JPH01276100A - Ｘ線ミラー及びその製造方法 - Google Patents
Ｘ線ミラー及びその製造方法Info
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- JPH01276100A JPH01276100A JP63104096A JP10409688A JPH01276100A JP H01276100 A JPH01276100 A JP H01276100A JP 63104096 A JP63104096 A JP 63104096A JP 10409688 A JP10409688 A JP 10409688A JP H01276100 A JPH01276100 A JP H01276100A
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、例えばＸ線顕微鏡などに用いられるＸ線ミラ
ー及びその製造方法に関する。
ー及びその製造方法に関する。
（従来の技術）
Ｘ線は可視光に比べ波長が短く、電子綜に比べ透過力が
大きいという特徴を持つとともに、元素固有の吸収端や
螢光ＸＩＱを利用した特定元素の識別も行え、物体の原
子レベルでの情報を得る重要な手段となりている。とζ
ろが、Ｘ線領域では、物質の屈折率が１に極めて近く、
可視域のような屈折型のレンズや直入射反射鏡の製作が
困難であゐ、そζで、現在、実用化されつつあるＸ線顕
微鏡は、Ｘ線が鏡面すれすれに入射すると全反射するこ
とを利用している。このときの鏡面を形成するのが第６
図に示すようなＷｅ ｌ ｔ ｅ ｒ屋光学系である。
大きいという特徴を持つとともに、元素固有の吸収端や
螢光ＸＩＱを利用した特定元素の識別も行え、物体の原
子レベルでの情報を得る重要な手段となりている。とζ
ろが、Ｘ線領域では、物質の屈折率が１に極めて近く、
可視域のような屈折型のレンズや直入射反射鏡の製作が
困難であゐ、そζで、現在、実用化されつつあるＸ線顕
微鏡は、Ｘ線が鏡面すれすれに入射すると全反射するこ
とを利用している。このときの鏡面を形成するのが第６
図に示すようなＷｅ ｌ ｔ ｅ ｒ屋光学系である。
これは、一つの焦点Ｆｌを共有する回転双曲面８Ｈと回
転楕円面ＳＰとからなる。そして、焦点Ｆ２を物点とし
、ことを通るＸ線は上記二つの曲面で反射して焦点Ｆ３
に結儂する。このよう番ζ反射面を２回使うのは光軸か
ら離れた物点の儂のゆがみを少なくするためである。
転楕円面ＳＰとからなる。そして、焦点Ｆ２を物点とし
、ことを通るＸ線は上記二つの曲面で反射して焦点Ｆ３
に結儂する。このよう番ζ反射面を２回使うのは光軸か
ら離れた物点の儂のゆがみを少なくするためである。
ところで、このようなＸ線顕微鏡用のＸｓｔラーζζお
いては、第６図に示すように、反射Ｘ線（Ａ）の検出器
（Ｂ）への結儂を用いるため、直射Ｘ線（Ｃ）のＸ線検
出器（Ｂ）への入射を蓮へいするための遮光板（Ｄ）、
、（Ｅ）をミラー体（Ｌ）の前後ζζ設けている。
いては、第６図に示すように、反射Ｘ線（Ａ）の検出器
（Ｂ）への結儂を用いるため、直射Ｘ線（Ｃ）のＸ線検
出器（Ｂ）への入射を蓮へいするための遮光板（Ｄ）、
、（Ｅ）をミラー体（Ｌ）の前後ζζ設けている。
そして、これら遮光板（Ｄ）、 （Ｅ）と円筒状のミラ
ー体（Ｌ）との間のスリブ） （Ｇ）から反射Ｘ線（Ａ
）を出入するよう１ζしている。このスリット（Ｇ）は
、ミラー体（Ｌ）と数４１１１乃至数１０μ鴫の精度で
同軸であることを条件とする。
ー体（Ｌ）との間のスリブ） （Ｇ）から反射Ｘ線（Ａ
）を出入するよう１ζしている。このスリット（Ｇ）は
、ミラー体（Ｌ）と数４１１１乃至数１０μ鴫の精度で
同軸であることを条件とする。
しかしながら従来、遮光板（Ｄ）、 □Ｅ）は、ミラー
体（Ｌ）に３本以上のワイヤあるいは梁によりミラー体
（Ｌ）に同軸とかるよう連結していた。そのため、スリ
ット（Ｇ）部分がワイヤあるいは梁によシし中断され、
反射Ｘ線（人）の集光効率低下、これ１ζ起因する儂の
ボケ、あるいは、Ｘ線散乱によるゴーストの発生を惹起
していた。のみならず、従来の遮光板（Ｄ）、 （Ｅ）
取付方法は、Ｘ線が可視光でないことも相俟って同軸調
整のための７ラインメントがすζぶる困難となっていた
。
体（Ｌ）に３本以上のワイヤあるいは梁によりミラー体
（Ｌ）に同軸とかるよう連結していた。そのため、スリ
ット（Ｇ）部分がワイヤあるいは梁によシし中断され、
反射Ｘ線（人）の集光効率低下、これ１ζ起因する儂の
ボケ、あるいは、Ｘ線散乱によるゴーストの発生を惹起
していた。のみならず、従来の遮光板（Ｄ）、 （Ｅ）
取付方法は、Ｘ線が可視光でないことも相俟って同軸調
整のための７ラインメントがすζぶる困難となっていた
。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、上記事情に着目してなされたもので、Ｘ線顕
微鏡においてアライメントが容易で、しかも集光特性を
害することがなく所望のＸ線像を得ることができるＸ線
ミラー及びその製造方法を提供することを目的とする。
微鏡においてアライメントが容易で、しかも集光特性を
害することがなく所望のＸ線像を得ることができるＸ線
ミラー及びその製造方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段と作用）
Ｗｏｌｔｅｒ Ｗｌ（Ｆ） Ｘ ＠ ｉラーにおいて、
必要なＸ線のみを通過させるスリットが設けられた遮光
板を上記スリットが反射鏡に対して同軸となる嵌合部を
介して嵌着するようにして、同軸調整を容易ならしめる
とともに、遮光板のスリットを物理蒸着法やフォトエツ
チング法により形成するようにして、スリットのミラー
部に対する同軸度を高めうるようにしたものである。
必要なＸ線のみを通過させるスリットが設けられた遮光
板を上記スリットが反射鏡に対して同軸となる嵌合部を
介して嵌着するようにして、同軸調整を容易ならしめる
とともに、遮光板のスリットを物理蒸着法やフォトエツ
チング法により形成するようにして、スリットのミラー
部に対する同軸度を高めうるようにしたものである。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図は、この実施例のＸ線ミラーを示している。この
Ｘ線ミラーは、円筒状をなすミラー部（１）と、このミ
ラー部（１）の両開口端部こと嵌着された一対の遮光板
（２）、 （３）とからなっている。しかして、上記ミ
ラー部（１）は、例えば銅（Ｃｕ）又はニッケル（Ｎ１
）より形成され、内周面ζζは例えば金（Ａｕ ）被膜
カコーティングされている。そうして、このミラー部（
１）は、物点（４）側に位置し内周面が回転双曲面（５
）をなす第１反射部（６）と、この第１反射部（６）に
同軸に連設し内周面が回転楕円面（７）をなす第２反射
部（８）とから々るタンデム鏡となっている。他方、遮
光板（２）、 （３）は、円孔（９）を有し厚さ２簡の
例えば銅からなるリング状の円板（１０）と、この円板
（１０）の一方の生前側外周部に設けられミラー部（１
）ζζ外嵌するいわゆるいんろう状の継手（１１）と、
円板（ｌＯ）の他方の主面側に固着されかつ例えばポリ
エチレン、ベリリウム、リチウム等からな抄厚さｌμ鶏
程度をなす透光膜（１２）と、この透光膜（１１）のミ
ラー部（１）側止に円孔（９）と同軸となるよう化例え
ば蒸着法、スパッタ法などで被着された遮光膜（１３）
とからなつている、この遮光膜（１３）は、金（Ａｕ）
、白金（ｐりなどであって、その厚さは５μｍ程度であ
る。しかして、円板（１Ｇ）と遮光膜（１３）との間に
は、第２図に示すように、リング状のスリブ） （１４
）が形成され、Ｘ、＠は、このスリブ） （１４）を通
過し、かつ、遮光膜（１３）により通過を遮断されるよ
う化なっている。上記遮光膜（１３）と、透光膜（１２
）とのＸ線透過の割合は、１ ： １０ＧＧである。ま
た、継手（１１）は、ミラー部（１）ｌζ嵌着されたと
きにスリット（１４）とミラー部（１）とが同軸となる
ように設定されている。
Ｘ線ミラーは、円筒状をなすミラー部（１）と、このミ
ラー部（１）の両開口端部こと嵌着された一対の遮光板
（２）、 （３）とからなっている。しかして、上記ミ
ラー部（１）は、例えば銅（Ｃｕ）又はニッケル（Ｎ１
）より形成され、内周面ζζは例えば金（Ａｕ ）被膜
カコーティングされている。そうして、このミラー部（
１）は、物点（４）側に位置し内周面が回転双曲面（５
）をなす第１反射部（６）と、この第１反射部（６）に
同軸に連設し内周面が回転楕円面（７）をなす第２反射
部（８）とから々るタンデム鏡となっている。他方、遮
光板（２）、 （３）は、円孔（９）を有し厚さ２簡の
例えば銅からなるリング状の円板（１０）と、この円板
（１０）の一方の生前側外周部に設けられミラー部（１
）ζζ外嵌するいわゆるいんろう状の継手（１１）と、
円板（ｌＯ）の他方の主面側に固着されかつ例えばポリ
エチレン、ベリリウム、リチウム等からな抄厚さｌμ鶏
程度をなす透光膜（１２）と、この透光膜（１１）のミ
ラー部（１）側止に円孔（９）と同軸となるよう化例え
ば蒸着法、スパッタ法などで被着された遮光膜（１３）
とからなつている、この遮光膜（１３）は、金（Ａｕ）
、白金（ｐりなどであって、その厚さは５μｍ程度であ
る。しかして、円板（１Ｇ）と遮光膜（１３）との間に
は、第２図に示すように、リング状のスリブ） （１４
）が形成され、Ｘ、＠は、このスリブ） （１４）を通
過し、かつ、遮光膜（１３）により通過を遮断されるよ
う化なっている。上記遮光膜（１３）と、透光膜（１２
）とのＸ線透過の割合は、１ ： １０ＧＧである。ま
た、継手（１１）は、ミラー部（１）ｌζ嵌着されたと
きにスリット（１４）とミラー部（１）とが同軸となる
ように設定されている。
しかして、上記構成のＸ線ミラーは、スリット（１４）
が、遮光膜（１３）により形成されるので、例えば梁な
どのようなもの番こよりＸ線が逍ぎられることがない。
が、遮光膜（１３）により形成されるので、例えば梁な
どのようなもの番こよりＸ線が逍ぎられることがない。
したがって、Ｘ１ｍの集光効率が低下したり、Ｘ線が散
乱したりすることがなく、ボケのない鮮明なＸ線像を得
ることができる。
乱したりすることがなく、ボケのない鮮明なＸ線像を得
ることができる。
つぎに、上記構成のＸ線ミラーの製造方法番こついて述
べる。
べる。
まず、継手（１１）を円板の外周部に同軸ｌζ例えばろ
う付けなどで接合する。そして、円板（ｌＯ）の外径と
同一の直径の透光膜（１２）上に、金又は白金などから
なる円形透光膜（１３）を例えば蒸着法、スパッタ法な
どの物理的蒸着ｌζよシ厚さ５ｊｓ程度番ζ透光膜（１
２）と同心化なるように被着させる。ついで、この透光
膜（１２）を被着した透光膜（１２）を円板の継手（１
１）と反対側の主面に円板（１０）と同心となるように
例えば瞬間接着剤により接着する。これにより、スリッ
ト（１４）は、円孔（９）と同軸に設定される。つぎ−
ζ、このようにして製作した遮光板（２）、 （３）を
それらの継手（ｔｔ）、 （１１）を介してずラ一部（
１）番ζ嵌着する。この結果、遮光板（２）、 （３）
に形成されているスリット（１４）、 （ｔ４）は、ミ
ラー部（１）ζζ同軸となる。
う付けなどで接合する。そして、円板（ｌＯ）の外径と
同一の直径の透光膜（１２）上に、金又は白金などから
なる円形透光膜（１３）を例えば蒸着法、スパッタ法な
どの物理的蒸着ｌζよシ厚さ５ｊｓ程度番ζ透光膜（１
２）と同心化なるように被着させる。ついで、この透光
膜（１２）を被着した透光膜（１２）を円板の継手（１
１）と反対側の主面に円板（１０）と同心となるように
例えば瞬間接着剤により接着する。これにより、スリッ
ト（１４）は、円孔（９）と同軸に設定される。つぎ−
ζ、このようにして製作した遮光板（２）、 （３）を
それらの継手（ｔｔ）、 （１１）を介してずラ一部（
１）番ζ嵌着する。この結果、遮光板（２）、 （３）
に形成されているスリット（１４）、 （ｔ４）は、ミ
ラー部（１）ζζ同軸となる。
このよう化、この実施例のＸ線さラーの製造方法は、ス
リブ） （１４）を透光膜（１２）上に被着された遮光
膜（１３）により形成し、かつ、このスリブ） （１４
）が形成された円板（１０）をミラー部（１）に継手（
１１）を介して嵌着するようにしているので、Ｘ線が透
過するスリット（１４）のミラー部（１）に対するアラ
インメントを高能率かつ高精度で行うことができる。
リブ） （１４）を透光膜（１２）上に被着された遮光
膜（１３）により形成し、かつ、このスリブ） （１４
）が形成された円板（１０）をミラー部（１）に継手（
１１）を介して嵌着するようにしているので、Ｘ線が透
過するスリット（１４）のミラー部（１）に対するアラ
インメントを高能率かつ高精度で行うことができる。
なお、上記実施例のＸ線ミラーは、遮光板（２）。
（３）が、それぞれ、円板（１０） 、継手（１１）
、透光膜（１２）及び遮光膜（１３）が、別々の部材か
らなっているが、第３図及び第４図に示すようｉζ、厚
さ４０μｍ程度の鋼（Ｃｕ） ａｔ遮光膜（２１）に、
同一円周に沿う円弧状のスリット（２２）、 （２３）
、 （２４）、を円板（２１）と同心に穿設してもよい
、この円板（２１）の両面ζζは金（Ａｕ）薄膜が耐食
性改良を目的として被着されている。
、透光膜（１２）及び遮光膜（１３）が、別々の部材か
らなっているが、第３図及び第４図に示すようｉζ、厚
さ４０μｍ程度の鋼（Ｃｕ） ａｔ遮光膜（２１）に、
同一円周に沿う円弧状のスリット（２２）、 （２３）
、 （２４）、を円板（２１）と同心に穿設してもよい
、この円板（２１）の両面ζζは金（Ａｕ）薄膜が耐食
性改良を目的として被着されている。
これらスリット（２２）、 （２３）、 （２４）間の
境界部は幅０．１箇程度のブリッジ（２５）−・・とな
っていて、遮光Ａｌｌ （２１）のスリット（２２）、
（２３）、 （２４）の内側の部分と外側の部分とを
連結する役割を果している。この遮光膜（２１）の外周
部ｉζは、前記実施例と同様薯ζ、ミラー部（２６）に
嵌着するためのいんろう継手状の継手（２７）がりング
状の円板（２８）を介して取付けられている。
境界部は幅０．１箇程度のブリッジ（２５）−・・とな
っていて、遮光Ａｌｌ （２１）のスリット（２２）、
（２３）、 （２４）の内側の部分と外側の部分とを
連結する役割を果している。この遮光膜（２１）の外周
部ｉζは、前記実施例と同様薯ζ、ミラー部（２６）に
嵌着するためのいんろう継手状の継手（２７）がりング
状の円板（２８）を介して取付けられている。
このような構成のＸ線ミラーは、前記実施例のように、
Ｘ線が透光膜（１２）を透過する際番ζ一部のＸ線が吸
収されてしまうことがない・また、ブリッジ（２５）・
・・の幅は、０．１箇と極めて細いので、透過光量の損
失はほとんどない。よって、この実施例のＸ線ミラーは
、Ｘ線像の分解能の低下を惹起することがなく、鮮明な
Ｘ線像を確実に得ることができる。
Ｘ線が透光膜（１２）を透過する際番ζ一部のＸ線が吸
収されてしまうことがない・また、ブリッジ（２５）・
・・の幅は、０．１箇と極めて細いので、透過光量の損
失はほとんどない。よって、この実施例のＸ線ミラーは
、Ｘ線像の分解能の低下を惹起することがなく、鮮明な
Ｘ線像を確実に得ることができる。
このような遮光膜（２１）は、遮光膜（２１）上に７オ
トレジストによりスリット（２２）、 （２３）、 （
２４）が通孔となるようなパターンを形成した後、化学
的エツチング又はドライエツチング（リアクティブイオ
ンエツチング、スパッタエツチング）により遮光Ｍ （
２１）にスリット（２２）、 （２３）、 （２４）を
同軸に穿設し、最後に７オトレジストを除去すること番
こより製造する。さらに、スリット（２２）、 （２３
）、 （２４）が穿設された遮光膜（２１）の外周部に
円板（２８）を接着剤により接着したのち、この円板（
２８）に銅製の継手（２７）を例えばろう付けなどによ
り同軸に固着する。
トレジストによりスリット（２２）、 （２３）、 （
２４）が通孔となるようなパターンを形成した後、化学
的エツチング又はドライエツチング（リアクティブイオ
ンエツチング、スパッタエツチング）により遮光Ｍ （
２１）にスリット（２２）、 （２３）、 （２４）を
同軸に穿設し、最後に７オトレジストを除去すること番
こより製造する。さらに、スリット（２２）、 （２３
）、 （２４）が穿設された遮光膜（２１）の外周部に
円板（２８）を接着剤により接着したのち、この円板（
２８）に銅製の継手（２７）を例えばろう付けなどによ
り同軸に固着する。
この場合、スリット（２２）、 （２３）、 （２４）
は、フォトエツチングにより形成し、かつ遮光膜（２１
）を継手（２７）を介してミラー部（２６）に嵌着する
ので、スリット（２２）、 （２３）、 （２４）とミ
ラー部（２６）との同軸度を数μ爲〜１０数μ隅ζζす
ることができ、スリット（２２）、 （２！３）、 （
２４）のミラー部（２６）に対するアラインメントを高
精度かつ高能率で行うことができる。
は、フォトエツチングにより形成し、かつ遮光膜（２１
）を継手（２７）を介してミラー部（２６）に嵌着する
ので、スリット（２２）、 （２３）、 （２４）とミ
ラー部（２６）との同軸度を数μ爲〜１０数μ隅ζζす
ることができ、スリット（２２）、 （２！３）、 （
２４）のミラー部（２６）に対するアラインメントを高
精度かつ高能率で行うことができる。
さら１こ、上記実施例において、例えば第５図に示すよ
うに、遮光ＩＩ （２１Ｌ （２１）の中心化ンラ一部
（訪）の光軸を通るピンホール（３１）、 （３１）を
設け、レーダ発振器（３２）からの可視レーザ光（３３
）を一方の遮光ＩＩ （２１）のピンホール（３１）に
近接して設けられた平面ミラー（３４）にてミラー部（
２６）中に導入したのち、他方の遮光膜（２１）のピン
ホール（３１）から外部へ導出させ、さら番ζ、外部へ
導出したレーザ光（３３）をミラー部（２６）と光軸を
同じくするレンズ（３４）によりミラー部（カ）の焦点
（Ｆ）に集光させることにより、ミラー部（ア）のＸ線
集光点を目視することができるようになり、各種調整作
業が容易となる。
うに、遮光ＩＩ （２１Ｌ （２１）の中心化ンラ一部
（訪）の光軸を通るピンホール（３１）、 （３１）を
設け、レーダ発振器（３２）からの可視レーザ光（３３
）を一方の遮光ＩＩ （２１）のピンホール（３１）に
近接して設けられた平面ミラー（３４）にてミラー部（
２６）中に導入したのち、他方の遮光膜（２１）のピン
ホール（３１）から外部へ導出させ、さら番ζ、外部へ
導出したレーザ光（３３）をミラー部（２６）と光軸を
同じくするレンズ（３４）によりミラー部（カ）の焦点
（Ｆ）に集光させることにより、ミラー部（ア）のＸ線
集光点を目視することができるようになり、各種調整作
業が容易となる。
なお、図示せぬが、平面ミラー（３４）及びレンズ（３
４）は、遮光膜（２１）に対して一体的に取付ける。と
くに、レンズ（３４）は、同軸調整が容易なようにいん
ろう、継手を介して取付ける。
４）は、遮光膜（２１）に対して一体的に取付ける。と
くに、レンズ（３４）は、同軸調整が容易なようにいん
ろう、継手を介して取付ける。
さらに、上記実施例の継手は、ミラー部側が雄部、遮光
板側が雌部となりているが、逆でもよい。
板側が雌部となりているが、逆でもよい。
さらに、上記実施例においては、継手を介して円板をミ
ラー部番と嵌着するようにしているが、ミラー部の端面
に直接、ねじ、ろう付け、接着剤等により固着するよう
にしてもよい。
ラー部番と嵌着するようにしているが、ミラー部の端面
に直接、ねじ、ろう付け、接着剤等により固着するよう
にしてもよい。
さらにまた、本発明は、Ｘ１１Ａ顕微鏡に限ることなく
、Ｘ線望遠鏡にも適用できる。
、Ｘ線望遠鏡にも適用できる。
本発明のＸ線ミラーは、Ｘ線がスリットを通るときにほ
とんど蓮ぎられることがないので、Ｘ線の集光効率の低
下やＸ線の散乱を惹起する仁とカカ＜、ボケ、ゴースト
のない鮮明なＸ１１！像を得ることができる。
とんど蓮ぎられることがないので、Ｘ線の集光効率の低
下やＸ線の散乱を惹起する仁とカカ＜、ボケ、ゴースト
のない鮮明なＸ１１！像を得ることができる。
また、本発明のＸ線ミラーの製造方法は、Ｘ線が透過す
るスリットのミラー部に対するアラインメントを高精度
かつ高能率で行う仁とができる。
るスリットのミラー部に対するアラインメントを高精度
かつ高能率で行う仁とができる。
第１図は本発明の一実施例のＸ線ミラーの構成図、第２
図は同じく遮光板を示す図、第３図は本発明の他の実施
例のＸ線ミラーを示す図、第４図は第３図の遮光板を示
す図、第５図は本発明の他の実施例のＸ線ミラーを示す
図、第６図は従来技術の説明図である。 （１）・・・ ミラー部、 （２）、（３）・・・
遮光板。 （１１）・・・継手、 （１２）・・・透光膜
。 （１３）・・・遮光膜・ 第 ２ ロ バ 第４０ Ｎ ＼ ／ 樗 Ｖ′ こ
図は同じく遮光板を示す図、第３図は本発明の他の実施
例のＸ線ミラーを示す図、第４図は第３図の遮光板を示
す図、第５図は本発明の他の実施例のＸ線ミラーを示す
図、第６図は従来技術の説明図である。 （１）・・・ ミラー部、 （２）、（３）・・・
遮光板。 （１１）・・・継手、 （１２）・・・透光膜
。 （１３）・・・遮光膜・ 第 ２ ロ バ 第４０ Ｎ ＼ ／ 樗 Ｖ′ こ
Claims (6)
- （１）円筒状をなし内周面にＷｏｌｔｅｒ型の反射鏡面
が形成されているミラー部と、このミラー部の少なくと
も一端部に取付けられ上記反射鏡面にて入射及び反射す
るＸ線のみを通過させるリング状のスリットが形成され
た遮光板とを有するＸ線ミラーにおいて、上記遮光板は
上記スリットを上記反射鏡面と同軸に位置決めする嵌合
部を介して上記ミラー部に嵌着されていることを特徴と
するＸ線ミラー。 - （２）遮光板は、Ｘ線を透過する透光膜と、この透光膜
に被着され上記Ｘ線を遮断する遮光膜とからなり、上記
遮光膜により上記透光膜を介してＸ線を通過させる上記
遮光板と同心のスリットが形成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のＸ線ミラー。 - （３）遮光板は、Ｘ線を透過しない遮光膜を有し、この
遮光膜にリング状のスリットが穿設され、かつ、このス
リットには、少なくとも１本のブリッジが上記スリット
の内側と外側との間に橋絡されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のＸ線ミラー。 - （４）遮光板はミラー部と同軸の通孔を有し、且つ、こ
の通孔に近接して上記ミラー部のＸ線集光点に焦点を有
する光学系が上記遮光板に取付けられ、上記通孔を通過
した可視光を上記光学系により上記Ｘ線集光点に結像さ
せることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のＸ線
ミラー。 - （５）円筒状をなし内周面にＷｏｌｔｅｒ型の反射鏡面
が形成されているミラー部と、このミラー部の少なくと
も一端部に取付けられ上記反射鏡面にて入射及び反射す
るＸ線のみを通過させ且つ上記反射鏡面と同軸となるリ
ング状のスリットが形成された遮光板とを有するＸ線ミ
ラーの製造方法において、上記スリットを、Ｘ線を透過
する円板状の透光膜に上記Ｘ線を透過しない遮光膜を物
理的蒸着することにより形成することを特徴とするＸ線
ミラーの製造方法。 - （６）円筒状をなし内周面にＷｏｌｔｅｒ型の反射鏡面
が形成されているミラー部と、このミラー部の少なくと
も一端部に取付けられ上記反射鏡面にて入射及び反射す
るＸ線のみを通過させ且つ上記反射鏡面と同軸となるリ
ング状のスリットが形成された遮光板とを有するＸ線ミ
ラーの製造方法において上記スリットを、Ｘ線を透過し
ない円板をフォトエッチングすることにより形成するこ
とを特徴とするＸ線ミラーの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63104096A JPH0631887B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | Ｘ線ミラー及びその製造方法 |
| US07/342,793 US4940319A (en) | 1988-04-28 | 1989-04-25 | X-ray mirror apparatus and method of manufacturing the same |
| EP89304121A EP0339941B1 (en) | 1988-04-28 | 1989-04-25 | X-ray mirror apparatus and method of manufacturing the same |
| DE89304121T DE68909996T2 (de) | 1988-04-28 | 1989-04-25 | Röntgenstrahlungsspiegelvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
| KR1019890005629A KR920003955B1 (ko) | 1988-04-28 | 1989-04-28 | X-선 미러장치 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63104096A JPH0631887B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | Ｘ線ミラー及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01276100A true JPH01276100A (ja) | 1989-11-06 |
| JPH0631887B2 JPH0631887B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=14371587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63104096A Expired - Lifetime JPH0631887B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | Ｘ線ミラー及びその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940319A (ja) |
| EP (1) | EP0339941B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0631887B2 (ja) |
| KR (1) | KR920003955B1 (ja) |
| DE (1) | DE68909996T2 (ja) |
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| DE68909996T2 (de) | 1994-03-31 |
| US4940319A (en) | 1990-07-10 |
| EP0339941B1 (en) | 1993-10-20 |
| KR920003955B1 (ko) | 1992-05-18 |
| JPH0631887B2 (ja) | 1994-04-27 |
| EP0339941A2 (en) | 1989-11-02 |
| DE68909996D1 (de) | 1993-11-25 |
| KR890016404A (ko) | 1989-11-29 |
| EP0339941A3 (en) | 1990-01-10 |
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