JPH01264610A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明はＶＴＲ等の高周波信かの記録再生に適した磁気
ヘッドに係り、特に高保磁力記録媒体に対して好適な複
合型磁気ヘッドに関する。

【従来の技術１ 高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力Ｈｃを大きくすれば有利であることはよく知られて
いるが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するため
には、強い磁場が必要となる。ところが、現在磁気ヘッ
ドに用いられているフェライト材は、その飽和磁束密度
ＢＳが４０００〜５０００ガウス程度であるため、得ら
れる記録磁界の強さに限度があり、磁気記録媒体の保磁
力Ｈｅが１０００エルステツドを越える場合には、記録
が不」分になるという欠点がある。 一方、金属磁性材料で総称されるＦｅ−Ａ＋１−８１合
金（センダストと称されている）、Ｎ１−Ｆ　ｅ合金（
パーマロイ）等の結晶質磁性合金、あるいは、非晶質磁
性合金を用いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材より
飽和磁束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低い
という優れた特性を有する。しかし、一般に使用される
トラック幅（１０μｍ以上）の厚みでは渦電流損失によ
りビデオ周波数領域での実効透磁率がフエライＩ・より
低下し、再生能率が低くなる欠点を有する。また、耐摩
耗性に関してはフェライトより数段劣る。 そこで、上記のような問題を解決するために、フェライ
トと金属磁性材を組み合せて両者の良い点を利用した複
合型磁気ヘッドが提案されている。 たとえば、第１図にその磁気へラドコアの斜視図を示す
ごとく、コア部１０が高透磁率フェライトからなり、記
録作用の主要部となる作動ギャップ近傍部１１が物理蒸
着によって形成された金属磁性材からなる複合型磁気ヘ
ッドが提案されている。さらに、高密度記録用磁気ヘッ
ドに対しては狭トラック化のために、作動ギャップ近傍
にトラック幅絞り用の切り欠き溝１２を設け、ここに補
強用の非磁性材が充填されている。１３はコイル巻線用
の窓である。第２図は」１記従来の磁気ヘツ１・の記録
媒体対向面の平面図を示したものである。 ここでフェライ１−コア部１０．１０’　と金属磁性料
部１１．１１’　との結合境界部１４．１４’　が疑似
の作動ギャップとして作用して記録再生特性に損なう欠
点がある、３特に、結合境界部１４゜１４′　と作動ギ
ヤノブ１５が平行になるとその境界部で相当量の信号を
拾うことになり、コンタ効果が激しいという欠点を有す
る。 また、コンタ効果を除くために７１９４１〜３７部１０
．１０’　と金属磁性材部１１．．１１’の結合境界部
１４．３４′に適当な凹凸を設ける方法が知られている
。しかし、コンタ−効果を完全除去することは難かしい
。 他の従来例としては第３図に示すような構造のパットが
知られている。該ヘッドは非磁性基板２０の−にに高飽
和磁束密度を有する金属磁性材２１をスパッタリングや
真空蒸着等の物理蒸着によってトラック幅に等しい膜厚
に形成し、その−Ｌに非磁性材２０′をガラス薄膜で接
着した後、２等分してギャップ突き合せ面をラップし、
コイル巻線窓２２を形成し、ギャップ突き合せ面２ご３
に規定の非磁性膜を介して接合することによって得られ
る。この構造はギャップ形成法に問題があり、非能率的
で、ギャップ長精度も得難く、歩留が悪く生産性に欠点
を持つ。 特開昭５６−１６９２１４号には、第１１図（ニ）、（
ホ）に示すようなヘッドが開示されている。該ヘッド＋
’を第１１図（イ）に示すように、第１１図（、＋４７
）に示す巻線＄１３より一４二の部分に三角形が連続し
た屋根形のフェライ１−ブロック］、　００を用意し、
その屋根形の部分にセンダス１へ合金のような磁性合金
１１をスパッタリング法等で被着形成し、第１１図（ロ
）に示すような複合磁性ブロックとする、ついで磁性合
金１］のみからなる屋根形の頂上の部分を研磨してパッ
ドギャップ突き合わせ面を形成し、ここに酸化珪素膜を
被着形成してヘッドチップの一方をなす複合磁性ブロッ
ク１００ａを製作する。次に第１１図（ハ）に示すよう
に巻線窓１３が設けられたチップの他方をなす複合磁性
ブロック１００ｂと上述の１００ａを突き合わせ接着す
る。その後第１１図（ハ）の点線で示す部分を切断し、
第１１図（ニ）（ホ）で示すごとき複合磁気ヘノ１くと
する。 この様に製作された複合磁気ヘッドは、フェライトコア
部３０．１０’　と磁性合金１１との接合面の方向と、
作動キャップ１−５の方向が斜交するため、不所望の等
価へソトギャップに起因する特性の劣化を低減できる。 【発明が解決しようとする課題ｊ 本発明の目的は、高保磁力記録媒体にも優れた記録再生
特性を示す複合型磁気ヘッドを提供することにある。 【課題を解決するための手段１ −に記目的を達成するために、本願発明の複合型磁気ヘ
ノＩくは、先端から離れるに従って幅が広くなる突起部
を有する２個の基体ブロックの上記突起部の両側面に磁
性体が被着され、」１記突起部の先端において作動キャ
ップを介して上記磁性体が相対峙し、上記２個の基体ブ
ロックの突起部の相対向する側面の磁性体により形成さ
れる空間に非−８＝ 磁性体を充填してなることを特徴とする。 本発明は特に、２個の基体ブロックの突起部の相対向す
る側面の磁性体により形成される空間に５非磁性の補強
部材を充填しているため、媒体摺動面が平らになり、媒
体を傷つけることがない。さらに突起部先端の磁性体を
補強し、かつヘッド全体の強度を保証する。また、磁性
体がほぼ左右対称に形成されていることにより、偏摩耗
も防ぐことができる。 前記突起部の幅は、作動ギャップより離れるに従って広
くなるようにするのがよい。このようにすることで、溝
側面に磁性体を効率的に堆積することができ、基体ブロ
ックとの接触面積を広くすることができる。また、突起
部の頂角が太き過ぎるとトラック幅に誤差を生し易くな
り、小さ過ぎると突起部が機械的に弱くなるので、突起
部の頂角（または両側面により形成される角）は４５゜
〜９０°好ましい。 前記基体ブロックは通常、Ｍｎ−Ｚｎｎフシイ）・又は
Ｎｉ−Ｚｎｎフシイ１へとする１、また、前記磁性体は
前記基体ブロックよりも飽和磁束密度が高＜　、１］つ
磁歪が０付近の高透磁率材料であれは何でもよいが、代
表的なものとしては周知のＦｅ　−Ｓ　ｉ合金、Ｆｅ−
Ａｌ、−８ｉ合金（いわゆるセンゲス１〜系合金）　＋
　Ｎ　Ｊ、　　Ｆ　ｅ合金（いわゆるパーマロイ系合金
）および各種の高透磁率非晶質合金等を挙げることがで
きる。また、例えばＳｊＯ，、Ａ　Ｑ２０３のような非
磁性体からなる厚さ１００人〜１μｌ’Ｈの非磁性体層
と前記高飽和磁束密度磁性体層とを交互に積層した磁性
体でもよい。 このように、磁性体層と非磁性体層を交互に積層するこ
とにより磁気特性を向上せしめることができる。 作動ギヤツブ形成面は、ギャップ近傍の飽和磁束密度を
高めるため、前記磁性体のみで形成するのが望ましいが
、前記磁性体と前記基体ブロックの両者で形成しても単
一部材より成るコアで形成する従来のものに比較して本
願発明の効果は認められる。 基体ブロック突起部の両側面」二の前記磁性体膜上には
、望ましくはコア側面に達するまで非磁性ネ４料が充填
される。 作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束密度の磁性体のみ
からなる場合、前記突起部における先端部の基体ブロッ
クの１〜ラック幅方向の幅はトラック幅の】／２以下と
するのが好ましく、先端部の基体ブロック幅を０にする
、即ち先端部を角形にしてもよい。このようにすること
によって、コンタ効果がほとんど問題にならない程度ま
で低下する。また前記先端部の基体ブロック面が平坦に
ならないように加工すればコンタ効果の面でさらに好ま
しい結果が得られる。 作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束密度の磁性体と前
記基体ブロックの両者からなる場合、作動ギャップ近傍
の飽和磁束密度を高めるため、ギヤツブ形成面における
前記磁性体のトラック幅方向の幅の合計を基体ブロック
の幅の２倍以上とすることが望ましい。 前記基体ブロックの突起部の両側面上に被着された前記
高飽和磁束密度の磁性体の厚さは、通常、トラック幅の
１／２以下とする。これは、作動ギャップ部において記
録媒体対向面に露出している前記磁性体の１へラック幅
方向の幅が、基体ブロック突起部の両側面に被着された
磁性体厚さの和もしくはそれ以−ヒの値となるからであ
る。前記基体フロック突起部の先端部が角形の場合には
、作動ギャップ部の幅はほぼ１前記磁性体の厚さの和に
なるので、磁性体の厚さはトラック幅のほぼ１／２にす
るのがよい。 本発明においては、前記磁性体は基体ブロック突起部の
両側面に被着せしめるものであり、一方の側面のみに被
着したのでは該磁性体と該基体ブロックとの接合面積が
小さくなり磁気回路の磁気抵抗が増大し、また被着する
該磁性体の厚さをトラック幅程度まで厚くしなければな
らず、さらには一方の側面のみに被着するために工程が
複雑になり、好ましくない。 なお、以上述へた磁気ヘッドは、コイル巻線窓以外は実
質的に同じ上記構造の２個のコ′ア半休からなるもので
あるか、これを一方のコア半休のみとして他方について
は１作動ギャップ形成面に基体ブロックより高飽和磁束
密度の第２の磁性体が存在することを除いては異なる構
造としてもよい。 例えば、非磁性材料からなる作動ギャップを介して相対
峙している高飽和磁束密度磁性体のうち、一方は」１記
構造の複合材において基体ブロックに複合してなる第１
の高飽和磁束密度磁性体で、他方はこの複合材の上に堆
積された第２の高飽和磁束密度磁性体であってもよい。 この場合、巻線コイルは薄膜作成技術によって設けるこ
とが可能である。両磁性体の材料は同一であっても、異
なっていてもよい。 本発明の複合型磁気ヘッドの構造において、本明細書記
載以外のことはすへて従来技術をＦｌ＠襲するものとす
る。 本発明の複合型磁気ヘッドはコアの占める大部分は高透
磁率のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフエライ１−あるいはＮｉ−Ｚ
ｎフェライトのバルク材からなり、作動ギャップ部を構
成する部分およびその近傍の大部分は高飽和磁束密度を
有する磁性材、たとえば、Ｆｅ−３ｉ系、Ｆｃ−Ａｌ１
−８ｉ系、Ｎｊ−Ｆｅ系などの結晶質合金あるいは非晶
質合金からなり、スパッタリンク、真空蒸着等の物理蒸
着によってい。 ［作用］ 本願発明による複合型磁気ヘッドは、異種の材料の複合
によりヘッドが構成されているため、飽和磁束密度、実
効透磁率、耐摩耗性に優れた特性が得られ、また、異種
利料の結合境界部が非平行であリコンタ効果による悪影
響も低減できる。さらに突起部を有する２個の基体ブロ
ックの−上記突起部の両側面に磁性体が被着され、上記
突起部の先端において作動ギャップを介して上記磁性体
が相対峙し、かつト記２つの基体ブロックの突起部側面
の磁性体にはさまれた空間に非磁性あ補強部材を充填し
ているため、突起部先端の強度も保ｄｌＬされ、また媒
体摺動面を平らに構成でき媒体を磁性膜の縁部で傷つけ
る心配がない。さらに磁性膜形状が左右対称であり偏摩
耗や段差摩耗の心配もない。 ［実施例） 以下、本発明の磁気八ツ１くの構造について実施例によ
って詳しく説明する。 実施例１゜ 第４図（ａ）、（ｂ）は本発明の第」の実施例における
複合型磁気八ツＩ−の構造を示す斜視図と平面図である
。３０．３０’はｌ・ラック部および作動ギャップ部を
形成し、高飽和磁束密度の金属磁性体からなり、Ｆｅ−
８ｉ、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ。 Ｎｉ−Ｆｅの結晶質合金もしくは非晶質合金で構成され
ており、それぞれ、はぼ磁歪零近傍の組成を有するもの
である。一方、３１，３１．’はＭｎ−Ｚｎｎフシイ１
〜．Ｎｉ−Ｚｎｎフタイ１−等の高透磁率のバルク月か
らなり、前記金属磁性体と磁気的に連結されている。ま
た、一対の金属磁性体の突き合せ部には所定の非磁性膜
が形成され、作動キャップ３２を構成している。なお、
１−ラック幅はコア幅より狭くなっており、トラック幅
を決めるための切り溝が設けである。この切り溝ばあら
かしめフェライトブロックのギャップ形成側の面にトラ
ック幅より狭い幅のフェライト部を残してその両側部に
コア前部から後部まで形成される。 この残されたフェライト突起部の側部に向けてスパッタ
リングあるいは真空蒸着等の薄膜形成技術によって前記
金属磁性材料３０．３０’　が付着される。なお、溝部
にはガラス、セラミック、樹脂等の非磁性材３３．３３
’　が補強材として充填されてなる。３４はコイル巻線
用窓である。また、第４図（ｂ）は磁気テープ摺動面の
拡大図を示す。 本発明においては、フェライト突起部３５゜３５′の両
側部に金属磁性体膜３０．３０’　を付着する。そのた
め金属磁性体の厚みはトラック幅ｔの半分程度ですみ、
膜形成時間が短縮される。 第４図（ｂ）の磁気テープ摺動面において、フェライト
突起部３５．３５’　が作動ギャップ３２から離れるに
したがって広くなる形状にすればコア半休の時に作動ギ
ャップ面側から金属磁性体膜をスパッタリングすれば効
率良く膜形成ができる。 また、前記金属磁性体膜が２木に分割されているので単
層膜でも渦電流損失の影響を低減できる。 さらに、フェライト部と金属磁性体膜の接合部の形状が
作動ギャップ３２と平行部を持たない構造になっている
ためコンタ効果による特性劣化の心配がない。さらに、
フェライト突起部３５゜３５′が金属磁性体膜の芯とな
っており、しかも、作動ギャップの近傍まであるので耐
摩耗性が保障され、機械的強度も高いものである。さら
に、本発明が十数ミクロン以下のトラック幅を有する磁
気ヘッドに適しているのは、金属磁性体膜を付着した後
にトラック幅規制用の切り欠き溝加工を不用とするもの
であり、加工中におこる１１ψのはく離の問題が解決さ
れる。 上述した本発明の複合型磁気八ツ１へは、１）高透磁率
フェライトからなるブロックのギャップ形成側の面に、
トラック幅より狭い幅の先端部を有する突起部を挾持す
るように隣接する２木の溝を１組とする少なくとも１組
の溝を平行に設ける二Ｉニ程、ｊｊ）工程〕）を終了し
た前記フェライ１−ブロックのギャップ形成側の面の少
なくとも前記溝面上に前記フェライトより飽和磁束密度
の高い磁性体を被着せしめる工程、１ｉｉ）前記磁性体
が表面に被着されている前記溝に非磁性材を充填するユ
〕程、ｉｖ）前記非磁性材ならびに磁性体の不要部を除
去し、所定のトラック幅を有するギャップ形成面を露呈
せしめる工程、■）工程ｉｖ）を終了したブロックを一
対用意し、少なくともその一方のブロックのギャップ形
成側の面に、前記溝とほぼ直交するようにコイル巻線窓
用溝を形成する工程、ｖｉ）工程Ｖ）を終了した前記１
対のブロックの少なくとも一方のギャップ形成側の面に
所要の厚さの非磁性層を形成する工程、ｖｉｉ）、Ｔ１
１程ｖｉ）を終了した前記１対のブロックのギャップ形
成面を相対峙せしめ、互に接合して一体化する工程、お
よび■）接合された前記ブロックを所定の位百にて切断
し、少なくとも１個の磁気コアを得る工程を有する製造
方法により容易に製造することができる。 工程ｌ）において、前記溝を、前記ブロックのギャップ
形成側の面の一つの稜から他の稜にかけて縦断するよう
に設けてもよいが、−稜部側にのみ設けてもよい。また
、工程ｉ）において、前記隣接する溝間の突起部の先端
部には平坦面が存在するように加工してもよいし、平坦
面が存在しないように加工してもよい。さらにまた、工
程ｊ）において、前記突起部の先端が前記各組の溝に隣
接する平坦部と同一・レベルになるようにしてもよく、
あるいは該隣接する平坦部より低くなるようにしてもよ
い。隣接平坦部より低くする場合には突起部の先端と隣
接平坦部とのレベル差は前記高飽和磁束密度の磁性体の
厚さ以下、すなわちトラック幅の半分以下とする。その
ようにしないと、前記磁性体を突起部に被着後も前記レ
ベル差が存在することになり、前記工程ｖｉｉ　）が困
難となる。 以下本発明の前記複合型磁気ヘラ１−の構造の理解のた
めその製造方法を図を用いてさらに詳細に説明する。 製造方法の各工程の説明図を第８図（イ）〜（１月に示
す。 ］）第８図（イ）は高透磁率フェライトよりなるブロッ
ク生立のギャップ突き合せ面となる面４１にトラック幅
より狭い突起を残して隣接する２本の溝４．２．４２’
　を組とする複数組の溝を平行に設ける工程である。こ
こで高透磁率フェライトはＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライＪ
〜、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの単結晶あるいは多結晶から
なり、磁気コアの主要部を形成する。溝は先端が７字も
しくはＵ字状に形成されたメタルボンド砥石もしくはレ
ジンボンド砥石が用いられ、高速ダイサ等によって加工
される。また、溝４２．４２’　は２枚の砥石を重ね同
時に加工することも可能である。第８図（ロ）は第８図
（イ）で示す工程で加工された溝４２．４２′の拡大側
面を示す（以下、第８図（イ）、第８図（ロ）等に対応
する工程を工程（イ）、工程（ロ）とする）。ここで、
各組の溝の間に残された平坦部４３は後工程、たとえば
工程（ホ）の研摩や工程（チ）のブロックの接合時にお
ける金属磁性体膜の補強部であり、基準面となる。 −２０〜 １ｊ）工程（ハ）は前記（イ）の工程で得られた溝部を
含めギャップ突き合せ面全面にフェライトより飽和磁束
密度の高い金属磁性体膜４４をスパッタリングによって
堆積させる工程である。金属磁性体はＦｅ−８ｉ　（Ｓ
ｊ　６．５重量％）、ＦＯ−Ａｌ−８ｉ合金（センダス
ｈ）＋　Ｎ　１−Ｆｅ合金（パーマロイ）等で代表され
る結晶質合金であり、非晶質合金はＣｏ−Ｆｅ−８ｉ−
Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイド系合金やＣ
ｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｚｒ等の周知のメタル−メタル
系合金等が用いられる。堆積法は他に真空蒸着。 各ンプレーテイング、化学蒸着あるいはメツキ法等でも
可能であるが、限られた金属しかできないことや組成変
動が大きい等の難点があり、スパッタリング法が適して
いる。また、スパッタリング法は付着強度が高く、溝部
にも廻り込みがよいという利点があり本発明法に対して
適している。堆積する金属磁性体の膜厚は所要のトラッ
ク幅の約１７２でよい。したがって、従来法に比較して
ｆｌｔ−の磁性体膜でも渦電流損失が低減できる。また
、必要ならば非磁性物質を交互に積層した多層膜として
もよい。 】１１）工程（ニ）は（ハ）で得られた金属磁性体膜の
上に少なくとも残りの溝部が埋まる程度に非磁性材４５
を充填する」−程である。非磁性相４５はガラス、セラ
ミック系の無機接着材あるいは硬質の樹脂が用いられる
。安定性面からガラスが適している。ガラス材は金属磁
性体膜４４が結晶質合金であれば作業温度が８００℃以
下の広い範囲で選ぶことが可能である。一方弁結晶質合
金の場合は少なくとも結晶化温度以下のものが選ばれ、
作業温度が５００℃以下の低融点にガラスにする必要が
ある。 ｉｖ）工程（ホ）は玉名１（ニ）で得られたブ゛ロンク
の不要の非磁性材４５および金属磁性体膜４４を除去し
、所要のトラック＠ｔの金属磁性体膜からなる作動ギャ
ップ形成面を露呈させる工程である１、除去法は研削お
よび研摩によって行われ、ギャップ突き合せ面を得るた
め、最終仕」二げは鏡面研摩面とする。鏡面研摩は前記
１〜ラツクｌｌＩｇｔが得られるまで行う。 ■）工程（へ）は工程（ホ）で得られたブロックを一対
用意し、少なくとも一方のブロック−４，Ｑ−１′にコ
イル巻線用溝４６を形成し、次にキャンプ形成面に５ｉ
ｏ２１ガラス等非磁性材を所要の厚さにスパッタリング
してギャップ形成膜とする工程である。 ｖｉ）工程（ト）は前記一対のブロック土臭。 土臭′　のギャップ突き台面を互いにトラック部が合う
ように突き合せて加熱、加圧しながら接合−体化する工
程である。この場合、接合は溝に充填されている非磁性
材４５がガラスならばお互いのガラスによって行われ、
樹脂を用いた場合には別途コイル巻線窓の一部、および
後部接合部に切り欠き溝を設けて樹脂によって行われる
。 ｖｉｉ）第８図（チ）は工程（＋−）で得られた接合ブ
ロック４７の磁気テープ摺動面を示す。工程（チ）は１
〜ラツク幅を中心にして点線で示す所要のコア幅′ｒに
なるように切断して複合型磁気ヘッドを複数個得る工程
である。場合によってはアジマス角だけ傾けて切断され
る。このようにして、第８図（す）にその磁気テープ摺
動面を示すような構造の狭トラツク複合型磁気へラドコ
アが得られる。これにコイルを巻装することにより本発
明の複合型磁気ヘッドが得られる。 実施例２゜ 第５図（ａ）、（ｂ）は本発明の他の実施例における複
合型磁気ヘッドの構成を示す斜視図と平面図である。概
略は切り込み溝を磁気へラドコアの前部すなわち記録媒
体対向面側のみに形成し、後部はフェライトのコア幅全
面で接触する構造になっているものである。このように
すれば、さらに狭１−ラックを有する磁気ヘッドに対し
ても、後部の磁気抵抗が増大しないため効率のよい狭ト
ラツクヘッドを得ることができる。それぞれに付記した
符号は第４図と同一である。なお、補強材３３゜３３′
の充填溝形状は砥石の形状によって種々選ぶことができ
、いずれもフェライトの突起部３５゜３５′は作動ギャ
ップより離れるに従って広がる構造となっており、所定
のアジマス損失を生じさせてクロストークの減少が図ら
れている。また、フェライト突起部が作動ギャップ部に
近づければ作動ギャップ面近傍での渦電流損失を低減す
ることができ望ましい。なお、第５図の構造の磁気ヘッ
ドの場合にはコア後部の接合部に切り欠き溝を設けこれ
に補強材３６を充填するとよい。 実施例１の複合型磁気ヘッドでは、これを製造する際、
第８図（イ）に示すように溝がギャップに溝が形成でき
、後で小ブロックに分割すればよく、この点で量産に適
しているが、１−ラック幅が狭くなった場合に後部コア
部の接触面積が狭くコア後部の磁気抵抗が高くなってし
まい好ましくない。また、前部（磁気記録媒体刻面面側
）でトラック幅の突き合せを行っても後部に合せずれが
起り１０ミクロン以下のトラック幅ではほとんど磁性体
部での接触部がなくなってしまう場合がある。 この問題に対して実施例２の複合型磁気ヘッドでは、第
９図に示すように高透磁率フェライ１−フロツク」−０
−の稜部に切り欠き溝４．２．４２’　を形成すること
によって解決している。以後は第８図（ハ）以後の工程
により磁気ヘッドを得るものである。完成ヘッドは第５
図に示すような複合型磁気ヘッドが得られる。第１０図
（、ｌ）〜（ｄ）に種々の溝形状ならびに加工法につい
て他の例を示す。 第１０図（ａ）は先端が７字状の成形砥石を用いて加工
した溝４２．４２’で示す。この場合、溝の角度Ｏがあ
まり大きいと突起部４８の角度０′が大きくなり、金属
磁性体膜を形成した後研摩して第８図（ホ）に示すよう
にトラック＠ｔを得る寸法精度のばらつきが大きくなる
。逆に角度０を小さくすると狭トラックの場合突起部が
機械的に弱くなり、加工中に欠けてしまうことがある。 したがって、突起部角度θ′は４５〜９０°程度が好ま
しい。しかし、この範囲外でも製造可能であり、これに
限定されない。一方、第１０図（ｂ）に示すように突起
部４８の先端部だけを矩形にすることができるが、この
場合、突起部の先端に平坦部がない方が好ましい。この
加工法は機械加工ｈ＝よってもよいが、金属磁性体膜を
堆積する前に逆スパツタリンク法によって点線４９で示
すように角部を加工することによってもよい。 以上のような溝加工は、第１０図（ｃ）に示すように２
枚重ねの砥石５０を用いれば、−度に突起を形成するこ
とができる。また、第１０図（ｄ）に示すようにマルチ
ワイヤーソを用いれば同時に多数のブロック加工が可能
である。この場合溝４２の形状はＵ字状に形成される１
、また、レザー加工やホ１−エツチング技術が適用でき
、これらの技術を併用してもよい。 実施例３゜ 第６図は本発明のさらに他の実施例における複合型磁気
ヘッドの平面図を示す。この図は磁気テープ摺動面の拡
大図を示している。金属磁性体膜３０．３０’の芯とな
るフェライト突起部３５゜３５′の先端部の接合面は、
作動ギャップ面と平行部を形成しても１〜ラック幅ｔに
対してフェライト突起部の幅ａが１／２以下なら再生に
おけろコンタ効果がＱ、５　ｄ　Ｂ以下となりほとんど
問題とならない。この時、フェライト突起部の先端部が
平和にならないように加工しておけばより好ましい６、 実施例４゜ 第７図は本発明の別の実施例における複合型磁気ヘッド
の概略平面図であり、磁気テープ摺動面を拡大して示し
ている。本実施例の磁気ヘッドは作動ギャップ部３２が
金属磁性体膜３０．３０’とフエライｈ３５，３５’　
からなり、１〜ラック幅１、を構成する前記金属磁性体
膜の幅が前記フエライ１〜の幅すの２倍以十にしてなる
。このようにすれば記録の場合は高飽和磁束密度を有す
る金属磁性体部で支配的に行われ、特に再生の場合に高
透磁率の７１９４１〜部が支配的となり全体に再生効率
が高められる３、な才９、フェライ１への幅が広いとト
ラック中央部の記録が不十分となり、再生出力か劣化し
てしまう。 以上に説明したごとく、本発明による複合型磁気ヘッド
は高保磁力に有する記録媒体にも十分記録可能な高飽和
磁束密度の金属磁性体と高透磁率で高耐摩耗性を有する
フェライ１〜等とを組み合せ、互いに欠点を補なって、
記録および再生特性の優れた狭トラック磁気ヘッドとな
っている。 なお、磁気ヘッドを示す各図面において、コイルの図示
を省略しであるが、コイルは装着するものとする。 以−Ｆに説明したごとく本発明の複合型磁気ヘッドは、
従来の複合型磁気ヘッドに比べ、（１）渦電流損失が小
さくできる構造となっている。 （２）コンタ−効果が無視てきる。 （３）金属磁性体膜とフェライトどの接触面積が広く取
れる、等の構造的利点があり優れたヘッド性能が得られ
る。 （４１−枚の金属磁性体膜を作動ギャップ部で２倍に利
用しているので金属磁性体部の堆積時間が半分で済み量
産性がある。 （５）ｌ−ラック幅決め加工の時に金属磁性体膜の側面
を砥石で加工する必要がなく、加工部のチッピングやパ
リおよび膜のはく離等の問題がない。 （６）非磁＋１の補強部材を充填しているため、媒体Ｍ
ｉｔ／ｉ　ｗａがＮｆｌらになり、媒体を傷つけず、ヘ
ッド全体の強度も保証される。また５偏摩耗もない。 等の大きな利点があり、その製造も容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は従来の複合型磁気ヘラ１−の斜視図お
よびＪ＝面図、第３図は他の従来の複合型磁気ヘッドの
斜視図、第４図（ａ）、（＋））は本発明の一実施例に
おける複合型磁気ヘッドの斜視図および磁気テープ摺動
面の拡大図、第５図（ａ）。 （■））は本発明の他の実施例における複合型磁気ヘッ
ドの斜視図および磁気テープ摺動面拡大図、第６図、第
７図は本発明のさらに他の実施例における複合型磁気ヘ
ッドの磁気テープ摺りｊ面拡大図、第８図（イ）〜（す
）は本発明の複合型磁気ヘッドの製造工程の説明図、第
９図は本発明の複合型磁気ヘッドの製造における加工さ
れたフェライトブロックの斜視図、第１０図（ａ）、（
ｂ）、（ｄ）は本発明の各種実施例に用いられる加重［
されたフェライトブロックの１ｚ面図、第１０図（ｃ）
は未発の製造において用いるフェライＩ−ブロック加］
、用砥石の断面図、第１１図（イ）〜（ホ）は従来の複
合型磁気ヘッドの製造方法の各工程の説明図、斜視図及
び平面図である。 ３０．３０’　　金属磁性体膜、 ３１．３１’　　・高透磁率フェライトブロック、３２
　作動ギャップ、３３．３３’　　・非磁性充填材、３
４・コイル巻線窓、３５．３５’　　・フェライト突起
部、４０・高透磁率フェライトブロック、４１・・ギャ
ップ形成側の面、４２．４２’　・・・溝、４４・金属
磁性体膜、４５・・非磁性材、４７　接合ブロック、５
０・砥石。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、先端から離れるに従って幅が広くなる突起部を有す
   る２個の基体ブロックの上記突起部の両側面に磁性体が
   被着され、上記突起部の先端において作動ギャップを介
   して上記磁性体が相対峙し、上記２個の基体ブロックの
   突起部の相対向する側面の磁性体により形成される空間
   に非磁性体を充填してなることを特徴とする複合型磁気
   ヘッド。 ２、前記磁性体は非晶質合金であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッド。 ３、前記磁性体は結晶質であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッド。 ４、前記非磁性体はガラス、セラミック、樹脂のうちの
   少なくとも１つであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項乃至第３項のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘ
   ッド。 ５、前記非磁性体の融点は、前記非晶質の磁性体の結晶
   化温度以下であることを特徴とする特許請求の範囲第３
   項記載の複合型磁気ヘッド。 ６、作動ギャップ形成面が前記磁性体のみからなること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項のうちい
   ずれかに記載の複合型磁気ヘッド。 ７、前記突起部の先端部における幅がトラック幅の１／
   ２以下であることを特徴とする特許請求の範囲第６項記
   載の複合型磁気ヘッド。 ８、前記突起部の先端部における幅がほぼ０であること
   を特徴とする特許請求の範囲第６項記載の複合型磁気ヘ
   ッド。 ９、前記磁性体の厚さがトラック幅の１／２以下である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項のう
   ちいずれかに記載の複合型磁気ヘッド。 １０、前記磁性体の厚さがトラック幅のほぼ１／２であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の複合型
   磁気ヘッド。 １１、作動ギャップ形成面が前記磁性体ならびに前記基
   体ブロックからなることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項乃至第５項のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘッ
   ド。 １２、前記作動ギャップ形成面における前記磁性体のト
   ラック幅方向の幅が前記突起部の先端部における幅の少
   なくとも２倍であることを特徴とする特許請求の範囲第
   １１項記載の複合型磁気ヘッド。 １３、前記基体ブロックがＭｎ−Ｚｎフェライトもしく
   はＮｉ−Ｚｎフェライトであることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項乃至第１２項のいずれかの項に記載の複
   合型磁気ヘッド。 １４、前記磁性体が一部除去され、コイル巻線用溝の一
   部又は全部が形成されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１３項記載の複合型磁気ヘッド。 １５、前記磁性体がＦｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ
   合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金もしくは高透磁率非晶質合金であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の複合型
   磁気ヘッド。 １６、前記磁性体は多層構造となっていることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッド。 １７、前記磁性体は非磁性体と交互に積層された多層構
   造となっていることを特徴とする特許請求の範囲第１６
   項記載の複合型磁気ヘッド。 １８、前記非磁性体はＳｉＯ＿２又はＡｌ＿２Ｏ＿３で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の複
   合型磁気ヘッド。 １９、前記多層構造はスパッタリング法により形成され
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１６項乃至第
   １８項のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘッド。 ２０、前記突起部の頂角もしくは該突起部の両側面によ
   り形成される角度は４５°〜９０°であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第１９項のうちいずれか
   に記載の複合型磁気ヘッド。