JPH01250386A - セファロスポリン誘導体 - Google Patents

セファロスポリン誘導体

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JPH01250386A
JPH01250386A JP63324255A JP32425588A JPH01250386A JP H01250386 A JPH01250386 A JP H01250386A JP 63324255 A JP63324255 A JP 63324255A JP 32425588 A JP32425588 A JP 32425588A JP H01250386 A JPH01250386 A JP H01250386A
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JP
Japan
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group
compound
formula
acid
protecting group
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Pending
Application number
JP63324255A
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English (en)
Inventor
Chihiro Yokoo
千尋 横尾
Akira Onodera
章 小野寺
Hiroshi Fukushima
浩 福島
Yoshiaki Watanabe
渡辺 慶昭
Kaoru Soda
曽田 馨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、優れた抗菌活性を有する医薬とじて有用なセ
ファロスポリン誘導体及びその非毒性塩に関する。
従来の技術 本発明に類縁のセファロスポリン誘導体としては、セフ
ェム核の7位に2−カルボキシメトキシイミノ−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド基を有す
る化合物が知られている(特開昭62−174086号
公報)。
−明が解決しようとする課題 医薬として有用なセファロスポリン抗生物質は数多く知
られているが、その多くは経口吸収性が悪いため、非経
口的に投与されている。
現在、臨床で用いられている経口セファロスボリン剤の
主なものとして、セファレキシン、セファクロールおよ
びセフィキシムなどが挙げられるが、これらの各種病原
細菌に対する抗菌力および抗菌スペクトルは最近開発さ
れた多くの注射用セファロスポリン剤に比べ劣っている
。
この様な背景から、より強い抗菌力とより巾広い抗菌ス
ペクトルを有する新規な経ロセファロスボリン剤の開発
が望まれている。
課題を解決するだめの手段 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果
、既存の経口セファロスボリン剤に比べより強い抗菌力
とより巾広い抗菌スペクトルを有する下記式lで示され
る新規経口セファロスボリン誘導体を見出し、本発明を
完成した。
以下、本発明を説明する。
本発明は、式■、 (式中、R’は水素原子又はアミン基の保護基を示し、
R1は水素原子又は水酸基の保護基を示し、R1は水素
原子又はカルボキシル基の保護基を示し、R4は水素原
子及びR素原子数1〜4個のアルキル基を示す、)で表
わされるセファロスポリン誘導体及びその非毒性塩であ
る。
本発明における官能基は、それぞれ以下の意味を有する
。すなわち、アミノ基の保護基、水酸基の保護基および
カルボキシル基の保護基とは、β−ラクタム化学の分野
で繁用きれている保護基を意味する。たとえば、R′で
示されるアミノ基の保護基とは、トリチル基、モノクロ
ルアセチル基、ホルミル基、ベンジルオキシカルボニル
基、バラニトロベンジルオキシカルボニル基ζバラメト
キシベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボ
ニル基、トリメチルシリル基などであり、R1で示され
る水酸基の保護基とは、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、ベンゾイル基、トルオイル基、ベンゼンスルホニル
基、トシル基、フェニルアセチル基、4−メトキシベン
ジル基、2.4−ジメトキシベンジル基、トリチル基、
テトラヒドロピラニル基などである。また、R8で示さ
れるカルボキシル基の保護基とは、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、t−ブチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、1−メトキシエ
チル基、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、カ
ルボキシメチル基、カルボキシエチル基、t−ブトキシ
カルボニルメチル基、2−(t−ブトキシカルボニル)
エチル基、ベンジル基、バラニトロベンジル基、バラメ
トキシベンジル基、ベンズヒドリル基、ビス−(4−メ
トキシフェニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジ
ル基、トリチル基、フェネチル基、フェナシル基、2,
2.2−トリクロルエチル基、トリメチルシリル基、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ(t−ブチル)ベンジル基、
フェニル基、トリル基、キシリル基など、およびβ−ラ
クタム剤のプロドラッグ化技術で知られている5−メチ
ル−1,3−ジオキサシクロベント−4−エン−2−オ
ン−4−イルメチル基、アセトキシメチル基、ピバロイ
ルオキシメチル基、1−ピバロイルオキシエチル基、1
−アセトキシエチル基、3−フタリジル基、1−(シク
ロへキシルオキシカルボニルオキシ)エチル基、1−(
インプロポキシカルボニルオキシ)エチル基などである
。
R4で示される戻素原子数1〜4個のアルキル基とは、
直鎖状または分枝鎖状のアルキル基であり、たとえば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、イソブチル基などである。
一方、本発明の式■で示きれる化合物の非毒性塩とは、
薬理学的に許容されるものを意味し、たとえば、ナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、アンモニウムなどを含
む無機塩基との塩、トリエチルアミン、シクロヘキシル
アミンなどの有機塩基との塩、アルギニン、リジンなど
の塩基性アミノ酸との塩、硫酸、塩酸、燐酸などの鉱酸
との塩または酢酸、乳酸、酒石酸、フマール酸、マにイ
ン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などの有機
酸との塩が挙げられる。
式Iにおいて、R1およびR2の好ましい例としては水
素原子、R3の好ましい例としては水素原子またはピバ
ロイルオキシメチル基などのβ−ラクタム剤のプロドラ
ッグ化技術で知られている基およびR4の好ましい例と
してはメチル基またはエチル基をそれぞれ挙げることが
できる。
また、本発明の式1で示される化合物には、7位側鎖の
オキシイミノ基および3位側鎖のビニル基に由来する幾
何異性体(それぞれ、E体および2体)が存在し、その
いずれをも本発明は包含するが、7位側鎖のオキシイミ
ノ基に由来する幾何異性体は好ましくは2体である。
本発明の一般式Iで示される化合物は、たとえば、以下
の反応式で示される製造法によって得ることができる[
反応式中、R′およびR8は、それぞれ水素原子を除い
て前記と同意義であり、R1およびR4は前記と同意義
であり、R1はフェニルアセチル基、フェノキシアセチ
ル基、トリチル基、フタロイル基、ホルミル基、ベンゾ
イル基なとのアミノ基の保護基を示し、R′は水素原子
または前記R′で示したβ−ラクタム剤のプロドラッグ
化技術で知られている生体内で加水分解可能な基であり
、Yはハロゲン原子(たとえば塩素原子、臭M原子、ヨ
ウ素原子)、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ基、ジフェニルホスホリルオキ
シ基またはパラトルエンスルホニルオキシ基である。]
。
またはその反応性語導体 工程a:まず、既知の式■の化合物を反応に関与しない
有機溶媒に溶解し、塩基の存在下、水硫化ナトリウム1
.0〜1.2モル当量とともに攪拌する。反応温度は一
50〜100℃、好ましくは一40〜5℃である。反応
時間は10分間〜4時間、好ましくは10分間〜1時間
である。
工程b:次いで、工程aで得られる化合物を単離後又は
そのまま!に離せずに同一系内に塩基の存在下、式■の
化合物1.0〜2.0モル当量を加え、反応温度−50
〜100℃、好ましくは一25〜50℃で攪拌して、式
■の3−チオ置換体を得る。反応時間は、使用される塩
基の種類、式■の化合物の種類及び反応温度により異な
るが、10分間〜5時間であり、通常は10分間〜2時
間である。
工程a及び工程すにおける好適な有機溶媒としては、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセタ
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリア
ミド、テセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロル
メタンなどが挙げられ、これ等は単独又は混合して用い
ることができる。また、好ましい塩基としては、ジイソ
プロピルエチルアミン、N、N−ジメチルアミノピリジ
ン、N、N−ジメチルアニリン、トリエチルアミンなど
の有機塩基が挙げられ、その最適使用量は、式■の化合
物に対し0.2〜1.5モル当量である。
工程C:次に、上記工程すで得られた式■の化合物の7
位アミノ基の保護基を、β−ラクタム化学の分野で繁用
きれている方法で除去して式Vの化合物を得る。たとえ
ば、弐■の化合物の保護基R5がフェノキシアセチル基
、フェニルアセチル基又はベンゾイル基の場合は、式■
の化合物をジクロルメタン又はベンゼンに溶解し、五塩
化リン1.5〜2.0モル当量とピリジン2.0〜3.
0モル当量を加え、−40〜30°Cで、30分間〜3
時間攪拌する。
次いで、−50〜20°Cで大過剰のメタノールを加え
、30分間〜2時間攪拌し、更に大過剰の水を加え、−
50〜20°Cで30分間〜1時間攪拌して式Vの化合
物を得る。
また、式■の化合物の保護基R′がトリチル基の場合は
、式■の化合物を反応に関与しない溶媒(たとえば酢酸
エチル)に溶解し、水冷下、パラトルエンスルホン酸・
1水和物を1.0〜1.5モル当量加え、1〜5時間攪
拌することにより式Vの化合物(7)パラトルエンスル
ホン酸塩を得ることカテきる。このパラトルエンスルホ
ン酸塩は、必要に応じ、塩基で処理し、遊離の式Vの化
合物とすることもできる。
工程d:式Vの化合物から式■の化合物を得るには、式
Vの化合物に縮合剤の存在下、式■の2−アミノチアゾ
ール酢酸誘導体を反応させるか、又は式Vの化合物に式
■の化合物の反応性誘導体を反応させる。ここで縮合剤
とは、N、N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド ニル−2−エトキシ−1.2−ジヒドロキノリン、カル
ボニルジイミダゾール、ジフェニルリン酸アジド、ビル
スマイヤー試薬などである。また、式■の化合物の反応
性誘導体とは、酸ハロゲン化物(たとえば酸クロリド、
酸プロミド)、酸無水物(たとえば式■の化合物の対称
酸無水物又はクロル炭酸エチル、ジフェニルリン酸、メ
タンスルホン酸などとの混合酸無水物)、活性化エステ
ル(たとえばパラニトロフェノール、チオフェノール、
N−ヒドロキシサクシンイミド等とのエステル)などで
ある。
式■の化合物の反応性誘導体として式■の化合物のメタ
ンスルホン酸との混合酸無水物を例にして説明すると、
まず式■の化合物を反応に関与しない溶媒に溶解し、−
70〜−30°Cで塩基の存在下、メタンスルポン酸ク
ロリドを1.0〜1.1モル当量加えて、20〜40分
間攪拌して式■の化合物の混合酸無水物を調製する.こ
れに塩基の存在下、式Vの化合物0.5〜0.7モル当
量を−70〜−30℃の範囲内で加え、20〜40分間
攪拌して式■の化合物を得る。
本工程における好ましい溶媒は、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジク
ロルメタン、クロロホルムなどである。
また、好適な塩基は、ジイソプロピルエチルアミン、ト
リエチルアミン、N.N−ジメチルアニリン、N.N−
ジメチルアミノピリジン、ピリジンなどであり、その使
用量は式Vの化合物に対し1.0〜2.2モル当量であ
る。
式■の化合物の反応性誘導体として酸クロリドを用いる
場合は、まず式■の化合物を反応に関与しない溶媒に溶
解し、−30〜−10°Cにて塩基の存在下、五塩化リ
ンを1.0〜1.1モル当量加えて、10〜30分間攪
拌して式■の化合物の酸クロリドを調製する。これに式
Vの化合物0.7〜1.0モル当量を上記と同じ反応に
関与しない溶媒に溶解した溶液を、−30〜0°Cの範
囲内で加え、10〜30分間攪拌して式■の化合物を得
る.本工程における好ましい溶媒は、ジクロルメタン、
クロロホルム、アセトニトリル、N.N−ジメチルホル
ムアミドなどである.また、好適な塩基は、ピリジン、
トリエチルアミン、N.N−ジメチルアミノピリジン、
N.N−ジメチルアニリン、ジイソプロピルエチルアミ
ンなどであり、その使用量は式Vの化合物に対し4.0
〜5、5モル当量である。
工程C:式■の化合物から式■の化合物を得るには、式
■の化合物の保護基をβ−ラクタム化学の分野で繁用さ
れている加水分解、還元などの方法により脱離する。
(1)加水分解 加水分解は通常酸の存在下で行うことが好ましく、その
ような酸としては、たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸な
どの無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン
酸などの有機酸が挙げられる。更には上記の酸の代わり
に三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素・エーテラート、三
塩化アルミニウム、五塩化アンチモン、塩化第二鉄、塩
化スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛などのルイス酸および
酸性イオン交換樹脂などを用いてもよい。
また、上記の有機酸またはルイス酸を使用する場合には
、たとえばアニソールなどの陽イオン捕捉剤の存在下に
行うことが望ましい。加水分解における好ましい溶媒は
、たとえば水、メタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン、 N、N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン
、ジクロルメタン、ニトロメタンなどである。また、前
記の酸が液体の場合は、それ自体を溶媒としても使用す
ることができる。
(2)還元 還元は、化学還元または接触還元法により行われる。化
学還元で使用される還元剤としては、たとえば亜鉛、鉄
などの金属とギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、臭
化水素酸などの有機酸もしくは無amとの組合わせが挙
げられる。
接触還元で使用される触媒としては、白金黒1、酸化白
金、パラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニッケルな
どが挙げられる。
還元は、通常水、メタノール、エタノール、酢酸、テト
ラヒドロフラン、 N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
オキサンなど反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中、
またはそれらの混合物中で行われる。
上記の加水分解および還元の反応温度は特に限定きれな
いが、通常冷却下ないしは加温下で行われる。
発uJj Qと廟未 本発明の式Iの化合物およびその非毒性塩はグラム陽性
菌およびダラム陰性菌を含む各種病原菌に対し強い抗菌
力を示すばかりでなく、優れた経口吸収性を示し、経口
投与用抗菌剤として有用である。
この目的のためには、本発明化合物を慣用的な製剤技術
に従って製造される錠剤、大割、カプセル剤、顆粒剤な
どの投与剤型で経口的に投与することができる。上記の
各製剤においては、通常の増量剤、結合剤、崩壊剤、p
H調節剤、溶解剤などの添加剤を用いることができる。
本発明化合物の治療患者に対する投与量は、患者の年齢
、疾病の種類および状態などにより変動し得るが、通常
、1日あたり10〜3000mgを1〜数回に分は投与
することができる。
次に、本発明の化合物の抗菌活性および経口吸収性試験
の結果を示す。
試験例1 寒天平板稀釈法により各種細菌に対する抗菌試験を行な
い(接種菌量: 10 ’cells/mQ )、下記
第1表の結果を得た。
第1表 [MIC値(w、/mfl)](註) A:実施例1(e)で得られた化合物(ナトリウム塩)
を示す。
B:セファレキシン(既知化合物)を示す。
C:セフィキシム(ナトリウム塩、既知化合物)を示す
。
Dニアβ−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−[(Z)−カルボキシメトキシイミノ]アセタミ
ド)−3−[(Z)−2−メトキシカルボニルビニルチ
オ]−3−セフェム−4−カルボン酸(既知化合物)を
示す。
試験例2 ウィスター系雄性ラット(7週令、1群3匹)への経口
投与による血中濃度の経時変化を調べた。
薬剤投与量: 50mg/kg(5%アラビアゴム懸濁
)定量法:バイオアッセイ法 (検定菌:大腸菌5C507) その結果を第2表に示した。
(註) A:実施例1(e〉で得られた化合物(ナトリウム塩)
を示す。
B:セファレキシン(既知化合物)を示す。
実施例 次に、実施例にて本発明化合物の製造方法を更に詳細に
説明する。
実施例1 (a)7β−フェニルアセタミド−3−メタンスルホニ
ルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸バラメトキシ
ベンジルエステル34.3g(64、smM)をN、N
−ジメチルホルムアミド100m1に溶解し、−30℃
で70%水硫化ナトリウム5.68g(71,0mM)
のN、N−ジメチルホルムアミド50m12溶液とジイ
ソプロピルエチルアミン12.5g(96,9mM)を
加えて、30分間攪拌した。
反応後、水500mQを加えて酢酸エチル300m1で
洗浄した。水層を0.5%塩酸でpH2〜3にして酢酸
エチル11で抽出し、飽和食塩水(300mll X 
3 )で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去し残渣にn−ヘキサンを加え、粉末化して
、7β−フェニルアセタミド−3−メルカプト−3−セ
フェム−4−カルボン酸パラメトキシベンジルエステル
22.0gを得た。
N M R(CDC4)3) 8 (ppm) ;3.
32(LH,d、J=18Hz> 3.46(IH,d、J=18Hz> 3.62(2H,s) 3.78(3H,s) 4、98(IH,d、J=5Hz) 5.18(28,s) 5.35(LH,s) 5、63(IH,dd、 J=5Hz、 9Hz)6、
42(IH,d、 J=9Hz) 6.88(28,d、J=8Hz) 7、20〜7.40(7H,m> KBr−1゜ IRν max  ell   + 3250.1760.1650.1510,1350,
1230.1170(b)上記(a )で得た7β−フ
ェニルアセタミド−3−メルカプト−3−セフェム−4
−カルボン酸バラメトキシベンジルエステル22.0g
(46,8mM)をN、N−ジメチルホルムアミド15
0rnfLに溶解し、−20℃にてプロピオル酸メチル
エステル5.89g(70,1mM)とジイソプロピル
エチルアミン1.81g(14,0mM>を加えて30
分間攪拌した0反応後、0.5%塩酸300m1を加え
て酢酸エチル700m1で抽出し、飽和食塩水(300
ml×3)で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去し、残渣にジエチルエーテルを加え粉
末化して7β−フェニルアセタミド−3−[(Z)−2
−メトキシ力ルポニルビニルチオコー3−セフェム−4
−カルボン酸パラメトキシベンジルエステル16.2g
を得た。
N M R(CDC4)3)δ(ppm) ;3、44
(LH,d、J=18H2) 3、64(2H,s) 3、74(IH,d、J=18Hz) 3、76(3H,s) 3、79(3H,s) 4、98(IH,d、J:5)1z) 5.21(2H,s) 5、84(IH,dd、J=5Hz、9Hz)5、90
(IH,d、、cloHz) 6.31(IH,d、J=9Hz> 6.86(2H,d、J=8Hz) 6.95(IH,d、J=10Hz) 7.24〜7.44(7H,m) KBr    −1。
IRν max”’ 3250.1780.1690.1510.1355.
1220.1165(c)7β−フェニルアセタミド−
3−[(Z)−2−メトキシカルボニルビニルチオコー
3−セフェム−4−カルボン酸バラメトキシベンジルエ
ステル18.3g(33゜OmM )を無水ジクロルメ
タン200m1lに溶解し、0℃に冷却した。これにピ
リジン7、82g(99,0mM)と五塩化リン13.
7g(65,8mM)を加えて30分間かけて室温まで
反応温度を上昇させた後、さらに同じ温度で1時間攪拌
した。次いで反応液を一50°Cに冷却し、無水メタノ
ール100m1を加え、−20°Cで1時間攪拌した。
引き続き、反応液を一50℃に冷却して水100m1l
を加え、水冷下で40分間攪拌した。
これに、飽和重曹水を加え、弱塩基性とし、酢酸エチル
300tdで抽出し、飽和食塩水200m1!で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て残渣にジエチルエーテルを加え粉末化して、7β−ア
ミノ−3−[(Z)−2−メトキシカルボ、ニルビニル
チオ]−3−セフェム−4−カルボン酸バラメトキシベ
ンジルエステル10.6gを得た。
N M R(CD(J)3 )δ(ppm) ;1.7
1(2H,s) 3、48(IH,d、J=18Hz> 3、78(3H,s) 3、80(IH,d、J=18Hz) 3.81(3)1.s) 4、79(1B、 d、 J:5Hz)4、99(IH
,d、J=5Hz> 5、25(28,s) 5、90(lH,d、J=tooZ> 6、87(2H,d、J=8Hz> 6、97(lH,d、J=1ouZ> 7、34(2H,d、J=8Hz> KBr−1。
IRν m、x  Cm   ’ 3320.1755.1705.1690.1610.
1510 。
1345.1220.1165 (d)2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−[(Z)−2,4−ジメトキシベンジルオキシ
イミノ]酢酸531mg(0,92mM>をN、N−ジ
メチルホルムアミド10m1に溶解し、ジイソプロピル
エチルアミン124mg(0,96mM)を加えて一5
0℃に冷却した。これにメタンスルホン酸クロリド10
5mg(0,92mM)を加えて30分間攪拌した。次
いで7β−アミノ−3−[(Z)−2−メトキシカルボ
ニルビニルチオE−s−セフェム−4−カルボン酸バラ
メトキシベンジルエステルテル200a+g(0,46
mM>とジイソプロピルエチルアミン60mg(0,4
6mM)を同温度で加えて30分間攪拌した。反応後、
水30m1を加えて、酢酸エチル50tdで抽出し、飽
和食塩水30m1!で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒;酢酸エチル:ベンゼン
−1:4)に付し、7β−(2−(2−)クチルアミノ
チアゾール−4−イル)−2−[(Z)−2,4−ジメ
トキシベンジルオキシイミノコアセタミド) −3−[
(Z )−2−メトキシカルボニルビニルチオ]−3−
セフェム−4−カルボン酸バラメトキシベンジルエステ
ル270mgを得た。
N M R(CD(J)a )δ(ppm) ;3、1
2(LH,d、J=17Hz) 3、60(18,d、J=17Hz) 3、70(38,s) 3、75(3H,9) 3.77(3H,s) 3、80(3H,s) 3、94(LH,d、J=5Hz) 5、22(2B、 s) 5、23(LH,d、J=10Hz) 5、34(IH,d、J=10Hz) 5.81(IH,dd、J=5Hz、9Hz)5、94
(1B、d、J=10Hz) 6、35〜6.47(2H,m) 6.83(1)1. s) 6.86(2H,d、J=8Hz> 6、93(IH,d、 J:10Hz)6、98(IH
,bs) 7、20〜7.40(19H,m) KBr−1。
IRν maxcffl’ 3380.1790,1700,1615.1590.
1515 。
1480.1360.1290.1220.1160.
1115.1035(e) トリフルオロ酢酸3.5m
Qとアニソール0.7mQの混合液に水冷下、7β−(
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−[(Z)−2,4−ジメトキシベンジルオキシイミノ
]アセタミド)−3−[(Z)−2−メトキシカルボニ
ルビニルチオ]−3−セフェム−4−カルボン酸バラメ
トキシベンジルエステル250mg(0,25mM>を
加えて40分間攪拌し、更に室温下10分間攪拌した0
反応後、反応液をエーテルとn−ヘキサン(1: 2.
30m)の混合液にゆっくり滴下し、析出した結晶を濾
取し、7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−[(Z)−ヒドロキシイミノコアセタミド)−
3−[(Z)−2−メトキシカルボニルビニルチオ]−
3−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩1
50ffigを得た0次いでこの結晶と炭酸水素ナトリ
ウム43mg(Q、 51mM)を水4m1lに溶解し
た後、セファデックスLH−20カラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒;水)に付し、7β−(2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−[(Z)−ヒドロキシ
イミノ]アセタミド) −3−[(Z )−2−メトキ
シカルボニルビニルチオコー3−セフェ云−4−カルボ
ン酸のナトリウム塩120mgを得た。
N M R(D!O) 8 (pI)nt) ;3、5
7(IH,d、 J=17Hz>3、77(3H,s) 3、97(IH,d、 J=17)1z)5、32(1
8,d、 J=5Hz) 5、89(LH,d、 J=5Hz) 6、04(IH,d、 、Cl0Hz)7.00(18
,s) 7、32(IH,d、J=10H2) KBr   −1。
IRν ll、ax ”   ’ 3260.1765,1675.1610,1525,
1390゜1355.1230.1200.1175.
1135上記で得たナトリウム塩120mgを水5m1
lに溶解後、水冷下10%塩酸を加えてpH2,5に調
整し、析出した結晶を濾取して7β−(2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−[(Z)−ヒドロキシ
イミノ]アセタミド) −3−[(Z )−2−メトキ
シカルボニルビニルチオ]−3−セフェム−4−カルボ
ン酸80mgを得た。
N M R(DMSO−da) S (pl)Ill)
 ;3、66(3H,s) 3、67(IH,d、J=17Hz) 4、06(IH,d、J:17Hz) 5、20(IH,dJ=5Hz) 5、83(IH,dd、J=5Hz、 8Hz>6.0
3(IH,d、J=10H2) 6.67(IH,s) 7.14(2H,bs) 7、51(11,d、J=10Hz) 9、52(IH,d、J=8Hz) 11.33(IH,s) にBr   −1。
IRν max Cm’ 3345 、1775 、1675 、1630 、1
435 、1390 。
1360.1230.1175.1005実施例1(b
)に開示した操作および反応条件に準拠して、下記第3
表に例示する化合物を得た。
以下、各表中において、Gはフェニルアセタミド基であ
り、DMBは2.4−ジメトキシベンジル基であり、T
rはトリチル基であり、PMBはバラメトキシベンジル
基であり、Bhはベンズヒドリル基であリ、POMはピ
バロイルオキシメチル基である。
第3表(続き) 実施例1(C)に開示した操作および反応条件に準拠し
て、第3表の実施例2(b)乃至実施例4(b)で得ら
れた化合物から、それぞれ対応する下記第4表に例示す
る化合物を得た。
第4表(続き) 実施例1(d)に開示した操作および反応条件に準拠し
て、第4表の実施例2(C)乃至実施例4(C>で得ら
れた化合物から、それぞれ対応する下記第5表に例示す
る化合物を得た。
実施例1(e)に開示した操作および反応条件に準拠し
て、 第5表の実施例2(d)乃至実施例4(d)で得
られた化合物から、それぞれ対応する下記第6表に例示
する化合物を得た。
第6表(続き)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子又はアミノ基の保護基を示し
    、R^2は水素原子又は水酸基の保護基を示し、R^3
    は水素原子又はカルボキシル基の保護基を示し、R^4
    は水素原子又は炭素原子数1〜4個のアルキル基を示す
    。)で表わされるセファロスポリン誘導体及びその非毒
    性塩。
JP63324255A 1987-12-25 1988-12-22 セファロスポリン誘導体 Pending JPH01250386A (ja)

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JP32900187 1987-12-25
JP62-329001 1987-12-25
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993013109A1 (en) * 1991-12-24 1993-07-08 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Cephalosporin derivative

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WO1993013109A1 (en) * 1991-12-24 1993-07-08 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Cephalosporin derivative

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