JPH01278041A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPH01278041A JPH01278041A JP63107818A JP10781888A JPH01278041A JP H01278041 A JPH01278041 A JP H01278041A JP 63107818 A JP63107818 A JP 63107818A JP 10781888 A JP10781888 A JP 10781888A JP H01278041 A JPH01278041 A JP H01278041A
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- gate
- circuit
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- wiring
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
- H03K19/173—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using elementary logic circuits as components
- H03K19/1733—Controllable logic circuits
- H03K19/1735—Controllable logic circuits by wiring, e.g. uncommitted logic arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/90—Masterslice integrated circuits
- H10D84/901—Masterslice integrated circuits comprising bipolar technology
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W20/00—Interconnections in chips, wafers or substrates
- H10W20/40—Interconnections external to wafers or substrates, e.g. back-end-of-line [BEOL] metallisations or vias connecting to gate electrodes
- H10W20/41—Interconnections external to wafers or substrates, e.g. back-end-of-line [BEOL] metallisations or vias connecting to gate electrodes characterised by their conductive parts
- H10W20/43—Layouts of interconnections
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- Mathematical Physics (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、E CL (Emitter Coupled
Log−ic)回路を基本構成とするゲートアレイ集
積回路により構成される高速ディジタル処理装置等のし
イアウド設計に利用して特に有効な技術に関するもので
ある。
ば、E CL (Emitter Coupled
Log−ic)回路を基本構成とするゲートアレイ集
積回路により構成される高速ディジタル処理装置等のし
イアウド設計に利用して特に有効な技術に関するもので
ある。
バイポーラトランジスタにより構成されるECL回路が
ある。また、ECL回路を基本構成とするゲートアレイ
集積回路がある。さらに、このようなゲートアレイ集積
回路により構成される高速ディジタル処理装置がある。
ある。また、ECL回路を基本構成とするゲートアレイ
集積回路がある。さらに、このようなゲートアレイ集積
回路により構成される高速ディジタル処理装置がある。
一方、上記高速ディジタル処理装置等において、その回
路構成を簡素化し回路素子数を削減する一つの手段とし
て、結IJll論理和(Wired OR)方式があ
る。また、上記高速ディジタル処理装置等の回路素子や
結合配線のレイアウトを、コンピュータにより自動的に
かつ効率的に設計する一つの手段として、DA (De
sign Automation )技術がある。
路構成を簡素化し回路素子数を削減する一つの手段とし
て、結IJll論理和(Wired OR)方式があ
る。また、上記高速ディジタル処理装置等の回路素子や
結合配線のレイアウトを、コンピュータにより自動的に
かつ効率的に設計する一つの手段として、DA (De
sign Automation )技術がある。
DA技術については、例えば、19B6年6月発行のr
アイ・イー・イー・イーDA部会会議資料(I EEE
Proceedings of the 23rd
Design Automation Confere
nce ) J第404頁ゞ第410頁に記載されてい
る。
アイ・イー・イー・イーDA部会会議資料(I EEE
Proceedings of the 23rd
Design Automation Confere
nce ) J第404頁ゞ第410頁に記載されてい
る。
第4図には、上記ゲートアレイ集積回路により構成され
る高速ディジタル処理装置の配置図の一例が示されてい
る。高速ディジタル処理装置を構成するゲートアレイ集
積回路は、格子状に配置されるECLゲートセルG1l
−018ないし061〜G68を含む、このうち、ゲー
トセルG25゜G31及びG44は、オープンエミッタ
型の出力トランジスタを含みかつその出力端子が共通結
合されることで、結線論理和形態とされる。これらのゲ
ートセルの出力信号は、ゲートセルG13゜G52及び
G58の入力端子に供給される。
る高速ディジタル処理装置の配置図の一例が示されてい
る。高速ディジタル処理装置を構成するゲートアレイ集
積回路は、格子状に配置されるECLゲートセルG1l
−018ないし061〜G68を含む、このうち、ゲー
トセルG25゜G31及びG44は、オープンエミッタ
型の出力トランジスタを含みかつその出力端子が共通結
合されることで、結線論理和形態とされる。これらのゲ
ートセルの出力信号は、ゲートセルG13゜G52及び
G58の入力端子に供給される。
上記のような高速ディジタル処理装置のレイアウトを上
記DA技術を用いて自動的に設計する場合、グルーピン
グや配置改善等が行われる結果、出力側のゲートセルG
25.G31及びG44は比較的近接して配置され、ま
たほぼ中心位置に配置されるゲートセルG44に結線論
理和を構成する終端抵抗REが設けられる。これにより
、ゲートセルG25及びG31から終端抵抗REまでの
間の配線距離が縮小され、これらの結合配線の分布抵抗
による出力信号のレベル低下が所定の範囲内に抑えられ
る。
記DA技術を用いて自動的に設計する場合、グルーピン
グや配置改善等が行われる結果、出力側のゲートセルG
25.G31及びG44は比較的近接して配置され、ま
たほぼ中心位置に配置されるゲートセルG44に結線論
理和を構成する終端抵抗REが設けられる。これにより
、ゲートセルG25及びG31から終端抵抗REまでの
間の配線距離が縮小され、これらの結合配線の分布抵抗
による出力信号のレベル低下が所定の範囲内に抑えられ
る。
ところが、集積回路の微細化技術が発展し、その一方で
集積回路の大規模化と基板の大型化が進むに従って、上
記のようなレイアウト設計には次のような問題点が生じ
る。すなわち、結合配線が微細化されることによってそ
の単位長あたりの分布抵抗値が増大し、例えばゲートセ
ルG31の出力端子と分岐ノードnh間等における出力
信号のレベル低下が大きくなって入力用ゲートセル01
3等の誤動作を招くため、配線長に関する規制を厳しく
せざるを得なくなる。しかし、その反面、搭載素子数の
増大と基板の大型化によって素子のレイアウト域が拡大
されることから、上記制限を守れない場合が多々発生す
る。このため、その都度人手による修正が必要となり、
せっかくのDA技術の効果を思うように発揮できない、
また、配線等に関する規制が厳しくされることで、逆に
素子レイアウトの自由度が制限され、効率的なレイアウ
ト設計の妨げとなるものである。
集積回路の大規模化と基板の大型化が進むに従って、上
記のようなレイアウト設計には次のような問題点が生じ
る。すなわち、結合配線が微細化されることによってそ
の単位長あたりの分布抵抗値が増大し、例えばゲートセ
ルG31の出力端子と分岐ノードnh間等における出力
信号のレベル低下が大きくなって入力用ゲートセル01
3等の誤動作を招くため、配線長に関する規制を厳しく
せざるを得なくなる。しかし、その反面、搭載素子数の
増大と基板の大型化によって素子のレイアウト域が拡大
されることから、上記制限を守れない場合が多々発生す
る。このため、その都度人手による修正が必要となり、
せっかくのDA技術の効果を思うように発揮できない、
また、配線等に関する規制が厳しくされることで、逆に
素子レイアウトの自由度が制限され、効率的なレイアウ
ト設計の妨げとなるものである。
この発明の目的は、結線論理形感とされる論理ゲート回
路及びその結合配線のレイアウトに関する制約を緩め、
効率的なレイアウト方法を提供することにある。この発
明の他の目的は、結線論理形態とされる論理ゲート回路
を含む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度を
拡大し、そのレイアウト設計を効率化することにある。
路及びその結合配線のレイアウトに関する制約を緩め、
効率的なレイアウト方法を提供することにある。この発
明の他の目的は、結線論理形態とされる論理ゲート回路
を含む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度を
拡大し、そのレイアウト設計を効率化することにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろ
う。
この明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろ
う。
(課題を解決するための手段)
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回路
を含むゲートアレイ集積回路等において、出力側の論理
ゲート回路の出力端子を結合する第1の共通結合配線を
、各論理ゲート回路の出力端子と対応する分岐ノードが
近接するように−筆書き状に配置し、その一端と回路の
電源電圧又は接地電位との間に終端抵抗を配置し、その
他端を入力側の論理ゲート回路の入力端子を結合した第
2の共通結合配線に結合するものである。
を含むゲートアレイ集積回路等において、出力側の論理
ゲート回路の出力端子を結合する第1の共通結合配線を
、各論理ゲート回路の出力端子と対応する分岐ノードが
近接するように−筆書き状に配置し、その一端と回路の
電源電圧又は接地電位との間に終端抵抗を配置し、その
他端を入力側の論理ゲート回路の入力端子を結合した第
2の共通結合配線に結合するものである。
上記した手段によれば、上記第1の共通結合配線の分布
抵抗を、入力側の論理ゲート回路から見た実質的な分布
抵抗に含めることができるため、結線論理形態とされる
論理ゲート回路の結合配線に関する制約を緩和できる。
抵抗を、入力側の論理ゲート回路から見た実質的な分布
抵抗に含めることができるため、結線論理形態とされる
論理ゲート回路の結合配線に関する制約を緩和できる。
これにより、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回
路を含む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度
を拡大し、そのレイアウト設計を効率化できる。
路を含む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度
を拡大し、そのレイアウト設計を効率化できる。
〔実施例1〕
第1図には、この発明が通用された高速ディジタル処理
装置の一実施例の配置図が示されている。
装置の一実施例の配置図が示されている。
この実a例の高速ディジタル処理装置は、特に制限され
ないが、ECL回路を基本構成とするゲートアレイ集積
回路のマスクの一部を、ユーザ仕様に従ってオプショナ
ルに変更することによって構成される。ゲートアレイ集
積回路の各回路素子は、公知の半導体集積回路の製造技
術によって、特に制限されないが、単結晶シリコンのよ
うな1個の半導体基板上において形成される。
ないが、ECL回路を基本構成とするゲートアレイ集積
回路のマスクの一部を、ユーザ仕様に従ってオプショナ
ルに変更することによって構成される。ゲートアレイ集
積回路の各回路素子は、公知の半導体集積回路の製造技
術によって、特に制限されないが、単結晶シリコンのよ
うな1個の半導体基板上において形成される。
この実施例において、高速ディジタル処理装置を構成す
る論理ゲート回路及びこれらの論理ゲート回路間に設け
られる結合配線のレイアウトは、コンビエータによるD
A技術を用いることで自動的にかつ効率的に設計される
。高速ディジタル処理装置は、結線論理形態とされる複
数の論理ゲート回路及び終端抵抗を含む、これらの論理
ゲート回路及び終端抵抗とその結合配線は、後述するよ
うに、この発明が通用されることにより、レイアウトに
関する制約が緩和される。その結果、高速ディジタル処
理装置のレイアウト自由度が拡大され、そのレイアウト
設計が効率化される。
る論理ゲート回路及びこれらの論理ゲート回路間に設け
られる結合配線のレイアウトは、コンビエータによるD
A技術を用いることで自動的にかつ効率的に設計される
。高速ディジタル処理装置は、結線論理形態とされる複
数の論理ゲート回路及び終端抵抗を含む、これらの論理
ゲート回路及び終端抵抗とその結合配線は、後述するよ
うに、この発明が通用されることにより、レイアウトに
関する制約が緩和される。その結果、高速ディジタル処
理装置のレイアウト自由度が拡大され、そのレイアウト
設計が効率化される。
第1図において、高速ディジタル処理装置は、特に制限
されないが、半導体基板SUB上に格子状に配置される
ゲートセルGll〜018ないしG61〜068を含む
、これらのゲートセルの周辺には、特に制限されないが
、9個のパンファセルBが設けられる。また、半導体基
板SUBの周辺部には、多数のポンディングパッドPが
それぞれ直線上に設けられる。
されないが、半導体基板SUB上に格子状に配置される
ゲートセルGll〜018ないしG61〜068を含む
、これらのゲートセルの周辺には、特に制限されないが
、9個のパンファセルBが設けられる。また、半導体基
板SUBの周辺部には、多数のポンディングパッドPが
それぞれ直線上に設けられる。
高速ディジタル処理装置は、特に制限されないが、その
出力端子が共通結合されることで結線論理形態とされる
3個のゲートセルG23.G32及びG42(第1の論
理ゲート回路群)と、その入力端子が上記ゲートセルの
共通結合された出力端子に結合される3個のゲートセル
G16.G27及びG46(第2の論理ゲート回路群)
とを含む、これらの論理ゲート回路は、後述するように
、基本的にすべて同一の回路構成とされ、また出力エミ
7タフォロヮ回路を構成する負荷抵抗が選択的に削除さ
れることで、その出力が選択的にオーブンエミッタ形態
とされる。
出力端子が共通結合されることで結線論理形態とされる
3個のゲートセルG23.G32及びG42(第1の論
理ゲート回路群)と、その入力端子が上記ゲートセルの
共通結合された出力端子に結合される3個のゲートセル
G16.G27及びG46(第2の論理ゲート回路群)
とを含む、これらの論理ゲート回路は、後述するように
、基本的にすべて同一の回路構成とされ、また出力エミ
7タフォロヮ回路を構成する負荷抵抗が選択的に削除さ
れることで、その出力が選択的にオーブンエミッタ形態
とされる。
この実施例において、上記第1の論理ゲート回路群を構
成するゲートセルG23.G32及びG42は、特に制
限されないが、半導体基板SUBの左側に比較的近接し
て配置される。これらのゲートセルの出力端子は、特に
制限されないが、ゲートセルG23の出力端子すなわち
分岐ノードnaからゲートセルG42の出力端子すなわ
ち分岐ノードncまでの間に−l!i書き状に配置され
る第1の共通結合配線CLIを介して、共通結合される
。この第1の共通結合配線の一端すなわちノードncに
は、ゲートセルG42の出カニミッタフォロワ回路に設
けられる負荷抵抗が、結線論理和を構成する終端抵抗R
Eとして配置される。
成するゲートセルG23.G32及びG42は、特に制
限されないが、半導体基板SUBの左側に比較的近接し
て配置される。これらのゲートセルの出力端子は、特に
制限されないが、ゲートセルG23の出力端子すなわち
分岐ノードnaからゲートセルG42の出力端子すなわ
ち分岐ノードncまでの間に−l!i書き状に配置され
る第1の共通結合配線CLIを介して、共通結合される
。この第1の共通結合配線の一端すなわちノードncに
は、ゲートセルG42の出カニミッタフォロワ回路に設
けられる負荷抵抗が、結線論理和を構成する終端抵抗R
Eとして配置される。
一方、第2の論理ゲート回路群を構成するゲートセルG
16.G27及びG46は、特に制限されないが、同様
に半導体基板SUBの右側に比較的近接して配置される
。これらのゲートセルの入力端子は、第2の共通結合配
線CL2を介して共通結合された後、上記共通結合配線
CLIの他端すなわち分岐ノードnaに結合される。
16.G27及びG46は、特に制限されないが、同様
に半導体基板SUBの右側に比較的近接して配置される
。これらのゲートセルの入力端子は、第2の共通結合配
線CL2を介して共通結合された後、上記共通結合配線
CLIの他端すなわち分岐ノードnaに結合される。
第2図には、第1図の高速ディジタル処理装置の一実施
例の回路図が示されている。同図には、高速ディジタル
処理装置を構成するゲートセルG23、G27.G32
.G42及びG46が例示的に示される。その他のゲー
トセルは、特に制限されないが、出カニミッタフォロワ
回路の負荷抵抗すなわち終端抵抗REの有無を別として
、すべて同一の回路構成とされる。バッファセルB及び
ポンディングパッドPについては、この発明と直接関係
がないので、その説明を割愛する。なお、第2図に示さ
れるバイポーラトランジスタは、すべてN P N型)
ランジスタである。
例の回路図が示されている。同図には、高速ディジタル
処理装置を構成するゲートセルG23、G27.G32
.G42及びG46が例示的に示される。その他のゲー
トセルは、特に制限されないが、出カニミッタフォロワ
回路の負荷抵抗すなわち終端抵抗REの有無を別として
、すべて同一の回路構成とされる。バッファセルB及び
ポンディングパッドPについては、この発明と直接関係
がないので、その説明を割愛する。なお、第2図に示さ
れるバイポーラトランジスタは、すべてN P N型)
ランジスタである。
第2図において、高速ディジタル処理装置を構成するゲ
ートセルは、特にfilJ限されないが、ゲートセルG
42に代表して示されるように、そのコレクタ及びエミ
ッタが共通結合されることで並列形態とされる3個のト
ランジスタT1〜T3を含む。これらのトランジスタの
共通結合されたコレクタと回路の接地電位との間には、
負荷抵抗R1が設けられる。また、これらのトランジス
タの共通結合されたエミッタは、差動形態とされるトラ
ンジスタT4のエミッタに共通結合され、さらに定電流
源Slを介して回路の電源電圧に結合される。トランジ
スタT4のコレクタは、回路の接地電位に結合され、そ
のベースには、高速ディジタル処理装置の図示されない
定電圧発生回路から所定の参照電位Vrlが供給される
。トランジスタT1〜T3のベースは、各ゲートセルの
第1ないし第3の入力端子11〜i3とされ、高速ディ
ジクル処理装置の図示されない他のゲートセルから、対
応する入力信号がそれぞれ供給される。これにより、ト
ランジスタTl−73及びT4は、入力信号i 1−
i 3のレベルを判定する電流スイッチ回路として機能
し、その論理スレッシホルトレベルは上記参照電位Vr
lとされる。
ートセルは、特にfilJ限されないが、ゲートセルG
42に代表して示されるように、そのコレクタ及びエミ
ッタが共通結合されることで並列形態とされる3個のト
ランジスタT1〜T3を含む。これらのトランジスタの
共通結合されたコレクタと回路の接地電位との間には、
負荷抵抗R1が設けられる。また、これらのトランジス
タの共通結合されたエミッタは、差動形態とされるトラ
ンジスタT4のエミッタに共通結合され、さらに定電流
源Slを介して回路の電源電圧に結合される。トランジ
スタT4のコレクタは、回路の接地電位に結合され、そ
のベースには、高速ディジタル処理装置の図示されない
定電圧発生回路から所定の参照電位Vrlが供給される
。トランジスタT1〜T3のベースは、各ゲートセルの
第1ないし第3の入力端子11〜i3とされ、高速ディ
ジクル処理装置の図示されない他のゲートセルから、対
応する入力信号がそれぞれ供給される。これにより、ト
ランジスタTl−73及びT4は、入力信号i 1−
i 3のレベルを判定する電流スイッチ回路として機能
し、その論理スレッシホルトレベルは上記参照電位Vr
lとされる。
ここで、回路の電源電圧は、特に制限されないが、例え
ば−5,2vのような負の電源電圧とされ、入力信号i
1− i 3は、その信号振幅を例えば0゜8■とす
るECLレベルの信号とされる。また、参照電位Vrl
は、特に制限されないが、上記入力信号11〜i3のハ
イレベル及びロウレベルのほぼ中間レベルとされる。
ば−5,2vのような負の電源電圧とされ、入力信号i
1− i 3は、その信号振幅を例えば0゜8■とす
るECLレベルの信号とされる。また、参照電位Vrl
は、特に制限されないが、上記入力信号11〜i3のハ
イレベル及びロウレベルのほぼ中間レベルとされる。
トランジスタT1〜T3の共通結合されたコレクタは、
さらにトランジスタT5のベースに結合される。このト
ランジスタT5のコレクタは、回路の接地電位に結合さ
れ、そのエミッタと回路の電源電圧との間には負荷抵抗
REが設けられる。
さらにトランジスタT5のベースに結合される。このト
ランジスタT5のコレクタは、回路の接地電位に結合さ
れ、そのエミッタと回路の電源電圧との間には負荷抵抗
REが設けられる。
これにより、トランジスタT5は、上記負荷抵抗REと
ともに出カニミッタフォロワ回路を構成する。トランジ
スタT5のエミッタ電圧は、各ゲートセルの出力信号0
とされる。
ともに出カニミッタフォロワ回路を構成する。トランジ
スタT5のエミッタ電圧は、各ゲートセルの出力信号0
とされる。
対応するゲートセルが結線論理形態とされるとき、負荷
抵抗REは、前述のように、結線論理形態とされる複数
のゲートセルの中の1個にのみ選択的に設けられる。こ
のとき、負荷抵抗REが設けられる1個のゲートセルで
は、負荷抵抗REが終端抵抗として機能する。また、負
荷抵抗REが設けられない他のゲートセルでは、トラン
ジスタT5がオーブンエミック型の出力トランジスタと
して機能する。
抵抗REは、前述のように、結線論理形態とされる複数
のゲートセルの中の1個にのみ選択的に設けられる。こ
のとき、負荷抵抗REが設けられる1個のゲートセルで
は、負荷抵抗REが終端抵抗として機能する。また、負
荷抵抗REが設けられない他のゲートセルでは、トラン
ジスタT5がオーブンエミック型の出力トランジスタと
して機能する。
入力信号11〜i3のいずれかが参照電位Vr1よりも
高いECLレベルのハイレベルとされるとき、対応する
トランジスタT1〜T3はオン状態となり、トランジス
タT4はカットオフ状態となる。このため、トランジス
タT1〜T3の共通結合されたコレクタの電圧は、定電
流源31から供給される動作電流の値と負荷抵抗R1の
値によって決まる所定のロウレベルとされる。これによ
り、トランジスタT5のエミッタ電圧すなわちゲートセ
ルの出力信号0は、トランジスタT1〜T3の共通結合
されたコレクタの電圧よりさらにトランジスタT5のベ
ース・エミッタ電圧分だけ低いECLレベルのロウレベ
ルとされる。
高いECLレベルのハイレベルとされるとき、対応する
トランジスタT1〜T3はオン状態となり、トランジス
タT4はカットオフ状態となる。このため、トランジス
タT1〜T3の共通結合されたコレクタの電圧は、定電
流源31から供給される動作電流の値と負荷抵抗R1の
値によって決まる所定のロウレベルとされる。これによ
り、トランジスタT5のエミッタ電圧すなわちゲートセ
ルの出力信号0は、トランジスタT1〜T3の共通結合
されたコレクタの電圧よりさらにトランジスタT5のベ
ース・エミッタ電圧分だけ低いECLレベルのロウレベ
ルとされる。
一方、入力信号11〜i3がすべて参照電位Vr1より
も低いECLレベルのロウレベルとされるとき、トラン
ジスタTl〜T3はともにカットオフ状態となり、トラ
ンジスタT4がオン状態となる。このため、トランジス
タTl−73の共通結合されたコレクタの電圧は、回路
の接地電位のようなハイレベルとされる。これにより、
ゲートセルの出力信号0は、トランジスタTI−T3の
共通結合されたコレクタ電圧よりトランジスタT5のベ
ース・エミッタ電圧分だけ低いECLレベルのハイレベ
ルとされる。
も低いECLレベルのロウレベルとされるとき、トラン
ジスタTl〜T3はともにカットオフ状態となり、トラ
ンジスタT4がオン状態となる。このため、トランジス
タTl−73の共通結合されたコレクタの電圧は、回路
の接地電位のようなハイレベルとされる。これにより、
ゲートセルの出力信号0は、トランジスタTI−T3の
共通結合されたコレクタ電圧よりトランジスタT5のベ
ース・エミッタ電圧分だけ低いECLレベルのハイレベ
ルとされる。
第2図において、ゲートセルG2L及びG32は、出力
エミ7タフォロワ回路の負荷抵抗REが設けられず、そ
のトランジスタT5は、オープンエミッタ型の出力トラ
ンジスタとされる。これらのゲートセルG23及びG3
2の出力端子0は、前述のように、共通結合配線CLI
を介して、ゲートセルG42の出力端子Oに共通結合さ
れる。
エミ7タフォロワ回路の負荷抵抗REが設けられず、そ
のトランジスタT5は、オープンエミッタ型の出力トラ
ンジスタとされる。これらのゲートセルG23及びG3
2の出力端子0は、前述のように、共通結合配線CLI
を介して、ゲートセルG42の出力端子Oに共通結合さ
れる。
ゲートセルG42には、上記負荷抵抗REが設けられる
。これにより、ゲートセルG23.G32及びG42は
、ゲートセルG42の負荷抵抗REを終端抵抗として、
結線論理和形態とされる。
。これにより、ゲートセルG23.G32及びG42は
、ゲートセルG42の負荷抵抗REを終端抵抗として、
結線論理和形態とされる。
一方、ゲートセルG16.G27及びG46は、特に制
限されないが、いずれもその出カニミッタフォロワ回路
の負荷抵抗REが設けられることで、通常の論理ゲート
回路又は終端用論理ゲート回路とされる。特に制限され
ないが、これらのゲートセルの入力端子i1は、共通結
合配線CL2を介して共通結合された後、分岐ノードn
aにおいて、上記共通結合配線CLIと結合される。共
通結合配線CL2は、特に制限されないが、上記第1の
共通結合配線CLIのように一筆書き状に配置されず、
上記ゲートセルG16.G27及びG46の入力端子1
1の間をそれぞれ最短距離となるように配置される。
限されないが、いずれもその出カニミッタフォロワ回路
の負荷抵抗REが設けられることで、通常の論理ゲート
回路又は終端用論理ゲート回路とされる。特に制限され
ないが、これらのゲートセルの入力端子i1は、共通結
合配線CL2を介して共通結合された後、分岐ノードn
aにおいて、上記共通結合配線CLIと結合される。共
通結合配線CL2は、特に制限されないが、上記第1の
共通結合配線CLIのように一筆書き状に配置されず、
上記ゲートセルG16.G27及びG46の入力端子1
1の間をそれぞれ最短距離となるように配置される。
ゲートセルG23.G32及びG42の出力信号oのい
ずれかがECLレベルのハイレベルとされるとき、共通
結合配線CLIのレベルは、上記ECLレベルのハイレ
ベルとされる。このハイレベルは、共通結合配線CL2
を介して、ゲートセルG16.Ci2?及びG46の入
力端子ilに伝達される。一方、ゲートセルG23.G
32及びG42の出力信号OがすべてECLレベルのロ
ウレベルとされるとき、共通結合配線CLIのレベルは
、上記ECLレベルのロウレベルとされる。
ずれかがECLレベルのハイレベルとされるとき、共通
結合配線CLIのレベルは、上記ECLレベルのハイレ
ベルとされる。このハイレベルは、共通結合配線CL2
を介して、ゲートセルG16.Ci2?及びG46の入
力端子ilに伝達される。一方、ゲートセルG23.G
32及びG42の出力信号OがすべてECLレベルのロ
ウレベルとされるとき、共通結合配線CLIのレベルは
、上記ECLレベルのロウレベルとされる。
このロウレベルは、同様に共通結合配線CL2を介して
、ゲートセルG16.G27及びG46の入力端子il
に伝達される。
、ゲートセルG16.G27及びG46の入力端子il
に伝達される。
つまり、共通結合配線CLI及びCCl2は、ゲートセ
ルG23.G32及びG42のいずれかにおいて、入力
信号if−wi3がともにロウレベルとされるとき、E
CLレベルのハイレベルとされる。また、ゲートセルG
23.G32及びG42のすべてにおいて、入力信号1
1〜i3のいずれかがハイレベルとされるとき、はじめ
てECLレベルのロウレベルとされる。
ルG23.G32及びG42のいずれかにおいて、入力
信号if−wi3がともにロウレベルとされるとき、E
CLレベルのハイレベルとされる。また、ゲートセルG
23.G32及びG42のすべてにおいて、入力信号1
1〜i3のいずれかがハイレベルとされるとき、はじめ
てECLレベルのロウレベルとされる。
この実施例において、上記共通結合配線CLIは、前述
のように、上記ゲートセルG23の出力端子0に近接す
る分岐ノードnaを出発点として、ゲートセルG32の
出力端子0に近接する分岐ノードnbからゲートセルG
42の出力端子0に近接する分岐ノードncへと、−筆
書き状に配置される。このとき、分岐ノードna〜nc
と対応するゲートセルG23.G32及びG42の出力
端子Oとの間の距離は、無視できる程度に少な(される
、一方、終端抵抗REは、上記共通結合配線CLIの一
端すなわち分岐ノードncに配置され、ゲートセルG1
6.G27及びG46の入力端子i1が結合される共通
結合配線CL2は、上記共通結合配線CLIの他端すな
わち分岐ノードnaに結合される。さらに、共通結合配
線CLI及びCl3がECLレベルのハイレベル又はロ
ウレベルとされるとき、ゲートセルG16.G27及び
G46の入力端子t1に流れ込む電流は、対応するトラ
ンジスタTlのベース電流のみであり、その値は、共通
結合配線CLI及びCl3の分布抵抗が無視できる程度
に小さい。
のように、上記ゲートセルG23の出力端子0に近接す
る分岐ノードnaを出発点として、ゲートセルG32の
出力端子0に近接する分岐ノードnbからゲートセルG
42の出力端子0に近接する分岐ノードncへと、−筆
書き状に配置される。このとき、分岐ノードna〜nc
と対応するゲートセルG23.G32及びG42の出力
端子Oとの間の距離は、無視できる程度に少な(される
、一方、終端抵抗REは、上記共通結合配線CLIの一
端すなわち分岐ノードncに配置され、ゲートセルG1
6.G27及びG46の入力端子i1が結合される共通
結合配線CL2は、上記共通結合配線CLIの他端すな
わち分岐ノードnaに結合される。さらに、共通結合配
線CLI及びCl3がECLレベルのハイレベル又はロ
ウレベルとされるとき、ゲートセルG16.G27及び
G46の入力端子t1に流れ込む電流は、対応するトラ
ンジスタTlのベース電流のみであり、その値は、共通
結合配線CLI及びCl3の分布抵抗が無視できる程度
に小さい。
このため、例えばゲートセルG23の出力信号Oがハイ
レベルとされゲートセルG32&びG42の出力信号O
がロウレベルとされるときには、ゲートセルG42の負
荷抵抗REに分岐ノードrムaから分岐ノードncまで
の分布抵抗を加えたものが、入力側のゲートセルG16
.G27及び046の共通結合された入力端子から見た
実質的な結線論理和回路の終端抵抗となる。同様に、例
えばゲートセルG32の出力信号Oがハイレベルとされ
ゲートセルG23及びG42の出力信号Oがロウレベル
とされるときには、ゲートセルG42の負荷抵抗REに
分岐ノードnaから分岐ノードncまでの分布抵抗を加
えたものが、上記実質的な結線論理和回路の終端抵抗と
なる。
レベルとされゲートセルG32&びG42の出力信号O
がロウレベルとされるときには、ゲートセルG42の負
荷抵抗REに分岐ノードrムaから分岐ノードncまで
の分布抵抗を加えたものが、入力側のゲートセルG16
.G27及び046の共通結合された入力端子から見た
実質的な結線論理和回路の終端抵抗となる。同様に、例
えばゲートセルG32の出力信号Oがハイレベルとされ
ゲートセルG23及びG42の出力信号Oがロウレベル
とされるときには、ゲートセルG42の負荷抵抗REに
分岐ノードnaから分岐ノードncまでの分布抵抗を加
えたものが、上記実質的な結線論理和回路の終端抵抗と
なる。
つまり、この実施例の高速ディジタル処理装置では、上
記共通結合配線CLI及びCl3ならびに終端抵抗RE
が所定の条件に従って配置されることで、負荷抵抗RE
とゲートセルG23又はG32の出力端子0との間にあ
る程度の分布抵抗が存在するにもかかわらず、入力側の
ゲートセルG16、G27及びG46に対する入力信号
の実質的なレベル低下は生じないものとなる。
記共通結合配線CLI及びCl3ならびに終端抵抗RE
が所定の条件に従って配置されることで、負荷抵抗RE
とゲートセルG23又はG32の出力端子0との間にあ
る程度の分布抵抗が存在するにもかかわらず、入力側の
ゲートセルG16、G27及びG46に対する入力信号
の実質的なレベル低下は生じないものとなる。
以上のように、この実施例の高速ディジタル処理装置は
、その出力端子が共通結合されることで結線論理形態と
される3個のゲートセルG23゜G32及びG42と、
これらのゲートセルの共通結合された出力端子のレベル
を受ける3個のゲートセルG16.G27及びG46と
を含む、ゲートセルG23.G32及びG42の出力端
子は、各ゲートセルの出力端子と対応する分岐ノードが
近接するように一筆書き状に配置される第1の共通結合
配線CLIを介して結合され、その一端すなわち分岐ノ
ードncと回路の電源電圧との間に終端抵抗REが設け
られる。ゲートセルG16゜G27及びG46の入力端
子は、第2の共通結合配線CL2を介して結合された後
、分岐ノードnaすなわち共通結合配線CLIの他端と
結合される。その結果、電流供給側のゲートセルの出力
端子と上記分岐ノードncとの間に存在する分布抵抗は
、入力側のゲートセルG16.G27及びG46から見
た実質的な終端抵抗に含め得るものとなる。このため、
上記入力側のゲートセルG16゜G27及びG46に対
する入力信号は、上記分布抵抗によってそのレベルが低
下されない、つまり、上記レイアウト方法を採る限りに
おいて、結線論理形態とされる論理ゲート回路とその結
合配線のレイアウトに関する制約は緩和される。これに
より、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含
む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度が拡大
され、そのレイアウト設計が効率化されるものである。
、その出力端子が共通結合されることで結線論理形態と
される3個のゲートセルG23゜G32及びG42と、
これらのゲートセルの共通結合された出力端子のレベル
を受ける3個のゲートセルG16.G27及びG46と
を含む、ゲートセルG23.G32及びG42の出力端
子は、各ゲートセルの出力端子と対応する分岐ノードが
近接するように一筆書き状に配置される第1の共通結合
配線CLIを介して結合され、その一端すなわち分岐ノ
ードncと回路の電源電圧との間に終端抵抗REが設け
られる。ゲートセルG16゜G27及びG46の入力端
子は、第2の共通結合配線CL2を介して結合された後
、分岐ノードnaすなわち共通結合配線CLIの他端と
結合される。その結果、電流供給側のゲートセルの出力
端子と上記分岐ノードncとの間に存在する分布抵抗は
、入力側のゲートセルG16.G27及びG46から見
た実質的な終端抵抗に含め得るものとなる。このため、
上記入力側のゲートセルG16゜G27及びG46に対
する入力信号は、上記分布抵抗によってそのレベルが低
下されない、つまり、上記レイアウト方法を採る限りに
おいて、結線論理形態とされる論理ゲート回路とその結
合配線のレイアウトに関する制約は緩和される。これに
より、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含
む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度が拡大
され、そのレイアウト設計が効率化されるものである。
〔実施例2〕
第3図には、この発明が通用された高速ディジタル処理
装置のもう一つの実施例の配置図が示されている。この
実施例において、高速ディジタル処理装置は、上記第1
図の高速ディジタル処理装置と同一のゲートアレイ集積
回路をもとに構成される。したがって、第3図の半導体
基板SUBとゲートセル011〜G1Bないし061〜
G68及びバッファセルBならびにポンディングパッド
Pは、第1図の半導体基板SUBとゲートセルG11〜
G18ないし061−G6B及びバッファセルBならび
にボンディングバンドPにそれぞれ対応する。以下、第
1図の実施例と異なる点について、その説明を追加する
。
装置のもう一つの実施例の配置図が示されている。この
実施例において、高速ディジタル処理装置は、上記第1
図の高速ディジタル処理装置と同一のゲートアレイ集積
回路をもとに構成される。したがって、第3図の半導体
基板SUBとゲートセル011〜G1Bないし061〜
G68及びバッファセルBならびにポンディングパッド
Pは、第1図の半導体基板SUBとゲートセルG11〜
G18ないし061−G6B及びバッファセルBならび
にボンディングバンドPにそれぞれ対応する。以下、第
1図の実施例と異なる点について、その説明を追加する
。
第3図において、高速ディジタル処理装置は、特に制限
されないが、その出力端子が共通結合されることで結線
論理形態とされる3個のゲートセルG24.G31及び
G43(第1の論理ゲート回路群)と、その入力端子が
上記ゲートセルの共通結合された出力端子に結合される
3個のゲートセルG17.G52及びG5Bとを含む。
されないが、その出力端子が共通結合されることで結線
論理形態とされる3個のゲートセルG24.G31及び
G43(第1の論理ゲート回路群)と、その入力端子が
上記ゲートセルの共通結合された出力端子に結合される
3個のゲートセルG17.G52及びG5Bとを含む。
これらの3#1理ゲ一ト回路は、曲述のように、基本的
にすべて同一の回路構成とされ、出力エミッタフォロワ
回路を構成する負荷抵抗が選択的に削除されることで、
その出力が選択的にオーブンエミンタ形態とされる。
にすべて同一の回路構成とされ、出力エミッタフォロワ
回路を構成する負荷抵抗が選択的に削除されることで、
その出力が選択的にオーブンエミンタ形態とされる。
この実施例において、上記第1の論理ゲート回路群を構
成するゲートセルG24.G31及びG43は、特に制
限されないが、半導体基板SUBの左側に比較的近接し
て配置される。これらのゲートセルの出力端子は、特に
制限されないが、ゲートセルG24の出力端子すなわち
分岐ノードndからゲートセルG42の出力端子すなわ
ち分岐ノードnoさらにゲートセルG43の出力端子す
なわち分岐ノードnfへと、−筆書き状に配置される第
1の共通結合配線CLIを介して、共通結合される。こ
の第1の共通結合配線CLlの一端すなわち分岐ノード
nfには、ゲートセルG43の出力エミンタフオロワ回
路に設けられる負荷抵抗が、結線論理和回路を構成する
終端抵抗REとして配置される。共通結合配線CLIの
他端すなわち分岐ノードndは、さらにゲートセルG2
5として設けられるダミーセルの入力端子iに結合され
る。
成するゲートセルG24.G31及びG43は、特に制
限されないが、半導体基板SUBの左側に比較的近接し
て配置される。これらのゲートセルの出力端子は、特に
制限されないが、ゲートセルG24の出力端子すなわち
分岐ノードndからゲートセルG42の出力端子すなわ
ち分岐ノードnoさらにゲートセルG43の出力端子す
なわち分岐ノードnfへと、−筆書き状に配置される第
1の共通結合配線CLIを介して、共通結合される。こ
の第1の共通結合配線CLlの一端すなわち分岐ノード
nfには、ゲートセルG43の出力エミンタフオロワ回
路に設けられる負荷抵抗が、結線論理和回路を構成する
終端抵抗REとして配置される。共通結合配線CLIの
他端すなわち分岐ノードndは、さらにゲートセルG2
5として設けられるダミーセルの入力端子iに結合され
る。
一方、第2の論理ゲート回路群を構成するゲートセルG
16.G27及びG46は、半導体基板SUBの随所に
分散して配置される。これらのゲートセルの入力端子は
、第2の共通結合配線CL2を介して共通結合された後
、上記ダミーセルの出力端子0に結合される。
16.G27及びG46は、半導体基板SUBの随所に
分散して配置される。これらのゲートセルの入力端子は
、第2の共通結合配線CL2を介して共通結合された後
、上記ダミーセルの出力端子0に結合される。
ここで、上記ゲートセルG25すなわちダミーセルの入
力端子i及び出力端子0は、その内部において共通結合
され、短絡される。特に制限されないが、ダミーセルは
、これらの入力端子i及び出力端子Oならびに短絡用結
合配線以外のものを含まない。
力端子i及び出力端子0は、その内部において共通結合
され、短絡される。特に制限されないが、ダミーセルは
、これらの入力端子i及び出力端子Oならびに短絡用結
合配線以外のものを含まない。
これらのことから、この実施例の高速ディジタル処理装
置では、上記第1図の実施例と同様な作用により、結線
論理形態とされる論理ゲート回路のレイアウトに関する
制約が緩和される。その結果、結線論理形態とされる論
理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置のレイアウ
ト自由度が拡大され、そのレイアウト設計が効率化され
る。
置では、上記第1図の実施例と同様な作用により、結線
論理形態とされる論理ゲート回路のレイアウトに関する
制約が緩和される。その結果、結線論理形態とされる論
理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置のレイアウ
ト自由度が拡大され、そのレイアウト設計が効率化され
る。
一方、この実施例の高速ディジタル処理装置において、
上記ゲートセル等の回路素子と各結合配線等のレイアウ
トは、コンピュータによるDA技術を用いることで自動
的にかつ効率的に設計される。このとき、コンピュータ
には、共通結合配線CLIの配線データすなわち上記第
1の論理ゲート回路群を構成するゲートセルG24.G
31及びG43の出力端子ならびにゲートセルG25す
なわちダミーセルの入力端子に関する配線データと、共
通結合配線CL2の配線データすなわち上記第2の論理
ゲート回路群を構成するゲートセルG17.G52及び
G5Bの入力端子ならびに上記ダミーセルの出力端子O
に関する配線データとが、それぞれ別個に与えられる。
上記ゲートセル等の回路素子と各結合配線等のレイアウ
トは、コンピュータによるDA技術を用いることで自動
的にかつ効率的に設計される。このとき、コンピュータ
には、共通結合配線CLIの配線データすなわち上記第
1の論理ゲート回路群を構成するゲートセルG24.G
31及びG43の出力端子ならびにゲートセルG25す
なわちダミーセルの入力端子に関する配線データと、共
通結合配線CL2の配線データすなわち上記第2の論理
ゲート回路群を構成するゲートセルG17.G52及び
G5Bの入力端子ならびに上記ダミーセルの出力端子O
に関する配線データとが、それぞれ別個に与えられる。
また、共通結合配uACLlについては、それが各ゲー
トセルの出力端子と対応する分岐ノードが近接するよう
に−N書き状に配置され、かつその一端に終端抵抗RE
が配置されその他端がダミーセルの入力端子lに結合さ
れなくてはならないという配線条件が与えられる。その
結果、コンピュータは、第1の論理ゲート回路群を構成
する複数のゲートセルと第2の論理ゲート回路群を構成
する複数のゲートセルとが入り雑じって配置されるにも
かかわらず、共通結合配線CLI及びCl3に関するレ
イアウト設計を、通常の配線レイアウトと同様に、それ
ぞれ個別に取り扱うことができる。これにより、高速デ
ィジタル処理装置のレイアウト設計はさらに効率化され
るものである。
トセルの出力端子と対応する分岐ノードが近接するよう
に−N書き状に配置され、かつその一端に終端抵抗RE
が配置されその他端がダミーセルの入力端子lに結合さ
れなくてはならないという配線条件が与えられる。その
結果、コンピュータは、第1の論理ゲート回路群を構成
する複数のゲートセルと第2の論理ゲート回路群を構成
する複数のゲートセルとが入り雑じって配置されるにも
かかわらず、共通結合配線CLI及びCl3に関するレ
イアウト設計を、通常の配線レイアウトと同様に、それ
ぞれ個別に取り扱うことができる。これにより、高速デ
ィジタル処理装置のレイアウト設計はさらに効率化され
るものである。
以上のように、この実施例の高速ディジタル処理装置で
は、第1の論理ゲート回路群を構成する複数のゲートセ
ルの出力端子が、−筆書き状に配置される共通結合配線
CLIを介して結合され、また第2の論理ゲート回路群
を構成する複数のゲートセルの入力端子が、共通結合配
線CL2を介して結合される。これらの共通結合配線C
LI及びCl3は、さらにダミーセルを介して結合され
る。このため、この実施例の高速ディジタル処理装置で
は、上記第1図の実施例と同様な作用によって、結線論
理形態とされる論理ゲート回路のレイアウトに関する制
約が緩和され、そのレイアウト設計が効率化される。ま
た、共通結合配線CLl及びCl3を分断するダミーセ
ルが設けられることで、第1の論理ゲート回路群を構成
するゲートセルと第2の論理ゲート回路を構成するゲー
トセルとが入り雑じって配置されるにもかかわらず、コ
ンピュータによる自動設計が標準化しやすくなり、高速
ディジタル処理装置のレイアウト設計がさらに効率化さ
れるものとなる。
は、第1の論理ゲート回路群を構成する複数のゲートセ
ルの出力端子が、−筆書き状に配置される共通結合配線
CLIを介して結合され、また第2の論理ゲート回路群
を構成する複数のゲートセルの入力端子が、共通結合配
線CL2を介して結合される。これらの共通結合配線C
LI及びCl3は、さらにダミーセルを介して結合され
る。このため、この実施例の高速ディジタル処理装置で
は、上記第1図の実施例と同様な作用によって、結線論
理形態とされる論理ゲート回路のレイアウトに関する制
約が緩和され、そのレイアウト設計が効率化される。ま
た、共通結合配線CLl及びCl3を分断するダミーセ
ルが設けられることで、第1の論理ゲート回路群を構成
するゲートセルと第2の論理ゲート回路を構成するゲー
トセルとが入り雑じって配置されるにもかかわらず、コ
ンピュータによる自動設計が標準化しやすくなり、高速
ディジタル処理装置のレイアウト設計がさらに効率化さ
れるものとなる。
以上の二つの実施例に示されるように、この発明を結線
論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含む高速ディ
ジタル処理装置に通用した場合、次のような作用効果が
得られる。すなわち、(11結線論理形態とされる複数
の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置等にお
いて、出力側の論理ゲート回路の出力端子を結合する第
1の共通結合配線を、各論理ゲート回路の出力端子と対
応する分岐ノードが近接するように一筆書き状に配置し
た後、その一端と回路の電源電圧又は接地電位との間に
終端抵抗を配置し、その他端を入力側の論理ゲート回路
の入力端子を結合した第2の共通結合配線に結合するこ
とで、上記第1の共通結合配線に存在する分布抵抗を、
入力側の論理ゲート回路から見た実質的な終端抵抗に含
めることができる。このため、結線論理形態と論理ゲー
ト回路の結合配線のレイアウトに関する制限を緩和でき
るという効果が得られる。
論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含む高速ディ
ジタル処理装置に通用した場合、次のような作用効果が
得られる。すなわち、(11結線論理形態とされる複数
の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置等にお
いて、出力側の論理ゲート回路の出力端子を結合する第
1の共通結合配線を、各論理ゲート回路の出力端子と対
応する分岐ノードが近接するように一筆書き状に配置し
た後、その一端と回路の電源電圧又は接地電位との間に
終端抵抗を配置し、その他端を入力側の論理ゲート回路
の入力端子を結合した第2の共通結合配線に結合するこ
とで、上記第1の共通結合配線に存在する分布抵抗を、
入力側の論理ゲート回路から見た実質的な終端抵抗に含
めることができる。このため、結線論理形態と論理ゲー
ト回路の結合配線のレイアウトに関する制限を緩和でき
るという効果が得られる。
(2)上記(11項により、結線論理形態とされる複数
の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置等のレ
イアウト自由度を拡大できるという効果が得られる。
の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処理装置等のレ
イアウト自由度を拡大できるという効果が得られる。
(3)上記(1)項及び(2)項により、結線論理形態
とされる複数の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処
理装置等のレイアウト設計を効率化できるというすJ果
が得られる。
とされる複数の論理ゲート回路を含む高速ディジタル処
理装置等のレイアウト設計を効率化できるというすJ果
が得られる。
(4)上記(1)項〜(3)項において、上記第1及び
第2の共通結合配線を、その内部で共通結合される2個
の端子を有するダミーセルを介して結合することによっ
て、コンピュータによるDA技術を用いた高速ディジタ
ル処理装置等のレイアウト設計をさらに効率化できると
いう効果が得られる。
第2の共通結合配線を、その内部で共通結合される2個
の端子を有するダミーセルを介して結合することによっ
て、コンピュータによるDA技術を用いた高速ディジタ
ル処理装置等のレイアウト設計をさらに効率化できると
いう効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図及び第
3図の実施例では、共通結合配線CLIは、出力側のゲ
ートセルの出力端子に近接する位置を一筆書き状に配置
されるが、各ゲートセルの出力端子から対応する分岐ノ
ードまでの距離は、その間の分布抵抗値が許容できる範
囲で長くすることができる。つまり、以上の実施例では
、第1の論理ゲート回路群を構成するゲートセルは比較
的近接して配置されるものとしているが、共通結合配線
CLIが各ゲートセルの出力端子の間を−I!書き状に
配置されかつその一端に終端抵抗が配置されその他端が
第2の共通結合配線に結合されることを条件にすれば、
実質的には半導体基板SUB上に分散して配置してもよ
い、各実施例において、終端抵抗REは、論理ゲート回
路内に含まれるものでなくてもよいし、各ゲートセルは
、それぞれ異なる回路構成とされるものであってもよい
、第2図において、ゲートセルは、2人力又は4人力の
論理ゲート回路を基本とするものであってもよいし、ま
た反転及び非反転出力端子の両方を持つものであっても
よい。
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図及び第
3図の実施例では、共通結合配線CLIは、出力側のゲ
ートセルの出力端子に近接する位置を一筆書き状に配置
されるが、各ゲートセルの出力端子から対応する分岐ノ
ードまでの距離は、その間の分布抵抗値が許容できる範
囲で長くすることができる。つまり、以上の実施例では
、第1の論理ゲート回路群を構成するゲートセルは比較
的近接して配置されるものとしているが、共通結合配線
CLIが各ゲートセルの出力端子の間を−I!書き状に
配置されかつその一端に終端抵抗が配置されその他端が
第2の共通結合配線に結合されることを条件にすれば、
実質的には半導体基板SUB上に分散して配置してもよ
い、各実施例において、終端抵抗REは、論理ゲート回
路内に含まれるものでなくてもよいし、各ゲートセルは
、それぞれ異なる回路構成とされるものであってもよい
、第2図において、ゲートセルは、2人力又は4人力の
論理ゲート回路を基本とするものであってもよいし、ま
た反転及び非反転出力端子の両方を持つものであっても
よい。
第3図において、ダミーセルとされるゲートセルG25
は、その内部でそれぞれ共通結合される2組又はそれ以
上の入力端子及び出力端子を持つものであってもよいし
、通常の論理ゲート回路を含むものであってもよい。さ
らに、第1図及び第3図に示される高速ディジタル処理
装置の具体的なレイアウトや各ゲートセルの結合方法な
らびに第2図に示されるゲートセルの具体的な回路構成
等、種々の実施形態を採りうる。
は、その内部でそれぞれ共通結合される2組又はそれ以
上の入力端子及び出力端子を持つものであってもよいし
、通常の論理ゲート回路を含むものであってもよい。さ
らに、第1図及び第3図に示される高速ディジタル処理
装置の具体的なレイアウトや各ゲートセルの結合方法な
らびに第2図に示されるゲートセルの具体的な回路構成
等、種々の実施形態を採りうる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるバイポーラゲートア
レイ集積回路により構成される高速ディジタル処理装置
に通用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、例えば、専用集積回路によって構成され
る高速ディジタル処理装置や、バイポーラゲートアレイ
集積回路により構成される他の各種のディジタル装置に
も通用できる0本発明は、少なくとも結線論理形態とさ
れる複数の論理ゲート回路を含む半導体集積回路装置に
広く通用できる。
をその背景となった利用分野であるバイポーラゲートア
レイ集積回路により構成される高速ディジタル処理装置
に通用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、例えば、専用集積回路によって構成され
る高速ディジタル処理装置や、バイポーラゲートアレイ
集積回路により構成される他の各種のディジタル装置に
も通用できる0本発明は、少なくとも結線論理形態とさ
れる複数の論理ゲート回路を含む半導体集積回路装置に
広く通用できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。すなわち、結線論理形態とされる複数の論理ゲート
回路を含む高速ディジタル処理装置等において、出力側
の論理ゲート回路の出力端子を結合する第1の共通結合
配線を一筆書き状に配置した後、その一端と回路の電源
電圧又は接地電位との間に終端抵抗を配置し、その他端
を入力側の論理ゲート回路の入力端子を結合した第2の
共通結合配線に結合することで、上記第1の共通結合配
線に存在する分布抵抗を入力側の論理ゲート回路から見
た実質的な終端抵抗に含めることができるため、結線論
理形態とされる論理ゲート回路及びその結合配線のレイ
アウトに関する制限を緩和することができ・乙、これに
より、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含
む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度を拡大
し、そのレイアウト設計を効率化することができるもの
である。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。すなわち、結線論理形態とされる複数の論理ゲート
回路を含む高速ディジタル処理装置等において、出力側
の論理ゲート回路の出力端子を結合する第1の共通結合
配線を一筆書き状に配置した後、その一端と回路の電源
電圧又は接地電位との間に終端抵抗を配置し、その他端
を入力側の論理ゲート回路の入力端子を結合した第2の
共通結合配線に結合することで、上記第1の共通結合配
線に存在する分布抵抗を入力側の論理ゲート回路から見
た実質的な終端抵抗に含めることができるため、結線論
理形態とされる論理ゲート回路及びその結合配線のレイ
アウトに関する制限を緩和することができ・乙、これに
より、結線論理形態とされる複数の論理ゲート回路を含
む高速ディジタル処理装置等のレイアウト自由度を拡大
し、そのレイアウト設計を効率化することができるもの
である。
第1図は、この発明が通用された高速ディジタル処理装
置の一実施例を示す配置図、 第2図は、第1図の高速ディジタル処理装置の一実施例
を示す部分的な回路図、 第3図は、この発明が適用された高速ディジタル処理装
置のもう一つの実施例を示す配置図、第4図は、従来の
高速ディジタル処理装置の一例を示す配置図である。 SUB・・・半導体基板、Gll−068・・・ゲート
セル、G25 (第3図) ・・・ダミーセル、B・・
・バッファセル、P・・・ポンディングパッド、RE・
・・終端抵抗(負荷抵抗)、CLl、Cl3・・−共通
結合配線、naxnh−・ ・分岐ノード。 T1〜T5・・・NPN型バイポーラトランジスタ、R
1・・・抵抗、Sl・・・定電流源。
置の一実施例を示す配置図、 第2図は、第1図の高速ディジタル処理装置の一実施例
を示す部分的な回路図、 第3図は、この発明が適用された高速ディジタル処理装
置のもう一つの実施例を示す配置図、第4図は、従来の
高速ディジタル処理装置の一例を示す配置図である。 SUB・・・半導体基板、Gll−068・・・ゲート
セル、G25 (第3図) ・・・ダミーセル、B・・
・バッファセル、P・・・ポンディングパッド、RE・
・・終端抵抗(負荷抵抗)、CLl、Cl3・・−共通
結合配線、naxnh−・ ・分岐ノード。 T1〜T5・・・NPN型バイポーラトランジスタ、R
1・・・抵抗、Sl・・・定電流源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、その出力端子が共通結合されることで結線論理形態
とされる第1の論理ゲート回路群と、その入力端子が上
記第1の論理ゲート回路群の共通結合された出力端子に
結合される第2の論理ゲート回路群と、上記第1の論理
ゲート回路群を構成する複数の論理ゲート回路の出力端
子を結合すべく一筆書き状に配置される第1の共通結合
配線と、上記第1の共通結合配線の一端と回路の電源電
圧又は接地電位との間に設けられる終端抵抗と、上記第
2の論理ゲート回路群の入力端子を結合すべく配置され
た後上記第1の共通結合配線の他端に結合される第2の
共通結合配線とを具備することを特徴とする半導体集積
回路装置。 2、上記第1の論理ゲート回路群に含まれる複数の論理
ゲート回路は、近接して配置されるものであり、上記第
1の共通結合配線は、各論理ゲート回路の出力端子と対
応する分岐ノードがそれぞれ近接するように配置される
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、ECL回路を基本構成
とするゲートアレイ集積回路であり、その結合配線のレ
イアウトは、コンピュータによって自動的に設計される
ものであって、上記第1及び第2の共通結合配線は、そ
の内部において共通結合される少なくとも2個の端子を
持つダミーセルを介して結合されるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の半導体
集積回路装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63107818A JPH01278041A (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 半導体集積回路装置 |
| KR1019890005434A KR890016623A (ko) | 1988-04-30 | 1989-04-25 | 반도체 집적회로 장치 |
| US07/344,669 US4987326A (en) | 1988-04-30 | 1989-04-28 | Semiconductor integrated circuit device having an improved common wiring arrangement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63107818A JPH01278041A (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01278041A true JPH01278041A (ja) | 1989-11-08 |
Family
ID=14468813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63107818A Pending JPH01278041A (ja) | 1988-04-30 | 1988-04-30 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4987326A (ja) |
| JP (1) | JPH01278041A (ja) |
| KR (1) | KR890016623A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5130578A (en) * | 1989-11-30 | 1992-07-14 | Hughes Aircraft Company | Efficient high speed N-word comparator |
| US5338982A (en) * | 1991-03-29 | 1994-08-16 | Kawasaki Steel Corporation | Programmable logic device |
| US5510733A (en) * | 1994-12-23 | 1996-04-23 | Sun Microsystems, Inc. | High speed circuit with CMOS and bipolar logic stages |
| JP2001051957A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-02-23 | Hitachi Ltd | オンチップマルチプロセッサ |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4207556A (en) * | 1976-12-14 | 1980-06-10 | Nippon Telegraph And Telephone Public Corporation | Programmable logic array arrangement |
| JPS60953B2 (ja) * | 1977-12-30 | 1985-01-11 | 富士通株式会社 | 半導体集積回路装置 |
| JPH077825B2 (ja) * | 1981-08-13 | 1995-01-30 | 富士通株式会社 | ゲートアレイの製造方法 |
| US4577276A (en) * | 1983-09-12 | 1986-03-18 | At&T Bell Laboratories | Placement of components on circuit substrates |
| JPS6074455A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Fujitsu Ltd | マスタスライス集積回路 |
| US4751406A (en) * | 1985-05-03 | 1988-06-14 | Advanced Micro Devices, Inc. | ECL circuit with output transistor auxiliary biasing circuit |
| US4849659A (en) * | 1987-12-15 | 1989-07-18 | North American Philips Corporation, Signetics Division | Emitter-coupled logic circuit with three-state capability |
| US4804861A (en) * | 1988-02-11 | 1989-02-14 | Motorola, Inc. | Multifunction onboard input/output termination |
-
1988
- 1988-04-30 JP JP63107818A patent/JPH01278041A/ja active Pending
-
1989
- 1989-04-25 KR KR1019890005434A patent/KR890016623A/ko not_active Withdrawn
- 1989-04-28 US US07/344,669 patent/US4987326A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR890016623A (ko) | 1989-11-29 |
| US4987326A (en) | 1991-01-22 |
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