JPS6363995B2 - - Google Patents
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- JPS6363995B2 JPS6363995B2 JP12009783A JP12009783A JPS6363995B2 JP S6363995 B2 JPS6363995 B2 JP S6363995B2 JP 12009783 A JP12009783 A JP 12009783A JP 12009783 A JP12009783 A JP 12009783A JP S6363995 B2 JPS6363995 B2 JP S6363995B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/148—Reducing friction, adhesion, drag
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
- G11B23/507—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers combined with means for reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B25/00—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus
- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
- G11B25/043—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card using rotating discs
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は磁気デイスク装置に係り、更に詳細に
は表面に少なくとも２種類の潤滑剤によつて多層
状、又は混合層状に潤滑膜が被覆された磁気デイ
スクの該潤滑膜の膜厚及び潤滑特性を常に定常状
態に維持し得るようにした装置構成に関するもの
である。
は表面に少なくとも２種類の潤滑剤によつて多層
状、又は混合層状に潤滑膜が被覆された磁気デイ
スクの該潤滑膜の膜厚及び潤滑特性を常に定常状
態に維持し得るようにした装置構成に関するもの
である。
(b) 技術の背景
近年、磁気デイスク装置においては、磁気デイ
スクの磁性膜の薄膜化、磁気ヘツドの低浮上化等
によつて高記録密度化が図られている。そして上
記磁気ヘツドの低浮上化に加えて、更に停止時に
おいては磁気ヘツドが磁気デイスク面上に接触し
た状態であり、回転速度の上昇と共に該磁気ヘツ
ドを微少に浮上させるようにした、所謂CSS
（Contact Start Stop）方式の採用が進むにつれ
て、回転起動・停止時の接触摺動により磁気ヘツ
ド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等のヘツド
クラツシユが発生し易くなり、これを防止する
為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布するか、或
いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処理を施
すことが一般に行われている。
スクの磁性膜の薄膜化、磁気ヘツドの低浮上化等
によつて高記録密度化が図られている。そして上
記磁気ヘツドの低浮上化に加えて、更に停止時に
おいては磁気ヘツドが磁気デイスク面上に接触し
た状態であり、回転速度の上昇と共に該磁気ヘツ
ドを微少に浮上させるようにした、所謂CSS
（Contact Start Stop）方式の採用が進むにつれ
て、回転起動・停止時の接触摺動により磁気ヘツ
ド及び磁気デイスク表面に摩耗、損傷等のヘツド
クラツシユが発生し易くなり、これを防止する
為、磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布するか、或
いは潤滑膜を被覆するなどの特別な表面処理を施
すことが一般に行われている。
(c) 従来技術と問題点
ところで磁気デイスク装置の高記録密度化に伴
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方磁気デイスク装置としては、塵埃の混
入に起因するヘツドクラツシユを防止するため
に、密封型に移行されつつある。しかし、このよ
うな密封型磁気デイスク装置にあつては、磁気デ
イスクの高速回転に伴つて生ずる空気摩擦（風
損）によつて密封装置内の温度が上昇するため、
通常該内部の雰囲気を自己循環空冷方式によつて
冷却しているが、使用条件によつてはそれでもな
お60〜70℃程度の温度上昇は避けられず、かかる
温度上昇に起因して磁気デイスク表面に施された
潤滑膜が蒸発消失して、その潤滑特性が劣化する
不都合があり、このような不都合を解消し得る耐
熱性の優れた潤滑膜も強く要望されている。
つて磁気ヘツドの低浮上化は益々重要となり、前
記磁気デイスク表面に施された潤滑膜も次第に薄
膜化されて、最近においては100Å前後の極めて
薄い潤滑耐久性の優れた潤滑膜が要求されてい
る。又一方磁気デイスク装置としては、塵埃の混
入に起因するヘツドクラツシユを防止するため
に、密封型に移行されつつある。しかし、このよ
うな密封型磁気デイスク装置にあつては、磁気デ
イスクの高速回転に伴つて生ずる空気摩擦（風
損）によつて密封装置内の温度が上昇するため、
通常該内部の雰囲気を自己循環空冷方式によつて
冷却しているが、使用条件によつてはそれでもな
お60〜70℃程度の温度上昇は避けられず、かかる
温度上昇に起因して磁気デイスク表面に施された
潤滑膜が蒸発消失して、その潤滑特性が劣化する
不都合があり、このような不都合を解消し得る耐
熱性の優れた潤滑膜も強く要望されている。
ちなみに、このような諸要求に対して、従来磁
気デイスク表面に潤滑膜を形成する場合に用いら
れている一般的な潤滑剤としては、例えばパラフ
イン、高級アルコール、高級脂肪酸、高級脂肪酸
のエステル化物等の炭化水素系の潤滑剤、或い
は、それらの弗化物である例えばフロロカーボン
系油、Si―Si結合基から成るシリコン系油等の潤
滑剤、更に二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、黒鉛、弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤があ
り、これらは単独、又は複合の形で用いられてい
る。上記潤滑剤の内、炭化水素系の潤滑剤、特に
高級脂肪酸やそのエステル化物によつて形成され
た潤滑膜は、潤滑特性が優れているため潤滑耐久
性の向上に優れた効果があるが、その反面、60〜
70℃の高温雰囲気中において徐々に蒸発消失して
潤滑性が失われて行くといつた耐熱性が劣る欠点
がある。またフロロカーボン系油やシリコン系油
等によつて形成された潤滑膜は、耐熱性では優れ
た特性を有しているが、潤滑特性が劣る。更に二
硫化モリブデン等からなる固体潤滑剤は、微粉末
状である為、一般に液状又は半固体グリース状の
潤滑剤と混合して用いられているが、該潤滑剤の
粒径がミクロンオーダである為薄膜化が難しい。
気デイスク表面に潤滑膜を形成する場合に用いら
れている一般的な潤滑剤としては、例えばパラフ
イン、高級アルコール、高級脂肪酸、高級脂肪酸
のエステル化物等の炭化水素系の潤滑剤、或い
は、それらの弗化物である例えばフロロカーボン
系油、Si―Si結合基から成るシリコン系油等の潤
滑剤、更に二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、黒鉛、弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤があ
り、これらは単独、又は複合の形で用いられてい
る。上記潤滑剤の内、炭化水素系の潤滑剤、特に
高級脂肪酸やそのエステル化物によつて形成され
た潤滑膜は、潤滑特性が優れているため潤滑耐久
性の向上に優れた効果があるが、その反面、60〜
70℃の高温雰囲気中において徐々に蒸発消失して
潤滑性が失われて行くといつた耐熱性が劣る欠点
がある。またフロロカーボン系油やシリコン系油
等によつて形成された潤滑膜は、耐熱性では優れ
た特性を有しているが、潤滑特性が劣る。更に二
硫化モリブデン等からなる固体潤滑剤は、微粉末
状である為、一般に液状又は半固体グリース状の
潤滑剤と混合して用いられているが、該潤滑剤の
粒径がミクロンオーダである為薄膜化が難しい。
従つて、高記録密度化の為の潤滑耐久性、耐熱
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得るこが至難である
ことはもとより、このような潤滑膜を被覆形成し
た磁気デイスクを密封型磁気デイスク装置に用い
た場合、ヘツドクラツシユ障害は免れず、高密度
記録或いは再生を行うことが困難であつた。
性に優れた超薄膜の潤滑膜を得るこが至難である
ことはもとより、このような潤滑膜を被覆形成し
た磁気デイスクを密封型磁気デイスク装置に用い
た場合、ヘツドクラツシユ障害は免れず、高密度
記録或いは再生を行うことが困難であつた。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の実情に鑑み、蒸発する条件
下にある物質は、その物質の飽和蒸気の雰囲気中
において蒸発しないと云う原理に基づいて、密封
型磁気デイスク装置内で回転駆動中の磁気デイス
ク表面の潤滑膜、特に、少なくとも２種類の潤滑
剤によつて多層に被覆された潤滑膜、又はそれら
の潤滑剤を混合して被覆された潤滑膜の蒸発消失
を抑制して、該潤滑膜を常に良好な潤滑特性を有
する定常状態に維持し得る新規な磁気デイスク装
置を提供することを目的とするものである。
下にある物質は、その物質の飽和蒸気の雰囲気中
において蒸発しないと云う原理に基づいて、密封
型磁気デイスク装置内で回転駆動中の磁気デイス
ク表面の潤滑膜、特に、少なくとも２種類の潤滑
剤によつて多層に被覆された潤滑膜、又はそれら
の潤滑剤を混合して被覆された潤滑膜の蒸発消失
を抑制して、該潤滑膜を常に良好な潤滑特性を有
する定常状態に維持し得る新規な磁気デイスク装
置を提供することを目的とするものである。
(e) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、表面に少な
くとも２種類の潤滑剤によつて多層状、又は混合
層状に潤滑膜が被覆されたハブ機構部により一体
に支持された磁気デイスクが気密収容蓋体内に密
封された磁気デイスク装置構成において、上記気
密装置内に、前記磁気デイスク表面に被覆された
潤滑膜を構成する少なくとも２種類の潤滑剤の
内、温度上昇で最も蒸発し易い潤滑剤からなる蒸
発源を配置したことを特徴とする磁気デイスク装
置を提供することによつて達成される。
くとも２種類の潤滑剤によつて多層状、又は混合
層状に潤滑膜が被覆されたハブ機構部により一体
に支持された磁気デイスクが気密収容蓋体内に密
封された磁気デイスク装置構成において、上記気
密装置内に、前記磁気デイスク表面に被覆された
潤滑膜を構成する少なくとも２種類の潤滑剤の
内、温度上昇で最も蒸発し易い潤滑剤からなる蒸
発源を配置したことを特徴とする磁気デイスク装
置を提供することによつて達成される。
(f) 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の一実施例について詳
細に説明する。
細に説明する。
図はかかる実施例を概念的に示す要部断面図で
ある。図において、１は表裏面に例えば高級脂肪
酸の一種であるミリスチン酸よりは潤滑性が劣
り、かつ融点が比較的高いベヘン酸からなる第一
の潤滑膜と、その上面に潤滑性の優れたミリスチ
ン酸からなる第二の潤滑膜を積層した二層構造の
潤滑膜（図示省略）を、全体で約100Å程度の厚
さに被覆形成して成る磁気デイスク、２は複数の
磁気デイスク１が一体に支持され、かつ回転駆動
機構５の回転軸６に装着されたハブ機構部、３は
ハブ機構部２の中心通気穴、４は前記中心通気穴
３と連通して各磁気デイスク１相互間に循環雰囲
気を流出させる通気小孔であり、前記中心通気穴
３の内壁面には、各通気小孔４口を覆うようにフ
イルタ７が添設されている。又８は前記磁気デイ
スク１をベース部１１上に密封した気密収容蓋体
であり、その内壁面９には、例えば該内壁面９を
凹凸な粗面状、或いは多孔面状に加工処理した状
態で、その表面に前記磁気デイスク表面に被覆さ
れた二層構造の潤滑膜を構成する潤滑剤の内、温
度上昇（例えば60〜70℃）で最も蒸発し易く、潤
滑性の優れたミリスチン酸からなる潤滑剤を蒸着
法等により被着した蒸発源潤滑膜１０が付設され
ている。
ある。図において、１は表裏面に例えば高級脂肪
酸の一種であるミリスチン酸よりは潤滑性が劣
り、かつ融点が比較的高いベヘン酸からなる第一
の潤滑膜と、その上面に潤滑性の優れたミリスチ
ン酸からなる第二の潤滑膜を積層した二層構造の
潤滑膜（図示省略）を、全体で約100Å程度の厚
さに被覆形成して成る磁気デイスク、２は複数の
磁気デイスク１が一体に支持され、かつ回転駆動
機構５の回転軸６に装着されたハブ機構部、３は
ハブ機構部２の中心通気穴、４は前記中心通気穴
３と連通して各磁気デイスク１相互間に循環雰囲
気を流出させる通気小孔であり、前記中心通気穴
３の内壁面には、各通気小孔４口を覆うようにフ
イルタ７が添設されている。又８は前記磁気デイ
スク１をベース部１１上に密封した気密収容蓋体
であり、その内壁面９には、例えば該内壁面９を
凹凸な粗面状、或いは多孔面状に加工処理した状
態で、その表面に前記磁気デイスク表面に被覆さ
れた二層構造の潤滑膜を構成する潤滑剤の内、温
度上昇（例えば60〜70℃）で最も蒸発し易く、潤
滑性の優れたミリスチン酸からなる潤滑剤を蒸着
法等により被着した蒸発源潤滑膜１０が付設され
ている。
尚、当図においては説明を簡単化するため、従
来と構成が特に変わらない磁気ヘツド、及びヘツ
ドアクチユエータ等は省略している。
来と構成が特に変わらない磁気ヘツド、及びヘツ
ドアクチユエータ等は省略している。
上記のように磁気デイスク装置における気密収
容蓋体８の内壁面９に、易蒸発性の蒸発源潤滑膜
１０を付設した構成とすれば、前記磁気デイスク
１の高速回転により生ずる空気摩擦（風損）によ
つて発生した熱空気流が、図中矢印で示すように
気密収容蓋体８の内壁面９に沿つて循環し、該内
壁面９に付設された前記蒸発源潤滑膜１０を加熱
してミリスチン酸からなる潤滑剤蒸気を発生させ
る。発生した潤滑剤蒸気は、前記熱空気流と共に
ハブ機構部２の中心通気穴３内に上下方向より流
入し、フイルタ７を通つて潤滑剤等の粉塵、潤滑
剤蒸気の大粒子等を排除し、その清浄な潤滑剤蒸
気が、連通する各通気小孔４より各磁気デイスク
１相互間に流出し、該磁気デイスク１を取り巻く
ように気密収容蓋体８内を繰り返し循環されるこ
とになる。此の時前記気密収容蓋体８内の温度は
60〜70℃程度になつている。
容蓋体８の内壁面９に、易蒸発性の蒸発源潤滑膜
１０を付設した構成とすれば、前記磁気デイスク
１の高速回転により生ずる空気摩擦（風損）によ
つて発生した熱空気流が、図中矢印で示すように
気密収容蓋体８の内壁面９に沿つて循環し、該内
壁面９に付設された前記蒸発源潤滑膜１０を加熱
してミリスチン酸からなる潤滑剤蒸気を発生させ
る。発生した潤滑剤蒸気は、前記熱空気流と共に
ハブ機構部２の中心通気穴３内に上下方向より流
入し、フイルタ７を通つて潤滑剤等の粉塵、潤滑
剤蒸気の大粒子等を排除し、その清浄な潤滑剤蒸
気が、連通する各通気小孔４より各磁気デイスク
１相互間に流出し、該磁気デイスク１を取り巻く
ように気密収容蓋体８内を繰り返し循環されるこ
とになる。此の時前記気密収容蓋体８内の温度は
60〜70℃程度になつている。
依つて回転中の各磁気デイスク１表面の前記二
層構造の潤滑膜が高速回転時の空気摩擦による温
度上昇に起因して主に選択的に蒸発するミリスチ
ン酸からなる潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該各磁気デ
イスク１表面の前記潤滑膜を取り巻くミリスチン
酸からなる循環潤滑剤蒸気の蒸気圧とが略平衡状
態となり、前記回転中の各磁気デイスク１表面の
潤滑膜の蒸発が阻止され、常に良好な潤滑特性を
有する定常状態に、容易に維持することが可能と
なる。ちなみに、従来蒸発源潤滑膜がない場合
は、200時間経過後のCSS操作で磁気デイスク１
の表面に擦傷などのヘツドクラツシユが発生し、
潤滑膜の摩擦係数が0.45以上あり、潤滑膜が飛
散・消失したのに対して、上記のように磁気デイ
スク１を潤滑剤蒸気雰囲気中で高速回転した場
合、CSS操作を100回繰り返しても、磁気デイス
ク１表面に擦傷などのヘツドクラツシユの発生は
見られず、又該磁気デイスク１表面の潤滑膜の摩
擦係数も0.15〜0.18と、高速回転当初からの潤滑
特性が変化することなく良好に維持されているこ
とが確認できた。
層構造の潤滑膜が高速回転時の空気摩擦による温
度上昇に起因して主に選択的に蒸発するミリスチ
ン酸からなる潤滑剤蒸気の蒸気圧と、該各磁気デ
イスク１表面の前記潤滑膜を取り巻くミリスチン
酸からなる循環潤滑剤蒸気の蒸気圧とが略平衡状
態となり、前記回転中の各磁気デイスク１表面の
潤滑膜の蒸発が阻止され、常に良好な潤滑特性を
有する定常状態に、容易に維持することが可能と
なる。ちなみに、従来蒸発源潤滑膜がない場合
は、200時間経過後のCSS操作で磁気デイスク１
の表面に擦傷などのヘツドクラツシユが発生し、
潤滑膜の摩擦係数が0.45以上あり、潤滑膜が飛
散・消失したのに対して、上記のように磁気デイ
スク１を潤滑剤蒸気雰囲気中で高速回転した場
合、CSS操作を100回繰り返しても、磁気デイス
ク１表面に擦傷などのヘツドクラツシユの発生は
見られず、又該磁気デイスク１表面の潤滑膜の摩
擦係数も0.15〜0.18と、高速回転当初からの潤滑
特性が変化することなく良好に維持されているこ
とが確認できた。
尚、以上の実施例では、前記気密収容容器７内
の磁気デイスク１表裏面は勿論のこと、これ以外
の機能部分にも潤滑剤が被着されることになる
が、当該潤滑膜は極めて薄く装置の機能を特に損
なうようなことはない。又本実施例では、潤滑剤
蒸気発生用の蒸発源を、気密収容蓋体８の内壁面
９に潤滑膜１０の形で付設した場合の例について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、当該密封装置内の適所に配置するか、或い
は必要に応じて加熱ヒータ付きで配置するように
してもよい。更に当該密封装置内に配置する潤滑
剤蒸気発生用の蒸発源としては、本実施例で説明
したミリスチン酸に限定されるものではなく、例
えば対象とする磁気デイスク１表面の潤滑膜が、
セロチン酸からなる第一の潤滑膜と、その上面に
ステアリン酸からなる第二の潤滑膜を積層した二
層構造の潤滑膜、或いはセロチン酸からなる潤滑
剤とステアリン酸からなる潤滑剤とを当量に混合
した混合層状の潤滑膜等である場合、両者の潤滑
剤の内で最も蒸発し易く、潤滑性の優れたステア
リン酸からなる潤滑剤を用いるようにすればよ
く、同様の効果が得られる。更に、易蒸発性の高
級脂肪族アルコール、高級脂肪酸のエステル化
物、弗素化系油なども適用である。
の磁気デイスク１表裏面は勿論のこと、これ以外
の機能部分にも潤滑剤が被着されることになる
が、当該潤滑膜は極めて薄く装置の機能を特に損
なうようなことはない。又本実施例では、潤滑剤
蒸気発生用の蒸発源を、気密収容蓋体８の内壁面
９に潤滑膜１０の形で付設した場合の例について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、当該密封装置内の適所に配置するか、或い
は必要に応じて加熱ヒータ付きで配置するように
してもよい。更に当該密封装置内に配置する潤滑
剤蒸気発生用の蒸発源としては、本実施例で説明
したミリスチン酸に限定されるものではなく、例
えば対象とする磁気デイスク１表面の潤滑膜が、
セロチン酸からなる第一の潤滑膜と、その上面に
ステアリン酸からなる第二の潤滑膜を積層した二
層構造の潤滑膜、或いはセロチン酸からなる潤滑
剤とステアリン酸からなる潤滑剤とを当量に混合
した混合層状の潤滑膜等である場合、両者の潤滑
剤の内で最も蒸発し易く、潤滑性の優れたステア
リン酸からなる潤滑剤を用いるようにすればよ
く、同様の効果が得られる。更に、易蒸発性の高
級脂肪族アルコール、高級脂肪酸のエステル化
物、弗素化系油なども適用である。
(g) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る
磁気デイスク装置の構造によれば、密封装置内が
高温になつても、少なくとも２種類の潤滑剤によ
つて被覆してなる磁気デイスク表面の潤滑膜の蒸
発消失が容易に抑制され、該潤滑膜の膜厚、及び
潤滑特性を常に良好な定常状態に維持することが
できる優れた利点を有する。依つてこの種の磁気
デイスク装置、特に磁気ヘツドの低浮上化、CSS
方式等を採用した密封型磁気デイスク装置などに
適用して極めて有利である。
磁気デイスク装置の構造によれば、密封装置内が
高温になつても、少なくとも２種類の潤滑剤によ
つて被覆してなる磁気デイスク表面の潤滑膜の蒸
発消失が容易に抑制され、該潤滑膜の膜厚、及び
潤滑特性を常に良好な定常状態に維持することが
できる優れた利点を有する。依つてこの種の磁気
デイスク装置、特に磁気ヘツドの低浮上化、CSS
方式等を採用した密封型磁気デイスク装置などに
適用して極めて有利である。
図面は本発明に係る磁気デイスク装置の一実施
例を概念的に示す要部断面図である。 図面において、１は少なくとも２種類の潤滑剤
によつて構造される潤滑膜が被覆された磁気デイ
スク、２はハブ機構部、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５は回転駆動機構、６は回転軸、７はフ
イルタ、８は気密収容蓋体、９は気密収容蓋体８
の内壁面、１０は蒸発源潤滑膜、１１はベース部
を示す。
例を概念的に示す要部断面図である。 図面において、１は少なくとも２種類の潤滑剤
によつて構造される潤滑膜が被覆された磁気デイ
スク、２はハブ機構部、３は中心通気穴、４は通
気小孔、５は回転駆動機構、６は回転軸、７はフ
イルタ、８は気密収容蓋体、９は気密収容蓋体８
の内壁面、１０は蒸発源潤滑膜、１１はベース部
を示す。
Claims (1)
- １ 表面に少なくとも２種類の潤滑剤によつて多
層状、又は混合層状に潤滑膜が被覆された磁気デ
イスクが、気密収容蓋体内に密封された磁気デイ
スク装置において、上記気密装置内に、前記磁気
デイスク表面に被覆された潤滑膜を構成する少な
くとも２種類の潤滑剤の内、温度上昇で最も蒸発
し易い潤滑剤からなる蒸発源を配置したことを特
徴とする磁気デイスク装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12009783A JPS6013370A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
| US06/618,078 US4626941A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-22 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of a disk storage |
| EP84303511A EP0127444B1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| DE8484303511T DE3462190D1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| AU28569/84A AU548076B2 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | The mehod and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
| CA000455122A CA1217561A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-25 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12009783A JPS6013370A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6013370A JPS6013370A (ja) | 1985-01-23 |
| JPS6363995B2 true JPS6363995B2 (ja) | 1988-12-09 |
Family
ID=14777834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12009783A Granted JPS6013370A (ja) | 1983-05-26 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013370A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63240447A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Tokai Rika Co Ltd | ハンドルとステアリング・コラムとの電気的接続装置 |
| JPH0557790U (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-30 | 三菱自動車エンジニアリング株式会社 | ステアリング用ロールコネクタのニュートラル位置検出装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2778333B2 (ja) * | 1992-01-31 | 1998-07-23 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶装置 |
| JP2610102B2 (ja) * | 1994-03-17 | 1997-05-14 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気デイスク装置 |
| JP3709155B2 (ja) * | 1994-11-18 | 2005-10-19 | 株式会社細川洋行 | バッグインボックス用袋体およびバッグインボックス |
| FR2781202B1 (fr) * | 1998-07-16 | 2001-01-12 | Stedim Sa | Poches pour produits fluides bio-pharmaceutiques |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP12009783A patent/JPS6013370A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63240447A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Tokai Rika Co Ltd | ハンドルとステアリング・コラムとの電気的接続装置 |
| JPH0557790U (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-30 | 三菱自動車エンジニアリング株式会社 | ステアリング用ロールコネクタのニュートラル位置検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6013370A (ja) | 1985-01-23 |
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