JPH01249749A - 不飽和4級アンモニウム塩の製法 - Google Patents
不飽和4級アンモニウム塩の製法Info
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- JPH01249749A JPH01249749A JP7980488A JP7980488A JPH01249749A JP H01249749 A JPH01249749 A JP H01249749A JP 7980488 A JP7980488 A JP 7980488A JP 7980488 A JP7980488 A JP 7980488A JP H01249749 A JPH01249749 A JP H01249749A
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- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 title claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims abstract 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は不飽和4級アンモニウム塩の製法に関する。
[従来の技術]
従来不飽和第4級アンモニウム塩の製法として、4級化
反応を高濃度下で開始し4級塩濃度が飽和量を越えたと
きに水を添加する方法(特公昭59−12110号公報
)や、水と相溶性を有するアプロチックな低沸点有機溶
媒と水の混合液存在下で反応を行なう方法(特公昭61
−50947号公報)などが知られている。
反応を高濃度下で開始し4級塩濃度が飽和量を越えたと
きに水を添加する方法(特公昭59−12110号公報
)や、水と相溶性を有するアプロチックな低沸点有機溶
媒と水の混合液存在下で反応を行なう方法(特公昭61
−50947号公報)などが知られている。
[発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、これらの方法は反応系が不均一状態とな
るため、反応完結に極めて長時間(通常1.5〜30時
間)を要する。また、上述の方法においては反応途中で
反応液粘度が増加し攪拌の負荷が極端に大きくなること
や、反応終了後、溶剤留去という煩雑な操作が必要であ
ることからこれらの方法は、工業的には好ましい方法と
は言えない。
るため、反応完結に極めて長時間(通常1.5〜30時
間)を要する。また、上述の方法においては反応途中で
反応液粘度が増加し攪拌の負荷が極端に大きくなること
や、反応終了後、溶剤留去という煩雑な操作が必要であ
ることからこれらの方法は、工業的には好ましい方法と
は言えない。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、反応時間が短かく、攪拌が容易であり、
さらに溶剤留去などの煩雑さがない不飽和第4級化アン
モニウム塩の製法を鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。すなわち本発明は、一般式 (式中R7はHまたはCH3;R2,R3はそれぞれ独
立に炭素数1〜4のアルキル基または炭素数2〜4のヒ
ドロキシアルキル基;Yは○(酸素原子)またはNH,
Aは炭素数1〜4のアルキレン基または炭素数2〜4の
ヒドロキシアルキレン基である。)で示される不飽和第
3級アミン類を水溶液中で4級化剤と反応させて不飽和
第4級アンモニウム塩を製造する際に、カチオン界面活
性剤および/または両性界面活性剤の存在下で反応させ
ることを特徴とする不飽和第4級アンモニウム塩水溶液
の製法である。
さらに溶剤留去などの煩雑さがない不飽和第4級化アン
モニウム塩の製法を鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。すなわち本発明は、一般式 (式中R7はHまたはCH3;R2,R3はそれぞれ独
立に炭素数1〜4のアルキル基または炭素数2〜4のヒ
ドロキシアルキル基;Yは○(酸素原子)またはNH,
Aは炭素数1〜4のアルキレン基または炭素数2〜4の
ヒドロキシアルキレン基である。)で示される不飽和第
3級アミン類を水溶液中で4級化剤と反応させて不飽和
第4級アンモニウム塩を製造する際に、カチオン界面活
性剤および/または両性界面活性剤の存在下で反応させ
ることを特徴とする不飽和第4級アンモニウム塩水溶液
の製法である。
本発明におけるカチオン界面活性剤としては、下記があ
げられる。
げられる。
(1)長鎖アルキル基または長鎖アミドアルキル基含有
アンモニウム塩類iステアリルトリメチルアンモニウム
クロライド、ステアリルベンジルジメチルアンモニウム
クロライド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ラウリルベンジルジメチルアンモニウムクロライド
、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ミリスチ
ルベンジルジメチルアンモニウムクロライドラウリルア
ミドプロピルジメチルベタインなど。
アンモニウム塩類iステアリルトリメチルアンモニウム
クロライド、ステアリルベンジルジメチルアンモニウム
クロライド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ラウリルベンジルジメチルアンモニウムクロライド
、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ミリスチ
ルベンジルジメチルアンモニウムクロライドラウリルア
ミドプロピルジメチルベタインなど。
(2)長鎖アルキル基または長鎖アミドアルキル基含有
ピリジニウム塩類;ラウリルピリジニウムクロライド、
セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピ
リジニウムクロライドなど。
ピリジニウム塩類;ラウリルピリジニウムクロライド、
セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピ
リジニウムクロライドなど。
これらのカチオン界面活性剤のうち好ましいのは、ステ
アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリル
ベンジルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライドおよびラウリルアミ
ドプロピルジメチルベタインである。
アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリル
ベンジルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライドおよびラウリルアミ
ドプロピルジメチルベタインである。
本発明における両性界面活性剤としては、4級アンモニ
ウム塩型のカチオン部分とカルボン酸塩型のアニオン部
分とをもつベタイン型両性界面活性剤およびアミノ酸型
界面活性剤の2種があげられる。
ウム塩型のカチオン部分とカルボン酸塩型のアニオン部
分とをもつベタイン型両性界面活性剤およびアミノ酸型
界面活性剤の2種があげられる。
(3)ベタイン型側性界面活性剤;ラウリルジメチルベ
タイン、ステアリルジメチルベタイン、ステアラミトメ
チルジメチルベタイン、ラウリルアミドプロピルジメチ
ルベタイン、ラウリルジヒドロキシエチルベタイン、2
−ラウリル(もしくはステアリル)−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
、2−ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタインなど。
タイン、ステアリルジメチルベタイン、ステアラミトメ
チルジメチルベタイン、ラウリルアミドプロピルジメチ
ルベタイン、ラウリルジヒドロキシエチルベタイン、2
−ラウリル(もしくはステアリル)−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
、2−ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタインなど。
(4)アミノ酸型界面活性剤;ナトリウムラウリルジ(
アミノエチル)グリシン、N−メチル−ジアミノエチル
グリシン塩酸塩、ラウリルジ(アミノエチル)グリシン
塩酸塩、N−メチル−No−メチル−ジアミノエチルグ
リシン塩酸塩、N、 N−ジメチル−No−メチル−ジ
アミノエチルグリシン塩酸塩など。
アミノエチル)グリシン、N−メチル−ジアミノエチル
グリシン塩酸塩、ラウリルジ(アミノエチル)グリシン
塩酸塩、N−メチル−No−メチル−ジアミノエチルグ
リシン塩酸塩、N、 N−ジメチル−No−メチル−ジ
アミノエチルグリシン塩酸塩など。
これらの両性界面活性剤のうち好のましいのは、ラウリ
ルジメチルベタイン、2−ラウリル−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
、2−ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン、N、 N−ジメ
チル−No−メチル−ジアミノエチルグリシン塩酸塩で
ある。
ルジメチルベタイン、2−ラウリル−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
、2−ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン、N、 N−ジメ
チル−No−メチル−ジアミノエチルグリシン塩酸塩で
ある。
一般式(1)において、R1,R2はそれぞれ炭素数1
〜4のアルキル基または炭素数2〜4のヒドロキシアル
キル基である。炭素数1〜4のアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、n−もしくはis。
〜4のアルキル基または炭素数2〜4のヒドロキシアル
キル基である。炭素数1〜4のアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、n−もしくはis。
−プロピル基、およびブチル基をあげることができる。
炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基としては、−CH
2CH20H1CH2CH2CH20Hおよび−CH2
CH(CH20H)CHaをあげることができる。R,
、R2のうち好ましいのは炭素数1〜4のアルキル基、
特に好ましくはメチル基およびエチル基である。Aの炭
素数1〜4のアルキレン基としては、−CH,2−、−
CH2CH2−l−CH2CH2CH2−1−CH2C
HCH3−などがあげられ、炭素数2〜4のヒドロキシ
アルキレン基としては、−〇H2CH(OH)CH2−
などがあげられる。これらのうち好ましくは、−CH2
−および−CH2CH2−である。
2CH20H1CH2CH2CH20Hおよび−CH2
CH(CH20H)CHaをあげることができる。R,
、R2のうち好ましいのは炭素数1〜4のアルキル基、
特に好ましくはメチル基およびエチル基である。Aの炭
素数1〜4のアルキレン基としては、−CH,2−、−
CH2CH2−l−CH2CH2CH2−1−CH2C
HCH3−などがあげられ、炭素数2〜4のヒドロキシ
アルキレン基としては、−〇H2CH(OH)CH2−
などがあげられる。これらのうち好ましくは、−CH2
−および−CH2CH2−である。
一般式(1)で示されるモノマーとしては具体的には下
記のモノマーがあげられる。以下において、(メタ)ア
クリレートとは、アクリレートおよび/またはメタアク
リレートを言う。
記のモノマーがあげられる。以下において、(メタ)ア
クリレートとは、アクリレートおよび/またはメタアク
リレートを言う。
(A)第3級アミノ基含有(メタ)アクリレート類(1
)ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジ
メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレートなど。
)ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジ
メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレートなど。
(2)ジアルキルアミノヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート;ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ−2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレートなど。
クリレート;ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ−2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレートなど。
(B)W3級アミノ基含有(メタ)アクリルアミド類
(1)ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミ
ド;ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドなど。
ド;ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジ
エチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドなど。
(2)ジアルキルアミノヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリルアミド;ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノ−2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリルアミドなど。
クリルアミド;ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノ−2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリルアミドなど。
本発明における4級化剤は公知のものを選ぶことができ
、たとえばアルキルハライド(メチルクロライド、メチ
ルアイオダイド、ブチルクロライド、オフナルブロマイ
ド、ラウリルブロマイド、ステアリルアイオダイドなど
)、アラルキルハライド(ベンジルクロライド、p−メ
チルベンジルクロライド、p−オクチルベンジルクロラ
イド、フェネチルブロマイドなど)、アルキル硫酸(ジ
メチル硫酸、ジエチル硫酸)、およびスルホン酸エステ
ル(p−)ルエンスルホン酸メチルなど)カあげられる
。これらの中で、好ましいものは工業的観点からメチル
クロライド、ベンジルクロライドおよびジメチル硫酸で
ある。
、たとえばアルキルハライド(メチルクロライド、メチ
ルアイオダイド、ブチルクロライド、オフナルブロマイ
ド、ラウリルブロマイド、ステアリルアイオダイドなど
)、アラルキルハライド(ベンジルクロライド、p−メ
チルベンジルクロライド、p−オクチルベンジルクロラ
イド、フェネチルブロマイドなど)、アルキル硫酸(ジ
メチル硫酸、ジエチル硫酸)、およびスルホン酸エステ
ル(p−)ルエンスルホン酸メチルなど)カあげられる
。これらの中で、好ましいものは工業的観点からメチル
クロライド、ベンジルクロライドおよびジメチル硫酸で
ある。
本発明において、上記界面活性剤の不飽和第3級アミン
に対する添加量は、界面活性剤の種類および反応系中の
水の量によって種種変えることが出来るが、単量体に対
して、通常0.01〜20%、好ましくは 0.1〜5
%である。添加量が0.01%より少なくなると反応系
が不均一状態となることがあり、また、2σより多くな
ると不飽和第4級アンモニウム塩を重合させる場合にそ
の重合を阻害することがある。4級化剤の使M量は不飽
和第3級アミンのアミノ基のモルに対して1.00〜1
.50モルが好ましく、1.01〜1.10がさらに好
ましい。4級化反応時の水の量は、通常は50〜90%
、好ましくは70〜85重量2である。
に対する添加量は、界面活性剤の種類および反応系中の
水の量によって種種変えることが出来るが、単量体に対
して、通常0.01〜20%、好ましくは 0.1〜5
%である。添加量が0.01%より少なくなると反応系
が不均一状態となることがあり、また、2σより多くな
ると不飽和第4級アンモニウム塩を重合させる場合にそ
の重合を阻害することがある。4級化剤の使M量は不飽
和第3級アミンのアミノ基のモルに対して1.00〜1
.50モルが好ましく、1.01〜1.10がさらに好
ましい。4級化反応時の水の量は、通常は50〜90%
、好ましくは70〜85重量2である。
本発明を実施するに当たり、上記界面活性剤は、反応の
最初から、あるいは反応途中のいずれの時点で添加して
もよく、また、それぞれ単独に使用もしくは併用しても
よい。その他の4級化反応の条件は、公知の範囲で特に
限定なく選び得るが以下の条件は本特許に特に有効であ
り、これらの条件で実施することが好ましい。すなわち
、4級化温度は50〜60°Cが好ましく、さらに好ま
しくは10〜40°Cである。
最初から、あるいは反応途中のいずれの時点で添加して
もよく、また、それぞれ単独に使用もしくは併用しても
よい。その他の4級化反応の条件は、公知の範囲で特に
限定なく選び得るが以下の条件は本特許に特に有効であ
り、これらの条件で実施することが好ましい。すなわち
、4級化温度は50〜60°Cが好ましく、さらに好ま
しくは10〜40°Cである。
本発明によってよって得られる4級塩モノマーは反応終
了時点では4級塩の水溶液となっているがこのものを必
要に応じてさらに希釈または濃縮してもよい、。また四
級塩モノマー水溶液は必要に応じて更にイオン交換樹脂
や活性炭による処理、溶剤抽出等により精製する事が出
来る。さらにハイドロキノンモノメチルエーテル、ター
シャリブチルカテコール、ニトロベンゼン、パラフェニ
レンジアミン、フェノチアジン、ジエチルヒドロキシル
アミン等公知の重合禁止剤、EDTA、ポリリン酸、ニ
トリロトリ酢酸等の公知のキレート剤、及びPH調整剤
などの添加剤を4級化反応前または反応後加えてもよい
。
了時点では4級塩の水溶液となっているがこのものを必
要に応じてさらに希釈または濃縮してもよい、。また四
級塩モノマー水溶液は必要に応じて更にイオン交換樹脂
や活性炭による処理、溶剤抽出等により精製する事が出
来る。さらにハイドロキノンモノメチルエーテル、ター
シャリブチルカテコール、ニトロベンゼン、パラフェニ
レンジアミン、フェノチアジン、ジエチルヒドロキシル
アミン等公知の重合禁止剤、EDTA、ポリリン酸、ニ
トリロトリ酢酸等の公知のキレート剤、及びPH調整剤
などの添加剤を4級化反応前または反応後加えてもよい
。
本発明の第4級アンモニウム塩ビニルモノマーは単独で
またはこの第4級アンモニウム塩ビニルモノマー以外の
他のビニルモノマーとともに公知の(共)重合方法によ
って(共)重合体にすることができる。(共)重合体を
製造する際使用できるm4級アンモニウム塩以外の他の
ビニルモノマーとしては、特開昭54−102388号
公報に記載のモノマーたとえば親水性の非イオン性ビニ
ルモノマー、親水性の他のカチオン性ビニルモノマー、
親水性のアニオン性ビニルモノマーおよび油溶性のビニ
ルモノマーがあげられる。
またはこの第4級アンモニウム塩ビニルモノマー以外の
他のビニルモノマーとともに公知の(共)重合方法によ
って(共)重合体にすることができる。(共)重合体を
製造する際使用できるm4級アンモニウム塩以外の他の
ビニルモノマーとしては、特開昭54−102388号
公報に記載のモノマーたとえば親水性の非イオン性ビニ
ルモノマー、親水性の他のカチオン性ビニルモノマー、
親水性のアニオン性ビニルモノマーおよび油溶性のビニ
ルモノマーがあげられる。
本発明により安定化されたモノマーは通常の方法により
重合可能である。たとえばラジカル重合開始剤、紫外線
、放射線などを使用する方法で行なうことが出来る。こ
れらのうち水溶性の過硫酸塩(過硫酸ナトリウム、過硫
酸アンモニウムなど)、アゾ化合物(アゾビスイソブチ
ロニトリル、アゾビスジメチルワレロニトリルなど)な
どのラジカル重合開始剤を用いる方法が好ましい。
重合可能である。たとえばラジカル重合開始剤、紫外線
、放射線などを使用する方法で行なうことが出来る。こ
れらのうち水溶性の過硫酸塩(過硫酸ナトリウム、過硫
酸アンモニウムなど)、アゾ化合物(アゾビスイソブチ
ロニトリル、アゾビスジメチルワレロニトリルなど)な
どのラジカル重合開始剤を用いる方法が好ましい。
また重合は公知の方法、たとえば水溶液重合、乳化重合
、懸濁重合、沈澱重合等の方法により行なうことが出来
る。水溶液重合の場合にはたとえば単量体を水溶液(単
量体濃度はたとえば10〜90重M%)とし、系内を不
活性ガスで置換したのち、ラジカル重合開始剤を加え、
通常O〜80°C程度で数時間重合する事により行なう
ことが出来る。乳化重合の場合は、たとえば特開昭50
−102388号公報に記載の方法により行なうことが
出来る。
、懸濁重合、沈澱重合等の方法により行なうことが出来
る。水溶液重合の場合にはたとえば単量体を水溶液(単
量体濃度はたとえば10〜90重M%)とし、系内を不
活性ガスで置換したのち、ラジカル重合開始剤を加え、
通常O〜80°C程度で数時間重合する事により行なう
ことが出来る。乳化重合の場合は、たとえば特開昭50
−102388号公報に記載の方法により行なうことが
出来る。
[実施例コ
実施例1
1Lのオートクレーブにジメチルアミノエチルアクリレ
−)300g、水100g、界面活性剤としてラウリル
アミドプロピルジメチルベタイン(30%水溶液)を5
.0g、重合禁止剤としてメチルハイドロキノンを1.
03g仕込んだ。反応液を20°Cに調整した後、攪拌
しながら塩化メチルをボンベより1.0kg/cm”で
圧入し、4級化反応を実施した。塩化メチルは、ジメチ
ルアミノエチルアクリレートに対して1.03モル倍相
当量(109g)を約30分かけて吹き込んだ。
−)300g、水100g、界面活性剤としてラウリル
アミドプロピルジメチルベタイン(30%水溶液)を5
.0g、重合禁止剤としてメチルハイドロキノンを1.
03g仕込んだ。反応液を20°Cに調整した後、攪拌
しながら塩化メチルをボンベより1.0kg/cm”で
圧入し、4級化反応を実施した。塩化メチルは、ジメチ
ルアミノエチルアクリレートに対して1.03モル倍相
当量(109g)を約30分かけて吹き込んだ。
この後更に5時間熟成して濃度8Gの不飽和第4級アン
モニウム塩水溶液514gを得た。この間液温は外部冷
却により20±2°Cに保った。m4級アンモニウム塩
の収率は遊離アミン値から計算して99.5%であった
。なお、反応中終始攪拌への負荷は確認されなかった。
モニウム塩水溶液514gを得た。この間液温は外部冷
却により20±2°Cに保った。m4級アンモニウム塩
の収率は遊離アミン値から計算して99.5%であった
。なお、反応中終始攪拌への負荷は確認されなかった。
実施例2
実施例1と同じ反応器に、ジメチルアミノエチルメタク
リレ−)300g、水101g、界面活性剤として2−
ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエ
チルイミダゾリニウムベタイン(25%水溶液)を4.
0g、メチルハイドロキノンを1.01g仕込んだ。反
応液を20°Cに調整した後、実施例1と同じ要領で塩
化メチルを吹き込んだ。熟成5時間後に濃度80%の4
級アンモニウム塩の収率は99.δであった。この場合
も、反応中終始攪拌への負荷は確認されなかった。
リレ−)300g、水101g、界面活性剤として2−
ウンデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエ
チルイミダゾリニウムベタイン(25%水溶液)を4.
0g、メチルハイドロキノンを1.01g仕込んだ。反
応液を20°Cに調整した後、実施例1と同じ要領で塩
化メチルを吹き込んだ。熟成5時間後に濃度80%の4
級アンモニウム塩の収率は99.δであった。この場合
も、反応中終始攪拌への負荷は確認されなかった。
実施例3
実施例1と同じ反応器に、ジメチルアミノエチルメタク
リレート170g、水204g、界面活性剤としてラウ
リルアミドプロピルジメチルベタイン(3α水溶液)を
4.5g、メチルハイドロキノンを1.03g仕込んだ
。反応液を20°Cに調整した後、攪拌しなから゛塩化
ベンジルを滴下した。塩化ベンジルはジメチルアミノエ
チルメタクリレートに対して等モル量137gを30分
かけて滴下した。この後更に3時間20±2°Cで熟成
して濃度60%の不飽和第4級アンモニウム塩水溶液5
15gを得た。 このときの反応率は99.0%であっ
た。またこの場合も、反応中終始攪拌への負荷は確認さ
れなかった。
リレート170g、水204g、界面活性剤としてラウ
リルアミドプロピルジメチルベタイン(3α水溶液)を
4.5g、メチルハイドロキノンを1.03g仕込んだ
。反応液を20°Cに調整した後、攪拌しなから゛塩化
ベンジルを滴下した。塩化ベンジルはジメチルアミノエ
チルメタクリレートに対して等モル量137gを30分
かけて滴下した。この後更に3時間20±2°Cで熟成
して濃度60%の不飽和第4級アンモニウム塩水溶液5
15gを得た。 このときの反応率は99.0%であっ
た。またこの場合も、反応中終始攪拌への負荷は確認さ
れなかった。
比較例1
実施例1と同じ反応器に、ジメチルアミノエチルメタク
リレート300g、水34g、メチルハイドロキノンを
1.03g仕込み他は実施例1と同じ条件で4級化反応
を行なった。3時間経過換水67gを追加し、さらに同
条件下で2時間熟成を行なった後内容物をサンプリング
した。このときの反応率は、遊雛アミン値より計算した
ところ、67.0%であった。また、この場合塩化メチ
ル吹き込み終了より2時間経過した時点で、反応液がス
ラリー状となり攪拌への負荷が確認された。
リレート300g、水34g、メチルハイドロキノンを
1.03g仕込み他は実施例1と同じ条件で4級化反応
を行なった。3時間経過換水67gを追加し、さらに同
条件下で2時間熟成を行なった後内容物をサンプリング
した。このときの反応率は、遊雛アミン値より計算した
ところ、67.0%であった。また、この場合塩化メチ
ル吹き込み終了より2時間経過した時点で、反応液がス
ラリー状となり攪拌への負荷が確認された。
比較例2
ジメチルアミノエチルアクリレート200g、水44.
4g、アセトン22.2g、メチルハイドロキノン0.
68gを仕込み他は実施例1と全く同じ条件下で4級化
を行なった。5時間経過後、残圧を放出し水45.4g
を追加して不飽和第4級アンモニウム塩の結晶を溶解し
水溶液を取り出した。含有しているアセトンは、真空ポ
ンプにより2時間かけて減圧除去し、330gの溶液を
得た。このときの反応率は3LJアミン値から計算して
90.5%であった。またこの場合、攪拌への負荷は、
確認されなかった。
4g、アセトン22.2g、メチルハイドロキノン0.
68gを仕込み他は実施例1と全く同じ条件下で4級化
を行なった。5時間経過後、残圧を放出し水45.4g
を追加して不飽和第4級アンモニウム塩の結晶を溶解し
水溶液を取り出した。含有しているアセトンは、真空ポ
ンプにより2時間かけて減圧除去し、330gの溶液を
得た。このときの反応率は3LJアミン値から計算して
90.5%であった。またこの場合、攪拌への負荷は、
確認されなかった。
表−1
活性剤(1)ニラウリルアミドプロピルジメチルベタイ
ン 活性剤(2) : 2−ウンデシル−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミ ダゾリニウムベタイン [発明の効果コ 本発明によれば、不飽和第3級アミンと4級化剤を反応
させる際、界面活性剤を添加することにより反応完結に
要する時間を極端に短縮することができる。さらに、反
応途中で攪拌に負荷がかかることはなく、また水溶液中
で反応を行なうため溶媒留去という煩雑な操作の必要も
ない。
ン 活性剤(2) : 2−ウンデシル−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミ ダゾリニウムベタイン [発明の効果コ 本発明によれば、不飽和第3級アミンと4級化剤を反応
させる際、界面活性剤を添加することにより反応完結に
要する時間を極端に短縮することができる。さらに、反
応途中で攪拌に負荷がかかることはなく、また水溶液中
で反応を行なうため溶媒留去という煩雑な操作の必要も
ない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中R_1はHまたはCH_3;R_2、R_3はそ
れぞ独立に炭素数1〜4のアルキル基または炭素数2〜
4のヒドロキシアルキル基;YはO(酸素原子)または
NH、Aは炭素数1〜4のアルキレン基または炭素数2
〜4のヒドロキシアルキレン基である。)で示される不
飽和第3級アミノ基を有するビニルモノマーを水溶液中
で4級化剤と反応させて4級アンモニウム塩を製造する
際に、カチオン界面活性剤および/または再性界面活性
剤の存在下で反応させることを特徴とする不飽和4級ア
ンモニウム塩の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7980488A JPH01249749A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 不飽和4級アンモニウム塩の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7980488A JPH01249749A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 不飽和4級アンモニウム塩の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01249749A true JPH01249749A (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=13700406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7980488A Pending JPH01249749A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 不飽和4級アンモニウム塩の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01249749A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009090791A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Toagosei Co., Ltd. | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法 |
| WO2011011352A1 (en) | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Kemira Oyj | Process for unsaturated quaternary ammonium salt |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP7980488A patent/JPH01249749A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009090791A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Toagosei Co., Ltd. | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法 |
| JPWO2009090791A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2011-05-26 | Mtアクアポリマー株式会社 | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法 |
| WO2011011352A1 (en) | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Kemira Oyj | Process for unsaturated quaternary ammonium salt |
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