JPH01238028A - 基板へのwsiウエハまたはicチップ取付構造 - Google Patents

基板へのwsiウエハまたはicチップ取付構造

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Publication number
JPH01238028A
JPH01238028A JP63063257A JP6325788A JPH01238028A JP H01238028 A JPH01238028 A JP H01238028A JP 63063257 A JP63063257 A JP 63063257A JP 6325788 A JP6325788 A JP 6325788A JP H01238028 A JPH01238028 A JP H01238028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
bonding
wsi
substrate
stress
Prior art date
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Pending
Application number
JP63063257A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Fujita
憲司 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63063257A priority Critical patent/JPH01238028A/ja
Publication of JPH01238028A publication Critical patent/JPH01238028A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板上にWSiまたはICチップを取り付け
るダイボンディング構造に係り、特に熱ストレスによる
チップの割れ、またはチップと基板の界面接着の破壊等
の破壊を防止するのに好適なダイボンディング構造に関
する。
〔従来の技術〕
基板上にWSIまたはICチップを接着するダイボンド
構造は、従来より種々の提案がなされている。例えば英
国特許公開No、0B2173946Aに記載のように
両面粘着テープによりダイボンドする構造f、公知のI
Cチップのダイボンド構造として、接着または接合材と
してAU−8i、ハンダ、Agエポキシ樹脂、Agポリ
イミド樹脂、ガラスなどを使ったダイボンド技術が知ら
れている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、WSI等の大面積ICチップを、IC
チップと膨張係数の違う基板に接着固定した場合、熱ス
トレスにより発生する熱応力や、全面接着の為接着面に
気泡が出来fすく、気泡による未接着部により発生する
接着部の応力ひず鼻が要因となって生ずるICチップの
割れや、接着界面の剥離などの破壊に対して考慮されて
おらず問題であった。
本発明の目的は、上記チップクラック等の原因となる熱
応力の影響を回避することにある。
〔課題を解決するための手段j 上記目的は、チップと基板の間に応力緩衝材をはさんで
接着する構造とすること、および接着面は全面接着とは
せず多点接着にすることにより、達成されろ。
〔作用〕
基板とチップ間にはさんだ緩衝材は熱ストレスにより発
生する熱応力を吸収し接着を多点にする事で、接着面に
気泡が出来ずらぐなり均等に応力分散することができる
。それによってチップクラック等の原因となる熱応力の
影響を回避することができる。
〔実施例J 以下、本発明の一実施例を第1図、第2図により説明す
る。
第1図に、本発明によるICチップまたはWSエウェハ
を基板に取り付ける構造の断面図を示す。
WSIまたはICチップ1とガラスエポキシ基板4の間
に発泡ブチルゴム等の緩衝材2をはさんでエポキシ系接
着剤3を用いて接着する構造になっている。
第2図に、エポキシ系接着剤3の接着面の上面図を示す
。図に示す如く接着剤3を多点にかつ各接着点を接着面
に均等な位置関係をもって分布させ塗布させる構造にな
っている。
以上の構造にすることで基板4とWSIまたはICチッ
プ1の関の熱応力は多点接着で均等に分散され緩衝材2
に吸収される。また接着面が多点接着であるため、従来
の全面接着に比べ接着点の面積が小さいため気泡が出来
る確立が低く、かつ多点である為気泡による応力ひずみ
は生じない。
本実施例によればチップクラック等の原因となる熱応力
の影響を回避することができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、熱ストレス起因による基板とICま1
こはWSIチップ間に生じる熱応力を均等分散し吸収で
きるので、チップクラック等の破壊を回避することがで
きろ。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例のICチップまたはWSI
ウェハな基板に取り付ける構造の縦断面図、第2図は第
1図のi−I線または■−■線断面図である。 1・・・ICチップ又はW8Iウェハ 2・・・緩衝材 3・・・エポキシ系接着剤 4・・・ガラスエポキシ基板 5・・・ボンディングワイヤ 6・・・基板配線。 莞lの X4 /−−−ICf−iプ呑「こ(@     Z−櫻一伸
1材    3−件看牟1第2圀

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、WSI(WaferScaleIntegrati
    on)ウェハまたはICチップと基板の間に応力緩衝材
    をはさんで接着する取り付け構造において応力緩衝材を
    設けたことを特徴とする基板へのWSIウェハまたはI
    Cチップ取付構造。
JP63063257A 1988-03-18 1988-03-18 基板へのwsiウエハまたはicチップ取付構造 Pending JPH01238028A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09502076A (ja) * 1993-07-16 1997-02-25 イー グレゴリー、ウィリアム 鉛蓄電池再生器/トリクル充電器
JP2022158528A (ja) * 2021-04-02 2022-10-17 株式会社デンソー 半導体装置およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09502076A (ja) * 1993-07-16 1997-02-25 イー グレゴリー、ウィリアム 鉛蓄電池再生器/トリクル充電器
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