JPH01258226A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH01258226A JPH01258226A JP8566688A JP8566688A JPH01258226A JP H01258226 A JPH01258226 A JP H01258226A JP 8566688 A JP8566688 A JP 8566688A JP 8566688 A JP8566688 A JP 8566688A JP H01258226 A JPH01258226 A JP H01258226A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- columnar
- recording medium
- magnetic recording
- vapor
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分!PF1
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関する。更に詳細に
は、本発明は連続斜めM打法により形成された柱状構造
の磁性層において、該柱状構造が斜め柱状部分と垂直柱
状部分とから構成されている磁気記録媒体の製造方法に
関する。
は、本発明は連続斜めM打法により形成された柱状構造
の磁性層において、該柱状構造が斜め柱状部分と垂直柱
状部分とから構成されている磁気記録媒体の製造方法に
関する。
[従来の技術]
非磁性基体上に磁性体粒子を物理蒸着させることにより
磁性薄膜を形成させた、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体は、短波長領域における電磁変換特性に優れてい
るので、高密度記録用として好適である。
磁性薄膜を形成させた、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体は、短波長領域における電磁変換特性に優れてい
るので、高密度記録用として好適である。
高密度記録用媒体としての機能を発揮するためには、媒
体表面の平滑性を高めてスペーシングロスを極力減少さ
せることが好ましい。しかし、媒体表面をあまり平坦化
させすぎると、磁気ヘッドのへラドタッチおよび走行性
が不良となる。
体表面の平滑性を高めてスペーシングロスを極力減少さ
せることが好ましい。しかし、媒体表面をあまり平坦化
させすぎると、磁気ヘッドのへラドタッチおよび走行性
が不良となる。
この問題点を解決する手段として、特開昭59−924
28号公報には粒子杖突起を有する下地層を設けたプラ
スチックフィルム面上に強磁性薄膜を形成させた磁気記
録媒体が提案されている。
28号公報には粒子杖突起を有する下地層を設けたプラ
スチックフィルム面上に強磁性薄膜を形成させた磁気記
録媒体が提案されている。
この公報に開示された媒体では、粒子状突起を有するF
地層を設けたプラスチックフィルム面上に磁性体粒子を
重置蒸着させると、下地層の突起形状に対応した凸状部
が磁性層表面に形成される。
地層を設けたプラスチックフィルム面上に磁性体粒子を
重置蒸着させると、下地層の突起形状に対応した凸状部
が磁性層表面に形成される。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、磁性体粒子を斜め蒸着させると、第6図に示さ
れるように、磁性層表面の凸状部の形状は下地層の突起
の形状に対応した形状とならず、緩斜面部分Aと急斜面
部分Bとを有する不規則な形状の凸状部が形成される。
れるように、磁性層表面の凸状部の形状は下地層の突起
の形状に対応した形状とならず、緩斜面部分Aと急斜面
部分Bとを有する不規則な形状の凸状部が形成される。
磁気ヘッドが緩斜面方向から急斜面方向に向かって走行
する場合、下地層の突起の形状によって本来もたらされ
る走行性の改善効果はあまりみられなくなる。また、逆
に、急斜面方向から緩斜面方向にヘッドが走行する場合
、急斜面によりヘッドが引っ掛り、耐久性劣化の原因と
なる。
する場合、下地層の突起の形状によって本来もたらされ
る走行性の改善効果はあまりみられなくなる。また、逆
に、急斜面方向から緩斜面方向にヘッドが走行する場合
、急斜面によりヘッドが引っ掛り、耐久性劣化の原因と
なる。
従って、粒子状突起を有する下地層を設けたプラスチッ
クフィルム面上に磁性体粒子を斜め蒸着させると、ヘッ
ドタッチおよび走行性は垂直蒸着させた時はど改占され
ない。
クフィルム面上に磁性体粒子を斜め蒸着させると、ヘッ
ドタッチおよび走行性は垂直蒸着させた時はど改占され
ない。
東向蒸着磁性膜に比べて、斜め蒸着磁性膜の方が高密度
記録がIIJ能な面内記録膜を形成するのに適している
。
記録がIIJ能な面内記録膜を形成するのに適している
。
この発明は、−1ユ記従来技術が持っていた、斜め蒸着
法により磁性体粒子を蒸着させた場合に生じる磁性層表
面における突起形状の乱れという欠点を解決し、以て走
行性、耐久性および電磁変換特性に優れた磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することを目的とする。
法により磁性体粒子を蒸着させた場合に生じる磁性層表
面における突起形状の乱れという欠点を解決し、以て走
行性、耐久性および電磁変換特性に優れた磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段コ
本発明者が長年にわたり広範な研究と実験を続けた結果
、連続斜め蒸着法により非磁性基体i−に磁性体粒子の
柱状構造磁性層を形成する場合、前記磁性体粒子の蒸気
流の高入射側および/または低入射側にガスを吹付ける
ことにより、柱状構造中に斜め柱状部分と垂直柱状部分
とを形成させることにより前記の従来技術の欠点が解消
されることが発見された。本発明は斯かる知見に基づき
完成された。
、連続斜め蒸着法により非磁性基体i−に磁性体粒子の
柱状構造磁性層を形成する場合、前記磁性体粒子の蒸気
流の高入射側および/または低入射側にガスを吹付ける
ことにより、柱状構造中に斜め柱状部分と垂直柱状部分
とを形成させることにより前記の従来技術の欠点が解消
されることが発見された。本発明は斯かる知見に基づき
完成された。
斜め柱状部分は柱状構造の基部寄りに形成され、垂直柱
状部分は頂部寄りに形成されることが好ましい。
状部分は頂部寄りに形成されることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体における基体は平滑基体でもよい
が、表面に、様々な形状の突起を有する基体が特に好ま
しい。
が、表面に、様々な形状の突起を有する基体が特に好ま
しい。
[作用]
このような突起を有する基体に、斜め柱状部分と垂直柱
状部分とからなる柱状構造の磁性体粒子の磁性膜を積層
させると、垂直柱状部分の頂点を結ぶと、下の突起の形
状と大体同じ形状の凸状部が形成される。
状部分とからなる柱状構造の磁性体粒子の磁性膜を積層
させると、垂直柱状部分の頂点を結ぶと、下の突起の形
状と大体同じ形状の凸状部が形成される。
かくして、斜め蒸着膜でありながら、垂直蒸着膜の場合
とほぼ同じ形状の凸状部を表面に有する磁性膜を形成す
ることができる。
とほぼ同じ形状の凸状部を表面に有する磁性膜を形成す
ることができる。
また、基体の表面の突起の有無に拘わらず、柱状粒子の
頂部寄りを〜γ、ちあげ、斜め柱状部分を少なくすると
カラー信号S/Nが改善されることも期待できる。
頂部寄りを〜γ、ちあげ、斜め柱状部分を少なくすると
カラー信号S/Nが改善されることも期待できる。
[実施例]
以下、図面を参照しながら本発明の具体例について更に
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の製造に使用される連続
斜め蒸着装置の一例を、J<すa四囲である。
斜め蒸着装置の一例を、J<すa四囲である。
真空系1で排気された真空槽2内において、送り出しロ
ール3から送り出された基体4は、ガイドロール5を介
して円筒状キャンロール6に沿って移動し、再びガイド
ロール5を介して巻き取りロール7に巻き取られる。こ
の時、円筒状キャンロール6の下に配設されたるつぼ8
内にセットされたCo−2ONiから成る蒸発源9を加
熱蒸発させ、防着板10aおよび10bを用い、Co−
2ONiの蒸気流11の入射角を90〜50″の範囲に
規制しながら600人/secの析出速度 で基体4上
にCo−2ONiより成る厚さ1500人の磁性層を形
成する。
ール3から送り出された基体4は、ガイドロール5を介
して円筒状キャンロール6に沿って移動し、再びガイド
ロール5を介して巻き取りロール7に巻き取られる。こ
の時、円筒状キャンロール6の下に配設されたるつぼ8
内にセットされたCo−2ONiから成る蒸発源9を加
熱蒸発させ、防着板10aおよび10bを用い、Co−
2ONiの蒸気流11の入射角を90〜50″の範囲に
規制しながら600人/secの析出速度 で基体4上
にCo−2ONiより成る厚さ1500人の磁性層を形
成する。
基体には、表面に平均直径約500人の突起を106個
/mta2有する厚さ9μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用いた。
/mta2有する厚さ9μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用いた。
実1j1−
第2図(a)に示されるように、円筒状キャンロール6
に沿って移動する基体4に入射するC。
に沿って移動する基体4に入射するC。
−2ONiの蒸気流11の低入射角部Aに、ガス吹田[
]12から種々の流MのArガスを吹付けることにより
磁気記録媒体を作製した。
]12から種々の流MのArガスを吹付けることにより
磁気記録媒体を作製した。
K五阻λ
第2図(b)に示されるように、円筒状キャンロール6
に沿って移動する基体4に入射するC。
に沿って移動する基体4に入射するC。
−2ONiの蒸気流11の高入射角部Bに、ガス吹出口
13から種々の流量のArガスを吹付けることにより磁
気記録媒体を作製した。
13から種々の流量のArガスを吹付けることにより磁
気記録媒体を作製した。
支五匠1
第2図(C)に示されるように、円筒状キャンロール6
に沿って移動する基体4に入射するC。
に沿って移動する基体4に入射するC。
−2ONiの蒸気流11の低入射角部Aと高入射角部B
に、それぞれガス吹出口12.13から種々の流量のA
rガスを吹付けることにより磁気記録媒体を作製した。
に、それぞれガス吹出口12.13から種々の流量のA
rガスを吹付けることにより磁気記録媒体を作製した。
実施例1において蒸気流の低入射角部にガスを吹付ける
ことにより作製された磁気記録媒体の断面を第3図(a
)に示す。図示されているように、柱状構造の磁性体粒
子20の頂部寄りが立ちトげられることに伴い、斜め成
分が減少し、垂直な柱状構造に近くなる。
ことにより作製された磁気記録媒体の断面を第3図(a
)に示す。図示されているように、柱状構造の磁性体粒
子20の頂部寄りが立ちトげられることに伴い、斜め成
分が減少し、垂直な柱状構造に近くなる。
第3図(b)は実施例2で作製された磁気記録媒体の断
面図である。磁性体蒸気流の高入射角部にガスが吹付け
られ、柱状構造の基部寄りは倒伏されたような形になる
ため、頂部寄りは垂直に起sitされたような形になる
。
面図である。磁性体蒸気流の高入射角部にガスが吹付け
られ、柱状構造の基部寄りは倒伏されたような形になる
ため、頂部寄りは垂直に起sitされたような形になる
。
第3図(C)は実施例3で作製された磁気記録媒体の断
面図である。磁性体蒸気流の低入射角部と高入射角部に
ガスが吹付けられ、柱状構造の基部寄りが立ちtげられ
るとともに、頂部寄りも8翫γされるので、柱状構造は
あたかもS字状のような形になる。
面図である。磁性体蒸気流の低入射角部と高入射角部に
ガスが吹付けられ、柱状構造の基部寄りが立ちtげられ
るとともに、頂部寄りも8翫γされるので、柱状構造は
あたかもS字状のような形になる。
基体4の表面に突起14がある場合、磁性体粒J’20
は第4図に示されるように、突起の位置および形状に対
応した凸状部を形成する。これは前記第3図(a)〜(
C)に示された何れの柱状構造の磁性体粒子によっても
同等に形成される。柱状構造の頂部寄りが巾11″1′
杖にqちLげられているためと思われる。
は第4図に示されるように、突起の位置および形状に対
応した凸状部を形成する。これは前記第3図(a)〜(
C)に示された何れの柱状構造の磁性体粒子によっても
同等に形成される。柱状構造の頂部寄りが巾11″1′
杖にqちLげられているためと思われる。
表面形状観察の結果、いずれの実施例においても、ガス
流にの多いほど、ベースフィルムの表面形状に近い磁性
層表面が得られることを確認した。
流にの多いほど、ベースフィルムの表面形状に近い磁性
層表面が得られることを確認した。
このように、斜め蒸着時に磁性体粒子の蒸気流に吹付け
るガスの壜と方向を、31節することにより、種々の形
状のベースフィルムに対し、必要とする表面形状を有す
る磁性層が容易に得られる。
るガスの壜と方向を、31節することにより、種々の形
状のベースフィルムに対し、必要とする表面形状を有す
る磁性層が容易に得られる。
ガス流量を増大させれば柱状構造の立ち上がりも大きく
なる。一般的な指標として、ガス流量は200〜100
0J/winの範囲内である。200J /win末滴
では柱状構造の立ち−Lげ効果が不)−分である。−・
方、1000 J /win超では蒸気流の乱れにより
柱状構造の形成が困難になる。
なる。一般的な指標として、ガス流量は200〜100
0J/winの範囲内である。200J /win末滴
では柱状構造の立ち−Lげ効果が不)−分である。−・
方、1000 J /win超では蒸気流の乱れにより
柱状構造の形成が困難になる。
吹付は用ガスは、Arのみでなく、チッ素、ヘリウム、
002などのガスや、これらのイオン化ガス、あるいは
、酸素などの酸化性ガスと混合しても良く、その効果も
変わらず、質埴の大きいガスはど立−Lげ効果が大きい
。
002などのガスや、これらのイオン化ガス、あるいは
、酸素などの酸化性ガスと混合しても良く、その効果も
変わらず、質埴の大きいガスはど立−Lげ効果が大きい
。
ガスの吹付け[−1の数および方向は、前記実施例で例
示されたものに限定されない。磁性体粒子の蒸気流の方
向を変えることができれば、吹付は口の数や方向は特に
限定されず、同様の柱状構造q]−げ効果が得られる。
示されたものに限定されない。磁性体粒子の蒸気流の方
向を変えることができれば、吹付は口の数や方向は特に
限定されず、同様の柱状構造q]−げ効果が得られる。
磁性体粒子の蒸気流の密度が低い程効果が大きいが、低
すぎるき、形状のコントロールは困難になる。
すぎるき、形状のコントロールは困難になる。
磁性体粒子の蒸着速度に対する吹付はガスの流量の比率
自体は本発明の必須要件ではないが、−般的には、80
〜180対1の範囲内であることが好ましい。
自体は本発明の必須要件ではないが、−般的には、80
〜180対1の範囲内であることが好ましい。
実施例1〜3で得られた各磁気記録媒体は、走査形電子
顕微鏡(日立製8520−LB型)で、表面形状を観察
し、触$1式表面粗さ計で磁性層表面の粗度をa1定し
た。
顕微鏡(日立製8520−LB型)で、表面形状を観察
し、触$1式表面粗さ計で磁性層表面の粗度をa1定し
た。
各実施例において、吹付けるガスの総流量が2001
/winのときを基準として、それぞれ得られた磁気テ
ープの表面粗度の測定結果を第5図に示す。ガス流量、
吹付は方向により、表面粗度が変化するのが理解される
。
/winのときを基準として、それぞれ得られた磁気テ
ープの表面粗度の測定結果を第5図に示す。ガス流量、
吹付は方向により、表面粗度が変化するのが理解される
。
なお、この実施例では、基体にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用いたが、一般に連続斜め蒸着に用いら
れる基体であれば、いずれも本発明の磁気記録媒体で使
用できる。
ートフィルムを用いたが、一般に連続斜め蒸着に用いら
れる基体であれば、いずれも本発明の磁気記録媒体で使
用できる。
また、基体表面の突起形状は、シワのようなミミズ状、
粒伏など通常基体表面に形成可能な形状であれば、形状
、密度にかかわらず、本発明の方法が用いられる。
粒伏など通常基体表面に形成可能な形状であれば、形状
、密度にかかわらず、本発明の方法が用いられる。
蒸発源に用いられる磁性材も、Co N iに限らず
、Co−Cr+ Co−Few Co−Mn5
Co−Ti+ Ni−Cr、N1−Fee Ni−Fe
−Cr、 Co−N1−Crq Cot Nie Fe
など、通常用いられる材料はいずれも使用できる。
、Co−Cr+ Co−Few Co−Mn5
Co−Ti+ Ni−Cr、N1−Fee Ni−Fe
−Cr、 Co−N1−Crq Cot Nie Fe
など、通常用いられる材料はいずれも使用できる。
また、本発明の方法は磁性層の形成以外にも使用できる
。例えば、ド地層、保護層など、連続斜め蒸着法を用い
て膜を形成する時であれば、いずれも、本発明の、方法
が使用できる。
。例えば、ド地層、保護層など、連続斜め蒸着法を用い
て膜を形成する時であれば、いずれも、本発明の、方法
が使用できる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の製造方法により得られた
磁気記録媒体は高密度記録が可能な面内記録膜の形成に
適した斜め蒸着磁性膜をfrするが、磁性膜は斜め柱状
部分と昨直柱状部分とからなる柱状構造の磁性体粒子に
より形成されている。
磁気記録媒体は高密度記録が可能な面内記録膜の形成に
適した斜め蒸着磁性膜をfrするが、磁性膜は斜め柱状
部分と昨直柱状部分とからなる柱状構造の磁性体粒子に
より形成されている。
柱状構造の頂部寄りに重置柱状部分が存在すると、表面
に突起を有する基体に磁性体粒子を斜め蒸着させても、
丁の突起の形状と大体同じ形状の凸状部が、下の突起の
位置に対応した位置に形成される。
に突起を有する基体に磁性体粒子を斜め蒸着させても、
丁の突起の形状と大体同じ形状の凸状部が、下の突起の
位置に対応した位置に形成される。
かくして、斜め蒸着膜でありながら、垂直蒸着膜の場合
とほぼ同じ形状の凸状部を表面に有する磁性膜を形成す
ることができる。その結果、磁気ヘッドの走行方向に依
存せず、走行性およびヘッドタッチに優れた磁気記録媒
体が得られる。
とほぼ同じ形状の凸状部を表面に有する磁性膜を形成す
ることができる。その結果、磁気ヘッドの走行方向に依
存せず、走行性およびヘッドタッチに優れた磁気記録媒
体が得られる。
また、基体の表面の突起の有無に拘わらず、柱状粒子の
頂部寄りを立ちあげ、斜め柱状部分を少なくするとカラ
ー信号S/Nが約+1.0dB程度改丹されることが確
認された。
頂部寄りを立ちあげ、斜め柱状部分を少なくするとカラ
ー信号S/Nが約+1.0dB程度改丹されることが確
認された。
第1図は本発明の磁気記録媒体の製造に使用される連続
斜め蒸着装置の一例を示すW1霞図であり、第2図(a
)〜(C)は磁性体の蒸気流に対するガスの吹付は態様
を示す構成図であり、第3図(a)〜(C)は基体の平
滑部分に形成された柱状構造の断面図であり、第4図は
基体の突起部分に形成された柱状構造の断面図であり、
第5図は磁性層の表面粗さとガス吹付は量との関係を示
す特性図であり、第6図は表面に突起を有する基体に磁
性体を従来の方法に従って斜め蒸着させて得られた磁気
記録媒体の断面図である。 1・・・真空系、2・・・真空榊、3・・・送出ロール
、4・・・基体、5・・・カイトロール、6・・・キャ
ンロール、7・・・巻取ロール、8・・・るつぼ、9・
・・蒸発源、10a。
斜め蒸着装置の一例を示すW1霞図であり、第2図(a
)〜(C)は磁性体の蒸気流に対するガスの吹付は態様
を示す構成図であり、第3図(a)〜(C)は基体の平
滑部分に形成された柱状構造の断面図であり、第4図は
基体の突起部分に形成された柱状構造の断面図であり、
第5図は磁性層の表面粗さとガス吹付は量との関係を示
す特性図であり、第6図は表面に突起を有する基体に磁
性体を従来の方法に従って斜め蒸着させて得られた磁気
記録媒体の断面図である。 1・・・真空系、2・・・真空榊、3・・・送出ロール
、4・・・基体、5・・・カイトロール、6・・・キャ
ンロール、7・・・巻取ロール、8・・・るつぼ、9・
・・蒸発源、10a。
Claims (3)
- (1)連続斜め蒸着法により非磁性基体上に磁性体粒子
の柱状構造磁性層を形成することからなる磁気記録媒体
の製造方法において、前記磁性体粒子の蒸気流の高入射
側および/または低入射側にガスを吹付けることにより
、前記柱状構造中に斜め柱状部分と垂直柱状部分とを形
成させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)柱状構造の基部寄りが斜め柱状部分であることを
特徴とする請求項(1)記載の磁気記録媒体の製造方法
。 - (3)非磁性基体の表面には突起が分散配設されていて
、斜め柱状部分と垂直柱状部分とからなる柱状構造の磁
性体粒子が前記突起の形状に沿った凸状部を有する磁性
層表面を形成することを特徴とする請求項(1)記載の
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8566688A JPH01258226A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8566688A JPH01258226A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01258226A true JPH01258226A (ja) | 1989-10-16 |
Family
ID=13865146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8566688A Pending JPH01258226A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01258226A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH046627A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高機能性薄膜とその製造方法 |
| JP2006156854A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | 磁性薄膜およびその形成方法 |
-
1988
- 1988-04-07 JP JP8566688A patent/JPH01258226A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH046627A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高機能性薄膜とその製造方法 |
| JP2006156854A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | 磁性薄膜およびその形成方法 |
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