JPH01278585A - 紫外線硬化性レジストインキ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明の紫外線硬化性レジストインキは、プリント配線
板をスクリーン印刷法によって製造する際に好適に使用
される。

〔従来技術及び問題点〕

スクリーン印刷法によってプリント配線板を製造する際
に使用される紫外線硬化線レジストインキ番よ、従来よ
り種々知られている。

スクリーン印刷法によるプリント配線板の製造法には、
■スクリーン印刷−紫外線硬化一エノチング（例えば塩
化第２鉄又は塩化第２銅水溶液使用）−剥離（例えば苛
性ソーダ水溶液使用）の工程で、銅回路を作製するエツ
チング法と、■スクリーン印刷−紫外線硬化−・メツキ
（例えば硫酸銅使用）−・剥離（例えば苛性ソーダ水？
客演便用）の工程で、銅回路を作成するメツキ法とがあ
る。ごのエツチング法及びメツキ法で使用される紫外線
硬化性レジス１−インキには、スクリーン印刷時の配線
パターンの再現性、エツチング法又はメッキ時の耐薬品
性、！Ｊ、！Ｉ離時の易剥離性（易除去性特に溶解除去
性）が要求されるが、これらの緒特性をすべて満足する
レジストインキは見出されていない。

〔発明の目的及び構成〕

本発明は、前記の緒特性を兼備した紫外線硬化性レジス
トインキを提供することを目的とする。

本発明は下記のとおりである。

下記（／Ｍ〜〔Ｆ〕を含む紫外線硬化性レジストインキ
。

〔Ａ〕ロジン変性樹脂　　　２０〜５０重量部〔Ｂ〕下
式の化合物　　　　２０〜４０重量部Ｉ 足 部Ｃ〕ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート５〜３
５重量部 ＣＤ）エチレン性不飽和基を分子中に １個有する単量体　　　１０〜４０重量部（Ｅ）光重合
開始剤　　　　　０．５〜１５重量部Ｃ足部アミン化ヘ
ントナ４１０．５〜１０重量部以下、本発明の紫外線硬
化性レジストイン・）・につき詳述する。

成分〔Ａ〕のロジン変性樹脂は、ロジンに酸やアルコー
ルを反応させて変性したもので、この場合の酸としては
、マレイン酸、フマル酸や、これらの酸の無水物などが
あり、アルコールとしてはペンタエリスリＩ・−ル、グ
リセリンなどがある。

ロジン変性樹脂の含有量は２０〜５０重量部であり、２
０重量部未満の場合は、硬化膜のアルカリ水溶液による
除去が遅くなり、５０重量部超の場合は、イン・１・と
じての粘度か過度に高くなり、配線パターンを再現性良
く印刷することができない。

ロジン変性樹脂の酸価は、７０〜３００のものが望まし
い。酸価が７０未満の場合は、硬化膜のアルカリ水／８
液による除去の速度か遅くなり、３００超の場合は、硬
化膜が脆くなり、工程中に基板同志がぶつかった場合に
剥離するおそれが生する。

成分〔Ｂ〕は、下式の化合物である。

Ｉ このものは、ヘキザヒＦロ無水フタル酸と２−ヒドロキ
シエチルメタクリレ−１・とを反応させて得られる。

この含有量は、２０〜４０重量部である。２０重量部未
満の場合は、硬化膜のアルカリ水溶液による除去の速度
が遅くなり、４．０重量部超の場合は、硬化膜が脆くな
り、基板同志がぶつかった場合に剥離するおそれが生ず
る。

成分（Ｃ）は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
トであり、具体例としては、２−ヒドロキシエチルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートである。これらの１種又は２種以上
を使用することができる。

この含有量は、５〜３５重量部である。５重量部未満の
場合は、硬化膜の親水性が弱くなり、アルカリ水溶液に
よる除去の速度が遅くなり、３５重量部超の場合は、硬
化１１ジの親水性が過度に強くなり、爾エツチング液性
、又は耐メツキ液性が悪くなり、硬化膜中にエツチング
液又はメツ−１−液が浸透し不都合が生しる。

成分ＣＤ）は、エチレン性不飽和基を分子中に１個有す
る単量体であり、具体例としては一ト記のような化合物
がある。

ポリカプロラクトンモノ　（メタ）アクリレート、メチ
ルセロソルブ（メタ）アクリレート、エチルセロソルブ
（メタ）アクリレ−１〜、ブチルセロソルブ（メタ）ア
クリレート、メチルカルヒＩ・−ル（メタ）アクリレ−
Ｉ・、エチル力ルビＩ・−ル（メタ）アクリレート、ブ
チルカルピト−ル（メタ）アクリレ−１〜、フェニルグ
リシジルコニ−チル（メタ）アクリレート、フェノキシ
エチル（メタ）アクリレ−１−、フェノキシプロピル（
メタ）アクリレート、フェノキシポリエチグリコール（
メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコ
ール（メタ）アクリレート、（メタ）７クリロー１−シ
エチルアシドフタレ−１・、（メタ）アクリロ−）−シ
プロピルアシトフタレ−１・、　（メタ）アクリ１：Ｊ
キシエチルアシドメチルテトラヒ）：’＋ｓフタレート
、（メタ）アクリロキシプロピルメチルテトラヒトロフ
タレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、
ンシクロペンテニル（メタ）アクリレ−ｌ−１ＥＤ（エ
チレンオキツド）変性ジシクロペンテニル（メタ）アク
リレ−Ｉ・、イソホルニル（メタ）アクリレ−Ｉ・、モ
ノ　（メタ）アクリロキシエチルフォスフェ−１−など
があげられる。これらの化合物を１種又は２種以上使用
することができる。

成分ＣＤ）の含有量は１０〜４０重量部である。

１０重量部未満の場合は、成分ＣＡ）〜（Ｃ）の割合が
多くなり、硬化膜の親水性が過度に強くなり、耐エツチ
ング液性又は耐メツキ液性が悪くなり、４０重量部超の
場合は、インキの粘度が低（なり、スクリーン印刷時の
配線パターン再現性が悪くなる。

成分（Ｅ〕の光重合開始剤の例は、次に示すとおりであ
る。

■ベンゾインエチルエーテル、ヘンジイン（イソ）プロ
ピルエーテル、ヘンジイン（イソ）ブチルエーテルなど
のヘンヅインアルキルエーテル、■２゜２−ジコートキ
ソアセトフェノン、２，２−ジクロ０−４−フェノギン
アセ１−フェノンなどのアセ１〜フエノン、■２−ヒド
ロキシー２−メチルプロピオフェノン、４−イソプロピ
ル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなど
のプロピオフェノン、■２−エチルアントラキノン、２
　　ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−クロロアン
トラキノンなどのアントラキノン、■２−クロロチオキ
サントン、２，４−ジエチルチオキサントンなとのチオ
キザントン、■ヘンシルジメチルケタール、１−ヒトＩ
コキシシクロへキシルフェニルケＩ・ン、２−ヒ］−ロ
キシー２−メチルー１−フ２、ニル−プロパン−１−オ
ン、■前記■〜■の化合物と、アミノ安息香酸アルキル
エステル化合物（ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルな
ど）又は／及びアミン化合物（メチルジェタノールアミ
ンなど）との混合物。これらの化合物の１種又は２種以
」二使用することができる。

成分（Ｅ）の含有量は、０．５〜１５重量部である。０
．５重量部未満の場合は、硬化速度が遅くなり、１５重
量部超の場合は、硬化膜が柔らかくなり、傷つきやすく
なる。

成分ＣＦ）のアミン化ヘントナイト モンモリロナイト有機複合体であり、このものはモノモ
リロナイトと有機物質との複合体であって、市販品とし
て、ニスベン〔豊順洋行（株製〕、二ノ。

−Ｄオルヘン〔白石工業側製〕、オルヘンＭ〔同前〕な
どがある。

成分〔Ｆ〕の含有量は、０．５〜１０重量部である。０
，５重量部未満の場合は、インキのチギソトロビー性が
低くなりすぎ、１０重量部超の場合は、インキのチキソ
レコピー性が高くなりすぎ、いずれも、スクリーン印刷
時のパターン再現性が悪くなる。

本発明の紫外線硬化性レジストインキを製造するには、
上記成分ＣＢ）〜〔Ｄ〕を予め加熱しておき、これに成
分［Ａ）をディヅルハー等の攪拌機を使用して攪拌しな
がら加えて熔解させる。成分ＣＡ）が溶解した後、室温
迄冷却し成分［Ｅ）を加え、熔解させる。その後成分Ｃ
Ｆ）を加え、均一に混合し、３本ロール、ボールミル、
−リ′ンドミル等の混線分散機を使用して微分散さ一已
てレジストインキを８周製する。

本発明の紫外線硬化性レジストインキは、上記成分〔Ａ
〕〜〔Ｆ〕からなるが、必要に応じて他の成分、例えば
■メトキノン、ＢＩ４Ｔ、クペロン等の重合禁止剤、■
シアニンブルー、カーボンブランク、ンアニングリーン
等の顔料、■シリカ、巨 硫酸バリウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、
タルク等のフィラー、■超微粉子無水ソリ力等の揺変剤
、■シリコーン系消泡剤等の消泡剤、■ノニオン系等の
界面活性剤などを、本発明の目的を阻害しない範囲で含
有させても差支えない。

〔発明の効果〕

本発明の紫外線硬化性レジストインキは、スクリーン印
刷時のパターン再現性に優れ、エツチング液又はメツキ
液に対する耐薬性が良くアルカリ水溶液で容易に溶解除
去することができ、紫外線硬化性レジストインキに要求
される緒特性をバランス良く兼備しており、工業上有用
なレジメトインキである。

〔実施例及び比較例〕

下記第１表の組成で紫外線硬化性レジストインキを作製
した。

得られた各組成のインキヂについて物性を調べ、Ｉ （印刷パターン可視性） ３００メソシュテトロン、乳剤厚６μ、ラインアンドス
ペース１５０μでスクリーン印刷を行い、８０　Ｗ　／
　ｃｍの高圧水銀灯（２個）１７ｃｍ下、ヘルドスピー
ド４ｍ／ｍｉｎで紫外線硬化を行った後、レジスＩ・イ
ンキの線幅を測定する。

線幅１３５〜１６５μを「○」、線幅１３５μ未満及び
同１６５μ超を１×」とする。

（耐薬品性） 」二記印刷パターン再現性と同様の方法で硬化物を作り
、得られた硬化物に対し、４０’Ｂｅ塩化第２銅水溶液
を用いて、４０℃、スプレー圧１．５　ｋｇ／　ｃｔで
１分３０秒エツチングを行い、エツチング前（Ｅ前）の
線幅とエツチング後（Ｅ後）の線幅を測定する。

次式により計算し、９５〜１００％を「○」、９５％未
満をｒＸＪとする。

（アルカリ熔解除去性） 上記印刷パターン再現性と同様の方法で硬化物を作り、
得られた硬化物を３重量％水酸化すｌ−ＩＪウム水溶液
（液温４０℃）に浸漬、振とうし、硬化物を溶解除去す
るに要する時間と除去状態を調べる。

１０秒以下の溶解除去を「○」、１０秒超の溶解除去及
び膨潤除去を１×」とする。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記〔Ａ〕〜〔Ｆ〕を含む紫外線硬化性レジストインキ
   。 〔Ａ〕ロジン変性樹脂２０〜５０重量部 〔Ｂ〕下式の化合物２０〜４０重量部 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔Ｃ〕ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート５〜３
   ５重量部 〔Ｄ〕エチレン性不飽和基を分子中に１個有する単量体
   １０〜４０重量部 〔Ｅ〕光重合開始剤０．５〜１５重量部 〔Ｆ〕アミン化ベントナイト０．５〜１０重量部