JPH0123422B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0123422B2 JPH0123422B2 JP21061081A JP21061081A JPH0123422B2 JP H0123422 B2 JPH0123422 B2 JP H0123422B2 JP 21061081 A JP21061081 A JP 21061081A JP 21061081 A JP21061081 A JP 21061081A JP H0123422 B2 JPH0123422 B2 JP H0123422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sintering
- porous
- glass body
- porous glass
- sintered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は多孔質ガラスを焼結する際封入容器を
用いずに該ガラス中に含まれる添加物の逃散を抑
え、かつ比較的低温でも加圧焼結を行うことので
きる焼結方法に関する。
用いずに該ガラス中に含まれる添加物の逃散を抑
え、かつ比較的低温でも加圧焼結を行うことので
きる焼結方法に関する。
従来多孔質体あるいは粒状物の集合体を焼結す
る方法としては第１図に示す方法がある。これ
は、多孔質体１０を圧力伝達用の容器１１に封入
し、これを加熱炉１２に挿入して炉内に加圧流体
を供給し、この流体による静圧を加えながら容器
ごと多孔質体を加熱することにより焼結する方法
である。この手法は、(i)焼結の進み難い物質が比
較的低温かつ短時間で焼結が進み、高密度体が得
られる(ii)流体により静圧を加えると圧力を等方的
に印加できるため焼結前の形状がそのまま保持さ
れて焼結できるなどの長所があり有用である。一
方、この方法での難点は、流体により圧力を印加
させる際に必要となる圧力伝達用の容器に関する
問題である。この圧力伝達用容器としては、流体
分子を容器内部に通さず、高温に耐え、かつ加圧
に応じて容易に変形することが必要である。従来
この容器としては焼結条件、例えば温度、圧力、
被焼結体の材質などに応じて個々に特殊な金属や
ガラス材などが使用されている。ところがこの容
器を用いる方法においてはこの容器が被焼結体を
汚染し易く、汚染を避けるために特殊な材質のも
のを用いる必要がある。また焼結後にこの容器を
除去する場合にその手間が煩雑であるなどの欠点
がある。更に上記容器と被焼結体との隙間が大き
いと、これらを加圧した際、被焼結体に圧力が加
わる時間的なずれが生じ、この加圧の部分的なず
れにより被焼結体が変形を受ける場合がある。
る方法としては第１図に示す方法がある。これ
は、多孔質体１０を圧力伝達用の容器１１に封入
し、これを加熱炉１２に挿入して炉内に加圧流体
を供給し、この流体による静圧を加えながら容器
ごと多孔質体を加熱することにより焼結する方法
である。この手法は、(i)焼結の進み難い物質が比
較的低温かつ短時間で焼結が進み、高密度体が得
られる(ii)流体により静圧を加えると圧力を等方的
に印加できるため焼結前の形状がそのまま保持さ
れて焼結できるなどの長所があり有用である。一
方、この方法での難点は、流体により圧力を印加
させる際に必要となる圧力伝達用の容器に関する
問題である。この圧力伝達用容器としては、流体
分子を容器内部に通さず、高温に耐え、かつ加圧
に応じて容易に変形することが必要である。従来
この容器としては焼結条件、例えば温度、圧力、
被焼結体の材質などに応じて個々に特殊な金属や
ガラス材などが使用されている。ところがこの容
器を用いる方法においてはこの容器が被焼結体を
汚染し易く、汚染を避けるために特殊な材質のも
のを用いる必要がある。また焼結後にこの容器を
除去する場合にその手間が煩雑であるなどの欠点
がある。更に上記容器と被焼結体との隙間が大き
いと、これらを加圧した際、被焼結体に圧力が加
わる時間的なずれが生じ、この加圧の部分的なず
れにより被焼結体が変形を受ける場合がある。
本発明は上記欠点を解消する焼結方法を提供す
るものであり、その構成は、多孔質ガラス体の表
面層を孔のない熔融ガラス層に変成させることに
より該多孔質ガラス体の表面を熔融ガラス膜層で
被い、次いでこの成形体を流体により外部から静
圧を加えながら加熱焼結することを特徴とする。
るものであり、その構成は、多孔質ガラス体の表
面層を孔のない熔融ガラス層に変成させることに
より該多孔質ガラス体の表面を熔融ガラス膜層で
被い、次いでこの成形体を流体により外部から静
圧を加えながら加熱焼結することを特徴とする。
以下に本発明を図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
本発明の多孔質ガラス体としてはVAD法、外
付法、内付法などにより形成されたガラス微粒子
体や、分相を利用して形成された多孔質ガラス体
を用いることができる。該多孔質ガラス体２０を
加熱炉に挿入し外部より短時間加熱してその表面
層を熔融させ、孔のない熔融ガラス層に変形させ
てこの熔融ガラスの膜層２１によつて上記多孔質
ガラス体２０を被う。熔融ガラス膜層２１の厚さ
は、多孔質ガラス体２０が50mmφ程度の場合に３
mm程度であればよい。尚、熔融ガラスの膜層２１
を形成する際、予め多孔質体２０をHe雰囲気に
保持した後に加熱して膜層２１を形成するとよ
い。上記Heガスの処理により多孔質体２０の表
面に吸着しているガスが取除かれ、代りにHeガ
スが多孔質体２０の表面に吸着される。Heガス
は多孔質体２０に溶解し拡散し易い反面、不活性
なため多孔質体２０の成分と反応しない。このた
めHeを吸着させた多孔質体２０は熔融ガラス膜
層２１を形成した後の加圧処理中に気泡を生ずる
ことがなく、高密度な焼結体を得ることができ
る。次に上記熔融ガラス膜層２１を表面に設けた
多孔質ガラス体２０に加熱炉に挿入し、所定の流
圧を有する加圧ガスを加熱炉に供給して、上記多
孔質ガラス体２０に静圧を加えながら炉内を高温
に加熱して該多孔質ガラス体２０を熱間焼結し、
焼結ガラス体２２を造る。
付法、内付法などにより形成されたガラス微粒子
体や、分相を利用して形成された多孔質ガラス体
を用いることができる。該多孔質ガラス体２０を
加熱炉に挿入し外部より短時間加熱してその表面
層を熔融させ、孔のない熔融ガラス層に変形させ
てこの熔融ガラスの膜層２１によつて上記多孔質
ガラス体２０を被う。熔融ガラス膜層２１の厚さ
は、多孔質ガラス体２０が50mmφ程度の場合に３
mm程度であればよい。尚、熔融ガラスの膜層２１
を形成する際、予め多孔質体２０をHe雰囲気に
保持した後に加熱して膜層２１を形成するとよ
い。上記Heガスの処理により多孔質体２０の表
面に吸着しているガスが取除かれ、代りにHeガ
スが多孔質体２０の表面に吸着される。Heガス
は多孔質体２０に溶解し拡散し易い反面、不活性
なため多孔質体２０の成分と反応しない。このた
めHeを吸着させた多孔質体２０は熔融ガラス膜
層２１を形成した後の加圧処理中に気泡を生ずる
ことがなく、高密度な焼結体を得ることができ
る。次に上記熔融ガラス膜層２１を表面に設けた
多孔質ガラス体２０に加熱炉に挿入し、所定の流
圧を有する加圧ガスを加熱炉に供給して、上記多
孔質ガラス体２０に静圧を加えながら炉内を高温
に加熱して該多孔質ガラス体２０を熱間焼結し、
焼結ガラス体２２を造る。
以上述べた本発明の焼結方法によれば、溶融ガ
ラス膜層２１が多孔質ガラス体２０の表面を被う
ことから、従前の加圧焼結で用いていたような容
器を必要としない。このため焼結後に圧力伝達用
容器を除去するなどの手間が省ける。更に被焼結
体が圧力伝達用容器によつて汚染されることもな
い。又、本発明においては多孔質ガラス体そのも
のの表面を熔融して膜層を形成するため同一のガ
ラス質であり焼結も容易であると共に従前みられ
たような容器と被焼結体との隙間に起因する変形
歪み等も生ずることもない。尚、光フアイバの製
造においては上記ガラス膜層を比較的厚く形成す
ることによりクラツド部を兼ねるようにすること
もできる。
ラス膜層２１が多孔質ガラス体２０の表面を被う
ことから、従前の加圧焼結で用いていたような容
器を必要としない。このため焼結後に圧力伝達用
容器を除去するなどの手間が省ける。更に被焼結
体が圧力伝達用容器によつて汚染されることもな
い。又、本発明においては多孔質ガラス体そのも
のの表面を熔融して膜層を形成するため同一のガ
ラス質であり焼結も容易であると共に従前みられ
たような容器と被焼結体との隙間に起因する変形
歪み等も生ずることもない。尚、光フアイバの製
造においては上記ガラス膜層を比較的厚く形成す
ることによりクラツド部を兼ねるようにすること
もできる。
第１図は従前の加圧焼結法の概略装置構成図、
第２図ないし第４図は本発明に係る焼結方法の説
明図であり、第２図は焼結前の多孔質ガラス体を
示し、第３図は熔融ガラス膜層を形成した多孔質
ガラス体、第４図は焼結ガラス体をそれぞれ示
す。 図面中、１０，２０……多孔質ガラス体、１１
……圧力伝達用容器、１２……加熱炉、１３……
加圧流体、２１……熔融ガラス膜層、２２……焼
結ガラス体である。
第２図ないし第４図は本発明に係る焼結方法の説
明図であり、第２図は焼結前の多孔質ガラス体を
示し、第３図は熔融ガラス膜層を形成した多孔質
ガラス体、第４図は焼結ガラス体をそれぞれ示
す。 図面中、１０，２０……多孔質ガラス体、１１
……圧力伝達用容器、１２……加熱炉、１３……
加圧流体、２１……熔融ガラス膜層、２２……焼
結ガラス体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 多孔質ガラス体の表面層を孔のない熔融ガラ
ス層に変成させることにより該多孔質ガラス体の
表面を熔融ガラス膜層で被い、次いでこの成形体
を流体により外部から静圧を印加しながら加熱焼
結することを特徴とする多孔質ガラス体の焼結方
法。 ２ 該多孔質ガラス体をHe雰囲気に保持した後、
多孔質ガラス体の表面層を孔のない熔融ガラス層
に変成させることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の多孔質ガラス体の焼結方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21061081A JPS58115033A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 多孔質ガラス体の焼結方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21061081A JPS58115033A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 多孔質ガラス体の焼結方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115033A JPS58115033A (ja) | 1983-07-08 |
| JPH0123422B2 true JPH0123422B2 (ja) | 1989-05-02 |
Family
ID=16592170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21061081A Granted JPS58115033A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 多孔質ガラス体の焼結方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115033A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5921536A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| JPS6033226A (ja) * | 1983-07-30 | 1985-02-20 | Dainichi Nippon Cables Ltd | ス−ト焼結ガラス体の製造方法 |
| JPS6265947A (ja) * | 1985-09-14 | 1987-03-25 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| WO2010029147A1 (de) * | 2008-09-11 | 2010-03-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur herstellung eines quarzglaskörpers |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP21061081A patent/JPS58115033A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58115033A (ja) | 1983-07-08 |
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