)であられされる化合物は本発明にとって特に面
状改良効果が良好である。(A)については特開昭62
−λ31コ!3にて、密着性改良効果があることが知ら
れている。
120す8H1[2C15H31COO+C1(2CH
20す15H1l−7 ■−弘 cs”1〕O+C)12ct−120す7
HIII−j Cl2)1250(CH2CH2
0す、。Hl−4C16)1330(−C)12CH2
0す12Hc18)1350+CH2C)1C)120
+T+CH2Ct−120+Tot−1h yl−r c22h45o+ct−t2ct−i
2oす25’■−タ ■−ii [1−/、2 C16H330(−CH2CH20h+CH2C)i
CH2f@ CH2CH201−、)iH 11−/3 111−/j a+b=/j 1[−/A C1(3 ci 3827 C0N(−CI(2−C)120す、
□H■−77 a + b =−〇 III / 9 Cl2)125S(−CH2
CH20す16’[1−,20 Ct 2)12sO+CtiCH20す、(ct−i2
ct−i2oす15”晶3 [1−2/ CH2CR20(−CH2CH20す、□h1−.2J C5H11−t C5”1l−1ill−2≠ C41−19−t C41−19−t■−2
j これらのノニオン界面活性剤のうち、下記一般式(A)
、(B)であられされる化合物は本発明にとって特に面
状改良効果が良好である。(A)については特開昭62
−λ31コ!3にて、密着性改良効果があることが知ら
れている。
(B ) R−0(ct−t2ct−t20)。dR
はアルキル基をあられし、nHj以上!Q以下特に7以
上4!0以下が好ましい。
はアルキル基をあられし、nHj以上!Q以下特に7以
上4!0以下が好ましい。
本発明で有用な(A)、(B)の化合物として以下のも
のがあげられる。
のがあげられる。
■−コt)
1−.27)
n=/!
n=コO
■−コタj
n=30
[1−30)
11−3/)
(42H250(Ct”12 C1(20)n tl
n=/ 0Ill−323 n=/j ill−33) CBHI 70(CH2CH20)nt−1n=101
11−3≠) n=/r これらのノニオン界面活性剤の添加量としては、下塗層
を構成する塗布液中に0.0夕y/l−よ2/11特に
0 、2 P/l−,2!/lが好ましい。
n=/ 0Ill−323 n=/j ill−33) CBHI 70(CH2CH20)nt−1n=101
11−3≠) n=/r これらのノニオン界面活性剤の添加量としては、下塗層
を構成する塗布液中に0.0夕y/l−よ2/11特に
0 、2 P/l−,2!/lが好ましい。
塗布量としては、l−200■/1rL2、特に3〜j
ow/rn2、さらにs〜3o19/m2であることが
好ましい。
ow/rn2、さらにs〜3o19/m2であることが
好ましい。
下塗層を塗布する方法としては特開昭!λ−≠207り
、同jコー≠2//≠、同j、2−10弘り13に示さ
れるように第1層として支持体によく接着する層を設け
、その上に第2層として親水性の樹脂層を塗布する所謂
、重層法と、特公昭弘7−2≠270及び特開昭j1−
30λ7≠に示されるような疎水性基と親水性基の両方
を含有する樹脂層を一層のみ塗布する方法がある。本発
明は、いずれの方法においても、効果を発揮するが、重
層法のほうが好ましい効果を与える。
、同jコー≠2//≠、同j、2−10弘り13に示さ
れるように第1層として支持体によく接着する層を設け
、その上に第2層として親水性の樹脂層を塗布する所謂
、重層法と、特公昭弘7−2≠270及び特開昭j1−
30λ7≠に示されるような疎水性基と親水性基の両方
を含有する樹脂層を一層のみ塗布する方法がある。本発
明は、いずれの方法においても、効果を発揮するが、重
層法のほうが好ましい効果を与える。
特に下塗第2層に本発明の一般式(I)で表わされるポ
リマー、一般式(II)で表わされる染料及びノニオン
界面活性剤を含有せしめる仁とが好ましい。
リマー、一般式(II)で表わされる染料及びノニオン
界面活性剤を含有せしめる仁とが好ましい。
下塗第一層の膜厚としては0,0j−0,3μm1特に
o、or−o、2μmであることが好ましい。
o、or−o、2μmであることが好ましい。
下塗第1層及び第2層は、いづれも塗布後1000以上
の高温で乾燥することによシ、支持体と写真層(例えば
ハロゲン化銀乳剤層)との接着力を高めることが出来る
。
の高温で乾燥することによシ、支持体と写真層(例えば
ハロゲン化銀乳剤層)との接着力を高めることが出来る
。
本発明は下塗第1層中に、ブタジェン系ポリマーラテッ
クス(例えばスチレン−ブタジェン共重合体ラテックス
)又は塩化ビニリデン系ポリマーを含有し、下塗第2層
中に本発明の一般式(I)のポリマーをラテックスの形
で含有し、さらに下塗第2層中に本発明の一般式(II
)の染料及びノニオン界面活性剤を含有することが好ま
しい。
クス(例えばスチレン−ブタジェン共重合体ラテックス
)又は塩化ビニリデン系ポリマーを含有し、下塗第2層
中に本発明の一般式(I)のポリマーをラテックスの形
で含有し、さらに下塗第2層中に本発明の一般式(II
)の染料及びノニオン界面活性剤を含有することが好ま
しい。
さらに、下塗層を塗布するまえに支持体の表面処理をす
ることは本発明においても有効な効果を与える。表面処
理としては薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化
処理などの方法が知られている。
ることは本発明においても有効な効果を与える。表面処
理としては薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化
処理などの方法が知られている。
本発明の下塗層にはノニオン界面活性剤とともを併用す
ると、下塗層面状はよシー層良化する。
ると、下塗層面状はよシー層良化する。
さらに、特開昭60−26りII−弘に記載の水溶性メ
チルセルロースを下塗層に含有させる方法は本発明にと
って、とりわけ有用である。メチルセルロースは、バイ
ンダー当りの重量比率で1%〜25Pチ程度、好ましく
はλチ〜!0係、より好ましくは3%〜30%含有させ
るのがよい。
チルセルロースを下塗層に含有させる方法は本発明にと
って、とりわけ有用である。メチルセルロースは、バイ
ンダー当りの重量比率で1%〜25Pチ程度、好ましく
はλチ〜!0係、より好ましくは3%〜30%含有させ
るのがよい。
メチルセルロースのtl!Inとしては0−.2.j好
ましくはQ、!〜コ、jより好ましくは/、0〜2.夕
のものが優れた併用効果な有する。メチルセルロースの
重合度については、塗布方法により、粘度との関係から
適宜選択が可能である。
ましくはQ、!〜コ、jより好ましくは/、0〜2.夕
のものが優れた併用効果な有する。メチルセルロースの
重合度については、塗布方法により、粘度との関係から
適宜選択が可能である。
本発明の下塗層に乳剤層と表面保護層を塗布した感光材
料の写真処理には、例えばリサーチ・ディスクロージヤ
ー/76号第21〜30頁(RD−/7≦弘3)に記載
されているような、黒白写真処理の公知の方法及び公知
の処理液のいずれをも適用することができる。処理温度
は普通/ r’cからroocの間に選ばれるが、/f
’cエリ低い温度またはro 0cを越える温度として
もよいが本発明には30〜弘j’Cでの自動現像機によ
る迅速処理が特に好ましい。
料の写真処理には、例えばリサーチ・ディスクロージヤ
ー/76号第21〜30頁(RD−/7≦弘3)に記載
されているような、黒白写真処理の公知の方法及び公知
の処理液のいずれをも適用することができる。処理温度
は普通/ r’cからroocの間に選ばれるが、/f
’cエリ低い温度またはro 0cを越える温度として
もよいが本発明には30〜弘j’Cでの自動現像機によ
る迅速処理が特に好ましい。
Dry to Dry の処理時間としては医療用
撮影感材の場合は30−120秒、特に30〜り0秒で
あることが好ましく、3O−JO秒で本発明は優れた効
果を発揮する。
撮影感材の場合は30−120秒、特に30〜り0秒で
あることが好ましく、3O−JO秒で本発明は優れた効
果を発揮する。
黒白写真処理する場合に用いる現像液及び下塗層中には
、知られている現像主薬を含むことができる。現像主薬
としては、ジヒドロキシベンゼン類(りとえはハイドロ
キノンン、3−ピラゾリドン類(たとえばl−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(たとえば
ヘーメチルーp −アミノフェノールなどを単独もしく
は組合せて用いることができる。現象液には一般にこの
他公知の保恒剤、アルカリ剤、pl(緩衝剤、カプリ防
止剤などを含み、さらに必要に応じ溶解助剤、色調剤、
現像促進剤(例えば、弘級塩、ヒドラジン、ベンジルア
ルコール)、界面活性剤、消泡剤、硬水欧化剤、硬膜剤
(例えば、グルタルアルデヒド)、粘性付与剤などを含
んでもよい。
、知られている現像主薬を含むことができる。現像主薬
としては、ジヒドロキシベンゼン類(りとえはハイドロ
キノンン、3−ピラゾリドン類(たとえばl−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(たとえば
ヘーメチルーp −アミノフェノールなどを単独もしく
は組合せて用いることができる。現象液には一般にこの
他公知の保恒剤、アルカリ剤、pl(緩衝剤、カプリ防
止剤などを含み、さらに必要に応じ溶解助剤、色調剤、
現像促進剤(例えば、弘級塩、ヒドラジン、ベンジルア
ルコール)、界面活性剤、消泡剤、硬水欧化剤、硬膜剤
(例えば、グルタルアルデヒド)、粘性付与剤などを含
んでもよい。
現像処理の特殊な形式として、現像主薬を感光材料中、
たとえば乳剤層中に含み、感光材料をアルカリ水溶液中
で処理して現像を行なわせる方法を用いてもよい。現像
生薬のうち、疎水性のものは、リサーチディスクロージ
ャ16り号(RD−/6?21r)、米国特肝第−、7
3F、tPO号、英国%旺第r/!、コ!3号又は西独
−%FF第1゜!≠7,747号などに記載の種々の方
法で乳剤層中に含ませることができる。このような現像
処理は、チオシアン酸塩による端塩安定化処理と組合せ
てもよい。
たとえば乳剤層中に含み、感光材料をアルカリ水溶液中
で処理して現像を行なわせる方法を用いてもよい。現像
生薬のうち、疎水性のものは、リサーチディスクロージ
ャ16り号(RD−/6?21r)、米国特肝第−、7
3F、tPO号、英国%旺第r/!、コ!3号又は西独
−%FF第1゜!≠7,747号などに記載の種々の方
法で乳剤層中に含ませることができる。このような現像
処理は、チオシアン酸塩による端塩安定化処理と組合せ
てもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩を含んで
もよい。定着処理時間としては11秒以下、好ましくは
10秒以下であることが好ましく特に7秒以下であるこ
とが好ましい。
もよい。定着処理時間としては11秒以下、好ましくは
10秒以下であることが好ましく特に7秒以下であるこ
とが好ましい。
本発明の下塗層と組み合わせて用いられる感光性ハロゲ
ン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭
化銀、塩沃臭化銀を用いることができるが高感度という
観点で臭化銀もしくに沃臭化銀が好ましく、特に法度含
量がOmo!%〜3゜3mol %が好ましい。
ン化銀乳剤としては、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭
化銀、塩沃臭化銀を用いることができるが高感度という
観点で臭化銀もしくに沃臭化銀が好ましく、特に法度含
量がOmo!%〜3゜3mol %が好ましい。
沃臭化銀においては内部に高妖魔相な有する構造の粒子
が特に好ましい。
が特に好ましい。
また、特願昭1.0−7/761や%願昭4/−/Aり
弘タタに記載されているような、現像時に抑制剤を放出
するような化合物を併用してもよい。
弘タタに記載されているような、現像時に抑制剤を放出
するような化合物を併用してもよい。
本発明と組み合わせて使用するハロゲン化銀粒子として
、平板状粒子は特に有効に利用しうる粒子である。
、平板状粒子は特に有効に利用しうる粒子である。
平板状ハロゲン化銀粒子の製法としては、当業界で知ら
れた方法を適宜、組合せることにエリ成し得る。
れた方法を適宜、組合せることにエリ成し得る。
平板状ハロゲン化銀乳剤は、フカツク(Cugnac)
およびシャ)−(Chateau) [物理的熟成時
の臭化銀結晶の形態学の進展(イボルージョン・オブ・
ザ・モルフオルジー・オブ・シルバー・ブロマイド・ク
リスタルズ・デユアリング・フィジカル、ライブニング
)Jサイエンス・工・インダストリエ・フォトグラフィ
ー、33巻、魔λ(lり6コ)、pp、/コ/−/21
、ダフイン(Duffin)著「フォトグラフィー・エ
マルショアーケミストリー(Photographic
emulsion) chemistry月フォーカル
・ブレフオーカルal Press)、ニューヨーク
、/PG6年、p、66〜p、72、A、P、t−1,
)リベリ(Trivelli)、W 、 F 、 、x
、ミス(Smith)7オトグラフイク ジャー力/l
/(PhotographicJourna目、to巻
、2tり頁(lり110年ン等に記載されているが特開
昭!r−/λ7.りλ/、特開昭夕r−//j、927
、特開昭zr−//3.?、2t1米国特肝第弘≠3P
jコO号に記載された方法等を参照子れば容易に調製で
きる。
およびシャ)−(Chateau) [物理的熟成時
の臭化銀結晶の形態学の進展(イボルージョン・オブ・
ザ・モルフオルジー・オブ・シルバー・ブロマイド・ク
リスタルズ・デユアリング・フィジカル、ライブニング
)Jサイエンス・工・インダストリエ・フォトグラフィ
ー、33巻、魔λ(lり6コ)、pp、/コ/−/21
、ダフイン(Duffin)著「フォトグラフィー・エ
マルショアーケミストリー(Photographic
emulsion) chemistry月フォーカル
・ブレフオーカルal Press)、ニューヨーク
、/PG6年、p、66〜p、72、A、P、t−1,
)リベリ(Trivelli)、W 、 F 、 、x
、ミス(Smith)7オトグラフイク ジャー力/l
/(PhotographicJourna目、to巻
、2tり頁(lり110年ン等に記載されているが特開
昭!r−/λ7.りλ/、特開昭夕r−//j、927
、特開昭zr−//3.?、2t1米国特肝第弘≠3P
jコO号に記載された方法等を参照子れば容易に調製で
きる。
本発明に好ましく用いられる平板粒子乳剤としては米国
特野第弘μ3り320号第12欄の定キで平均アスにク
ト比が3以上、特に弘〜tであることが好ましい。
特野第弘μ3り320号第12欄の定キで平均アスにク
ト比が3以上、特に弘〜tであることが好ましい。
以下、本発明を実施例にて風体的に例示する。
実施例−に
軸延伸された厚さ17jμmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にコロカ放電処理をおこない、下記の組
成エリ成る第1下塗液を塗布遣カ夕、/CC/rlL
となるようにワイヤーバーコーターにエリ塗布し、/
7!0Cにて1分間乾燥した。次に反対面にも同様にし
て第7下塗ノーを設けた。
ートフィルム上にコロカ放電処理をおこない、下記の組
成エリ成る第1下塗液を塗布遣カ夕、/CC/rlL
となるようにワイヤーバーコーターにエリ塗布し、/
7!0Cにて1分間乾燥した。次に反対面にも同様にし
て第7下塗ノーを設けた。
を分に対しく1)、4!wtチ含有
上記の両面の第1下塗層上に下記の組成からなる第一の
下塗液を伶布世がt、ICC/m2となるように片面ず
つ、両面に塗布・乾燥して下塗層フィルムを完成した。
下塗液を伶布世がt、ICC/m2となるように片面ず
つ、両面に塗布・乾燥して下塗層フィルムを完成した。
第一の下塗液−1・ゼラチン 109・固型
分量20%のポリマー ラテックス溶液 30CC ・マット剤平均粒径コ、!μm のポリメチルメタアクリレ− ) 0.39・染
料fl −r 7%水溶液 Occ 以上に水を加えて/lとする 第2の下塗液−2・第2の下塗液−7に下記化合物を添
加 c21’i!5 区 C4Hg CMCI(20COC1(zC4HgCHC
H20C()CH8O3Na O−λy2 H5 第2の下塗液−3・第2の下塗液−/に下記化合o、o
zg 第2の下塗液−μ・ 同上 0.//i第2
の下塗液−!・ 同上 0.29第2の下塗
液 6・ 同上 Ooま9第2の下塗液−7
・第2の下塗液−7に下記化合物を添加 Cl2H250(CI−12cH20)lQt−10,
7!ll第2の下塗液 t・第2の下塗液夕に下記化合
物を添加 メチルセルローズ(信越化学社メトローズSM/ j
) 置換度/、I O,21i第2の下塗液
タ・第2の下塗液7に下記化合物な添加 メチルセルローズ(信越化学社メトローズSM/j)
置換度i、t o、λI第λの下塗液io・第
一の下塗液りに下記化合物を添加 C1□H2acOfNHcHzct(2c副(CHs
) 2COOθQ、29 以上の下塗層支持体の下塗層面状を評価した。
分量20%のポリマー ラテックス溶液 30CC ・マット剤平均粒径コ、!μm のポリメチルメタアクリレ− ) 0.39・染
料fl −r 7%水溶液 Occ 以上に水を加えて/lとする 第2の下塗液−2・第2の下塗液−7に下記化合物を添
加 c21’i!5 区 C4Hg CMCI(20COC1(zC4HgCHC
H20C()CH8O3Na O−λy2 H5 第2の下塗液−3・第2の下塗液−/に下記化合o、o
zg 第2の下塗液−μ・ 同上 0.//i第2
の下塗液−!・ 同上 0.29第2の下塗
液 6・ 同上 Ooま9第2の下塗液−7
・第2の下塗液−7に下記化合物を添加 Cl2H250(CI−12cH20)lQt−10,
7!ll第2の下塗液 t・第2の下塗液夕に下記化合
物を添加 メチルセルローズ(信越化学社メトローズSM/ j
) 置換度/、I O,21i第2の下塗液
タ・第2の下塗液7に下記化合物な添加 メチルセルローズ(信越化学社メトローズSM/j)
置換度i、t o、λI第λの下塗液io・第
一の下塗液りに下記化合物を添加 C1□H2acOfNHcHzct(2c副(CHs
) 2COOθQ、29 以上の下塗層支持体の下塗層面状を評価した。
評価は目視によった。下塗ムラは、まったく問題ないレ
ベルを01まったく実用にならないレベルなXであられ
し中間レベルな○Δ、△、ΔXの3段階で示した。下塗
ムラの内容はスジ状ムラであり06以上の評価が、実用
に供することが可能なレベルである。一方ハジキについ
てfl/m あたりの故障ケ所を数えた。少ないほど
良好であることはいうまでもない。
ベルを01まったく実用にならないレベルなXであられ
し中間レベルな○Δ、△、ΔXの3段階で示した。下塗
ムラの内容はスジ状ムラであり06以上の評価が、実用
に供することが可能なレベルである。一方ハジキについ
てfl/m あたりの故障ケ所を数えた。少ないほど
良好であることはいうまでもない。
表−1に評価結果をまとめた。
表−1
表−7の結果より本発明の界面活性剤の有効性は明らか
である。
である。
実施例−2
実施例−1と同様にして、第1および第2の下塗層を塗
設した。下勿J―はポリエチレンテレフタレートフィル
ムの両面に塗設した。第2の下塗層の塗布液処方は実施
例−1の下塗液7を用いた。
設した。下勿J―はポリエチレンテレフタレートフィル
ムの両面に塗設した。第2の下塗層の塗布液処方は実施
例−1の下塗液7を用いた。
但し、使用した染料を表−2に示したものに変更し添7
JDIlを塗布液l!あたり、各々2.3X10−3モ
ルに試料l/〜λコを炸裂した。
JDIlを塗布液l!あたり、各々2.3X10−3モ
ルに試料l/〜λコを炸裂した。
これらの試料なコj ’C,pi−17.0の緩衝液中
に10分間浸漬し乾燥した。浸漬前、後の各試料の可視
スペクトルを測定し、吸収極大波長における光学#4度
から固定率を求めた。
に10分間浸漬し乾燥した。浸漬前、後の各試料の可視
スペクトルを測定し、吸収極大波長における光学#4度
から固定率を求めた。
(Dlは浸漬前の濃度、D2は浸漬後の禎度なあられT
) 結果を表−λにまとめた。
) 結果を表−λにまとめた。
一方、これらの試料を下記の自動現像機処理をおこなっ
たのち、処理前後の可視スペクトルを測定し、吸収極大
波長における光学!1度から脱色率を求めた。
たのち、処理前後の可視スペクトルを測定し、吸収極大
波長における光学!1度から脱色率を求めた。
(Dlは処理前の濃度であり、D3は処理後の濃度をあ
られ丁。) 結果は表−コにまとめた。
られ丁。) 結果は表−コにまとめた。
現像タンク //、jl 3j ’CX/J、j秒
rscm2/1定着タンク 10132°Cx/3
.j秒 63cm2/1水洗タンク 7.jl
3/ O(’x 7 秒 14Acm2/1く現像
濃縮液処方) 311用art A Part B Part C スターター 〈現像液調製法〉 約sO1の補充液ストックタンクに水コO1を入れ、次
イテ上記Pa r tASPa r tB%Par t
Cを順次攪拌しながら添卯溶解して最後に水で3rlと
し、現像液調製法とした(pH10,30)。
rscm2/1定着タンク 10132°Cx/3
.j秒 63cm2/1水洗タンク 7.jl
3/ O(’x 7 秒 14Acm2/1く現像
濃縮液処方) 311用art A Part B Part C スターター 〈現像液調製法〉 約sO1の補充液ストックタンクに水コO1を入れ、次
イテ上記Pa r tASPa r tB%Par t
Cを順次攪拌しながら添卯溶解して最後に水で3rlと
し、現像液調製法とした(pH10,30)。
この現像液補充液/lに対して上記スターターコ0rn
lの割合で添加した現像液を最初に自動現像機の現像処
理タンクに満たした(pi−1/Q、/l)以後、試料
が処理される毎に上記現像液補充液をujml/四切1
枚(/ O1nchX / 21nch )補充した。
lの割合で添加した現像液を最初に自動現像機の現像処
理タンクに満たした(pi−1/Q、/l)以後、試料
が処理される毎に上記現像液補充液をujml/四切1
枚(/ O1nchX / 21nch )補充した。
〈定着濃縮液処方〉
PartA 311用art
B し水を加えて lりoorntく
定着液調製法〉 約5O1の補充液ストックタンクに水201を入れ、次
いで上記P a r t A%P a r tB s
を順次攪拌しながら添加、溶解して最後に水で311
とし、定着液補充液とした。
B し水を加えて lりoorntく
定着液調製法〉 約5O1の補充液ストックタンクに水201を入れ、次
いで上記P a r t A%P a r tB s
を順次攪拌しながら添加、溶解して最後に水で311
とし、定着液補充液とした。
この定着液補充液と同じものを最初に自現機の定着処理
タンクに満たした(pH44,,2j)。以後試料が処
理される毎に上記定着液補充液を60m1/四切1枚(
/ (7inchX /21nch)補充した。
タンクに満たした(pH44,,2j)。以後試料が処
理される毎に上記定着液補充液を60m1/四切1枚(
/ (7inchX /21nch)補充した。
表−一
表−2エリ
本発明の効果が顕著であることがわかる。
比較染料A−Ffl下記のとうり。
5O3K 503K
5O3K SO3に
5O3K 503K
E
S Os K S O3K503K
803に 実施例−3 実施例−2の試料//−22の脱色率の評価を下記の自
動現像機処理に℃おこなったところ、脱色率は全体に〜
数チ良化したが、その優劣の度合は、実施例2と同様に
本発明の効果を裏づけるものであった。
803に 実施例−3 実施例−2の試料//−22の脱色率の評価を下記の自
動現像機処理に℃おこなったところ、脱色率は全体に〜
数チ良化したが、その優劣の度合は、実施例2と同様に
本発明の効果を裏づけるものであった。
く現像液濃縮液〉
水酸化カリウム 56.6g亜硫酸ナ
トリウム コoogジエチレントリア
ミン五酢酸 6.7g炭酸カリ
il、、79ホウ酸
109ヒドロキノン
r3.igジエチレングリコール
参ogダーヒドロキシメチルーダーメチル /−7二二ルー3−ピラゾリドン il、og よ−メチルベンゾトリアゾール 2g水でil
とする(pH10,60に調整するン。
トリウム コoogジエチレントリア
ミン五酢酸 6.7g炭酸カリ
il、、79ホウ酸
109ヒドロキノン
r3.igジエチレングリコール
参ogダーヒドロキシメチルーダーメチル /−7二二ルー3−ピラゾリドン il、og よ−メチルベンゾトリアゾール 2g水でil
とする(pH10,60に調整するン。
〈定層液濃縮液〉
チオ硫酸アンモニウム !6Q9亜硫@ナ
トリウム toyエチレンジアミン
四酢酸酢酸ナト リウム・三水塩 0.107水酸化ナト
リウム λ弘y水でilとする(酢
酸でpi(、t 、 / 0に調整する)。
トリウム toyエチレンジアミン
四酢酸酢酸ナト リウム・三水塩 0.107水酸化ナト
リウム λ弘y水でilとする(酢
酸でpi(、t 、 / 0に調整する)。
自動現像機 秒処理fJA像pンク
6 、zl is ’Cxt2.z秒定着タンク
&、jl 33−0Cx10秒水洗タンク &、
!l 20 °C×7.タ秒乾 燥
ro 0cDry to Dry
処理時間 at秒現像処理をスタートするときにに
各タンクに以下の如き処理液を満たした。
6 、zl is ’Cxt2.z秒定着タンク
&、jl 33−0Cx10秒水洗タンク &、
!l 20 °C×7.タ秒乾 燥
ro 0cDry to Dry
処理時間 at秒現像処理をスタートするときにに
各タンクに以下の如き処理液を満たした。
現像タンク二上記現像液濃縮液33311Ll、水66
71Rg及び臭化カリウム2gと酢酸l。
71Rg及び臭化カリウム2gと酢酸l。
rgとを含むスターター10m1を卯
えてpi(を10./jとした。
定着タンク二上記定着液濃縄液コ!01!El及び水7
10ゴ 水洗水は流水を用い、その温度はiz、zocであった
。
10ゴ 水洗水は流水を用い、その温度はiz、zocであった
。
実施例−4
実施例1と同様にして、第1の下塗層を塗布した17t
μmのポリエチレンテレフタレートの青色染色した透明
支持体を準備した。第一の下塗層塗布液として下記■、
■λ液を調液し、各々の溶液が均一になったのちλ液を
混合した。
μmのポリエチレンテレフタレートの青色染色した透明
支持体を準備した。第一の下塗層塗布液として下記■、
■λ液を調液し、各々の溶液が均一になったのちλ液を
混合した。
■液
■液
■、■液の混合液を塗布量が1.1007m2となるよ
うに片面ずつ、両面に塗布乾燥して下塗法フィルムを完
成した。
うに片面ずつ、両面に塗布乾燥して下塗法フィルムを完
成した。
乳剤層塗布液の調製
乳剤の調製
水ll中に臭化カリ5g1沃化カリo、ozg、ゼラチ
ン309.チオエーテル 80(CH2)zs(CHz)2S(CHz)zOHの
!チ水溶液コ、よCCを添加し7j0Cに保った溶液中
へ、攪拌しながら硫rR銀1 、3 Illの水溶液と
、臭化カリよ、り弘I、沃化カリ0.726gを含む水
溶液とをダブルジェット法にエリ弘j秒間で添加した。
ン309.チオエーテル 80(CH2)zs(CHz)2S(CHz)zOHの
!チ水溶液コ、よCCを添加し7j0Cに保った溶液中
へ、攪拌しながら硫rR銀1 、3 Illの水溶液と
、臭化カリよ、り弘I、沃化カリ0.726gを含む水
溶液とをダブルジェット法にエリ弘j秒間で添加した。
続いて臭化カリJ 、 Ill7に添加したのち、硝#
!銀1r、13iを含む水溶液を7分30秒かけて、添
加終了時の流量が添加開始時の2倍となるように添加し
た。引き続いて硝酸銀/!r3.3ugの水溶液と臭化
カリの水溶液を、電位をpAgj、lに保ちながらコン
トロールダブルジェット法で2j分間で添加した。この
時の流量は添加終了時の流量が、6加開始時の流量のt
倍となるよう加速した。添加終了後2Nのチオシアン酸
カリウム溶液/jecを添加し、さらに1%の沃化カリ
水溶液よOCCを3Q秒かけて添加した。このあと温度
を3j0Cに下げ、沈降法により可溶性塩類を除去した
のち、参〇°C昇温してゼラチンtryと7エノールー
21/、ト’)lチロールブロノξン7゜z9を添加し
、可性ンーダと臭化カリによりpt−tt、参〇、pA
gr、4Ljに調整した。
!銀1r、13iを含む水溶液を7分30秒かけて、添
加終了時の流量が添加開始時の2倍となるように添加し
た。引き続いて硝酸銀/!r3.3ugの水溶液と臭化
カリの水溶液を、電位をpAgj、lに保ちながらコン
トロールダブルジェット法で2j分間で添加した。この
時の流量は添加終了時の流量が、6加開始時の流量のt
倍となるよう加速した。添加終了後2Nのチオシアン酸
カリウム溶液/jecを添加し、さらに1%の沃化カリ
水溶液よOCCを3Q秒かけて添加した。このあと温度
を3j0Cに下げ、沈降法により可溶性塩類を除去した
のち、参〇°C昇温してゼラチンtryと7エノールー
21/、ト’)lチロールブロノξン7゜z9を添加し
、可性ンーダと臭化カリによりpt−tt、参〇、pA
gr、4Ljに調整した。
温度を!68Cに昇温したのち、下記構造の増感色素を
73タ■添加した。10分後にチオ硫酸ナトリウム!*
和物t、λ■チオシアン酸カリ163m9、塩化金酸!
、≠Tn9を龜卯し、3分後に急冷して固化させた。得
られた乳剤は全粒子の投影面積の総和のP3%がアスは
クト比3以上の粒子からなり、アスペクト比2以上のす
べての粒子についての平均の投影面積直径は0.13μ
m、標準偏差/r、!%、厚みの平均は0,141μm
でアスペクト比[j 、 / 4であった。
73タ■添加した。10分後にチオ硫酸ナトリウム!*
和物t、λ■チオシアン酸カリ163m9、塩化金酸!
、≠Tn9を龜卯し、3分後に急冷して固化させた。得
られた乳剤は全粒子の投影面積の総和のP3%がアスは
クト比3以上の粒子からなり、アスペクト比2以上のす
べての粒子についての平均の投影面積直径は0.13μ
m、標準偏差/r、!%、厚みの平均は0,141μm
でアスペクト比[j 、 / 4であった。
この乳剤(ハロゲン化s1モルあたり、下記化合物を添
加して塗布液とした。
加して塗布液とした。
・≠−ヒドロキシ−6−メチル
一/、3.3a、7−チト
ラザインデン /、り4cg・λ、
6−ビス(ヒドロキシア ミノツーμmジエチルアミ ノ−/、3.!−1リアジ ン
roIR9・ポリアクリル酸ナトリウム (平均分子量弘、1万) ≠、Og・エチルア
クリレート/アクリ ル酸=りj/jの組成比の 共重合可塑剤 20.09こうして、
できた乳剤層塗布液を表面保護層液と同時押し出し方に
より、前記の支持体の両面に同じように塗布した。この
時、乳剤層、表面保護層の片面側あたりの塗布量は下記
の量となった。
6−ビス(ヒドロキシア ミノツーμmジエチルアミ ノ−/、3.!−1リアジ ン
roIR9・ポリアクリル酸ナトリウム (平均分子量弘、1万) ≠、Og・エチルア
クリレート/アクリ ル酸=りj/jの組成比の 共重合可塑剤 20.09こうして、
できた乳剤層塗布液を表面保護層液と同時押し出し方に
より、前記の支持体の両面に同じように塗布した。この
時、乳剤層、表面保護層の片面側あたりの塗布量は下記
の量となった。
〈乳剤層〉 ・塗布銀量 1.29/m2・塗
布ゼラチン量 /・J−97m2〈表面保護層〉 ・ゼラチン 0.1197m2・デキ
ストラン (平均分子量3.り万) Q、7197m2・マット
剤(平均粒径3.5μrn) ポリメチルメタアクリレ ート/メタアクリル酸= り//の共1合体 o、otg7m2・ CgF
l 7SO2rN(−CM、2CH20)4 (CH
2ン4SO3Na■ ・C5Ft7SOzN(CHzCH20hsH!m9/
m23H7 ・ポリアクリル酸ナトリウム (平均分子量弘、1万) 7orR97m2硬膜
剤ハフ、コービス(スルホニルアセトアミド)エタンを
片面当り127m97m となるよう塗布した。こう
して、本発明の写真材料−3を得た。
布ゼラチン量 /・J−97m2〈表面保護層〉 ・ゼラチン 0.1197m2・デキ
ストラン (平均分子量3.り万) Q、7197m2・マット
剤(平均粒径3.5μrn) ポリメチルメタアクリレ ート/メタアクリル酸= り//の共1合体 o、otg7m2・ CgF
l 7SO2rN(−CM、2CH20)4 (CH
2ン4SO3Na■ ・C5Ft7SOzN(CHzCH20hsH!m9/
m23H7 ・ポリアクリル酸ナトリウム (平均分子量弘、1万) 7orR97m2硬膜
剤ハフ、コービス(スルホニルアセトアミド)エタンを
片面当り127m97m となるよう塗布した。こう
して、本発明の写真材料−3を得た。
(比較用写真材料2μの調製)
本発明の写真材料43の下塗層の液のポリマーラテック
スと染料を各々下記のものに変更した。
スと染料を各々下記のものに変更した。
CH3
C1−13NH2
20%溶液 弘7CC
so3t−t 503H−N (C2H
5) s3%浴液 +3cc 以下写真材料コ3と同様にして写真材料2≠を14製し
た。
5) s3%浴液 +3cc 以下写真材料コ3と同様にして写真材料2≠を14製し
た。
写真性能の評価
写真材料コ3.2≠に、富士写真フィルム■GREIN
EXオルソスクリーンG−仏をカセツテを使用して画側
に密着させ、X線センシトメトリーをおこなった。露光
量の調整は、X線管球とカセットとの距離を変化させる
ことにエリおこなった。露光後、下記の現像液と定着液
にて自動現像機処理をおこなった。
EXオルソスクリーンG−仏をカセツテを使用して画側
に密着させ、X線センシトメトリーをおこなった。露光
量の調整は、X線管球とカセットとの距離を変化させる
ことにエリおこなった。露光後、下記の現像液と定着液
にて自動現像機処理をおこなった。
感度は写真材料λ3を100とした比感度であられした
。
。
く現像液濃縮液〉
水酸化カリウム !6.69亜硫酸力
トリウム λoo9ジエチレントリア
ミン五酢酸 4.7p炭酸カリ
ll、79ホウ酸
109ヒトaキノン r3.
31ジエチレングリコール ≠ol!i
I≠−ヒドロキシメチル−弘− メチルノーフェニル−3− ピラゾリドン //、09!−メチ
ルベンゾトリアゾール 2g水でllとする(
p)ilo、40に調整する几く定着液濃縮液〉 チオ硫酸アンモニウム 5top亜硫酸ナ
トリウム 1.09エチレンジアミ
ン四酢酸・ニ ナトリウム・二水塩 0.1017水酸化ナ
トリウム λ弘9水でllとする(
酢酸テpHj 、 / OVC調整するン。
トリウム λoo9ジエチレントリア
ミン五酢酸 4.7p炭酸カリ
ll、79ホウ酸
109ヒトaキノン r3.
31ジエチレングリコール ≠ol!i
I≠−ヒドロキシメチル−弘− メチルノーフェニル−3− ピラゾリドン //、09!−メチ
ルベンゾトリアゾール 2g水でllとする(
p)ilo、40に調整する几く定着液濃縮液〉 チオ硫酸アンモニウム 5top亜硫酸ナ
トリウム 1.09エチレンジアミ
ン四酢酸・ニ ナトリウム・二水塩 0.1017水酸化ナ
トリウム λ弘9水でllとする(
酢酸テpHj 、 / OVC調整するン。
自動現像機 秒処理
現像タンク &、!l 3r ’Cx/x、j秒定
着タンク &、!l 310CX10秒水洗タンク
6.よl 20”C×7.j秒乾 燥
so 0cDry to D
ry処理時間 4L、r秒現像処理をスタートする
ときには各タンクに以下の如き処理液を満たした。
着タンク &、!l 310CX10秒水洗タンク
6.よl 20”C×7.j秒乾 燥
so 0cDry to D
ry処理時間 4L、r秒現像処理をスタートする
ときには各タンクに以下の如き処理液を満たした。
曳倣タンク二上記現像液濃縮液333ゴ、水t671及
び臭化カリウムλgと酢酸l。
び臭化カリウムλgと酢酸l。
rgとを含むスターター10m1を加
えてpt−1を10./!とした。
定着タンク:上記定着液濃縮液2!0IRI及び水7j
Oゴ 鮮鋭度(MTF)の測定 前記の34<スクリーンと自動現像機処理の組み合わせ
でのMTFを測定した。30μmxso。
Oゴ 鮮鋭度(MTF)の測定 前記の34<スクリーンと自動現像機処理の組み合わせ
でのMTFを測定した。30μmxso。
μmのアパーチュアで測定し、空間周波数がl。
0サイクル/mmのMTF値を用いて光学濃度が/、0
の部分にて評価した。
の部分にて評価した。
残色の測定
未露光フィルムを前記の自動現像処理をおこなったのち
マクベス・ステータスAフィルターを通して緑色透過a
度を測定した。一方未下塗の青色染色ポリエチレンテレ
フタレート支持体の緑色透過濃度を測定し、この値を引
いた、正味の値を残色濃度値として評価した。
マクベス・ステータスAフィルターを通して緑色透過a
度を測定した。一方未下塗の青色染色ポリエチレンテレ
フタレート支持体の緑色透過濃度を測定し、この値を引
いた、正味の値を残色濃度値として評価した。
以上の結果を表−3にまとめた。
表−3
表3より本発明がDry to Dry 4t1秒
という超迅速処理でも高鮮鋭度で、感度・残色に優れて
いることがわかる。尚、比較(用いた写真材料コ≠では
、乳剤層と支持体が処理時に一部剥離するという密着不
良故障が発生していた。
という超迅速処理でも高鮮鋭度で、感度・残色に優れて
いることがわかる。尚、比較(用いた写真材料コ≠では
、乳剤層と支持体が処理時に一部剥離するという密着不
良故障が発生していた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層
及び少なくとも1層の下塗層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、該下塗層中に、下記一般式( I )
で表わされるポリマー、一般式(II)で表わされる染料
及びノニオン界面活性剤を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Aはエチレン性不飽和モノマー単位を表わす。 Bはエチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマ
ー単位を表わす。R_1は水素原子または炭素数1〜約
6の低級アルキル基を、Lは1〜約12の炭素原子を有
する2価基を表わす。R_2、R_3およびR_4はそ
れぞれ同一または異種のアルキル基またはアラルキル基
、または水素原子を表わす。x、y、zは各々共重合モ
ル比を表わし、xは0〜90モル%、yは9.9〜99
.9%、zは0.1〜50モル%を表わす。〕 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は少くとも1個のカルボン酸基又はスル
ホン酸基を有するアリール基、アルキル基、アラルキル
基又は複素環基を表わしR_2は−CONR_3R_4
又は−NR_3COR_4(ここにR_3は水素原子又
はアルキル基を表わし、R_4は疎水性置換基定数(π
値)が1.60以上3.90以下の範囲にあるアルキル
基を表わす)を表わし、L_1、L_2、L_3は各々
メチン基を表わしnは0、1、2のいずれかを表わす。 〕
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026978A JPH0687136B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US07/307,704 US4957856A (en) | 1988-02-08 | 1989-02-08 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026978A JPH0687136B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201655A true JPH01201655A (ja) | 1989-08-14 |
| JPH0687136B2 JPH0687136B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=12208248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026978A Expired - Fee Related JPH0687136B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4957856A (ja) |
| JP (1) | JPH0687136B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257843A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH05100360A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポリエステルの下塗塗布物 |
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|---|---|---|---|---|
| US5213957A (en) * | 1989-11-27 | 1993-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic light-sensitive materials |
| US5858608A (en) * | 1997-10-16 | 1999-01-12 | Polaroid Corporation | Diffusion transfer photosensitive film unit for silver transfer image |
| CN1639631A (zh) * | 2002-07-18 | 2005-07-13 | 柯尼卡美能达影像株式会社 | 卤化银照相材料和成像方法 |
| GB0313159D0 (en) * | 2003-06-07 | 2003-07-16 | Eastman Kodak Co | Photographic element |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4916051A (ja) * | 1972-06-06 | 1974-02-13 | ||
| JPS5510187A (en) * | 1978-06-12 | 1980-01-24 | Midland Ross Corp | Cylinder piston construction |
| JPS57161853A (en) * | 1981-03-14 | 1982-10-05 | Agfa Gevaert Ag | Dye blending |
| JPS58143342A (ja) * | 1982-02-19 | 1983-08-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 染料を含有するハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6048025A (ja) * | 1983-08-27 | 1985-03-15 | Ricoh Co Ltd | バッテリチェック方式 |
| JPS617838A (ja) * | 1984-06-22 | 1986-01-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真感光材料 |
Family Cites Families (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS4916051B1 (ja) * | 1970-10-07 | 1974-04-19 | ||
| JPS52128125A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide light sensitive material containing dye |
-
1988
- 1988-02-08 JP JP63026978A patent/JPH0687136B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-02-08 US US07/307,704 patent/US4957856A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0687136B2 (ja) | 1994-11-02 |
| US4957856A (en) | 1990-09-18 |
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