JPH01254656A - ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 - Google Patents
４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法Info
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- JPH01254656A JPH01254656A JP63083633A JP8363388A JPH01254656A JP H01254656 A JPH01254656 A JP H01254656A JP 63083633 A JP63083633 A JP 63083633A JP 8363388 A JP8363388 A JP 8363388A JP H01254656 A JPH01254656 A JP H01254656A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、３−位にヒドロキシエチル基を何し、４−位
にアセトキシ基を有する４−アセトキシ−３−ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オンの新規な製造法に関する
。
にアセトキシ基を有する４−アセトキシ−３−ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オンの新規な製造法に関する
。
（従来の技術と問題点）
４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２
−オン誘導体は、チェナマイシン等に代表すれるカルバ
ペネム系β−ラクタム抗生物質やペネム系β−ラクタム
抗生物質の合成中間体として有用であることが知られて
いる〔たとえば、レイダー等、テトラヘドロン・レター
ズ、２３巻、２２９３頁（１９８２年）、およびヨシタ
等、ケミカル・アンド・ファーマシュテイ力ルーブチレ
ン（Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、 ）、２９
巻、２８９９頁（１９８１年）〕。
−オン誘導体は、チェナマイシン等に代表すれるカルバ
ペネム系β−ラクタム抗生物質やペネム系β−ラクタム
抗生物質の合成中間体として有用であることが知られて
いる〔たとえば、レイダー等、テトラヘドロン・レター
ズ、２３巻、２２９３頁（１９８２年）、およびヨシタ
等、ケミカル・アンド・ファーマシュテイ力ルーブチレ
ン（Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、 ）、２９
巻、２８９９頁（１９８１年）〕。
従来、４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジ
ン−２−オン誘導体の合成法として、６−アミノペニシ
ラン酸から合成する方法〔ヨシグ等、Ｃｈｅｍ、 Ｐｈ
ａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、 ２９巻、２８９９頁（１９８１
年）〕、スレオニンから合成する方法〔シオザキ等、テ
トラヘドロン％３９巻、２３９９頁（１９８３年）〕、
アスパラギン酸から合成する方法〔レイダー等、テトラ
ヘドロン・レターズ、２３巻、２２９３頁（１９８２年
〕〕、β−ヒドロキシ酪酸の金属エルレートから合成す
る方法〔ナカイ等、ケミストリー・レターズ、１９２７
頁（１９８４年）〕等が知られている。しかし、これ等
いずれの方法においても、β−ラクタム環の４−位にア
セトキシ基を導入するために、酢酸水銀、硫酸水銀等の
水銀化合物や四酢酸鉛等の工業的には好ましくない試薬
を使用する難点を有していた。
ン−２−オン誘導体の合成法として、６−アミノペニシ
ラン酸から合成する方法〔ヨシグ等、Ｃｈｅｍ、 Ｐｈ
ａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、 ２９巻、２８９９頁（１９８１
年）〕、スレオニンから合成する方法〔シオザキ等、テ
トラヘドロン％３９巻、２３９９頁（１９８３年）〕、
アスパラギン酸から合成する方法〔レイダー等、テトラ
ヘドロン・レターズ、２３巻、２２９３頁（１９８２年
〕〕、β−ヒドロキシ酪酸の金属エルレートから合成す
る方法〔ナカイ等、ケミストリー・レターズ、１９２７
頁（１９８４年）〕等が知られている。しかし、これ等
いずれの方法においても、β−ラクタム環の４−位にア
セトキシ基を導入するために、酢酸水銀、硫酸水銀等の
水銀化合物や四酢酸鉛等の工業的には好ましくない試薬
を使用する難点を有していた。
そこで本発明者らは、３−位にシリル基で保護したヒド
ロキシエチル基、４−位にシリルエーテル基を有する新
規なβ−ラクタム化合物を用いて、４−位にアセトキシ
基を導入する製法を見出し、既に特許を出願した（特開
昭６１−１８７９１、特開昭６１−１８７５８、特開昭
６ｌ−２５８５８）。
ロキシエチル基、４−位にシリルエーテル基を有する新
規なβ−ラクタム化合物を用いて、４−位にアセトキシ
基を導入する製法を見出し、既に特許を出願した（特開
昭６１−１８７９１、特開昭６１−１８７５８、特開昭
６ｌ−２５８５８）。
４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２
−オン誘導体のなかでも、特に４−アセトキシ−３−ヒ
ドロキシエチルアゼチジン−２−オンは、３−位に好み
の基を導入することができ、汎用性が更に増す利点があ
る。しかしながら、４−アセトキシ−３−ヒドロキシエ
チルアゼチジン−２−オンの簡便な合成方法は報告され
ていない。
−オン誘導体のなかでも、特に４−アセトキシ−３−ヒ
ドロキシエチルアゼチジン−２−オンは、３−位に好み
の基を導入することができ、汎用性が更に増す利点があ
る。しかしながら、４−アセトキシ−３−ヒドロキシエ
チルアゼチジン−２−オンの簡便な合成方法は報告され
ていない。
そこで本発明者らは簡便に合成できる、３−位にｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル基、４−位にアセ
トキシ基を有するβ−ラクタムから合成する方法を種々
検討した。
ｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル基、４−位にアセ
トキシ基を有するβ−ラクタムから合成する方法を種々
検討した。
３−位にｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル基
、４−位にアセトキシ基を有するβ−ラクタム化合物の
脱シリル化に関しては、特開昭６１−５０９６４におい
て、酢酸−水による方法が報告されているが、収率２４
％と低収率である。また、一般にテトラブチルアンモニ
ウムフルオライド等による脱シリル化が知られているが
、上記の４−アセトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシエチルアゼチジン−２−オンに適用した場
合、単純な抽出、濃縮、純品化操作では４−アセトキシ
−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンが単離精
製しに＜＜、収率的に低くなる結果が得られる。
、４−位にアセトキシ基を有するβ−ラクタム化合物の
脱シリル化に関しては、特開昭６１−５０９６４におい
て、酢酸−水による方法が報告されているが、収率２４
％と低収率である。また、一般にテトラブチルアンモニ
ウムフルオライド等による脱シリル化が知られているが
、上記の４−アセトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシエチルアゼチジン−２−オンに適用した場
合、単純な抽出、濃縮、純品化操作では４−アセトキシ
−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンが単離精
製しに＜＜、収率的に低くなる結果が得られる。
そこで、本発明者らは詳細な検討を行なった結果、簡便
に脱シリル化が行なえ、しかも単離精製が容易な方法を
見出し、本発明に至った。以下に詳細を説明する。
に脱シリル化が行なえ、しかも単離精製が容易な方法を
見出し、本発明に至った。以下に詳細を説明する。
（課題を解決するための手段および作用効果）本発明は
、化合物（１） に脱シリル化剤を作用させることを特徴とする、式印 で表される４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼ
チジン−２−オンの製造法を内容とする。
、化合物（１） に脱シリル化剤を作用させることを特徴とする、式印 で表される４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼ
チジン−２−オンの製造法を内容とする。
化合物（１）で表されるβ−ラクタム化合物は、本発明
者等が既に特許出願した（特開昭６１−１８７９１、特
開昭６１−１８７５８、特開昭６２−２５８５８）下記
の反応式ＧＩＤに示すような簡便な方法で合成できる。
者等が既に特許出願した（特開昭６１−１８７９１、特
開昭６１−１８７５８、特開昭６２−２５８５８）下記
の反応式ＧＩＤに示すような簡便な方法で合成できる。
反応式口
上記の反応によって合成した化合物（１）に脱シリル化
剤を作用させて、目的の４−アセトキシ−３−ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オンに変換する。この際の脱
シリル化剤としては、鉱酸および有機の強酸であり、そ
の中でも塩酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、硫酸、トリ
フルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、パラトルエンスルホン
酸などが好ましい。溶媒としてはテトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリル、メタノール、エタノール
及び上記の含水溶媒が使用できるが、その中でもアセト
ニトリル、含水アセトニトリルが最適である。反応は一
２０°Ｃから室温付近の範囲で選択することができる。
剤を作用させて、目的の４−アセトキシ−３−ヒドロキ
シエチルアゼチジン−２−オンに変換する。この際の脱
シリル化剤としては、鉱酸および有機の強酸であり、そ
の中でも塩酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、硫酸、トリ
フルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、パラトルエンスルホン
酸などが好ましい。溶媒としてはテトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリル、メタノール、エタノール
及び上記の含水溶媒が使用できるが、その中でもアセト
ニトリル、含水アセトニトリルが最適である。反応は一
２０°Ｃから室温付近の範囲で選択することができる。
鉱酸あるいは有機の強酸は、化合物（Ｉ）に対して０．
３〜１０モル当量用いればよく、好ましくは２〜７モル
当量用いるのがよい。
３〜１０モル当量用いればよく、好ましくは２〜７モル
当量用いるのがよい。
また（基質（Ｉ）／溶媒）が１〜６０ （ｗ／ｖ％）の
濃度で行なうことができ、場合によっては反応開始時に
（１）が溶媒に懸濁状態になっていてもよいが、好まし
くは（基質（Ｉ）／溶媒）が３〜８０ （ｗ／ｖ％）で
行なうのがよい。溶媒中の含水率としては、１〜４０
（ｖ／ｖ％）で行なうのがよいが、好ましくは１０〜３
０ （ｖ／ｖ％）で行なうのがよい。
濃度で行なうことができ、場合によっては反応開始時に
（１）が溶媒に懸濁状態になっていてもよいが、好まし
くは（基質（Ｉ）／溶媒）が３〜８０ （ｗ／ｖ％）で
行なうのがよい。溶媒中の含水率としては、１〜４０
（ｖ／ｖ％）で行なうのがよいが、好ましくは１０〜３
０ （ｖ／ｖ％）で行なうのがよい。
処理は、反応終了後、炭酸水素ナトリウム等の塩基で中
和し、また必要に応じて無水硫酸ナトリウム等で脱水を
行ない、次に不溶物を濾過、除去した後、反応液を減圧
上濃縮し、再結晶化を行なうことにより収率よく４−ア
セトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン
を取得することができる。
和し、また必要に応じて無水硫酸ナトリウム等で脱水を
行ない、次に不溶物を濾過、除去した後、反応液を減圧
上濃縮し、再結晶化を行なうことにより収率よく４−ア
セトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン
を取得することができる。
本発明方法によると、鉱酸あるいは有機の強酸存在下、
有機溶媒又は含水有機溶媒中で温和な条件で処理するこ
とにより、簡便に目的とする４−アセトキシ−３−ヒド
ロキシエチルアゼチジン−２−オンが取得できる。また
、目的の４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチ
ジン−２−オンは光学活性体であることが、カルバペネ
ムやペネム系β−ラクタム合成中間体として重要である
が、出発物質の（ＳＲ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−
〔（几） −ｉ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキ
シエチル〕−アゼチジン−２−オンの光学活性を保持す
ることが本方法では可能であり、化学純度に加え、光学
純度の秀れた（３Ｒ１４Ｒ）−４−アセトキシ−８−（
（Ｒ）−１−ヒドロキシエチルクーアゼチジン−２−オ
ンが容易に取得できる。
有機溶媒又は含水有機溶媒中で温和な条件で処理するこ
とにより、簡便に目的とする４−アセトキシ−３−ヒド
ロキシエチルアゼチジン−２−オンが取得できる。また
、目的の４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチ
ジン−２−オンは光学活性体であることが、カルバペネ
ムやペネム系β−ラクタム合成中間体として重要である
が、出発物質の（ＳＲ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−
〔（几） −ｉ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキ
シエチル〕−アゼチジン−２−オンの光学活性を保持す
ることが本方法では可能であり、化学純度に加え、光学
純度の秀れた（３Ｒ１４Ｒ）−４−アセトキシ−８−（
（Ｒ）−１−ヒドロキシエチルクーアゼチジン−２−オ
ンが容易に取得できる。
（実施例）
次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。
実施例１
（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（几）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｒ１４几）−４−アセトキシ−３−〔（几ン一１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチ
ジン−２−オン５．２Ｏｆをアセトニトリル２０ｙｔｔ
ｌに溶解し、０“Ｃに冷却した後、フッ化水素酸水溶液
（４６％）８．４ｒｔｔｌを加え、２０時間撹拌した。
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｒ１４几）−４−アセトキシ−３−〔（几ン一１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチ
ジン−２−オン５．２Ｏｆをアセトニトリル２０ｙｔｔ
ｌに溶解し、０“Ｃに冷却した後、フッ化水素酸水溶液
（４６％）８．４ｒｔｔｌを加え、２０時間撹拌した。
ＮａＨＣＯａ １５ ｆを加えて生じる懸濁液を、塩
化メチレンを用いて戸別し、溶媒を減圧留去することに
より、白色の結晶を得た。これを、塩化メチレン−ヘキ
サンから再結晶して、（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ
−８−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−
２−オンの無色針状結晶を２．６５！ｆ（８５％〕得た
。物性値は以下の通りであった。
化メチレンを用いて戸別し、溶媒を減圧留去することに
より、白色の結晶を得た。これを、塩化メチレン−ヘキ
サンから再結晶して、（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ
−８−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−
２−オンの無色針状結晶を２．６５！ｆ（８５％〕得た
。物性値は以下の通りであった。
（／＋）２０＝＋６５．４° （０＝０．４６、ＣＢ（
０１３）ｍｐ １１４〜１１４．５”Ｃ ’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３ ） δ（ｐ
ｐｍＣ１，３０（３Ｈ，ａ）、２．１０（ＩＨ，ｓ）、
３．１８（ＩＨ。
０１３）ｍｐ １１４〜１１４．５”Ｃ ’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３ ） δ（ｐ
ｐｍＣ１，３０（３Ｈ，ａ）、２．１０（ＩＨ，ｓ）、
３．１８（ＩＨ。
ａｄ ）、３．９０ （Ｈ（、ｂｒｏａｄ ｓ ）、４
．１６ （ＨＩ、 ｍ）、５．８４（ＩＨｌｄ）、７．
７８ （１ｆＬ ｂｒｏａｄ ｓ ）実施例２ （３Ｒ，４几）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｌ４几ン−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジン
−２−オン２８７ Ｍ（／をアセトニトリル６ｔｓｌに
溶解し、トリフルオロ酢酸の水溶液２ｍ１（濃度１モル
／ｌ）を、水冷下、１時間かかつて滴下した後、０°Ｃ
で３日間撹拌した。反応後、水冷下に、５％ＮａＨＯＯ
３でｐＨ５，５とした後、塩化メチレン５０ｍ１を加え
、無水硫酸ソーダで乾燥した。硫酸ソーダを戸別し、溶
液を減圧濃縮すると、無色のワックス状固体が得られた
。これを塩化メチレン−ヘキサンから再結晶すると、（
３几、４几）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−ヒ
ドロキシエチル〕アゼチジン−２−オン １４３ｆｆＳ
’（８８％）を、白色結晶として得た。物性値は、実施
例１に示した値に一致した。
．１６ （ＨＩ、 ｍ）、５．８４（ＩＨｌｄ）、７．
７８ （１ｆＬ ｂｒｏａｄ ｓ ）実施例２ （３Ｒ，４几）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｌ４几ン−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジン
−２−オン２８７ Ｍ（／をアセトニトリル６ｔｓｌに
溶解し、トリフルオロ酢酸の水溶液２ｍ１（濃度１モル
／ｌ）を、水冷下、１時間かかつて滴下した後、０°Ｃ
で３日間撹拌した。反応後、水冷下に、５％ＮａＨＯＯ
３でｐＨ５，５とした後、塩化メチレン５０ｍ１を加え
、無水硫酸ソーダで乾燥した。硫酸ソーダを戸別し、溶
液を減圧濃縮すると、無色のワックス状固体が得られた
。これを塩化メチレン−ヘキサンから再結晶すると、（
３几、４几）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−ヒ
ドロキシエチル〕アゼチジン−２−オン １４３ｆｆＳ
’（８８％）を、白色結晶として得た。物性値は、実施
例１に示した値に一致した。
実施例３
（３几、４Ｒ）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 Ｍ３ｒｔ、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ二チル〕アゼチ
ジン−２−オン２８７■をアセトニトリル３ｍｌに浴解
し、氷冷下、１規定塩酸２ｍｌを３０分かけて滴下した
。アセトニトリル２ｍｌを追加し、０°Ｃで１日撹拌し
た。反応後、水冷下、強（撹拌しながらＮａＨＯＯａ
１７０ ’９を加え、中和した。
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 Ｍ３ｒｔ、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ二チル〕アゼチ
ジン−２−オン２８７■をアセトニトリル３ｍｌに浴解
し、氷冷下、１規定塩酸２ｍｌを３０分かけて滴下した
。アセトニトリル２ｍｌを追加し、０°Ｃで１日撹拌し
た。反応後、水冷下、強（撹拌しながらＮａＨＯＯａ
１７０ ’９を加え、中和した。
この液に塩化メチレン５０ｘｌを加え、無水硫酸ソーダ
を加え、乾燥後、硫酸ソーダを戸別し、溶液を減圧濃縮
すると、ワックス状の白色固体１９０■が得られた。こ
れを塩化メチレン−ヘキサンから再結晶すると、（ａｎ
、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−ヒドロ
キシエチル〕アゼチジン−２−オン １５０ｑ（８７％
）を白色結晶として得た。物性値は実施例１に示した値
に一致した。
を加え、乾燥後、硫酸ソーダを戸別し、溶液を減圧濃縮
すると、ワックス状の白色固体１９０■が得られた。こ
れを塩化メチレン−ヘキサンから再結晶すると、（ａｎ
、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−ヒドロ
キシエチル〕アゼチジン−２−オン １５０ｑ（８７％
）を白色結晶として得た。物性値は実施例１に示した値
に一致した。
実施例４
（３几、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３几、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７１１ｇをアセトニトリル３ｍｌに溶
解し、水冷下で１規定の硫酸水溶液２Ｎｔを滴下した。
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３几、４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７１１ｇをアセトニトリル３ｍｌに溶
解し、水冷下で１規定の硫酸水溶液２Ｎｔを滴下した。
滴下終了後、アセトニトリル２ｙｔｌを加え、激しく撹
拌しなからＯ″Ｃで２日間反応後、ＮａＨＣＯ３を１７
０ｑ加え、中和した。無水硫酸ソーダ１０ｙと塩化メチ
レン５０ｒｔｔｌを加え、乾燥した。乾燥剤を戸別し、
減圧濃縮して、ワックス状の白色固体を得た。これを塩
化メチレン−ヘキサンから再結晶して、（３几、４几）
−４−アセトキシ−３−（ＯＬ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕アゼチジン−２−オン １４Ｃ１１８２％）を白色
結晶として得た。物性値は、実施例１に示した値に一致
した。
拌しなからＯ″Ｃで２日間反応後、ＮａＨＣＯ３を１７
０ｑ加え、中和した。無水硫酸ソーダ１０ｙと塩化メチ
レン５０ｒｔｔｌを加え、乾燥した。乾燥剤を戸別し、
減圧濃縮して、ワックス状の白色固体を得た。これを塩
化メチレン−ヘキサンから再結晶して、（３几、４几）
−４−アセトキシ−３−（ＯＬ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕アゼチジン−２−オン １４Ｃ１１８２％）を白色
結晶として得た。物性値は、実施例１に示した値に一致
した。
実施例５
（３Ｌ ４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ，）−１
−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３几、４几）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７１１１ｆｊをアセトニトリル８ｍｌ
にだ解し、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物１９１７ｆ
ｆｙの水（２ｔｔｔｌ）溶液を滴下した。滴下終了後、
アセトニトリル２ｔｘｌを加え、０°Ｃで２９時間撹拌
した。反応後、ＮａＨＣＯａを８４ダ加え、塩化メチレ
ン５０ｔｘｌで希釈後、無水硫酸ソーダで乾燥した。乾
燥剤を戸別後、減圧濃縮して、無色の固体（ワックス状
ンを得た（１８８＃）。これを塩化メチレン−ヘキサン
から再結晶して、（ＳＲ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３
−〔（几）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−
オン １３９ｑ（８０％）を白色結晶として得た。物性
値は、実施例１に示した値に一致した。
−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３几、４几）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７１１１ｆｊをアセトニトリル８ｍｌ
にだ解し、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物１９１７ｆ
ｆｙの水（２ｔｔｔｌ）溶液を滴下した。滴下終了後、
アセトニトリル２ｔｘｌを加え、０°Ｃで２９時間撹拌
した。反応後、ＮａＨＣＯａを８４ダ加え、塩化メチレ
ン５０ｔｘｌで希釈後、無水硫酸ソーダで乾燥した。乾
燥剤を戸別後、減圧濃縮して、無色の固体（ワックス状
ンを得た（１８８＃）。これを塩化メチレン−ヘキサン
から再結晶して、（ＳＲ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３
−〔（几）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−
オン １３９ｑ（８０％）を白色結晶として得た。物性
値は、実施例１に示した値に一致した。
実施例６
（３Ｌ ４Ｒ）−４−アセトキシ−３−〔（凡）−１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （８Ｌ ４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７ ＩＩ！をアセトニトリル３１１１
ｔに溶解し、水冷下で１規定の臭化水累水浴液２ｔｔｔ
ｌを３０分かけて滴下し、これにアセトニトリル２ｙｔ
ｔを追加し、０°Ｃで２４時間撹拌した。反応後、固体
Ｎａｌ−ＩＣ０ｑ １７０ ’！９を加え、塩化メチ
レン（５０ｓｔ／Ｘ２）で抽出、無水硫酸ソーダで乾燥
した。乾燥剤をＰ別後、減圧濃縮して、無色ワックス状
の固体１８８ｍｇを得た。これを、塩化メチレン−ヘキ
サンから再結晶して、（３Ｒ１４几）−４−アセトキシ
−３−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−
２−オンの白色結晶１４８Ｎ９（８３％）を得た。物性
値は実施例１に示した値に一致した。
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （８Ｌ ４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７ ＩＩ！をアセトニトリル３１１１
ｔに溶解し、水冷下で１規定の臭化水累水浴液２ｔｔｔ
ｌを３０分かけて滴下し、これにアセトニトリル２ｙｔ
ｔを追加し、０°Ｃで２４時間撹拌した。反応後、固体
Ｎａｌ−ＩＣ０ｑ １７０ ’！９を加え、塩化メチ
レン（５０ｓｔ／Ｘ２）で抽出、無水硫酸ソーダで乾燥
した。乾燥剤をＰ別後、減圧濃縮して、無色ワックス状
の固体１８８ｍｇを得た。これを、塩化メチレン−ヘキ
サンから再結晶して、（３Ｒ１４几）−４−アセトキシ
−３−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕アゼチジン−
２−オンの白色結晶１４８Ｎ９（８３％）を得た。物性
値は実施例１に示した値に一致した。
実施例７
（３Ｌ４Ｒン−４−アセトキシ−８−（（Ｒ） −１−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７〜を含水アセトニトリル（水−アセ
トニトリル：２ｍ１−’１ｍ１）に溶解し、水冷下、ト
リクロロ酢酸３２６Ｍ！を加え、０°Ｃで３日間撹拌し
た。反応後、ＮａＨＣＯ３（固体）を０．１７９加え、
５分間撹拌後、塩化メチレン５０ｍ１と無水硫酸ソーダ
ｌＯダを加えた。硫酸ソーダを炉別し、溶液を減圧濃縮
すると、ワックス状の無色固体が得られた。これを、塩
化メチレン−ヘキサンから結晶化すると、（３Ｒ１４Ｒ
）−４−アセトキシー：１ｌ−（（Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル〕アゼチジン−２−オン １３８Ｍｇ（８０％
ンが白色結晶として得られた。物性値は実施例１に示し
た値に一致した。
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−２−オンの製造 （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジ
ン−２−オン２８７〜を含水アセトニトリル（水−アセ
トニトリル：２ｍ１−’１ｍ１）に溶解し、水冷下、ト
リクロロ酢酸３２６Ｍ！を加え、０°Ｃで３日間撹拌し
た。反応後、ＮａＨＣＯ３（固体）を０．１７９加え、
５分間撹拌後、塩化メチレン５０ｍ１と無水硫酸ソーダ
ｌＯダを加えた。硫酸ソーダを炉別し、溶液を減圧濃縮
すると、ワックス状の無色固体が得られた。これを、塩
化メチレン−ヘキサンから結晶化すると、（３Ｒ１４Ｒ
）−４−アセトキシー：１ｌ−（（Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル〕アゼチジン−２−オン １３８Ｍｇ（８０％
ンが白色結晶として得られた。物性値は実施例１に示し
た値に一致した。
Claims (4)
- （１）化合物（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） を鉱酸あるいは有機の強酸の存在下に有機溶媒または含
水有機溶媒中で処理することを特徴とする、式（II）で
表される４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチ
ジン−２−オンの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） - （２）鉱酸がフッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸もしくは
硫酸である請求項１記載の製造法。 - （３）有機の強酸がトリフルオロ酢酸、パラトルエンス
ルホン酸もしくはトリクロロ酢酸である請求項１記載の
化合物（II）の製造法。 - （４）有機溶媒または含水有機溶媒がアセトニトリル、
含水アセトニトリルである請求項１記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63083633A JP2604794B2 (ja) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63083633A JP2604794B2 (ja) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01254656A true JPH01254656A (ja) | 1989-10-11 |
| JP2604794B2 JP2604794B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=13807872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63083633A Expired - Lifetime JP2604794B2 (ja) | 1988-04-04 | 1988-04-04 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2604794B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054358A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-03-28 | フア−ミタリア・カルロ・エルバ・ソシエタ・ペル・アツイオ−ニ | アゼチジノン類の製法 |
| JPS6187661A (ja) * | 1984-10-01 | 1986-05-06 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 光学的に活性なアシルオキシアゼチジノン及びその製造方法 |
| JPS6284057A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JPS62195359A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 |
| JPS6345251A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-02-26 | Sankyo Co Ltd | ４−アシルオキシアゼチジノン誘導体の製法 |
-
1988
- 1988-04-04 JP JP63083633A patent/JP2604794B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054358A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-03-28 | フア−ミタリア・カルロ・エルバ・ソシエタ・ペル・アツイオ−ニ | アゼチジノン類の製法 |
| JPS6187661A (ja) * | 1984-10-01 | 1986-05-06 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 光学的に活性なアシルオキシアゼチジノン及びその製造方法 |
| JPS6284057A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JPS62195359A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 |
| JPS6345251A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-02-26 | Sankyo Co Ltd | ４−アシルオキシアゼチジノン誘導体の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2604794B2 (ja) | 1997-04-30 |
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