JPS6118430A - 触媒充填方法および触媒充填装置 - Google Patents
触媒充填方法および触媒充填装置Info
- Publication number
- JPS6118430A JPS6118430A JP13848884A JP13848884A JPS6118430A JP S6118430 A JPS6118430 A JP S6118430A JP 13848884 A JP13848884 A JP 13848884A JP 13848884 A JP13848884 A JP 13848884A JP S6118430 A JPS6118430 A JP S6118430A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- reaction tower
- filling
- packing
- reaction
- Prior art date
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- Granted
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、化学工業で使用する大容量の筒形反応塔の内
部に顆粒状の触媒を充填する触媒充填方法および触媒充
填装置に関する。
部に顆粒状の触媒を充填する触媒充填方法および触媒充
填装置に関する。
［背景技術とその問題点］
従来、大容量の筒形の反応塔への顆粒状の触媒の充填は
、塔外上部のホッパーから触媒を、反応塔内に吊下させ
た充填パイプに導き、充填パイプの下端にフレキシブル
パイプを接続し、塔内に入った作業員がこれを操作して
触媒を散布し、レーキ等で平にならしていた。この充填
作業により充填床のレベルが上昇して作業が困難になる
と、その都度作業を中断して充填パイプの中間パイプを
取外し、これを短くして作業を再開し、これを繰返すと
いう方法を採っていた。
、塔外上部のホッパーから触媒を、反応塔内に吊下させ
た充填パイプに導き、充填パイプの下端にフレキシブル
パイプを接続し、塔内に入った作業員がこれを操作して
触媒を散布し、レーキ等で平にならしていた。この充填
作業により充填床のレベルが上昇して作業が困難になる
と、その都度作業を中断して充填パイプの中間パイプを
取外し、これを短くして作業を再開し、これを繰返すと
いう方法を採っていた。
このため、作業の効率が悪くて徒らに長時間を要し、ま
た、作業者が充填した触媒を踏み締めるため触媒の充填
密度にむらを生じ、並置された反応塔相互間でも充填密
度に相違を来し、これらに反応用流体を流すとき触媒層
の差圧に大幅の異同を生じて、製品の品質や歩溜りを悪
くし、ひどいときは、装置の運転の継続に支障を来すと
いう不具合があった。
た、作業者が充填した触媒を踏み締めるため触媒の充填
密度にむらを生じ、並置された反応塔相互間でも充填密
度に相違を来し、これらに反応用流体を流すとき触媒層
の差圧に大幅の異同を生じて、製品の品質や歩溜りを悪
くし、ひどいときは、装置の運転の継続に支障を来すと
いう不具合があった。
また、この充填作業は、触媒の粉の群上る中で行なわれ
るため、作業環境が極めて悪く、この点でも何らかの対
策が望まれていた。
るため、作業環境が極めて悪く、この点でも何らかの対
策が望まれていた。
ところで、顆粒状触媒の中には衝撃によって容易に粉化
するものが多く、１ｍ以上の高さからの自然落下でも壊
れて粉になり、触媒機能が低下するとともに、充填むら
を大きくしてしまうものがある。このような場合は、フ
レキシブルチューブの先端を作業員が手で絞って静かに
散布し、表面をならす必要があり、これには熟練作業者
の慎重かつ長時間の作業を要していた。 ′従って
、これらの問題を解決する装置の出現が強く望まれてい
た。
するものが多く、１ｍ以上の高さからの自然落下でも壊
れて粉になり、触媒機能が低下するとともに、充填むら
を大きくしてしまうものがある。このような場合は、フ
レキシブルチューブの先端を作業員が手で絞って静かに
散布し、表面をならす必要があり、これには熟練作業者
の慎重かつ長時間の作業を要していた。 ′従って
、これらの問題を解決する装置の出現が強く望まれてい
た。
［発明の目的］
本発明の目的は、作業者による散布やならし作業に頼る
ことなく、しかも顆粒を粉化させない穏やかさで、触媒
を反応塔内に均一な密度に充填することのできる触媒充
填方法およびその装置を提供するにある。
ことなく、しかも顆粒を粉化させない穏やかさで、触媒
を反応塔内に均一な密度に充填することのできる触媒充
填方法およびその装置を提供するにある。
［発明の構成ｊ
本発明の方法は、触媒を反応塔内にほぼ均等に放出でき
る触媒放出器を反応塔内に昇降可能に吊下げるとともに
、この触媒放出器と、反応塔内に充填される触媒の表面
との距離がほぼ所定の範囲内におさまるように触媒放出
器を上昇させながら、反応塔内に触媒を順次充填してゆ
くものである。
る触媒放出器を反応塔内に昇降可能に吊下げるとともに
、この触媒放出器と、反応塔内に充填される触媒の表面
との距離がほぼ所定の範囲内におさまるように触媒放出
器を上昇させながら、反応塔内に触媒を順次充填してゆ
くものである。
本発明の装置は、反応塔の塔外から昇降の可能なゴンド
ラを、はぼ反応の中心輪に沿って反応塔内に吊し、この
ゴンドラには、触媒を下方および半径方向周縁に向って
放出可能な触媒放出器を載せ、更にこの触媒放出器上に
連通されるとともに塔外のホッパーに連通される触媒補
給装置を設け、これにより触媒補給装置から触媒放出器
に触媒を供給して触媒放出器から順次反応塔内に放出し
て反応塔内に触媒を順次充填し、この充填に伴い触媒放
出器を順次ゴンドラと共に引上げるようにして反応塔内
に所定量の触媒を充填するようにし、前記目的を達成し
ようとするものである。
ラを、はぼ反応の中心輪に沿って反応塔内に吊し、この
ゴンドラには、触媒を下方および半径方向周縁に向って
放出可能な触媒放出器を載せ、更にこの触媒放出器上に
連通されるとともに塔外のホッパーに連通される触媒補
給装置を設け、これにより触媒補給装置から触媒放出器
に触媒を供給して触媒放出器から順次反応塔内に放出し
て反応塔内に触媒を順次充填し、この充填に伴い触媒放
出器を順次ゴンドラと共に引上げるようにして反応塔内
に所定量の触媒を充填するようにし、前記目的を達成し
ようとするものである。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面に基いて説明する。
第１図ないし第３図には本発明の一実施例が示されてい
る。第１図において、大容積の筒形反応塔１の中心軸部
には、充填制御器２を備えたウィンチ３からワイヤー４
を介してゴンドラ５が吊下げられている。このゴンドラ
５の下端には回転数調整可能なエアモータ６が取付けら
れ、このモータ６には、円錐形状の触媒分配器７と、浅
皿状部材８とが同輪に、かつ１回転軸を前記の中心輪に
平行にして連結され、これらのエアモータ６、触媒分配
器７および浅皿状部材８により触媒放出器９が構成され
ている。
る。第１図において、大容積の筒形反応塔１の中心軸部
には、充填制御器２を備えたウィンチ３からワイヤー４
を介してゴンドラ５が吊下げられている。このゴンドラ
５の下端には回転数調整可能なエアモータ６が取付けら
れ、このモータ６には、円錐形状の触媒分配器７と、浅
皿状部材８とが同輪に、かつ１回転軸を前記の中心輪に
平行にして連結され、これらのエアモータ６、触媒分配
器７および浅皿状部材８により触媒放出器９が構成され
ている。
前記反応塔１内に充填される顆粒状の触媒３０は、格外
上部のホッパー１０内に収納されており、このホッパー
ＩＯから送出パイプｔｉを介して触媒補給装置としての
充填用シュート１２の入口１３に送られ、充填用シュー
ト１２の下部の出「１１４はゴンドラ５の上部に達して
ゴンドラ５に固定され、更にゴンドラ５内に形成された
導孔５１を経由して触媒分配器７の上部に近接して開口
連通されている。
上部のホッパー１０内に収納されており、このホッパー
ＩＯから送出パイプｔｉを介して触媒補給装置としての
充填用シュート１２の入口１３に送られ、充填用シュー
ト１２の下部の出「１１４はゴンドラ５の上部に達して
ゴンドラ５に固定され、更にゴンドラ５内に形成された
導孔５１を経由して触媒分配器７の上部に近接して開口
連通されている。
前記触媒分配器７は、前記導孔５１の開口部から受取っ
た触媒３０を速度を遅くして浅皿状部材８上にほぼ均等
に散布し得るようになっている６また、導孔５１には図
示しないシャッタが取付けられており１図示しない外部
のスイッチによって開閉されるようになっている。
た触媒３０を速度を遅くして浅皿状部材８上にほぼ均等
に散布し得るようになっている６また、導孔５１には図
示しないシャッタが取付けられており１図示しない外部
のスイッチによって開閉されるようになっている。
前記充填用シュート１２は、第２図に示されるように、
ファスナ１５．１５等で筒形に結合される例えば４枚の
可撓性帯体１６，１６等で構成され、シュート１２の下
方の反応塔１内部ではファスナ１５が閉じられ、反応塔
ｌの外部では、ファスナ１５のスライダ１７が反応塔ｌ
の上方に設けられた図示しないスライダ開閉具により可
撓性帯体１６の上昇に伴って作動されてファスナ１５が
開かれ、分離された可撓性帯体１６．１６等はそれぞれ
債別にドラム１８．１８等に巻き取られるようになって
いる。この際、可撓性帯体１６の下降に伴って前記スラ
イダ開閉具によるファスナ１５の閉止が自動的に行われ
るようになっている。
ファスナ１５．１５等で筒形に結合される例えば４枚の
可撓性帯体１６，１６等で構成され、シュート１２の下
方の反応塔１内部ではファスナ１５が閉じられ、反応塔
ｌの外部では、ファスナ１５のスライダ１７が反応塔ｌ
の上方に設けられた図示しないスライダ開閉具により可
撓性帯体１６の上昇に伴って作動されてファスナ１５が
開かれ、分離された可撓性帯体１６．１６等はそれぞれ
債別にドラム１８．１８等に巻き取られるようになって
いる。この際、可撓性帯体１６の下降に伴って前記スラ
イダ開閉具によるファスナ１５の閉止が自動的に行われ
るようになっている。
前記ゴンドラ５の側面には、レベルセンサー２１が取付
けられ、このセンサー２１により、反応塔ｌ内に充填さ
れる触媒３０の表面からのゴンドラ５ひいては浅皿状部
材８の高さが検出され、この検出信号が前記充填制御器
２に送られ、この信号に基づいてウィンチ３が駆動制御
されるようになっている。
けられ、このセンサー２１により、反応塔ｌ内に充填さ
れる触媒３０の表面からのゴンドラ５ひいては浅皿状部
材８の高さが検出され、この検出信号が前記充填制御器
２に送られ、この信号に基づいてウィンチ３が駆動制御
されるようになっている。
前記反応塔ｌの下部の開口端付近の底部には、流体整流
および触媒支持用のポール状の粗大粒材２２が敷かれて
おり、この粗大粒材２２上に前記触媒３０が散布され、
充填されるようになっている。
および触媒支持用のポール状の粗大粒材２２が敷かれて
おり、この粗大粒材２２上に前記触媒３０が散布され、
充填されるようになっている。
前記触媒放出器９の触媒分配器７と浅皿状部材８とは、
第３図に半断面斜視図で拡大して示されている。即ち、
触媒分配器７は、截頭円錐筒７１、この円錐筒７１を回
転軸２３に連結するとともに螺旋状に傾斜された複数の
リプ７２等から構成されており、また、回転軸２３の下
端に取付けられた浅皿状部材８には複数、例えば６個の
立上った板状のウェア２５と、これら各ウェア２５の間
において複数、例えば６個のスリット２６が設けられた
構造とされている。
第３図に半断面斜視図で拡大して示されている。即ち、
触媒分配器７は、截頭円錐筒７１、この円錐筒７１を回
転軸２３に連結するとともに螺旋状に傾斜された複数の
リプ７２等から構成されており、また、回転軸２３の下
端に取付けられた浅皿状部材８には複数、例えば６個の
立上った板状のウェア２５と、これら各ウェア２５の間
において複数、例えば６個のスリット２６が設けられた
構造とされている。
次に、本実施例の触媒充填操作を説明する。
はじめに、反応塔ｌの上部の入口にゴンドラ５を吊し、
ウィンチ３のワイヤ４を繰出し方向に駆動させてゴンド
ラ５を降下させながら、これに同期してドラム１８．１
８等を同じく繰出し方向に駆動させて可撓性帯体１６，
１６等を降下させると、前記スライダ開閉具によりスラ
イダ１８が作動されてファスナ１５．１５等が遂次閉じ
られて充填用シュート１２が作られてゆく。このシュー
ト１２の下降と同時にホッパーｌＯの出口扉（図示せず
）が開かれて充填用シュー）１２の中に穏かに触媒３０
が充填されてゆく。このとき、充填用シュート１２の下
部の出口１４に連通する前記導孔５１のシャッタは閉じ
られたままとされている。
ウィンチ３のワイヤ４を繰出し方向に駆動させてゴンド
ラ５を降下させながら、これに同期してドラム１８．１
８等を同じく繰出し方向に駆動させて可撓性帯体１６，
１６等を降下させると、前記スライダ開閉具によりスラ
イダ１８が作動されてファスナ１５．１５等が遂次閉じ
られて充填用シュート１２が作られてゆく。このシュー
ト１２の下降と同時にホッパーｌＯの出口扉（図示せず
）が開かれて充填用シュー）１２の中に穏かに触媒３０
が充填されてゆく。このとき、充填用シュート１２の下
部の出口１４に連通する前記導孔５１のシャッタは閉じ
られたままとされている。
このようにしてシュート１２内に触媒３０が充填されな
がらゴンドラ５が粗大粒材２２上の所定の高さ、例えば
１ｍ以下の高さに達したとき、センサー２工によってそ
れが検知されて充填制御器２に信号が伝えられると、ゴ
ンドラ５、シュート１２等の降下が停止され、以下この
制御器２で制御されながら触媒３０の反応塔１内への充
填動作が行われる。
がらゴンドラ５が粗大粒材２２上の所定の高さ、例えば
１ｍ以下の高さに達したとき、センサー２工によってそ
れが検知されて充填制御器２に信号が伝えられると、ゴ
ンドラ５、シュート１２等の降下が停止され、以下この
制御器２で制御されながら触媒３０の反応塔１内への充
填動作が行われる。
即ち、モータ６が回転されて触媒分配器７と浅皿状部材
８が所定の速度で回転されるとともに、導孔５１のシャ
ッタが開かれて充填用シュート１２の出口から触媒３０
が触媒分配器７内にそそがれ、触媒３０の流速と流出方
向が調整されてその下方の浅皿状部材８上に触媒３０が
略均−に落下される。この触媒３０は、浅皿状部材８の
スリット２６とウェア２５との働きによって反応塔ｌの
内部にまんべんなく散布される。即ち、スリット２６、
ウェア２５の形状は、前記回転の回転数、触媒３０の送
出量とともに触媒３０のまんべんのない散布を保証する
もので、スリット２６は下方への落下を適度にし、ウェ
ア２５は遠心力による遠心的放出をうながし、かつ、浅
皿状部材８の周縁からの均一散布を許し、この両者が協
調動作して均一散布が行われる。この際、ウェア２５お
よびスリット２６の形状は、事前の入念な実験によって
決定されている。また、触媒放出器９の工アモータ６の
回転数は、触媒の種類１粒径により適宜な値となるよう
設定されている。
８が所定の速度で回転されるとともに、導孔５１のシャ
ッタが開かれて充填用シュート１２の出口から触媒３０
が触媒分配器７内にそそがれ、触媒３０の流速と流出方
向が調整されてその下方の浅皿状部材８上に触媒３０が
略均−に落下される。この触媒３０は、浅皿状部材８の
スリット２６とウェア２５との働きによって反応塔ｌの
内部にまんべんなく散布される。即ち、スリット２６、
ウェア２５の形状は、前記回転の回転数、触媒３０の送
出量とともに触媒３０のまんべんのない散布を保証する
もので、スリット２６は下方への落下を適度にし、ウェ
ア２５は遠心力による遠心的放出をうながし、かつ、浅
皿状部材８の周縁からの均一散布を許し、この両者が協
調動作して均一散布が行われる。この際、ウェア２５お
よびスリット２６の形状は、事前の入念な実験によって
決定されている。また、触媒放出器９の工アモータ６の
回転数は、触媒の種類１粒径により適宜な値となるよう
設定されている。
充填によって触媒３０のレベルが上昇し、充填された触
媒３０の表面と浅皿状部材８との高さの差が所定値、例
えば３０ｃｍ以下になると、それはレベルセンサー２１
で検出され、ウィンチ３およびドラム１８．１８等が所
定量巻上げられ、前記高さの差が１ｍ近傍になったとき
に停止される。
媒３０の表面と浅皿状部材８との高さの差が所定値、例
えば３０ｃｍ以下になると、それはレベルセンサー２１
で検出され、ウィンチ３およびドラム１８．１８等が所
定量巻上げられ、前記高さの差が１ｍ近傍になったとき
に停止される。
以下、この動作は浅皿状部材８が上昇して、反応塔ｌの
上部開口部の設定高さに達するまで継続され、反応塔ｌ
内への触媒３０の所定量の充填が行われて充填作業が終
了されるものである。
上部開口部の設定高さに達するまで継続され、反応塔ｌ
内への触媒３０の所定量の充填が行われて充填作業が終
了されるものである。
上述のような本実施例によれば、触媒３０は作業員の手
を煩わすことなく円滑かつ迅速に反応塔ｌ内に充填でき
、作業能率を向上できる。また。
を煩わすことなく円滑かつ迅速に反応塔ｌ内に充填でき
、作業能率を向上できる。また。
その充填も穏やかに行なわれて粉化が防止され、触媒３
０の性能の低下が生じることがない。更に、充填密度が
一定にされて嵩密度を増大でき、かつ、この充填状態は
反応塔ｌが違っても変ることかないため、並列された反
応塔ｌにおける処理流体の差圧等が発生することがない
。
０の性能の低下が生じることがない。更に、充填密度が
一定にされて嵩密度を増大でき、かつ、この充填状態は
反応塔ｌが違っても変ることかないため、並列された反
応塔ｌにおける処理流体の差圧等が発生することがない
。
なお、実施にあたり、レベルセンサー２１、充填制御器
２等はこれを簡略化または省略して制御を反応塔外の作
業員に委ねてもよく、触媒分配器７も別の形状にするか
、全く設けないようにしてもよい。充填用シュート１２
などの触媒補給装置についても同様であって１例えばシ
ュー）１２のファスナ“１５の数、従って可撓性帯体１
６等の数は、これを変更し、例えばそれらを１個宛にし
て単一のドラム１８に巻取るような構成にしてもよい。
２等はこれを簡略化または省略して制御を反応塔外の作
業員に委ねてもよく、触媒分配器７も別の形状にするか
、全く設けないようにしてもよい。充填用シュート１２
などの触媒補給装置についても同様であって１例えばシ
ュー）１２のファスナ“１５の数、従って可撓性帯体１
６等の数は、これを変更し、例えばそれらを１個宛にし
て単一のドラム１８に巻取るような構成にしてもよい。
また、第４図に示されるように、シュート１２の代りに
ファスナのない撓み管２７にして、ホッパー１０ともど
も、昇降させる構成にすることもできる。この際、ホッ
パーｌＯ内の触媒３０を適宜な流体圧送装置で強制移送
できるようにすれば、ホッパー１０は必ずじも昇降させ
なくともよく、一定位置に固定しておいてもよい、更に
。
ファスナのない撓み管２７にして、ホッパー１０ともど
も、昇降させる構成にすることもできる。この際、ホッ
パーｌＯ内の触媒３０を適宜な流体圧送装置で強制移送
できるようにすれば、ホッパー１０は必ずじも昇降させ
なくともよく、一定位置に固定しておいてもよい、更に
。
ゴンドラ５はこれを単なる吊り金具にまで簡略化するこ
とが可能であるし、モータ６も電動モータ、油圧モータ
など他の動力源に代えることができる。
とが可能であるし、モータ６も電動モータ、油圧モータ
など他の動力源に代えることができる。
［発明の効果］
上述のような本発明の方法および装置は、作業者の煩し
い作業に頼ることなく、顆粒状触媒を粉化させない穏か
さて、反応塔内に均一な密度に充填することを可能にす
るという効果がある。
い作業に頼ることなく、顆粒状触媒を粉化させない穏か
さて、反応塔内に均一な密度に充填することを可能にす
るという効果がある。
第１図は本発明に係る触媒充填装置の一実施例の概略構
成を示を正面断面図、第２図は第１図の。 実施例に使用される充填用シュートの斜視図、第３図は
同じく触媒放出器の縦断斜視図、第４図は本発明の他の
実施例の要部を示す正面断面図である。 １・・・反応塔、５・・・ゴンドラ、６・・・モータ、
７・・・触媒分配器、８−・・浅皿状部材、９・・・触
媒放出器、１０・・・ファスナ、１２・・・触媒補給装
置としての充填用シュート、２５・・・ウェア、２６・
・・スリット、３０・・・触媒。
成を示を正面断面図、第２図は第１図の。 実施例に使用される充填用シュートの斜視図、第３図は
同じく触媒放出器の縦断斜視図、第４図は本発明の他の
実施例の要部を示す正面断面図である。 １・・・反応塔、５・・・ゴンドラ、６・・・モータ、
７・・・触媒分配器、８−・・浅皿状部材、９・・・触
媒放出器、１０・・・ファスナ、１２・・・触媒補給装
置としての充填用シュート、２５・・・ウェア、２６・
・・スリット、３０・・・触媒。
Claims (4)
- （１）触媒を反応塔内に略均等に放出可能な触媒放出器
を前記反応塔内に昇降可能に吊下するとともに、この触
媒放出器と、反応塔内に充填される触媒の表面との距離
がほぼ所定距離範囲内におさまるよう触媒放出器を上昇
させながら、反応塔内に触媒を順次充填することを特徴
とする触媒充填方法。 - （２）筒形の反応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する触
媒充填装置において、この反応塔の上部の塔外から、昇
降の可能なゴンドラを前記筒形の反応塔の輪に沿って反
応塔内に吊し、このゴンドラには、触媒を下方および半
径方向周縁に向って放出可能な触媒放出器を載せ、この
触媒放出器上に連通されるとともに前記反応塔の塔外に
置かれたホッパーに連通されホッパー内の触媒を触媒放
出器に供給する触媒補給装置を設けたことを特徴とする
触媒充填装置。 - （３）特許請求の範囲第２項において、前記触媒放出器
は、モータと、このモータに回転駆動される浅皿状部材
とを備え、この浅皿状部材は、所定間隔に設けられた立
上った板状のウェアと、これらのウェア間において設け
られたスリットとを有していることを特徴とする触媒充
填装置。 - （４）特許請求の範囲第２項において、前記触媒放出器
は、触媒の種類、粒経により回転数をコントロール可能
とされたことを特徴とする触媒充填装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848884A JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848884A JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6118430A true JPS6118430A (ja) | 1986-01-27 |
| JPH0122807B2 JPH0122807B2 (ja) | 1989-04-27 |
Family
ID=15223267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13848884A Granted JPS6118430A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6118430A (ja) |
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