JPH0121558B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0121558B2 JPH0121558B2 JP9355883A JP9355883A JPH0121558B2 JP H0121558 B2 JPH0121558 B2 JP H0121558B2 JP 9355883 A JP9355883 A JP 9355883A JP 9355883 A JP9355883 A JP 9355883A JP H0121558 B2 JPH0121558 B2 JP H0121558B2
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- Japan
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- magnetic disk
- lubricant
- magnetic
- film
- vapor
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B25/00—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus
- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
- G11B25/043—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card using rotating discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
- G11B23/507—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers combined with means for reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/148—Reducing friction, adhesion, drag
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は磁気デイスク装置に係り、特に該装置
内に装着された磁気デイスクの表面に被覆して成
る潤滑膜の潤滑特性を、常に定常状態に維持し得
るようにした装置構成に関するものである。
内に装着された磁気デイスクの表面に被覆して成
る潤滑膜の潤滑特性を、常に定常状態に維持し得
るようにした装置構成に関するものである。
(b) 技術の背景
近年、磁気デイスク装置においては、磁気デイ
スクの磁性膜の薄膜化、或いは多層膜化及び磁気
ヘツドの低浮上化等によつて高記録密度化が図ら
れている。そして上記磁気ヘツドの低浮上化に加
えて、更に停止時には磁気ヘツドが磁気デイスク
面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘツドを微少に浮上させるようにした、
所謂CSS（Contact Start Stop）方式の採用が進
むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動により
磁気ヘツド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等
のヘツドクラツシユが発生し易くなり、これを防
止する為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布する
か、或いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処
理を施すことが一般に行われている。
スクの磁性膜の薄膜化、或いは多層膜化及び磁気
ヘツドの低浮上化等によつて高記録密度化が図ら
れている。そして上記磁気ヘツドの低浮上化に加
えて、更に停止時には磁気ヘツドが磁気デイスク
面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘツドを微少に浮上させるようにした、
所謂CSS（Contact Start Stop）方式の採用が進
むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動により
磁気ヘツド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等
のヘツドクラツシユが発生し易くなり、これを防
止する為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布する
か、或いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処
理を施すことが一般に行われている。
(c) 従来技術と問題点
ところで磁気デイスク装置の高記録密度化に伴
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方前記CSS方式の採用により磁気デイス
ク装置としては、塵埃の混入に起因するヘツドク
ラツシユを防止するために、密封型に移行されつ
つある。しかし、このような密封型磁気デイスク
装置にあつては、磁気デイスクの高速回転に伴つ
て生ずる空気摩擦によつて密封装置内の温度が上
昇するため、通常該内部の雰囲気を自己循環空冷
方式によつて冷却しているが、それでもなお装置
内が60〜70℃となる温度上昇は避けられず、かか
る温度上昇に起因して磁気デイスク表面に施され
た潤滑膜が蒸発消失して、その潤滑特性が劣化す
る不都合があり、このような不都合を解消し得る
耐熱性が強く要望されている。
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方前記CSS方式の採用により磁気デイス
ク装置としては、塵埃の混入に起因するヘツドク
ラツシユを防止するために、密封型に移行されつ
つある。しかし、このような密封型磁気デイスク
装置にあつては、磁気デイスクの高速回転に伴つ
て生ずる空気摩擦によつて密封装置内の温度が上
昇するため、通常該内部の雰囲気を自己循環空冷
方式によつて冷却しているが、それでもなお装置
内が60〜70℃となる温度上昇は避けられず、かか
る温度上昇に起因して磁気デイスク表面に施され
た潤滑膜が蒸発消失して、その潤滑特性が劣化す
る不都合があり、このような不都合を解消し得る
耐熱性が強く要望されている。
ところがこのような諸要求に対して、従来磁気
デイスク表面に潤滑膜を形成するに用いられてい
る代表的な潤滑剤としては、例えばパラフイン、
高級脂肪酸族アルコール、高級脂肪酸、高級脂肪
酸エステル等の炭化水素、又その弗化物であるフ
ロロカーボン系油、Si−Si結合基から成るシリコ
ン系油等があり、これら潤滑剤は単独、又は複合
の形で用いられているが、上記潤滑剤の内、炭化
水素系の潤滑剤、特に高級脂肪酸やそのエステル
化物によつて形成された潤滑膜は、潤滑特性が優
れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効果が
あるが、その反面、60℃程度の雰囲気中において
徐々に蒸発消失して潤滑性を失つて行くといつた
耐熱性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系
油やシリコン系油等によつて形成された潤滑膜
は、耐熱性では優れた特性を有しているが、潤滑
特性が劣る等、何れも一長一短の膜特性しか持合
せていない欠点がある。
デイスク表面に潤滑膜を形成するに用いられてい
る代表的な潤滑剤としては、例えばパラフイン、
高級脂肪酸族アルコール、高級脂肪酸、高級脂肪
酸エステル等の炭化水素、又その弗化物であるフ
ロロカーボン系油、Si−Si結合基から成るシリコ
ン系油等があり、これら潤滑剤は単独、又は複合
の形で用いられているが、上記潤滑剤の内、炭化
水素系の潤滑剤、特に高級脂肪酸やそのエステル
化物によつて形成された潤滑膜は、潤滑特性が優
れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効果が
あるが、その反面、60℃程度の雰囲気中において
徐々に蒸発消失して潤滑性を失つて行くといつた
耐熱性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系
油やシリコン系油等によつて形成された潤滑膜
は、耐熱性では優れた特性を有しているが、潤滑
特性が劣る等、何れも一長一短の膜特性しか持合
せていない欠点がある。
従つて、高記録密度化の為の潤滑耐久性、耐熱
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であ
ることはもとより、このような潤滑膜を被覆形成
した磁気デイスクを密封型磁気デイスク装置に用
いた場合、ヘツドクラツシユ障害がなく、安定し
た高密度記録或いは再生を行うことが困難であつ
た。
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であ
ることはもとより、このような潤滑膜を被覆形成
した磁気デイスクを密封型磁気デイスク装置に用
いた場合、ヘツドクラツシユ障害がなく、安定し
た高密度記録或いは再生を行うことが困難であつ
た。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の欠点に鑑み、密封型磁気デ
イスク装置内で回転駆動された磁気デイスク表面
の潤滑膜の蒸発消失を抑制して、該潤滑膜を常に
良好な潤滑特性を有する定常状態に維持し得る新
規な磁気デイスク装置を提供することを目的とす
るものである。
イスク装置内で回転駆動された磁気デイスク表面
の潤滑膜の蒸発消失を抑制して、該潤滑膜を常に
良好な潤滑特性を有する定常状態に維持し得る新
規な磁気デイスク装置を提供することを目的とす
るものである。
(e) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、ハブ機構部
により一体に支持された磁気デイスクが回転駆動
機構に装着され、該磁気デイスクを気密収容容器
により密封して成る装置構成において、上記気密
収容容器内に潤滑剤蒸気発生源と、該発生源を加
熱して潤滑剤蒸気を発生させる加熱手段とを配備
してなることを特徴とする磁気デイスク装置を提
供することによつて達成される。
により一体に支持された磁気デイスクが回転駆動
機構に装着され、該磁気デイスクを気密収容容器
により密封して成る装置構成において、上記気密
収容容器内に潤滑剤蒸気発生源と、該発生源を加
熱して潤滑剤蒸気を発生させる加熱手段とを配備
してなることを特徴とする磁気デイスク装置を提
供することによつて達成される。
(f) 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細
に説明する。
に説明する。
図面は本発明に係る磁気デイスク装置の一実施
例を概念的に示す要部断面図である。図におい
て、１は磁気ヘツドと対向する表面に図示しない
潤滑膜を被覆して成る磁気デイスク、２は複数の
磁気デイスク１が一体に支持され、かつデイスク
回転駆動機構５に装着されたハブ機構、３はハブ
機構２の中心に穿設された中心通気穴、４は中心
通気穴３と連通して各磁気デイスク１相互間に循
環雰囲気を流出させる通気小孔、６はヘツド位置
決め機構、７は気密収容容器、８はハブ機構２の
中心に穿設された中心通気穴３と連通するよう
に、ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴で
あり、該流通穴８内には、例えば60〜70℃で潤滑
剤蒸気を発生する潤滑剤発生源１０を収容した発
生源容器１１と、電熱ヒータ等からなる加熱手段
１２とが一体になつて配置されている。更に該潤
滑剤発生源１０部位の右側方に図示のようにフイ
ルタ１３が配置されている。
例を概念的に示す要部断面図である。図におい
て、１は磁気ヘツドと対向する表面に図示しない
潤滑膜を被覆して成る磁気デイスク、２は複数の
磁気デイスク１が一体に支持され、かつデイスク
回転駆動機構５に装着されたハブ機構、３はハブ
機構２の中心に穿設された中心通気穴、４は中心
通気穴３と連通して各磁気デイスク１相互間に循
環雰囲気を流出させる通気小孔、６はヘツド位置
決め機構、７は気密収容容器、８はハブ機構２の
中心に穿設された中心通気穴３と連通するよう
に、ベース部９に設けられた循環雰囲気流通穴で
あり、該流通穴８内には、例えば60〜70℃で潤滑
剤蒸気を発生する潤滑剤発生源１０を収容した発
生源容器１１と、電熱ヒータ等からなる加熱手段
１２とが一体になつて配置されている。更に該潤
滑剤発生源１０部位の右側方に図示のようにフイ
ルタ１３が配置されている。
なおここで、一般に磁気デイスク装置において
は、回転起動後の磁気デイスク１表面部の温度
は、それが速やかに上昇する時には該磁気デイス
ク１を取り囲む雰囲気の温度よりもかなり高温と
なり、磁気デイスク１表面部の温度が一定状態に
なつている時も、該磁気デイスク１を取り囲む雰
囲気の温度、即ち磁気デイスク１の高速回転によ
り生ずる空気摩擦によつて上昇した雰囲気の温度
より約５〜10℃程度高い。従つて、上記のように
構成された磁気デイスク装置にあつては、前記デ
イスク回転駆動機構５を駆動して磁気デイスク１
を回転起動すると同時に、前記加熱手段１２によ
つて潤滑剤蒸気発生源１０を加熱して潤滑剤蒸気
を蒸発させることができる。発生した潤滑剤蒸気
は、磁気デイスク１の高速回転に伴つてその量が
増大し、図中矢印で示すように循環してベース部
９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に流入して
きた循環空気流と共に、フイルタ１３を通つて潤
滑剤等の粉塵、潤滑剤蒸気の大粒子等を排除した
清浄な潤滑剤蒸気とされた後、ハブ機構２の中心
に穿設された中心通気穴３内を経由してそれと連
通する各通気小孔４より各磁気デイスク１相互間
に流出して該磁気デイスク１を取り巻くように気
密収容容器７内を循環する。
は、回転起動後の磁気デイスク１表面部の温度
は、それが速やかに上昇する時には該磁気デイス
ク１を取り囲む雰囲気の温度よりもかなり高温と
なり、磁気デイスク１表面部の温度が一定状態に
なつている時も、該磁気デイスク１を取り囲む雰
囲気の温度、即ち磁気デイスク１の高速回転によ
り生ずる空気摩擦によつて上昇した雰囲気の温度
より約５〜10℃程度高い。従つて、上記のように
構成された磁気デイスク装置にあつては、前記デ
イスク回転駆動機構５を駆動して磁気デイスク１
を回転起動すると同時に、前記加熱手段１２によ
つて潤滑剤蒸気発生源１０を加熱して潤滑剤蒸気
を蒸発させることができる。発生した潤滑剤蒸気
は、磁気デイスク１の高速回転に伴つてその量が
増大し、図中矢印で示すように循環してベース部
９に設けられた循環雰囲気流通穴８内に流入して
きた循環空気流と共に、フイルタ１３を通つて潤
滑剤等の粉塵、潤滑剤蒸気の大粒子等を排除した
清浄な潤滑剤蒸気とされた後、ハブ機構２の中心
に穿設された中心通気穴３内を経由してそれと連
通する各通気小孔４より各磁気デイスク１相互間
に流出して該磁気デイスク１を取り巻くように気
密収容容器７内を循環する。
尚、この場合磁気デイスク１が回転起動時から
温度上昇が緩やかとなるまでの間は、潤滑剤蒸気
の蒸発量を、定常高速回転時の所定蒸発量よりも
所要に多く発生させるように、加熱手段１２の温
度をプログラム制御方式等により制御する事、更
に磁気デイスク１に近接して前記加熱手段１２の
温度制御用温度センサ１４を配置しておくことに
より、磁気デイスク１の温度上昇に対応して潤滑
剤蒸気の蒸発量を制御することが可能となる。
温度上昇が緩やかとなるまでの間は、潤滑剤蒸気
の蒸発量を、定常高速回転時の所定蒸発量よりも
所要に多く発生させるように、加熱手段１２の温
度をプログラム制御方式等により制御する事、更
に磁気デイスク１に近接して前記加熱手段１２の
温度制御用温度センサ１４を配置しておくことに
より、磁気デイスク１の温度上昇に対応して潤滑
剤蒸気の蒸発量を制御することが可能となる。
よつて回転中の各磁気デイスク１表面の潤滑膜
を取り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該潤
滑膜が高速回転時の空気摩擦による温度上昇に起
因して蒸発する際の蒸気圧が略平衡状態となり、
その結果前記回転中の各磁気デイスク１表面の潤
滑膜は、常に良好な潤滑特性を有する定常状態
に、容易に維持することが可能となる。
を取り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該潤
滑膜が高速回転時の空気摩擦による温度上昇に起
因して蒸発する際の蒸気圧が略平衡状態となり、
その結果前記回転中の各磁気デイスク１表面の潤
滑膜は、常に良好な潤滑特性を有する定常状態
に、容易に維持することが可能となる。
尚、以上の実施例では、前記気密収容容器７内
の磁気デイスク１表面は勿論のこと、これ以外の
機能部分にも潤滑剤が被着されることになるが、
当該潤滑膜は極めて薄いので装置の機能を損なう
ことはない。更に前記ベース部９に設けられた循
環雰囲気流通穴８内に、表面積の大きい含浸性の
良い多孔質部材を別に配設しておけば、気密収容
容器７内に充満される潤滑剤蒸気が必要以上に過
剰となつた場合に、該部材に吸収させて蒸気量の
調節と安定化を図ることも可能である。
の磁気デイスク１表面は勿論のこと、これ以外の
機能部分にも潤滑剤が被着されることになるが、
当該潤滑膜は極めて薄いので装置の機能を損なう
ことはない。更に前記ベース部９に設けられた循
環雰囲気流通穴８内に、表面積の大きい含浸性の
良い多孔質部材を別に配設しておけば、気密収容
容器７内に充満される潤滑剤蒸気が必要以上に過
剰となつた場合に、該部材に吸収させて蒸気量の
調節と安定化を図ることも可能である。
(g) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る
磁気デイスク装置の構造によれば、簡単な改良構
成により、装置内に装着され、かつ回転駆動中の
磁気デイスク表面の潤滑膜の蒸発消失が抑制さ
れ、該潤滑膜の膜厚、及び潤滑特性を常に良好な
定常状態に維持することができる優れた利点を有
する。依つてこの種の磁気デイスク装置、或いは
磁気ヘツドの低浮上化、CSS方式等を採用した密
封型磁気デイスク装置などに適用して極めて有利
である。
磁気デイスク装置の構造によれば、簡単な改良構
成により、装置内に装着され、かつ回転駆動中の
磁気デイスク表面の潤滑膜の蒸発消失が抑制さ
れ、該潤滑膜の膜厚、及び潤滑特性を常に良好な
定常状態に維持することができる優れた利点を有
する。依つてこの種の磁気デイスク装置、或いは
磁気ヘツドの低浮上化、CSS方式等を採用した密
封型磁気デイスク装置などに適用して極めて有利
である。
図面は本発明に係る磁気デイスク装置の一実施
例を概念的に示す要部断面図である。 図面において、１は潤滑膜が被覆された磁気デ
イスク、２はハブ機構、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５はデイスク回転駆動機構、６はヘツド
位置決め機構、７は気密収容容器、８は循環雰囲
気流通穴、９はベース部、１０は潤滑剤蒸気発生
源、１１は発生源容器、１２は加熱手段、１３は
フイルタ、１４は温度センサを示す。
例を概念的に示す要部断面図である。 図面において、１は潤滑膜が被覆された磁気デ
イスク、２はハブ機構、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５はデイスク回転駆動機構、６はヘツド
位置決め機構、７は気密収容容器、８は循環雰囲
気流通穴、９はベース部、１０は潤滑剤蒸気発生
源、１１は発生源容器、１２は加熱手段、１３は
フイルタ、１４は温度センサを示す。
Claims (1)
- １ ハブ機構部により一体に支持された磁気デイ
スクが回転駆動機構に装着され、該磁気デイスク
を気密収容容器により密封して成る装置構成にお
いて、上記気密収容容器内に潤滑剤発生源と、該
潤滑剤発生源を加熱して潤滑剤蒸気を発生させる
加熱手段とを配備してなることを特徴とする磁気
デイスク装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9355883A JPS59218669A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 磁気デイスク装置 |
| US06/618,078 US4626941A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-22 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of a disk storage |
| AU28569/84A AU548076B2 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | The mehod and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
| EP84303511A EP0127444B1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| DE8484303511T DE3462190D1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| CA000455122A CA1217561A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-25 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9355883A JPS59218669A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 磁気デイスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59218669A JPS59218669A (ja) | 1984-12-08 |
| JPH0121558B2 true JPH0121558B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=14085574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9355883A Granted JPS59218669A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 磁気デイスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59218669A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2796852B2 (ja) * | 1988-10-31 | 1998-09-10 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 磁気記憶装置及び方法 |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP9355883A patent/JPS59218669A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59218669A (ja) | 1984-12-08 |
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