JPH0127823B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0127823B2 JPH0127823B2 JP56011429A JP1142981A JPH0127823B2 JP H0127823 B2 JPH0127823 B2 JP H0127823B2 JP 56011429 A JP56011429 A JP 56011429A JP 1142981 A JP1142981 A JP 1142981A JP H0127823 B2 JPH0127823 B2 JP H0127823B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- welding
- layer
- torch
- time
- setting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/02—Seam welding; Backing means; Inserts
- B23K9/028—Seam welding; Backing means; Inserts for curved planar seams
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はマイクロコンピユータを使用した自
動溶接制御装置の連続多層溶接シーケンスとデー
タ設定に関するものである。
動溶接制御装置の連続多層溶接シーケンスとデー
タ設定に関するものである。
一般にパイプ等の円周継手の自動溶接は、次の
２方法に大別できる。一つは被溶接管が固定の場
合で、溶接トーチ等を固定管に対し相対的に移
動、つまり回転させる方法であり、もう一つは固
定された溶接トーチに対し、被溶接管（回転管）
を回転させる方法である。
２方法に大別できる。一つは被溶接管が固定の場
合で、溶接トーチ等を固定管に対し相対的に移
動、つまり回転させる方法であり、もう一つは固
定された溶接トーチに対し、被溶接管（回転管）
を回転させる方法である。
これらの円周自動溶接には通常、消耗電極式
（MIG法）或いは非消耗電極式溶接法（TIG法）
のどちらかが用いられるが何れにしても、開先深
さの関係上、多層盛溶接がほとんどである。従つ
て溶接能率を上げるため、従来から連続溶接の自
動化が図られてきたが、一般には、装置に必要な
シールドガスなどのホース・ケーブル類の処理と
いう点から見れば、回転管方式の方が自動化が容
易であると言える。以下、MIG法を採用した回
転管方式の自動溶接機を例に説明を行う。
（MIG法）或いは非消耗電極式溶接法（TIG法）
のどちらかが用いられるが何れにしても、開先深
さの関係上、多層盛溶接がほとんどである。従つ
て溶接能率を上げるため、従来から連続溶接の自
動化が図られてきたが、一般には、装置に必要な
シールドガスなどのホース・ケーブル類の処理と
いう点から見れば、回転管方式の方が自動化が容
易であると言える。以下、MIG法を採用した回
転管方式の自動溶接機を例に説明を行う。
従来、この種の装置として第１図に示すものが
あつた。図は従来の制御装置を中心に、ブロツク
図として表わしたものである。図において１は自
動溶接装置の制御を行う制御装置、２は被溶接管
を回転駆動させる回転駆動装置、３は溶接トーチ
等を塔載した溶接ヘツド、４は溶接電源、５は制
御装置１に各種指令を与える操作箱である。
あつた。図は従来の制御装置を中心に、ブロツク
図として表わしたものである。図において１は自
動溶接装置の制御を行う制御装置、２は被溶接管
を回転駆動させる回転駆動装置、３は溶接トーチ
等を塔載した溶接ヘツド、４は溶接電源、５は制
御装置１に各種指令を与える操作箱である。
次に動作について説明する。操作箱５により溶
接開止指令を与えると、回転駆動装置２が駆動
し、回転管を原点まで回転させる。原点に到達す
ると、原点信号が制御装置１へ入力され、一連の
溶接動作が開始される。原点信号は回転管が１回
転ごとに毎回発せられる信号である。また溶接動
作にはシールドガスフロー、溶接電流、溶接トー
チのオシレーシヨンなどの制御が含まれる。一連
の溶接動作を行いながら回転駆動を続け、再び原
点に戻ると、連続溶接を行うために予め制御装置
１においてボリユーム設定を行つた溶接条件値に
歩進され溶接が続行される。しかしこの時、第１
層目（初層）のビードの上に第２層目のビードが
重なるため、溶接トーチとビードの距離は縮まる
ことになる。従つて初層から第２層目に移るとき
は、操作箱５に設けられている「トーチ上昇イン
チングスイツチ」を押すことにより、トーチを初
層ビードの厚さに相当する距離分だけ上昇させる
必要がある。このようにして原点に達するたびに
前層のビードの厚みを考慮に入れトーチを上昇さ
せることは連続溶接における重要な要素である。
従来の装置では以上のように原点において毎回イ
ンチングスイツチを押すことにより、トーチを上
昇させ、最終層の原点信号によりクレータ処理を
行つている。
接開止指令を与えると、回転駆動装置２が駆動
し、回転管を原点まで回転させる。原点に到達す
ると、原点信号が制御装置１へ入力され、一連の
溶接動作が開始される。原点信号は回転管が１回
転ごとに毎回発せられる信号である。また溶接動
作にはシールドガスフロー、溶接電流、溶接トー
チのオシレーシヨンなどの制御が含まれる。一連
の溶接動作を行いながら回転駆動を続け、再び原
点に戻ると、連続溶接を行うために予め制御装置
１においてボリユーム設定を行つた溶接条件値に
歩進され溶接が続行される。しかしこの時、第１
層目（初層）のビードの上に第２層目のビードが
重なるため、溶接トーチとビードの距離は縮まる
ことになる。従つて初層から第２層目に移るとき
は、操作箱５に設けられている「トーチ上昇イン
チングスイツチ」を押すことにより、トーチを初
層ビードの厚さに相当する距離分だけ上昇させる
必要がある。このようにして原点に達するたびに
前層のビードの厚みを考慮に入れトーチを上昇さ
せることは連続溶接における重要な要素である。
従来の装置では以上のように原点において毎回イ
ンチングスイツチを押すことにより、トーチを上
昇させ、最終層の原点信号によりクレータ処理を
行つている。
従来の自動溶接装置は以上のように構成されて
いるので原点ごとに毎回、インチングスイツチを
押さなければならず、また、原点は毎回回転管に
対し、同じ位置のため、その結果溶接条件の歩進
位置が毎回同じとなり、溶接欠陥につながり易い
など欠点があつた。
いるので原点ごとに毎回、インチングスイツチを
押さなければならず、また、原点は毎回回転管に
対し、同じ位置のため、その結果溶接条件の歩進
位置が毎回同じとなり、溶接欠陥につながり易い
など欠点があつた。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除
去するためになされたもので、回転管方式の自動
溶接機における溶接条件歩進位置を、多層盛され
る溶接層の各層ごとに変化させるように予め、設
定でき、かつトーチの引き上げ量及び時期も予め
設定できるようにした自動溶接制御装置を提供す
ることを目的としている。
去するためになされたもので、回転管方式の自動
溶接機における溶接条件歩進位置を、多層盛され
る溶接層の各層ごとに変化させるように予め、設
定でき、かつトーチの引き上げ量及び時期も予め
設定できるようにした自動溶接制御装置を提供す
ることを目的としている。
以下、この発明の一実施例を図について説明す
る。第２図は本発明による自動溶接制御装置の実
施例を表わすブロツク図、第３図は溶接シーケン
スの一部、第４図は自動溶接制御装置の設定器の
表面パネル図である。
る。第２図は本発明による自動溶接制御装置の実
施例を表わすブロツク図、第３図は溶接シーケン
スの一部、第４図は自動溶接制御装置の設定器の
表面パネル図である。
第２図において１０は自動溶接制御装置、１１
は溶接条件データ設定器、１２はデータ記憶装
置、１３は制御回路、１４は入出力インターフエ
ース回路、また１５は操作箱である。
は溶接条件データ設定器、１２はデータ記憶装
置、１３は制御回路、１４は入出力インターフエ
ース回路、また１５は操作箱である。
第４図において、１６は表示部、１７は設定部
である。１８〜２０はデイジタル表示部で１８は
層ごとの溶接条件に対し付けられた層番号、１９
は溶接条件の項目（たとえば溶接電流）ごとに与
えられたコード番号、２０は溶接条件のデータを
表すようになつている。２１〜２４はキーボード
スイツチで、２１は「０」〜「９」までの各数字
キーである。２２は「層」キー、２３は「コー
ド」キー、２４は「データ」キーである。
である。１８〜２０はデイジタル表示部で１８は
層ごとの溶接条件に対し付けられた層番号、１９
は溶接条件の項目（たとえば溶接電流）ごとに与
えられたコード番号、２０は溶接条件のデータを
表すようになつている。２１〜２４はキーボード
スイツチで、２１は「０」〜「９」までの各数字
キーである。２２は「層」キー、２３は「コー
ド」キー、２４は「データ」キーである。
次に動作について説明する。操作箱１５により
溶接開始指令を与えると、回転駆動装置２が駆動
し、回転管を原点まで回転させる。原点に到達す
ると原点信号が入出力インターフエース回路１４
を通つてマイクロコンピユータが制御する制御回
路１３へ入力され、これと同時に記憶装置１２に
記憶されている溶接条件が出力され、一連の溶接
動作が開始される。原点信号は従来の装置と同
様、回転管が１回転ごとに毎回発せられる信号で
ある。一連の溶接動作を行いながら回転駆動を続
け再び原点に戻ると第３図のように原点信号が発
せられるが溶接条件は何ら変化しない。しかし、
原点信号が発せられると同時に原点遅延タイマー
T11がONされタイムアツプと同時に溶接条件が
層番号２の条件に歩進される。更にはT11のタイ
ムアツプに同期してトートーチ上昇が開始されト
ーチ上昇タイマーT21がONされる。T21のタイム
アツプと同時にトーチ上昇は停止するが、トーチ
の上昇量はタイマーT21で設定された時間に比例
しタイマーT21の間だけトーチはビードから離れ
たことになる。つまりタイマーT21のON時期、
及びタイムアツプまでの時間を適当にセツトする
ことにより、トーチの引上げ量及び時期を設定で
きることになる。なお、T11、T21ともソフトウ
エアタイマー（プログラムにより構成されている
タイマー）として、層ごとに予め、設定器１１に
より設定されているものである。このようにこの
装置では、層ごとに設定された溶接条件を歩進す
る溶接条件歩進位置を、トーチの移動時間量とし
てタイマーT11で層ごとに設定して、この設定さ
れた時間だけ自動的に変化させるようにし、これ
によつて原点の位置を毎回あたかも少しづつ変化
させているようにしている。また、トーチの上昇
量（引き上げ量）は、タイマーT21の時間を層ご
とに設定することで設定している。したがつてこ
の装置の動作としては、タイマーT11の設定に基
づいて層ごとに設定された溶接条件歩進位置で溶
接条件を歩進し、タイマーT21の設定に基づいて
層ごとに設定されたトーチの上昇量（引き上げ
量）でトーチを上昇させることをくり返しなから
最終層に達し、最終層の原点信号を入力すること
により、クレータ処理を行つて溶接終了となる。
溶接開始指令を与えると、回転駆動装置２が駆動
し、回転管を原点まで回転させる。原点に到達す
ると原点信号が入出力インターフエース回路１４
を通つてマイクロコンピユータが制御する制御回
路１３へ入力され、これと同時に記憶装置１２に
記憶されている溶接条件が出力され、一連の溶接
動作が開始される。原点信号は従来の装置と同
様、回転管が１回転ごとに毎回発せられる信号で
ある。一連の溶接動作を行いながら回転駆動を続
け再び原点に戻ると第３図のように原点信号が発
せられるが溶接条件は何ら変化しない。しかし、
原点信号が発せられると同時に原点遅延タイマー
T11がONされタイムアツプと同時に溶接条件が
層番号２の条件に歩進される。更にはT11のタイ
ムアツプに同期してトートーチ上昇が開始されト
ーチ上昇タイマーT21がONされる。T21のタイム
アツプと同時にトーチ上昇は停止するが、トーチ
の上昇量はタイマーT21で設定された時間に比例
しタイマーT21の間だけトーチはビードから離れ
たことになる。つまりタイマーT21のON時期、
及びタイムアツプまでの時間を適当にセツトする
ことにより、トーチの引上げ量及び時期を設定で
きることになる。なお、T11、T21ともソフトウ
エアタイマー（プログラムにより構成されている
タイマー）として、層ごとに予め、設定器１１に
より設定されているものである。このようにこの
装置では、層ごとに設定された溶接条件を歩進す
る溶接条件歩進位置を、トーチの移動時間量とし
てタイマーT11で層ごとに設定して、この設定さ
れた時間だけ自動的に変化させるようにし、これ
によつて原点の位置を毎回あたかも少しづつ変化
させているようにしている。また、トーチの上昇
量（引き上げ量）は、タイマーT21の時間を層ご
とに設定することで設定している。したがつてこ
の装置の動作としては、タイマーT11の設定に基
づいて層ごとに設定された溶接条件歩進位置で溶
接条件を歩進し、タイマーT21の設定に基づいて
層ごとに設定されたトーチの上昇量（引き上げ
量）でトーチを上昇させることをくり返しなから
最終層に達し、最終層の原点信号を入力すること
により、クレータ処理を行つて溶接終了となる。
次に原点遅延タイマーT11、トーチ上昇タイマ
ーT21のデータ設定方法について説明する。前記
の各タイマーは層ごとに設定するため、先づ設定
を行う層番号を決定する。例として２層目の原点
遅延タイマーを「1.2秒」と設定する場合をあげ
る。「層」キー２２を押し続いて数字キー２１の
「２」を押すと「層番号」表示部は「２」と表示
される。次に原点遅延タイマーに対し与えられた
固有のコード番号30を指定するために「コード」
キー２３を押し続いて数字キー２１の「３」、
「０」を押すと「コード」表示部１９に「30」と
表示される。更に「データ」キー２４を押し、数
字キー２１の「１」、「２」を押すと「データ」表
示部２０は「1.2」と表示される。以上の設定動
作を完了すると、設定データは制御回路１３を通
つて記憶装置１２の格納番地に瞬時に記憶され
る。なお、トーチ上昇タイマーもコード番号が異
なるだけで原点遅延タイマーと同様に設定を行う
ことができる。
ーT21のデータ設定方法について説明する。前記
の各タイマーは層ごとに設定するため、先づ設定
を行う層番号を決定する。例として２層目の原点
遅延タイマーを「1.2秒」と設定する場合をあげ
る。「層」キー２２を押し続いて数字キー２１の
「２」を押すと「層番号」表示部は「２」と表示
される。次に原点遅延タイマーに対し与えられた
固有のコード番号30を指定するために「コード」
キー２３を押し続いて数字キー２１の「３」、
「０」を押すと「コード」表示部１９に「30」と
表示される。更に「データ」キー２４を押し、数
字キー２１の「１」、「２」を押すと「データ」表
示部２０は「1.2」と表示される。以上の設定動
作を完了すると、設定データは制御回路１３を通
つて記憶装置１２の格納番地に瞬時に記憶され
る。なお、トーチ上昇タイマーもコード番号が異
なるだけで原点遅延タイマーと同様に設定を行う
ことができる。
なお上記実施例では、トーチ上昇のタイミング
を原点遅延タイマーのタイムアツプと同期させて
いるが、プログラムの変更によりこれを原点遅延
タイマーの駆動途中でトーチ上昇させるようにす
ることも可能である。
を原点遅延タイマーのタイムアツプと同期させて
いるが、プログラムの変更によりこれを原点遅延
タイマーの駆動途中でトーチ上昇させるようにす
ることも可能である。
以上のようにこの発明によれば、各層毎にオー
バラツプ量を時間設定の形でプリセツトする手段
を設けたのでパルスカウンタ等の回路を用いるこ
となく溶接条件切換位置を前後させる等任意の位
置に設定でき、よつて簡単な回路構成でもつて溶
接欠陥を生じにくくすることができる。
バラツプ量を時間設定の形でプリセツトする手段
を設けたのでパルスカウンタ等の回路を用いるこ
となく溶接条件切換位置を前後させる等任意の位
置に設定でき、よつて簡単な回路構成でもつて溶
接欠陥を生じにくくすることができる。
またこの発明によれば、層を更新する毎にトー
チを自動的に一定量だけ引き上げ、かつその引き
上げ量及び時期を層毎に時間設定の形で設定する
手段を設けたので、連続円周溶接の完全自動化を
図ることができると共に、より一層溶接欠陥を生
じにくくすることができる。
チを自動的に一定量だけ引き上げ、かつその引き
上げ量及び時期を層毎に時間設定の形で設定する
手段を設けたので、連続円周溶接の完全自動化を
図ることができると共に、より一層溶接欠陥を生
じにくくすることができる。
第１図は従来の溶接装置の構成を表すブロツク
図、第２図はこの発明の実施例を示すブロツク
図、第３図は溶接シーケンスの一部を示す図、第
４図は設定器の表面パネル図である。 １０……自動溶接制御装置、１１……設定器、
１２……記憶装置、なお図中、同一符号は同一、
又は相当部分を表す。
図、第２図はこの発明の実施例を示すブロツク
図、第３図は溶接シーケンスの一部を示す図、第
４図は設定器の表面パネル図である。 １０……自動溶接制御装置、１１……設定器、
１２……記憶装置、なお図中、同一符号は同一、
又は相当部分を表す。
Claims (1)
- １ パイプ等の円周継手の連続多層溶接を行なう
消耗電極式或いは非消耗電極式の円周自動溶接機
をマイクロコンピユータにより制御を行い、かつ
溶接条件の設定器と記憶装置とを備えた自動溶接
制御装置において、層ごとに設定された溶接条件
を歩進する溶接条件歩進位置を、層ごとに自動的
に所定量変化させ、かつその変化量を予めトーチ
の移動時間量として層ごとに設定する手段と、層
を更新するたびにトーチを自動的に所定量だけ引
き上げ、かつその引き上げ量を層ごとに時間設定
の形で設定する手段と、この引き上げ時期を設定
する手段とを設けた自動溶接制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1142981A JPS57124576A (en) | 1981-01-28 | 1981-01-28 | Control device for automatic welding |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1142981A JPS57124576A (en) | 1981-01-28 | 1981-01-28 | Control device for automatic welding |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57124576A JPS57124576A (en) | 1982-08-03 |
| JPH0127823B2 true JPH0127823B2 (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=11777824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1142981A Granted JPS57124576A (en) | 1981-01-28 | 1981-01-28 | Control device for automatic welding |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57124576A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0270384A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-09 | Kawada Kogyo Kk | 多層盛り自動アーク溶接法 |
| JP3959552B2 (ja) * | 1996-06-03 | 2007-08-15 | 忠弘 大見 | 配管施工の締付の管理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5187151A (ja) * | 1975-01-29 | 1976-07-30 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Jidoyosetsusochi |
-
1981
- 1981-01-28 JP JP1142981A patent/JPS57124576A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57124576A (en) | 1982-08-03 |
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