JPH03143930A - シート状物の連続表面処理方法及び装置 - Google Patents

シート状物の連続表面処理方法及び装置

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JPH03143930A
JPH03143930A JP1282753A JP28275389A JPH03143930A JP H03143930 A JPH03143930 A JP H03143930A JP 1282753 A JP1282753 A JP 1282753A JP 28275389 A JP28275389 A JP 28275389A JP H03143930 A JPH03143930 A JP H03143930A
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Hideyuki Niwa
英之 丹羽
Yukio Fukuura
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Toshio Naito
内藤　壽夫
Sachiko Okazaki
幸子 岡崎
Masuhiro Kokoma
益弘 小駒
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、シート状物の表面改質やコーティングを大気
圧下において連続的に行なう表面処理方法及びその装置
に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
シート状物の表面を改質、コーティングする方法として
、減圧下でのグロー放電によるプラズマ処理法、プラズ
マ重合法、プラズマＣＶＤ法等が知られている。また、
これらの方法において、連続的にシート状物の表面処理
を行なう方法としては、長尺の被処理物シートをロール
状に巻き上げたものを真空チャンバー内に入れ、該チャ
ンバー内でロールから被処理物シートを連続的に引き出
して該シート表面に連続的に処理を施すバッチ方式や、
特公昭６３−６５０９３号公報に開示されている如く、
大気圧下から減圧下へ徐々に排気を行なう差動排気方式
により処理する方法などが知られている。しかし、これ
らの連続処理方法は、いずれも処理装置が大掛かりなも
のとなり、また処理室内を排気するために大容量を有す
る非常に大きなポンプが必要となるという問題もある。
一方、大気圧下で混合ガスを用いて被処理物シート表面
に放電処理を施す方法（特開昭６２−２３５３３９号公
報、特願昭６３−１３８６３０号。
同６３−１６６５９９号、同６３−２０２９７７号等）
も種々提案されているが、これらはいずれもバッチ方式
であり、しかも大気圧下での処理とはいえ外部雰囲気と
はチャンバー等で遮蔽するもので、やはり連続的に処理
を行なう場合は、ロール状に巻き上げた長尺の被処理物
シートをチャンバー等の大型密閉槽に入れ、該密閉槽内
で処理を行なう必要がある。このため、前述の減圧下で
の処理と基本的には同様の装置が必要であり、装置が大
掛かりなものになるといった欠点を有する。
従って、大型密閉槽や大型のポンプを必要とせず、しか
もシート状物の表面に均一かつ良好な改質、コーティン
グ処理を連続的に施すことが可能な方法及び装置の開発
が望まれる。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者は、上
記要望に応えるべく、鋭意検討を行なった結果、ヘリウ
ムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガスにより
プラズマ領域を形成し、被処理物シートにプラズマ放電
処理を施す場合、大気圧下であっても均一で安定なプラ
ズマ放電が得られること、更にこのプラズマ領域が形成
されたチャンバー外より長尺の被処理物シートを連続的
に導入して該被処理物シート表面にプラズマ放電処理を
連続的に施すと共に、この被処理物シートの処理終了部
分を連続的にチャンバー外へ排出する場合、チャンバー
の被処理物導入口及び排出口を完全に気密にシール、封
鎖する必要はなく、チャンバー内のヘリウムガス又はヘ
リウムガスを主成分とする混合ガスの漏れを許容し得る
程度の非気密状態のシールでもチャンバー内のヘリウム
ガス又は混合ガスの純度が保持されて良好なプラズマ放
電処理が可能であり、従って被処理物シートのロールを
チャンバー内に仕込む必要がなく、チャンバーの大きさ
は被処理物シートが連続的に通過し得るものであればよ
いので、従来のものに比べて大巾に小型化することがで
き、更にチャンバー内の空気をヘリウムガスに置換する
際に排気ポンプを用いるだけでよく、常にチャンバー内
を減圧に保持する必要がないので、排気ポンプも大巾に
小型化することができ、装置全体を小型化し得ることを
見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
従って、本発明は、処理チャンバー内に形成されたヘリ
ウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガスのプ
ラズマ領域中で被処理物シート表面にプラズマ放電処理
を施す表面改質又はコーティング方法において、処理チ
ャンバー内の空気をヘリウムガス又はヘリウムガスを主
成分とする混合ガスに置換した後、このチャンバー内に
ヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガス
を連続的に導入しつつ、大気圧下に該ヘリウムガス又は
混合ガスのプラズマ領域を形成し、該プラズマ領域中に
長尺の被処理物シートをチャンバー外より該チャンバー
の上記ヘリウムガス又は混合ガスの漏れを許容し得る非
気密状態にシールされた被処理物導入口を通して連続的
に導入し、該被処理物シート表面にプラズマ放電処理を
連続的に施すと共に、該被処理物シートの処理終了部分
を上記ヘリウムガス又は混合ガスの漏れを許容し得る非
気密状態にシールされた被処理物排出口を通して連続的
に」二記チャンバー外に排出することを特徴とするシー
ト状物の連続表面処理方法、及び。
ヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガス
のプラズマ領域を形成する電極を内部に！Ｊｉｆｆえる
と共に、上記ヘリウムガス又は混合ガスの漏れを許容し
得る非気密状態にシールされた被処理物の導入口と排出
口とがそれぞれ形成された処理チャンバーと、該チャン
バー内の空気を外部へ排気する空気排出機構と、このチ
ャンバー内にヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分と
する混合ガスを供給する反応ガス供給機構と、上記被処
理物の導入口及び排出口を上記非気密状態にシールする
シール機構とを具備してなり、上記導入口から長尺被処
理物シートを上記処理チャンバー内に連続的に導入し、
上記電極間に形成されたプラズマ領域を通過させて、被
処理物シート表面にプラズマ放電処理を連続的に施すと
共に、この被処理物シートの処理終了部分を上記排出口
よりチャンバー外へ連続的に排出するよう構成したこと
を特徴とするシート状物の連続表面処理装置を提供する
。
〔実施例〕
第１図は、本発明のシート状物の連続表面改質又はコー
ティング装置の一実施例を示すものである。
図中１は処理チャンバーで、その両側壁にはそれぞれ被
処理物シート２が導入される導入口３と該被処理物の処
理終了部分が排出される排出口４とが形成され、また底
壁にはチャンバー内の空気を外部へ排気する空気排出口
５が形成され、この空気排出口５は、通常はバルブ６に
より閉塞されている。この処理チャンバー１内には２個
の板状金属電極７，７が所定間隔離間して互いに平行に
配置され、それらの互いに対向する内側表面には薄膜絶
縁体シート８，８がはりつけである。また、９はヘリウ
ムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガスをチャ
ンバー１内に供給する反応ガス供給管で、この供給管９
は配管１０、バルブ１１を介してガス供給ポンプ等に接
続されている。上記導入口３と排出口４とには、第２図
に示したように、その内側に可撓性プラスチックなどか
らなる２枚の逆流防止弁１２．１２を導入口３、排出口
４の上下内壁面に互いに対向させてその一端部を貼着し
、他端部を被処理物シート２を挾んで重ね合わせるよう
に構成したシール機構１３．１３が設けられている。な
お、第１図中１４はバルブエ５を備えたガス排出口、１
６は電極７，７間に電圧を印加する安定電源である。ま
た、１７は被処理物シートの保持ロール、１８は巻き取
りロールであり、保持ロール１７から送り出された被処
理物シート２は、上記導入口３からチャンバーｌ内に導
入され、電極７，７間を通って排出口４に導かれて巻き
取りロールエ８に巻き取られるようになっている。
ここで、上記薄膜縁体シート８，８の材質等に制限はな
いが、その厚さは０．００１〜３１ＴＩＴｌ、特に上側
の電極（電源接続側）にはりつけ０るものは↓ｍ以下と
することが好ましい。
上記連続表面改質又はコーティング装置を用いてシート
状物の表面に改質又はコーティング処理を施す場合、ま
ず第３図に示したようにチャンバー外の両側壁に形成さ
れた導入口３及び排出口４を板状閉塞蓋１９．１９で塞
ぎ（第３図中２０．２０は○リングである）、バルブ６
を開いて排気ポンプにより、空気排出口５よりチャンバ
ー１内の空気を排出しくこの際、バルブ１５．↓１は閉
しておく）、次にバルブ１１を開いて高純度ヘリウムガ
スをチャンバー上内に導入し、チャンバー１内の空気を
ヘリウムガスに置換する。次いで、バルブ１１．配管１
ｏを介して反応ガス供給管９よりヘリウムガス又はヘリ
ウムガスを主成分とする混合ガスをチャンバー内に連続
的に供給すると共に、安定電源１６より電極８，８間に
電圧を印加して電極８，８間にヘリウムガス又はヘリウ
ムガスを主成分とする混合ガスのプラズマ領域を形成し
、被処理物シートを保持ロール１７から送り出すと共に
１巻き取りロール１．８に巻き取る。これにより、保持
ロール１７から送り出された被処理物シートの表面は、
？！！極７，７間に形成されたプラズマ領域で連続的に
プラズマ放電処理が施され、処理終了部分が巻き取りロ
ール１８に連続的に回収される。
ここで、上記ヘリウムガスを主成分とする混合ガスとし
ては、ヘリウムと０２．　Ｎ　２．　ＣＦ　４．　Ｃ２
Ｆ　６゜ＣＨ４，Ｃ２Ｈ，等との混合ガスを用いること
ができ、その混合比率はヘリウム対比でＯ〜３０体積％
程度とすることができる。また、電極７，７間に印加す
る電圧は、５０Ｈｚ以上、特に５００Ｈｚ以上の周波数
として、０．５〜ｌ０ＫＶの範囲で印加することが安定
的な放電を得る点から好ましい。更に、処理速度は、被
処理物シートの↓点における処理時間にして０．１〜１
０００秒、特に０．５〜３００秒とすることが好ましい
。
上記処理方法において、シール機構１３はチャンバー１
内のヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合
ガスの漏れを許容し得る非気密状態にシールする機構と
され、チャンバーｌ内を完全にシールし、外部からチャ
ンバー内を封鎖するものではなく、上記ヘリウムガス又
は混合ガスが漏れ得る非気密状態のシール機構であるが
、上述したようにチャンバー１内にヘリウムガス又は混
合ガスを連続的に導入していることとあいまって、プラ
ズマ領域が破壊されることがむく、プラズマ領域が安定
しているものである。従って、良好な表面改質又はコー
ティング処理ができるものである。
また、上記処理方法によれば、被処理物シートに連続的
に表面改質又はコーティング処理を施すことができ、こ
の場合に被処理物シートの保持ロールをチャンバー内に
収容するものではなく、保持ロールから繰り出された被
処理物シートをチャンバー内のプラズマ領域を通過させ
るだけなので、チャンバーの大きさを従来のものに比べ
非常に小型化することができる。このため、かなりの長
尺で大型の被処理物シートを扱う場合にも容易に対応し
得、処理の規模を容易に拡張することができる。また、
最初にチャンバー内をヘリウムガスに置換する際に排気
ポンプを用いるだけであり、常にチャンバー内を減圧に
保持する必要がないので、排気ポンプも小型化すること
ができ、従ってチャンバーだけでなく、装置全体を小型
することができる上、排気ポンプの作動コストも大巾に
削減することができる６更にまた５被処理物シートを処
理チャンバーの外部より連続的に導入する構成としたの
で、シート状物の製造工程より被処理物シートを直接チ
ャンバー内に導入することが可能であり、製造ラインを
容易にインライン化し得るものである。
第４，５図は、本発明のシート状物の連続表面改質又は
コーティング装置の他の実施例を示すものである。なお
、第４，５図において第１〜３図の装置と同一構成部分
には同−参照付合を付してその説明を省酩する。
この第４，５図に示した装置は、被処理物の導入口３及
び排出口４をチャンバーｌの両側壁の下部（画電極８，
８よりも低い位置）に設けると共に、この導入口３及び
排出口４の外部にこれらと連通ずる予備真空室２１．２
１を付設したものである。この予備真空室２１．２１内
にはそれぞれ上、下２個のガイドローラ２２ａ、２２ｂ
、２２ａ。
２２ｂが備えられており、これらにガイドされて被処理
物シート２がチャンバーｌ内に導入され、あるいはチャ
ンバー１外に排出されるようになっており、更に、該予
備真空室２１．２１の底壁にはそれぞれ予備空気排出口
２３．２３が形成されており、これらはバルブ２４．２
４により開閉し得るようになっている。なお、これら真
空室２１゜２１のチャンバー内と連通ずる間隙２５．２
５及び外部に至る間隙２６．２６はシート状被処理物２
が接触しない範囲で極力狭く形成しである。この場合、
これら間隙２５．２６は被処理物シートが通過する場合
において被処理物シートとのギャップが０．０１〜０．
５ｍの間隙とするのがよい。
また、上記導入口３よりチャンバー内に導入された被処
理物２は第１及び第２ガイドローラ２７゜２８により電
極７，７間に導かれ、電極７，７間を通過したシート状
被処理物２は第３及び第４ガイドローラ２９，３０にガ
イドされて排出口４に導かれるようになっており、これ
ら機構によりシール機構１３が構成されている。
この第４，５図に示した装置を用いてシート状物の表面
に改質、コーティング処理を施す場合は、まずチャンバ
ー１に設けられた空気排出口５及び予備真空室２１．２
１に設けられた予備空気排出口２３．２３からチャンバ
ー内の空気を排出し、次にバルブ１１を開いて高純度ヘ
リウムガスをチャンバー１内に導入し、チャンバー内の
空気をヘリウムガスに置換する。以下、上記第１図に示
した装置と同様の操作により被処理物２に表面改質。
コーティング処理を施すものである。
上記第５図に示したシール機構上３も非気密状態のシー
ルであり、第２図のシール機構と同様に安定したプラズ
マ領域が形成されるので、この第４．５図の装置を用い
てシート状物に表面改質又はコーティング処理を施すこ
とにより、上記第上図の装置を用いる場合と同様の効果
が生じるが。
この装置においては、特に被処理物の導入口３及び排出
口４をチャンバー１の下部に設けたことにより、比重の
小さいヘリウムガスがこれら導入口３や排出口４から外
部へ流出し難く、このため少ない反応ガス流量で良好な
処理を施すことができる。
本発明のシート状物の連続表面処理方法及びその装置は
上記実施例に示し先方法及び装置に限定されるものでは
なく、本発明の要旨の範囲内で種々変更することができ
る。例えば第１図及び第４図に示した装置において、そ
のシート状被処理物２の導入口３及び排出口４に備えら
れた第２図及び第５図に示したシール機構の代りに第６
図Ａ、Ｂに示したシール機構、即ちシート状被処理物２
の導入口３及び排出口４を外側から覆うようにローラ室
３１，３１を設け、このローラ室３１，３↓内にそれぞ
れ被処理物２をガイドする上、下２個の圧着ローラ３２
，３２を配設すると共に、これら圧着ローラ３２，３２
とチャンバー１との間及びローラ室壁３３との間をシー
ルするフィルム弁３４．３４を設けたシール機構（なお
（Ａ）図において３５は○リング、（Ｂ）図において３
６はロールサイドシール材、３７は回転軸シール材であ
る）、或いは第７図に示したシール機構、即ち導入口３
及び排出口４を上下動可能な間隙調節ピストン３８．３
８と台座部３９，３９とにより形成し、導入口３及び排
出口４を被処理物シート２が接触せずに通過し得る最小
の間隙（被処理物シートの両側に若干の隙間が形成され
る程度の間隙）に調節し得るようにしたシール機構（な
お、第７図において４０は○リングである。また、この
機構はチャン）＜−１内の空気をヘリウムガスに置換す
る際にはピストン３８．３８を台座部３９．３９に被処
理物シート２を介して圧着させることにより、導入口３
及び排出口４を完全に閉塞することができる。）を設け
ることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明のシート状物の連続表面処
理方法及び装置によれば、処理チャンバーや排気ポンプ
を大巾に小型化することができ、しかもシート状物の表
面に均一かつ良好な改質又はコーティング処理を連続的
に施すことができる。
従って、大型の被処理物を扱う場合にも容易に対応し得
、処理の規模を容易に拡張することができる。また、シ
ート状物の製造ラインを容易にインライン化し得るもの
である。
以下、実験例を示す。
〔実験例１〕 第１図に示した装置及び第２，３図のシール機構を用い
、以下に示した操作により、厚さ１００μのポリエステ
ルシートの表面に第１表に示した如く処理速度を変えな
がら親水化処理を施し、処理後のポリエステルシート表
面の接触角を測定した。
結果を第１表に示す。
延−生 まず、第３図に示した如く、被処理物であるポリエステ
ルシート２を挾んだまま、被処理物の導入口３及び排出
口４を○リング１７を介して閉塞蓋１９．１９でそれぞ
れ塞ぎ、空気排出口５から真空ポンプを用いてチャンバ
ー１内の空気を工×１０−”Ｔｏｒｒ以上の真空度に達
するまで排気した後、バルブ６を閉じ、バルブ１１を開
けて高純度ヘリウムガスをチャンバー１内に導入し、チ
ャンバー１内をヘリウムガスで置換した。続いて、ヘリ
ウムガスと酸素の混合ガス（Ｈｅ：　０２＝９９　：　
１）をバルブ１１及び配管１０を介して反応ガス供給管
９より一定流量でチャンバー１内に供給し、上記閉塞蓋
１９．↓９を取り去ると共に１巻き取りロール１８を回
転させてポリエステルシート２を導入口３から排出口４
へ向けて連続的に動かし、安定電源↓６より電極７．７
間に８ＫＨｚ、２ＫＶの低周波を印加してｆｆ１ｌｉ７
．７間にプラズマ領域を形成し、該プラズマ領域中でポ
リエステルシート２の表面を連続的に放電処理した。
第 表 ＊１：シートの１点がプラズマ領域中にある時間＊２：
２０点ランダム測定の平均値 第１表の結果から明らかなように、処理スピード（処理
時間）を変えても、いずれも処理無しのものに比べて接
触角が小さくなっており、ポリエステルシート表面が連
続的にしかも均一に親水化された。
なお、比較のため導入口３及び排出口４から逆流防止弁
１２．１２を取りはず、して同様の処理を行なったとこ
ろ、導入口３及び排出口４から大気が流れ込み、このた
め電極７，７間に電圧を印加しても放電が開始せず、処
理を行なうことができなかった。
〔実験例２〕 第２，３図に示したシール機構の代りに第６図（、Ａ）
、（Ｂ）に示したシール機構を用いた以外は第１図の装
置と同様の構成の装置を用い、反応ガスとしてヘリウム
ガスとＣＦ、との混合ガス（Ｈｅ：　０２＝９９　：　
１）を使用すると共に、８ＫＨｚ。
３ＫＶのオーデイオ波をｆｆｉｔ−Ｍ７，７間に印加し
た以外は実験例１と同様の操作により綿布表面に撥水化
処理を施し、接触角を測定した。結果を第２表に示す。
第 表 ＊ｌ：シートの１点がプラズマ領域中にある時間＊２：
２０点ランダム測定の平均値 第２表の結果に示した如く、処理スピード（処理時間）
を変えても、いずれも処理無しのものに比べて接触角が
大きくなっており、綿布表面が連続的にしかも均一に撥
水化されたことが認められる。
〔実験例３〕 第２，３図に示したシール機構の代りに第７図に示した
シール機構を用いた以外は第１図の装置と同様の構成の
装置を用い、下記操作により第３表に示したゴム組成物
を加硫成形したゴムシート表面に撥水化処理を施した。
処理終了後、ゴムシート表面の接触角及び平均摩擦係数
を測定した。
結果を第４表に示す。
盈−生 ゴムシート２を処理装置にセットした後、間隙調節ピス
トン３８．３８を下げ、ゴムシート２をシール材として
導入口３及び排出口４を閉塞した後、実験例１と同様に
してチャンバー１内を真空排気し、ヘリウムガスで置換
した。次いで、反応ガスとしてヘリウムガスで１間濃度
に希釈したＣＦ４ガスを一定流量流し、上記ピストン３
８．３８を上げて微小な間隙（導入口３．排出口４）を
形成しくゴムシート２がこすらずに通過できる程度の間
隙）、シート２を動かし、８　ＫＨｚ、　３　ＫＶ（７
）オーデイオ波を電極７，７間に印加し、処理を行なっ
た。
第 表 第 図 ＊ｌ： ＊２： ＊３： シートの１点がプラズマ領域中にある時間２０点ランダ
ム測定の平均値 表面試験機（加藤鉄工所製）を用いて測定した。
第４表に示した如く、処理スピード（処理時間）を変え
ても、いずれも処理無しのものに比べて接触角が大きく
なっており、ゴムシート表面が連続処理で均一に撥水化
した。また、ゴムシート表面の平均摩擦係数は処理無し
のものに比べて１／３に減少しており、フッ素化により
表面のすべり性が向上したことが確認された。
〔実験例４〕 第２，３図に示したシール機構の代りに第５図に示した
シール機構を用いた以外は第１図の装置と同様の構成の
装置を用い、以下に示した操作により、厚さ１００μの
ポリエステルシート表面に撥水化処理を施した。
撮−也 ポリエステルシート２をセットした後、チャンバーｌ内
の排気と共に予備真空室２１．２１内も排気ポンプによ
り真空にした後、チャンバー１内に高純度ヘリウムガス
を導入し、チャンバーｌ内をヘリウムガスに置換した。
次いで、ヘリウムガスで希釈した１％ＣＦ４混合ガスを
一定流量でチャンバー１内に導入し、電極７，７間に８
ＫＨｚ。
３ＫＶの電圧を印加して放電を開始させ、ポリエステル
シート２を移動させることで連続処理を行なった。
第５表 ＊ｌ：シートの１点がプラズマ領域中にある時間＊２：
２０点ランダム測定の平均値 第５表の結果から明らかなように、処理スピード（処理
時間）を変えても、いずれも処理無しのものに比べて接
触角が大きくなっており、ポリエステルシート表面が連
続的にしかも均一に撥水化された。
また、第５図に示したシールＩａ構をチャンバー１の下
部に配設した第４図に示した装置を用い、同様の操作に
よりポリエステルシート表面に撥水化処理を施したとこ
ろ、処理時にチャンバー内に導入する混合ガス（反応ガ
ス）の流量を約半分にしても安定な放電が得られ、しか
も良好な撥水化処理を行なうことができた。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の装置の一実施例を示す概略図、第２
図は同装置の導入口３及び排出口４部分を示す拡大断面
図、第３図は同装置のヘリウムガス置換時の操作を説明
する部分拡大断面図、第４図は本発明装置の他の実施例
を示す概略図、第５図は同装置の導入口３及び排出口４
部分を示す拡大断面図、第６図及び第７図は本発明装置
を構成するシール機構の例を示すもので、第６図（Ａ）
は断面図、第６図（Ｂ）は（Ａ）図Ｂ−Ｂ線に沿った断
面図、第７図は断面図である。 ・・・処理チャンバー ・・・被処理物導入口 ・・・空気排出口 ・反応ガス供給管 ・・・シート状被処理物 ・・・被処理物排出口 、７・・・電極 ３・・・シール機構

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. １．処理チャンバー内に形成されたヘリウムガス又はヘ
    リウムガスを主成分とする混合ガスのプラズマ領域中で
    被処理物シート表面にプラズマ放電処理を施す表面改質
    又はコーティング方法において、処理チャンバー内の空
    気をヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合
    ガスに置換した後、このチャンバー内にヘリウムガス又
    はヘリウムガスを主成分とする混合ガスを連続的に導入
    しつつ、大気圧下に該ヘリウムガス又は混合ガスのプラ
    ズマ領域を形成し、該プラズマ領域中に長尺の被処理物
    シートをチャンバー外より該チャンバーの上記ヘリウム
    ガス又は混合ガスの漏れを許容し得る非気密状態にシー
    ルされた被処理物導入口を通して連続的に導入し、該被
    処理物シート表面にプラズマ放電処理を連続的に施すと
    共に、該被処理物シートの処理終了部分を上記ヘリウム
    ガス又は混合ガスの漏れを許容し得る非気密状態にシー
    ルされた被処理物排出口を通して連続的に上記チャンバ
    ー外に排出することを特徴とするシート状物の連続表面
    処理方法。
  2. ２．ヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする混合
    ガスのプラズマ領域を形成する電極を内部に備えると共
    に、上記ヘリウムガス又は混合ガスの漏れを許容し得る
    非気密状態にシールされた被処理物の導入口と排出口と
    がそれぞれ形成された処理チャンバーと、該チャンバー
    内の空気を外部へ排気する空気排出機構と、このチャン
    バー内にヘリウムガス又はヘリウムガスを主成分とする
    混合ガスを供給する反応ガス供給機構と、上記被処理物
    の導入口及び排出口を上記非気密状態にシールするシー
    ル機構とを具備してなり、上記導入口から長尺被処理物
    シートを上記処理チャンバー内に連続的に導入し、上記
    電極間に形成されたプラズマ領域を通過させて、被処理
    物シート表面にプラズマ放電処理を連続的に施すと共に
    、この被処理物シートの処理終了部分を上記排出口より
    チャンバー外へ連続的に排出するよう構成したことを特
    徴とするシート状物の連続表面処理装置。
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