JPH01258206A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は高品位ＶＴＲ，ディジタルＶＴＲなどの高密
度、広帯域記録に用いられる磁気ヘッドに関するもので
ある。

［従来の技術］ 近年、高記録密度かつ広帯域記録用ヘッドとして、合金
磁性材の高い飽和磁束密度を利用し、その欠点である渦
電流損を低減させるため、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂなどのアモ
ルファスやセンダストなどの合金磁性膜と非磁性絶縁層
を交互に積層し、それを非磁性基板で挟持した構造が提
案されている。

基本的な構造として、電子通信学会論文誌Ｖｏｌ。

５７−Ｃ患９第３１９〜３２４頁柴谷、福田（１９７４
）に示されたものがある。これを第１６図に示す。（１
）は動作ギャップ、（２）は巻線窓、（３）はコイル、
（４）は合金磁性膜、（５）は非磁性基板である。しか
しこの構造ではヘッドと媒体の当りが悪くまた機械的強
度も不十分なために、近年では積層膜を非磁性基板で挟
持した構造が用いられている。例えば電子通信学会技術
研究報告ＭＲ８６−３１第２３頁〜第２８頁（１９８６
）で提案されているヘッドを第１７図に示す、（６）は
低融点ガラス、（７）は結晶化ガラスである。

このように構成されたヘッドは、金属磁性膜の膜厚がト
ラック幅となるため、トラック幅の制御が容易でしかも
フェライトヘッドやＭＩＧヘッドのように機械加工を用
いてトラック幅を制御する訳ではないので、１０μｍ以
下のような極めてトラック幅の狭いものも容易に制御で
きる。また膜の成膜方向がトラック幅方向にほぼ一致す
るため、金属磁性膜の最適膜厚で絶縁層と交互に何Ｍか
積層することができるので渦電流が十分押えられ広帯域
用のヘッドとして最大の問題である高周波域でのコア材
の透磁率の劣化をかなりふせぐことかできる。更に、コ
アは全域にわたってトラック幅の膜厚しかないので、コ
イル巻数当りのへラドインダクタンスは、コア全体が磁
性材であるフェライトヘッドやＭＩＧヘッドに較べかな
り小さくなる。

〔発明が解決しようとする課題１ しかし、例えばトラック幅が１０ＡＬｍ以下となった場
合、リアギャップ部（８）も磁性材の厚みがトラック幅
しかないので磁気抵抗が大きくなり、漏れ磁束が多く、
再生効率が急速に劣化する。

これを防ぐためには全体のスケールつまりギャップ深さ
や巻線窓などを小さくするしかないが、ヘッドと媒体が
接触するＶＴＲなどではギャップ深さはヘッド寿命にか
かわるので小さくできない。

更に製造上、ギャップ溶着時のトラックずれは避けられ
ないが、作動（フロント）ギャップ（１）でトラック合
せを行なった場合寸法精度上、リアギャップの方がより
ずれが大きくなるため上記欠点がより−Ｍ問題となる。

この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、上記ヘッドの長所を生かしたまま、再生効
率を向上させ、しかもリアギャップ部のずれに対する許
容を大きくすることを目的とする。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る磁気ヘッドはリアギャップ部の金属磁性
膜を増厚したものである。

【作用Ｊ リアギャップ部の金属磁性膜の増厚により、リアギャッ
プ部の磁気抵抗は小さくなりコアより漏れる磁束が減る
ことによって再生効率が向上する。また、リアギャップ
部の突合せ面の金属磁性膜厚が大きいため、ずれに対し
ての許容が大きくなる。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明による磁気ヘッドの斜視図で、（９）は増
厚された金属磁性膜、（１０）はギャップ溶着用ガラス
溝である。

第２図より第１１図はこの実施例の製造方法を示したも
ので以下図に沿って説明する。

第２図のように非磁性ブロック（１１）に金属磁性膜増
厚用の溝（１２）を加工する。その上に第３図に示すご
とく金属磁性膜と絶縁膜を交互に積んだ積層Ｍ（９）を
形成する。次に第４図のように溝（１２）以外に金属磁
性膜が残らないように余剰金属磁性膜を研摩などの方法
で除去し、その研摩面に金属磁性膜と絶縁膜を交互に積
んだ積層膜（４）を第５図に示す如く形成する。更にそ
の上に第６図に示すように高融点ガラス、結晶化ガラス
などブロック接着用ガラス（１３）を形成する。次に第
７図に示すように、そのブロックを二つ合せて、高温溶
着した後、−点破線に沿ってブロックを切断する。更に
第８図のごとく、切断されたブロック半休に巻線窓用溝
（２）とギャップ溶着用ガラス溝（１０）を加工し、切
断面をギャップ面研摩する。その上に第９図に示す如く
、所定の膜厚の５ｉ０２などのギャップ材（１４）を形
成する。次に第１０図に示すようにブロック半休どうし
を突合せ、低融点ガラス（６）を置いてギャップ溶着す
る。最後に第１１図に示すように一点破線に沿い所定の
寸法に切断すると第１図に示したヘッドチップが出来る
。

このように作られたヘッドチップは増厚部（９）を含む
すべての磁路な金属磁性膜と絶縁膜の積層膜で形成する
ことができるので、渦電流を十分に押えることができ数
＋Ｍｆ（ｚの高周波特性に優れた性能を有する。しかも
１０ＬＬｍ以下の超狭トラツクも作動ギャップでの膜厚
がトラック幅に相当することから十分に精度よく製造す
ることができ、また、摺動面近傍を除く磁路は磁気抵抗
があまり大きくならずに済む程度の断面積を有すること
になるので、再生効率が格段に向上する。更に、増厚部
を、バルク材で形成するのと違い不必要に磁路断面積を
大きくする必要がないのでヘッドインダクタンスは従来
の積層膜ヘッドとあまり変らない。更にギャップ突合せ
時、フロントギャップでトラック合せを行った場合、リ
アギャップのずれはフロントギャップのそれより大きく
なるが、増厚のためリアギャップの磁路断面積が大きい
のでヘッドインダクタンスなどのヘッド特性のバラツキ
に対する影響が従来よりもはるかに小さくなる。これを
説明するが第１２図、第１３図で、第１２図は従来例、
第１３図は本実施例である。ただし、どちらも磁路を形
成している金属磁性膜のみを示している。（３１）はト
ラックずれｆであるが、通常加工精度などの問題でリア
ギャップのずれ（３２）ｒの方が大きく、数μｍ以上あ
る。

ここでそのずれによる影響を考えると、従来では磁性膜
の膜厚（３］ｔ、なので（ｔｌ−ｒ）／１１に依存する
が、本実施例では磁性膜の膜厚（３４）はｔｚ　　（ｔ
２＞ｔｌ　）なので（ｔｚ　　ｒ）／１２に依存する。

例えばトラック幅８μｍリアギャップのずれ４μｍ以下
とすると、従来では、３２μｍとし、ｔｚ＝４０μｍと
すればかに小さい。

なお、上記実施例では、両側に増厚を設けたが、第１４
図に示すように片側だけでもよい。この場合、ブロック
接着用ガラス層はトラック中にあってもよいし、図中の
ａの部分にあってもよい。

また上記実施例では増厚部がチップ全体にわたっている
が、第１５図に示すようにリアギャップ部近傍だけにあ
っても同様の効果を発揮する。また、金属磁性膜のトラ
ック幅が極めて薄い場合、単層であってもよい。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によればリアギャップ部の金属
磁性膜が増厚されているので、ヘッド再生効率が向上し
、かつリアギャップ部のずれに対する許容が大きくなる
のでヘッド特性のバラツキが減り歩留りの向上にもなる
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による磁気ヘッドを示す斜
視図、第２図乃至第１１図はその製造工程を順を追って
説明するための図、第１２図および第１３図はリアギャ
ップずれを比較して説明するための図、第１４図はこの
発明の他の実施例を示す斜視図、第１５図はこの発明の
更に他の実施例を示す斜視図、第１６図は従来の磁気ヘ
ッドを示す斜視図、第１７図は従来の別の磁気ヘッドを
示す斜視図である。 図において、（１）は作動ギャップ、（２）は巻線窓、
（４）は金属磁性膜、（５）は非磁性基板、（６）は低
沸点ガラス、（７）は結晶化ガラス、（８）はリアギャ
ップ、（９）は増厚金属磁性膜、（１０）はギャップ溶
着用ガラス溝、（１１）は非磁性ブロック、（１２）は
金属磁性膜増厚用の溝、（１３）はブロック接着用ガラ
ス、（１４）はギャップ材、（３１）はフロントギャッ
プのずれ、（３２）はリアギャップのずれ、（３３）は
磁性膜の膜厚、（３４）は増厚を含む膜厚である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部を示す。 代理人　弁理士　　大　　岩　　増　　雄１２′ｆＬ２
次唯限十笥与用の尋 第３図 第４図 第８図 第９図 ！４ 第１０図 第′Ｌ１図 ３シ・箸彎乞叙１１

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気回路が金属磁性膜のみによって形成され、そ
   の金属磁性膜が動作ギャップ面および摺動面に対しほぼ
   垂直に形成された磁気ヘッドにおいて、摺動面に露出す
   る金属磁性膜の膜厚よりリアギャップ部の磁性膜の膜厚
   の方が厚いことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）非磁性ブロックに複数の溝を加工する工程、その
   加工面に金属磁性膜を形成する工程、溝の部分にのみ金
   属磁性膜が残るように研摩する工程、その面に金属磁性
   膜を形成する工程、その上に接着用のガラスを形成する
   工程を有する請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。