JPH0624044B2 - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、フェライト等の強磁性酸化物を主体とし、
作動ギャップ近傍に金属磁性体を用いた複合型磁気ヘッ
ドの改良に係り、金属磁性体との接合部に生じた磁気的
な疑似ギャップをなくし、磁気特性、例えば、再生出力
の周波数特性のうねり等を防止してフラットな出力特性
を有し、また、製造性の良い構成からなり、高保磁力を
有する記録媒体を用いる各種の磁気記録再生装置に適し
た複合型磁気ヘッドに関する。

背景技術 近年、磁気記録分野では、記録信号の高密度化の要望に
ともない、高保磁力を有する所謂メタル系記録媒体が使
用されてきている。例えば、FDD、HDD、VTR、電算機用
磁気テープ記憶装置、S-DAT、スチルビデオフロッピー
等多種多様の記録形態の磁気記録再生装置に使用されつ
つある。

メタルテープのような高い残留磁束密度を持つ磁気記録
媒体に、磁気記録・再生する磁気ヘッドは、その磁気ギ
ャップに発生させる磁界強度を従来より高くする必要が
あった。

一方、単結晶フェライトの如き強磁性酸化物よりなる磁
気コアを半割体として、その一対を突合せ、突合せ部を
磁気ギャップとした構成からなる磁気ヘッドの場合、そ
のギャップを形成しているフェライトのBsがせいぜい60
00Ｇと低いため、十分な記録磁界強度が取れない問題が
あった。

そこで、強磁性酸化物を主体とした磁気ヘッドにおい
て、磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍部を、フェライトよ
り飽和磁束密度Bsの高い金属磁性薄膜にて構成した所謂
複合型磁気ヘッドが種々提案されている。

例えば、第５図a,bに示す従来の複合型磁気ヘッドの媒
体対向面の概略図にて説明すると、複合型磁気ヘッド
は、単結晶フェライトのような強磁性酸化物よりなる一
対の磁気コア半体片(1)(2)の各突合せ面(1a)(2a)に、ス
パッタリング法の如き真空薄膜形成技術を用いて金属磁
性薄膜(3)(4)を形成したのち、該磁性コア半体片(1)(2)
を突き合せて、磁気ギャップ(5)を形成する構成からな
る。

また、かかる構成からなる複合型磁気ヘッドの金属磁性
薄膜には、次のような特性が要求され、下記要求を満た
す材料として、Fe-Al-Si系の金属磁性薄膜がある。

フェライト材のBsより高いBsを有すること 耐摩耗性にすぐれていること 熱的安定性にすぐれていること 高い周波数（例えば、10MHz）での透磁率がすぐれて
いること 従来技術の問題点 前述の金属磁性薄膜にFe-Al-Si系合金膜を用いた複合型
磁気ヘッドは、メタルテープの使用に対応する諸条件を
満足するすぐれた磁気ヘッドとして多用されている。し
かし、さらに以下の問題があった。

第６図の磁気ヘッドの模式図にて説明すると、磁気コア
(1)(2)の突合せ面上に、金属磁性薄膜(3)(4)を被着形成
する際に、薄膜形成条件やコア(1b)(2b)と薄膜(3)(4)の
熱膨張係数の差等により、金属磁性薄膜の被着初期層の
磁気特性が劣化し、磁気コア(1)(2)との接合部(1b)(2b)
に磁気的な不連続が生じ、このような複合型磁気ヘッド
で再生した時、接合部(1)(2)が疑似ギャップとして働
き、第７図に示すような疑似ピークが現われ、再生出力
の周波数特性にうねりを生じる問題があった。

また、磁気コア(1)(2)の突合せ面の金属磁性薄膜の被着
予定面に加工歪層があると、接合部(1b)に磁気的な不連
続が生じて前記と同様に疑似ギャップとして働くことが
判明した。

このような疑似ギャップ生成問題に対しては、一般に
は、アジマスロスを利用し、疑似ギャップとなる接合部
(1b)(2b)と磁気ギャップ(5)とが非平行になるように、
例えば、第５図に示す如く、所定のアジマス角を設ける
ことにより対処していた。

しかしながら、前記第５図に示すような構造では、該金
属磁性薄膜を20μｍ程度に厚く被着形成する必要があ
り、膜剥離による歩留低下、あるいは被着形成に長時間
を要して生産性が悪いなどの問題があった。

発明の目的 この発明は、高抗磁力Hcを有する磁気記録媒体に高密度
記録再生するのに適した複合型磁気ヘッドを目的とし、
所謂疑似ギャップの生成を防止し、量生産にすぐれかつ
信頼性が高く、耐摩耗性の良好な複合型磁気ヘッドを目
的とする。

発明の構成 この発明は、強磁性酸化物を主体とする磁気コアの少な
くとも作動ギャップ近傍部が金属磁性体からなる複合型
磁気ヘッドにおいて、該金属磁性体がbcc構造を有する
強磁性のFeまたはFe系合金薄膜とFe-Al-Si系合金薄膜と
からなり、無歪高平坦度面となした強磁性酸化物表面と
Fe-Al-Si系合金薄膜の間にbcc構造を有する強磁性のFe
またはFe系合金薄膜が形成されていることを特徴とする
複合型磁気ヘッドである。

すなわち、この発明の複合磁気ヘッドは、例えば、Ni-Z
nフェライトやMn-Znフェライトなどの強磁性酸化物より
なる磁気コア半体片の突合せ面となる表面を、メカノケ
ミカル研摩、フロートポリッシュ等の無歪加工により高
精度平坦面で無歪の面に加工した後、該面上にbcc構造
を有する強磁性のFeまたはFe系合金膜を被着形成し、さ
らに、Fe-Al-Si系合金薄膜、所謂センダスト膜を被着形
成し、所定形状に加工したのち、該磁気コア半体片を突
き合せて磁気ギャップを形成した構成からなることを特
徴とする。

この発明による複合型磁気ヘッドは、磁気コア半体の突
き合わせ面上に所要順序に積層された積層構造の金属磁
性体を特徴とし、bcc構造を有する強磁性のFeまたはFe
系合金薄膜とFe-Al-Si系合金薄膜とからなる２層構造は
もちろん、磁気コア半体の強磁性酸化物とbcc構造を有
する強磁性のFeまたはFe合金膜、及びFeまたはFe合金膜
とFe-Si-Al系合金膜のそれぞれの接合面の一方または両
方の接合面に生成した拡散層を有する積層構造の場合を
も含む。

発明の効果 この発明の特徴であるFe-Al-Si系合金薄膜とbcc構造を
有する強磁性のFeまたはFe系合金薄膜の２層構造の金属
磁性体を、強磁性酸化物磁気コア面に設けることによ
り、高抗磁力Hcを有する磁気記録媒体に高密度記録再生
するのに適した複合型磁気ヘッドが得られ、所謂疑似ギ
ャップを実質的になくし、周波数特性のうねりが著しく
減少し、また、金属磁性体は比較的薄い膜でよく、その
被着形成に時間を要せず生産性にすぐれ、かつ信頼性が
高く、耐摩耗性の良好な複合型磁気ヘッドが得られる。

かかる効果が得られる理由を詳述する。

前述した疑似ギャップの原因の１つとして考えられるFe
-Al-Si合金薄膜の初期劣化層は、通常のスパッタ法や真
空蒸着法の成膜条件を種々変更しても容易に除くことが
出来ない。

この理由は明らかでないが、第８図に示す、スパッタ法
によるセンダスト膜の磁気特性に及ぼす膜厚の影響との
関係を見れば明らかな如く、膜厚が薄くなるに従って、
透磁率は著しく低下することがわかる。

従って、磁気コア半体との界面に近い側の数1000Åの部
分は、それより上の部分に比べて透磁率が著しく低くな
り、これが疑似ギャップとして働いていると推察され
る。

本発明者らが種々検討の結果、Fe-Al-Si合金薄膜の初期
層の磁気特性が著しく劣化するのは、磁気コア半対を構
成する強磁性酸化物に直接Fe-Al-Si膜を成膜した場合、
その成膜初期において結晶配向が乱れ易くなり、熱処理
を行なっても強磁性酸化物との界面付近では再結晶及び
粒成長が十分起こり難いためであると考えられる。

そこで、Fe-Al-Si合金膜と同bcc構造を有する強磁性のF
eまたはFe合金膜を、最初に強磁性酸化物等からなる基
板上に成膜し、次いで、Fe-Al-Si合金膜を成膜すれば、
下地のFeまたはFe合金膜の結晶配向に沿ったFe-Al-Si合
金膜（いわるエピタキシャル成長によるFe-Al-Si合金
膜）が形成されると考えられ、初期層の結晶配向の乱れ
が少なく、熱処理により容易に軟磁気特性が向上するこ
とを知見した。

ここで注目すべきことは、Fe薄膜は単層では保磁力が数
Oeまでしか低下せず、磁気ヘッド用軟磁性膜としては不
十分であるにもかかわらず、Fe-Al-Si合金膜と組み合わ
せた場合（Fe膜0.1μm,Fe-Al-Si合金膜0.9μｍ）、困難
軸の保磁力0.1Oe以下、透磁率が約2800(10MHz)まで向上
することである。これは単に、公知の技術及び知見の組
み合わせからは全く予想の出来ないことである。

すななわち、bcc構造を有する強磁性のFeは、真空蒸着
法やスパッタ法等で得られるが、第10回日本応用磁気学
会学術講演概要集414頁等の文献にも記載されているよ
うに、通常のFeスパッタ膜は保磁力が約10Oe以上と高
く、透磁率も数百以下しか得られない。

これでは磁気ヘッド用軟磁性膜としては不十分であるた
め、bcc構造を有する強磁性のFeをそのまま磁気ヘッド
用材料に用いる試みは全く行なわれていない。また、こ
のような不十分な軟磁性膜とセンダスト合金膜を組み合
わせることも、従来、全く考えられていなかった。

また、この発明は、Fe-Al-Si系合金膜とFeまたはFe系合
金膜の２層構造にしたことにより、膜の応力を緩和する
効果があり、熱処理後の膜の剥離を防止できる。

また、熱処理による２つの合金膜間に相互拡散が生じて
も両者とも主成分がFeであるため、熱処理によりかえっ
て特性が劣化するという問題が生じ難いという利点があ
る。

発明の好ましい実施態様 この発明において、複合型磁気ヘッドの構成は、金属磁
性体が無歪高平坦度面となした強磁性酸化物表面に被着
されるbcc構造を有する強磁性のFeまたはFe系合金薄膜
とさらにその上に被着されるFe-Al-Si系合金薄膜との積
層構成であれば、公知のいかなる構成も利用できる。

また、この発明において、磁気コア主体となる強磁性酸
化物には、Ni-ZnフェライトやMn-Znフェライトなどの単
結晶フェライト、HIP処理された焼結フェライトが利用
できる。

この発明の特徴であるFeまたはFe合金膜は、前述の如
く、Fe-Al-Si系合金膜の成膜初期層の結晶配向を促す目
的のために、まず、bcc構造であること、そしてFeまた
はFe合金膜自体が疑似ギャップとならないために強磁性
であることが必要である。

また、その飽和磁束密度Bsは、基本となる強磁性酸化物
のBsの約70%以上は必要で、基体となる強磁性酸化物のB
sと同等以上が好ましい。

保磁力は、数10Oe以下であれば使用可能であるが、望ま
しくは10Oe以下、さらに好ましくは数Oe以下が良い。

このFeまたはFe系合金膜の組成は、Feと不可避な不純物
からなるいわゆる純Feでも良く、また、主成分をFeと
し、副成分としてCo、Ni、Cu、Mn、Cr、Ｖ、Mo、Nb、Z
r、Ｗ、Ta、Hf、Ｙ、Ｂ、Ｃ、Al、Si、Ru、Rh、Pd、P
t、希土類元素の少なくとも１種以上と、不可避な不純
物を含有するFe合金膜でも良い。

しかし、これら副成分の濃度は、前記のbcc構造と強磁
性の条件を満足する範囲を適宜選定する必要がある。例
えば、Feを添加したFe-Ni合金の場合、Niを約50％以上
含有し、fcc構造を有するパーマロイといわれる合金膜
は、センダスト膜の初期層の結晶配向を促すことが出来
ないので不適当である。

また、Ｂ、Zr、Hf等の非晶質形成元素を、およそ10原子
〜20原子％添加すると非晶質Fe合金膜が形成されるの
で、これも不適当である。

従って、前記の副成分の元素は各元素毎に、あるいは組
み合わせて添加する際に、前述の条件を満足するFeまた
はFe合金膜が形成されるか否か、公知の技術及び知見に
よりその濃度を決定すれば良い。

また、最外層に設けるFe-Al-Si系合金薄膜は、所謂セン
ダスト合金であり、従来より複合型磁気ヘッドに多用さ
れており、磁気ヘッドの用途等に応じて、公知の組成が
適宜選定し得るが、３〜10wt%Al、６〜15wt%Si、80〜90
wt%Feの範囲の合金が用いられることが多く、また、必
要に応じて、Cr、Ta、Ni、Co、Mo、Zr、希土類元素など
を添加するのもよい。

磁気コア半体を構成する強磁性酸化物の表面に、bcc構
造を有する強磁性のFeまたはFe系合金薄膜とさらにその
上にFe-Al-Si系合金薄膜を成膜するが、その被着方法と
しては、各種スパッタリング法、真空蒸着、イオンプレ
ーティング、等の公知の気相成膜方法が利用できる。

好ましい被着方法、条件としては、いずれの方法におい
ても、到達真空度は高い程好ましく、少なくとも10^-6To
rr台以下の高真空にする必要があり、望ましくは２×10
^-6Torr以下、さらに望ましくは１×10^-6Torr以下が良
い。

スパッタリング法を用いる場合には、アルゴンガス等の
不活性ガスをスパッタリングガスとして用いるが、この
圧力はスパッタ装置の構造によって適宜選定すれば良
い。

例えば、マグネトロン式スパッタ装置の場合、ガス圧は
１×10^-3Torr〜20×10^-3Torrが好ましく、さらに好まし
くは２×10^-3Torr〜８×10^-3Torrが好ましい。

また基板温度は300℃以下が良いが、望ましくは200℃以
下、さらに望ましくは100℃以下がよい。

さらに、bcc構造を有する強磁性のFeまたはFe系合金薄
膜を被着する強磁性酸化物表面の基板粗度は好ましくは
40Å以下にする。その理由は、被着形成するbcc構造を
有する強磁性のFeまたはFe系合金薄膜の膜厚が数Å〜数
千Åと薄いために、強磁性酸化物の表面状態、例えば、
残留歪応力や粗度等に強く影響され、磁気特性が悪化す
る可能性があるためである。

発明者の実験によれば、bcc構造を有する強磁性のFeま
たはFe系合金薄膜の特性劣化は、強磁性酸化物の表面粗
度が該磁性膜厚の1/10を境に顕著になるため、強磁性酸
化物表面粗度は、好ましくは100Å以下、さらに好まし
くは40Å以下がよい。

かかる強磁性酸化物表面の無歪、高平坦度状態を得る方
法としては、メカノケミカル研摩、フロートポリッシン
グ、ダイヤモンド研摩の後メカノケミカル研摩する方
法、あるいはダイヤモンド研摩の後メカノケミカル研摩
し、さらにフロートポリッシングする方法が良い。

また、この発明において、メカノケミカル研摩法として
は、粒径0.1μｍ以下のMgO、ZrO₂、Al₂O₃、SiO₂等の単
独または混合微粉末を、純水中に0.5wt%〜20wt%懸濁さ
せた懸濁液を用い、該懸濁中において、例えば、硬質ク
ロス、はんだ、Sn等からなる円盤型ポリッシャーを回転
可能に配設して、被加工材をこの懸濁液中でポリッシャ
ー表面に所定荷重で当接させ、両者を相対的に回転させ
て研摩を行なうが好ましい。

前記研摩方法において、ポリッシャー材及び回転速度、
荷重圧力は微細粉末の粒径や純水中の懸濁量、被加工材
等の条件により適宜選定すればよいが、ラップ圧力；0.
01kg/cm²〜1kg/cm²、回転速度；10m/min〜100m/min、の
条件が好ましい。また、前記単独または混合微細粉末粒
径は0.1μｍを越えると、引っかき疵が生じるため、粒
径0.1μｍ以下が好ましい。

この発明において、bcc構造を有する強磁性のFeまたはF
e合金膜とFe-Al-Si合金膜とからなる金属磁性体厚み
は、合金磁性膜の磁気特性、ヘッドの生産性、信頼性よ
り、0.3μｍ〜30μｍ、望ましくは、0.5μｍ〜20μｍで
ある。

さらに、この発明の特徴であるbcc構造を有するFeまた
はFe系合金膜の被着厚みは、Fe-Al-Si合金膜の結晶配向
を促す目的のためには0.001μｍ以上必要で、望ましく
は0.01μｍ以上さらに望ましくは0.1μｍ以上が好まし
い。しかし２μｍ以上の厚さになると金属磁性膜全体の
磁気特性が劣化するので２μｍ以下、望ましくは１μｍ
以下、さらに望ましくは0.5μｍ以下が良い。

またFe-Al-Si系合金膜の厚みは、高保磁力媒体に十分に
飽和記録するためには、0.1μｍ以上が必要であり、高
い磁気特性（透磁率、保磁力）を安定して確保でき、か
つ優れた加工性を得るには、30μｍ以下、望ましくは20
μｍ以下、さらに望ましくは10μｍ以下である。

また、上記金属磁性体は、強磁性酸化物からなる磁気コ
ア半体対のギャップ近傍部の一方の磁気コア半体だけに
形成されても良いし、両方に形成されても良い。

また、磁気コア半体対の両方に形成される場合、それぞ
れの金属磁性体の膜厚構成は、上記した膜厚範囲内なら
ば良く、統一する必要はない。

このようにして二層に被着された金属磁性膜の磁気特性
を向上させる目的で必要に応じて熱処理を行うとよい。

熱処理は、成膜後加工前に行なっても良く、また、磁気
ヘッドの形状に加工してから行なっても良いし、さらに
また磁気ヘッドコアの半体対のボンディング加工を行な
う際にガラス溶着のための加熱を熱処理と併用しても良
い。

熱処理の温度と時間は、金属磁性膜の磁気特性を向上さ
せるのに十分な温度と時間を適宜選定すると同時に、磁
気コア半体を構成する強磁性酸化物との熱膨張係数差、
磁気コア半体を構成する強磁性酸化物の耐熱性、強磁性
酸化物とFeまたはFe系合金膜と、Fe-Al-Si系合金膜との
３者間の相互拡散を同時に考慮して選定すべきであっ
て、使用した強磁性酸化物、及び金属磁性膜の組成によ
って適宜選定する必要がある。

通常温度は300℃以上、800℃以下が好ましく、さらに40
0℃以上、600℃以下がより好ましい。時間は１分以上、
1000時間以下が好ましく、さらには10分以上、100時間
以下がより好ましい。

冷却速度も熱処理温度、時間と同様に使用した強磁性酸
化物、及び金属磁性膜の組成によって適宜選定する必要
があるが、通常、１℃/hr以上、10000℃/hr以下が好ま
しいが、50℃/hr〜600℃/hrの範囲がより好ましい。

雰囲気は、金属磁性膜及び強磁性酸化物の磁気特性を著
しく劣化させるものでなければどのような雰囲気でも良
いが、真空または不活性ガスまたは窒素ガス中が好まし
い。

このようにして熱処理を行なった場合、熱処理温度及び
時間との兼ね合いにより、分析機器で検出し得る程度の
相互拡散層が出来る場合がある。

このような場合、この発明による磁気ヘッドは、強磁性
酸化物とbcc構造を有する強磁性のFeまたはFe合金膜及
びFe-Si-Al系合金膜のそれぞれの境界面の少なくとも一
方における拡散層を含む構成となる。

図面に基づく発明の開示 第１図はこの発明による複合型磁気ヘッドの斜視説明図
である。第２図、第３図及び第４図はこの発明による複
合型磁気ヘッドの製造工程を示す斜視説明図である。

この発明による複合磁気ヘッドは、第１図に示す如く、
例えば、Mn-Zn系フェライト等の強磁性酸化物からなる
磁気コア半体(10)(11)の無歪加工を施した磁気ギャップ
(12)近傍部の面上に、強磁性薄膜(13)(14)と強磁性薄膜
（13′）（14′）がスパッタリング等の真空薄膜形成技
術によって、それぞれ被着形成され多層構造をなしてお
り、前記ギャップ(12)は、強磁性薄膜上に被着形成され
たSiO₂等の非磁性材(15)により形成されており、また、
コイル巻線用窓(16)を形成し、ガラス(17)によってコア
(10)(11)半体対が接合されている。

かかる複合ヘッドの作製工程を第２図，第３図，第４図
に基づいて説明する。

まず、Mn-Zn系フェライトのような強磁性酸化物よりな
る磁性基板(20)の後工程にて金属磁性薄膜と接合する基
板面に、メカノケミカル研摩を施し、さらに必要に応じ
て、ポリッシュ定盤との間に数μｍのギャップを設けて
フロートポリッシュを施し、該基板面を高精度に無歪に
研摩する。この際、面粗度が100Åを超えないように、
好ましくは40Å以下にする。

次に、研摩された磁性基板(20)面上に、スパッタリング
法などの真空薄膜形成技術により、bcc構造を有する強
磁性のFeまたはFe系合金の第１磁性膜(13)を被着形成
し、真空薄膜形成装置の真空度を変えることなく連続し
て、Fe-Al-Si系合金の第２磁性膜(14)を被着形成する。

またさらに、所定厚みの磁気ギャップ形成用の非磁性材
(15)膜を成膜する。

こうして得られた複合磁性基板(20)の磁性膜の付着して
いる面に、例えば、回転砥石等を用いて、第３図に示す
如く、上面部を横切るような断面凹状の溝部(22)を複数
形成する。

さらに、断面凹状の溝部(22)と90°直交する同一面上の
方向に、凹船型形状の溝部(21)を複数形成する。

次に、第４図に示すように、該溝部(21)(22)が形成され
た複合磁性基板(20)と、断面凹状の溝部(31)のみが形成
され、２層の磁性膜を被着した複合磁性基板(30)とを突
き合せ、磁性基板(20)の溝部(22)にガラス棒を挿入し、
例えば、600℃で溶融し、溝部(22)をガラスで埋め、基
板(20)と基板(30)を接着し、ブロック(40)を得る。

次に、このブロック(40)をa-a線，b-b線の位置でスライ
シィング加工することで、複数個のヘッドチップを得る
ことができる。

その後、上記ヘッドチップの記録媒体摺接面を円筒研摩
することにより、第１図に示した複合型磁気ヘッドを得
ることができる。

実施例 第２図と同様に、Mn-Zn単結晶フェライトからなる磁気
基板の一主面を、アンプレックス社製の粒径0.1μｍ以
下のMgOパウダーの懸濁液を用いて、メカノケミカルポ
リッシュしたのち、ポリッシュ定盤と一主面との間に５
μｍのギャップを保持させながら、同様の懸濁液を用い
てフロートポリッシュを施し、前記主面を高精度な無歪
面に仕上げた。

この際、タリステップ（テーラーホブソン社製）表面段
差測定器による測定では、粗度40Å以下であった。ま
た、表面歪層の除去状態は、エリプソメトリーによって
確認した。

上記の無歪加工された磁性基板の主面上に、RF2極マグ
ネトロンスパッタリング装置によって、99.5%Fe膜を0.1
μｍ厚みで被着形成し、さらに薄膜層を大気に晒すこと
なく、連続してFe-Al-Si膜を５μｍ厚みに被着形成し
た。

さらに、磁気ギャップを形成するためのAl₂O₃膜をRF2極
マグネトロンスパッタリング装置にて、0.1μｍ厚みに
被着形成し、第２図の如き３層の複合磁性基板を得る。

次に、第３図に示すように、トラックを形成するための
トラック溝及び記録再生のための巻線用巻線溝を多数形
成した。

さらに、この複合磁性基板の一主面上に、後のガラスボ
ンディング時のガラス流れ性を向上させるために、Cr膜
を0.05μｍ厚みに被着形成した。

次に、複合磁性基板所定寸法の複数の半体状態に切り出
し、第４図に示すように、この巻線溝を有する半体と巻
線溝を有しない半体を、490℃,1Hrの真空熱処理によっ
て、ガラスボンディングし、同時に、金属磁性膜の磁気
特性を向上させた。

この時、ダミーとして同じ熱処理を施したシート状膜の
磁気特性を測定したところ、Bs11.2KG以上、Hc0.2Oe以
下、10MHzにおけるμは2000以上であった。

さらに、第４図と同様に、a-a線、b-b線に沿って、スラ
イシングし、所定寸法，形状となるように外形加工を施
し、チップ化した。

次に、第９図に示すように、コンポジットヘッド化し、
電磁変換特性を測定した。

また、比較のために、従来法のFe-Al-Si膜のみによるコ
ンポジットヘッドも作製し、電磁変換特性を測定した。

第10図は従来法、本発明によるコンポジットヘッドの再
生波形の模式図であり、(a)は磁気ギャップからの出力
で、(b)は金属磁性膜と磁気コア半体の間の磁気的不連
続による疑似ギャップによる出力である。

出力比b/aの測定の結果、本発明のb/aは0.02、従来法の
b/aは0.2であり、本発明によるヘッドの場合の方は、疑
似ギャップの効果は実質的に問題とならない程度に著し
く減少し、良好な記録再生特性を有することが確認でき
た。

また、当然の結果として、本発明によるコンポジットヘ
ッドの再生周波数特性のうねりは大幅に改善され、1dB
以下であった。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明による複合型磁気ヘッドの斜視説明図
である。第２図、第３図及び第４図はこの発明による複
合型磁気ヘッドの製造工程を示す斜視説明図である。 第５図a,b及び第６図は従来の複合型磁気ヘッドの説明
図である。第７図と第10図は磁気ヘッドの出力周波数特
性の模式図である。第８図はセンダスト膜の磁気特性に
及ぼす膜厚みの影響を説明する膜厚と透磁率との関係の
グラフである。第９図はコンポジットヘッドの斜視説明
図である。 10,11……磁気コア半体、12……磁気ギャップ、13……
第１磁性膜、14……第２磁性膜、15……非磁性材、16…
…コイル巻線用窓、17……ガラス、20,30……磁性基
板、21,22,31……溝部、40……ブロック。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】強磁性酸化物を主体とする磁気コアの少な
   くとも作動ギャップ近傍部が金属磁性体からなる複合型
   磁気ヘッドにおいて、無歪高平坦度面となした強磁性酸
   化物表面に、bcc構造を有する強磁性のFeまたはFe系合
   金薄膜、Fe-Al-Si系合金薄膜の順に積層された金属磁性
   体を有することを特徴とする複合型磁気ヘッド。