JPH0128715B2

JPH0128715B2 -

Info

Publication number: JPH0128715B2
Application number: JP56155447A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Kuroiwa; Shiro Nakagawa; Noryoshi Nanba
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1981-09-30
Filing date: 1981-09-30
Publication date: 1989-06-05
Also published as: JPS5856895A

Description

【発明の詳細な説明】技術分野この出願の発明は、光記録媒体に関する。更に
詳しくは、記録した情報の消去書替が可能なヒー
トモード光記録媒体に関する。従来技術光記録媒体は、媒体と書込みないし読取ヘツド
が非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しない
という特長をもち、このため、種々の光記録媒体
の開発研究が行われている。このような光記録媒体のうち、暗室による画像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、レーザー光で
媒体の一部を融解、除去等して、ピツトと称され
る小穴を形成し、このピツトにより情報を記録す
るものである。しかし、従来のヒートモード光記録媒体では、
ピツトとして記録された情報の消去ができず、書
込み情報を訂正したり、書替えたりすることがで
きない、あるいは困難であるという欠点がある。このような事情を、より具体的に説明するなら
ば、従来知られているヒートモード光記録媒体の
一つとしては、ニトロセルロースと光吸収剤とか
らなる記録層をもつものがある。このような媒体
に、記録光として、レーザー光を、例えば1μｍ
φ程度の微少スポツトとして照射すると、照射部
分は、短時間のうちに高熱となり、ニトロセルロ
ースが発火消失し、微小な小穴として、１ビツト
の情報が記録される。しかし、このような媒体で
は記録情報の消去はできない。これに対し、テルル、あるいはテルル―セレン
ーヒ素からなる層を記録層とするヒートモード光
記録媒体も知られている。しかし、この場合に
も、高融点の半金属類を融解してピツトを形成す
るため、記録されたピツトを復元するのは、きわ
めて困難である。さらに、特開昭55−161690号公報には、反射基
体上に、光吸収色素と熱可塑性樹脂とからなる記
録層を有するヒートモード光記録媒体が記載され
ている。この媒体は、記録層を0.01〜0.2μｍ程度
にまで薄くし、レーザー光の照射により、照射部
分の樹脂を融解して流動移動させるか、あるいは
照射部分の光吸収色素を横方向に移動させるかし
て、反射基体を露出させ、ピツトを形成するもの
である。しかし、この場合にも、一旦移動した光
吸収色素を元に戻し、あるいは一旦層底にまで到
達した小穴を埋め戻し、平坦にすることは困難で
ある。このため、同公報には、この媒体が、記録
情報の消去と書替ができる旨の開示ないし示唆は
ない。これに対し、導電体上にサーモプラスチツクを
塗布した媒体を用い、サーモプラスチツク層上に
電荷を一様に与え、レーザー光照射によりサーモ
プラスチツクの一部を融解し、その体積変化によ
つて、電気的吸引力の変化を生じさせ、これによ
りレーザー光の照射に対応した表面の凹凸による
ピツトを得る記録方式が知られている。この方式
では、媒体を再加熱することにより、表面の凹凸
は平坦に戻り、記録情報を消去することができる
が、コロナ放電器等を必要とし、書込み装置の機
構が複雑となり、又装置の消費電力も大きくなる
等の不都合がある。発明の目的この出願の発明は、このような実状に鑑みなさ
れたものである。この出願の発明の第１の目的は、消去書替が可
能なヒートモード光記録媒体を提供することにあ
る。第２の目的は、このような消去可能な光記録媒
体において、記録層のピツト形成に要する光エネ
ルギーないし、温度に明瞭な閾値が現われ、所定
入力エネルギー以上で再現性よく常にピツトが形
成され、所定値以下のエネルギーではピツトが形
成されず、ピツト形成の再現性にバラツキのある
入力光エネルギーないし温度の領域が狭くなるよ
うにし、これと同時に、耐熱性が高く、高温での
保存下でピツトに書込まれた情報信号Ｓ／Ｎ比の
劣化が少なく、また読み出し光によつて、ピツト
ないし、その周辺部の表面が変形せず、書込み情
報信号のＳ／Ｎ比が劣化せず、さらには書込み感
度が高く、加えて読み出しのＳ／Ｎ比がきわめて
高い媒体を提供することにある。この出願の発明のその他の目的は、以下の記載
から自ずと明らかになるであろう。本発明者らは、このような目的につき種々検討
を行つたところ、光吸収染料ないし顔料を含有さ
せて記録層を形成したとき、消去書替が可能な媒
体が実現し、しかも上記第２の目的が達成される
熱可塑性樹脂群を見出し、この出願の発明をなす
に至つたものである。すなわち、この出願の発明は、基本上に、熱可
塑性樹脂と光吸収染料ないし顔料とを含む記録層
を形成してなり、記録光の照射により、上記記録
層が融解軟化して記録ピツトが形成され、上記記
録層に形成された上記記録ピツト底には、熱可塑
性樹脂と光吸収染料ないし顔料とをともに含む層
が残存し、上記記録ピツトが形成された上記記録
層に加熱を行うことにより、上記記録層表面が再
度平坦となるように構成した再記録可能な光記録
媒体であつて、上記熱可塑性樹脂が、それぞれ数
平均分子量３万以下のポリオレフイン共重合体お
よび塩化ビニル共重合体、ポリオレフインハロゲ
ン化物、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共
重合体、炭素原子数４〜６のポリオレフイン、ス
チレン共重合体、スチロール型重合体、クマロン
―インデン樹脂、テルペン樹脂ないしピコライ
ト、ポリアクリルニトリル、アクリルニトリル共
重合体、ポリアクリルアミドないしダイアセトン
アクリルアミドポリマー、ポリ酢酸ビニル、酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルエーテル、含窒素ビ
ニル重合体、ジエン系重合体、ポリエーテル、ポ
リカーボネート、およびポリエチレンイミン類の
うち数平均分子量10万以下のものならびにこれら
の２種以上のブレンド体またはこれら１種以上と
他の熱可塑性樹脂とのブレンド体からなる群から
選ばれたもののうちの１つであり、上記記録層中
には熱可塑性樹脂１重量部に対し、光吸収染料な
いし顔料が0.002〜10重量部含有されることを特
徴とする光記録媒体である。発明の具体的構成以下、この出願の発明の具体的構成について詳
細に説明する。この出願における光記録媒体は、基体上に記録
層を設層してなる。記録層は、所定の熱可塑性樹脂を含む。この樹
脂は、熱可塑性樹脂として、記録光照射部分の温
度上昇により、軟化ないし融解して、変形し、表
面に記録ピツトを形成するものである。本発明において用いる熱可塑性樹脂は、以下の
とおりである。）ポリオレフイン共重合体例えば、エチレン―酢酸ビニル共重合体、エ
チレン―アクリレート共重合体、エチレン―ア
クリル酸共重合体、エチレン―プロピレン共重
合体、エチレン―ブテン―１共重合体、エチレ
ン―無水マレイン酸共重合体、エチレンプロピ
レンターポリマー（EPT）など。この場合、
コモノマーの重合比は任意のものとすることが
できる。また、数平均分子量は３万以下である
ことが好ましい。）ポリオレフインハロゲン化物例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル―塩化ビニリデン共重合体、
CF₂＝CF₂、CF₂＝CFCl、CH₂＝CHF、CH₂＝
CF₂、CF₂＝CFCF₃等のホモポリマーないしコ
ポリマーであるフツ素樹脂、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、プロピレンとハロ
ゲン化オレフインとの共重合体など。この場
合、数平均分子量は、６万以下であることが好
ましい。）塩化ビニル共重合体例えば、酢酸ビニル―塩化ビニル共重合体、
塩化ビニル―塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル―無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エ
ステルないしメタアクリル酸エステルと塩化ビ
ニルとの共重合体、アクリルニトリル―塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニル―ビニルエーテル共
重合体、エチレンないしプロピレン―塩化ビニ
ル共重合体、エチレン―酢酸ビニル共重合体に
塩化ビニルをグラフト重合したものなど。この
場合、共重合比は任意のものとすることができ
るが、数平均分子量は６万以下であることが好
ましい。）塩化ビニリデン共重合体塩化ビニリデン―塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン―塩化ビニル―アクリルニトリル共
重合体、塩化ビニリデン―ブタジエン―ハロゲ
ン化ビニル共重合体など。この場合、共重合比
は、任意のものとすることができるが、数平均
分子量は６万以下であることが好ましい。）炭素原子数４〜６のポリオレフイン例えば、ポリブテン、ポリイソブテン、ポリ
４―メチルペンテン―１など。この場合、数平
均分子量は、３万以下であることが好ましい。）スチレン共重合体例えば、スチレン―アクリルニトリル共重合
体（AS樹脂）、スチレン―アクリルニトリル―
ブタジエン共重合体（ABS樹脂）、スチレン―
無水マレイン酸共重合体（SMA樹脂）、スチレ
ン―アクリルエステル―アクリルアミド共重合
体、スチレン―ブタジエン共重合体（SBR）、
スチレン―塩化ビニリデン共重合体、スチレン
―メチルメタアクリレート共重合体など。この
場合、共重合比は任意のものとすることができ
るが、数平均分子量は５万以下であることが好
ましい。）スチロール型重合体例えば、ｐ―メチルスチロール、α―メチル
スチロール、2.5―ジクロルスチロール、α，
β―ビニルナフタリン、α―ビニルピリジン、
アセナフテン、ビニルアントラセンなど、ある
いはこれらの共重合体。この場合、数平均分子
量は３万以下であることが好ましい。）クマロン―インデン樹脂クマロン―インデンの単独または共重合体。
数平均分子量は2000以下であることが好まし
い。）テルペン樹脂ないしピコライト例えば、α―ピネンから得られるリモネンの
重合体であるテルペン樹脂やβ―ピネンから得
られるピコライト。分子量は1200以下であるこ
とが好ましい。）ポリアクリルニトリル数平均分子量は７万以下であることが好まし
い。）アクリルニトリル共重合体例えば、アクリルニトリル―酢酸ビニル共重
合体、アクリルニトリル―塩化ビニル共重合
体、アクリルニトリル―スチレン共重合体、ア
クリルニトリル―塩化ビニリデン共重合体、ア
クリルニトリル―ビニルピリジン共重合体、ア
クリルニトリル―メタクリル酸メチル共重合
体、アクリルニトリル―ブタジエン共重合体、
アクリルニトリル―アクリル酸ブチル共重合体
など。この場合、共重合比は任意のものとする
ことができるが、数平均分子量は６万以下であ
ることが好ましい。）ポリアクリルアミドないしダイアセトン
アクリルアミドポリマーポリアクリルアミドないし、アクリルニトリ
ルにアセトンを作用させたダイアセトンアクリ
ルアミドポリマー。この場合、数平均分子量は
８万以下であることが好ましい。）ポリ酢酸ビニルこの場合、数平均分子量は、10万以下である
ことが好ましい。）酢酸ビニル共重合体例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテ
ル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体な
ど。共重合比は任意のものであつてよく、数平
均分子量は、10万以下であることが好ましい。）ポリビニルエーテル例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビ
ニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテ
ルなど。数平均分子量は５万以下であることが
好ましい。）含窒素ヘテロ環含有ビニル重合体例えば、より好ましくは数平均分子量6000以
下のポリビニルカルバゾール、ビニルカルバゾ
ールとエチレン、スチレン等とのポリビニルカ
ルバゾール共重合体、より好ましくは数平均分
子量１万以下のポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルピロリドンと酢酸ビニル等とのポリビニル
ピロリドン共重合体、ポリビニルピリジンな
ど。この場合、数平均分子量は、１万以下であ
ることが好ましい。）ジエン系重合体例えば、ポリブタジエン、ブタジエン―スチ
レン共重合体（SBR）、ニトリルゴム
（NBR）、クロロプレン系ゴム、イソプレン系
ゴム、イソプレン―イソブチレン共重合体な
ど。この場合、数平均分子量は５万以下である
ことが好ましい。）ポリエーテル例えば、より好ましくは数平均分子量１万以
下のポリオキシメチレン、スチレンホルマリン
樹脂、環状アセタールの開環重合物、より好ま
しくは数平均分子量７万以下のポリエチレンオ
キサイドおよびグリコール、より好ましくは数
平均分子量１万以下のポリプロピレンオキサイ
ドおよびグリコール、プロピレンオキサイド―
エチレンオキサイド共重合体、より好ましくは
数平均分子量５万以下のポリフエニレンオキサ
イド、より好ましくは数平均分子量１万以下の
ヒドリンゴム、テトラメチレンオキサイド、ポ
リスチレンオキサイド、より好ましくは数平均
分子量10万以下の塩系化ポリエーテル樹脂、よ
り好ましくは数平均分子量１万以下のエトラト
ドロフラン開環体、ビスフエノールＡとエピク
ロルヒドリンとの縮合等によつて得られる熱可
塑性ビスフエノール系エポキシドなど。これら
は、数平均分子量が10万以下であることが好ま
しい。）ポリカーボネート例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカー
ボネート、ポリジオキシジフエニルエタンカー
ボネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボ
ネート等の各種ポリカーボネート。この場合、
数平均分子量は２万以下であることが好まし
い。）ポリエチレンイミン類この場合、数平均分子量は10万以下であるこ
とが好ましい。）上記）〜）の２種以上のブレン
ド体、または上記）〜）の１種以上とポ
リスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリエス
テル、ポリウレタン、アクリル樹脂、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルアセタール等の他の
熱可塑性樹脂とのブレンド体。この場合、数平
均分子量は、概ね約10万以下であることが好ま
しい。このような各種樹脂の数平均分子量が、それぞ
れ上に記した値以下となると、上記の閾値のブロ
ードニングがより一層少なくなり、また書込み感
度および読み出しのＳ／Ｎ比ともより高くなる。このような各種樹脂は、通常の公知の方法で製
造され、必要に応じ、これを分子量分別や精製し
て用いる。あるいは市販のものを、そのまま、あ
るいは分別、精製などして用いてもよい。一方、記録層には、このような熱可塑性樹脂と
ともに、光吸収染料ないし顔料が含有される。この光吸収染料ないし顔料は、記録光に対し
て、大きな光吸収率を示し、照射部における温度
上昇を可能にするためのものである。従つて、記
録光の波長に応じ、400〜800nmの波長光を吸収
する、種々の公知の染料や、カーボンブラツク
や、レーキ顔料等の種々の公知の無機ないし有機
顔料等を用いることができる。他方、記録層中に含有される熱可塑性樹脂と、
光吸収染料ないし顔料との含有量比は、樹脂１重
量部に対し、一般に、0.002〜10重量部程度の範
囲内で広範囲に選択することができる。これが0.002重量部未満であると、記録感度が
低下する。また、10重量部を超えると、記録ピツト底が記
録層底に達することがあり消去が困難となる他、
記録―消去の繰り返しで特性が劣化する。このような記録層は、スピンナー、コーター等
の公知の種々の方法で基体上に塗布設層される。
そして、一般に、0.05μｍ〜１mmの厚さとされる。なお、このような記録層中には、上記の熱可塑
性樹脂と光吸収染料ないし顔料以外に、他の添加
物が含有されていてもよい。このような添加物の１例としては、各種オリゴ
マーないしポリマーがある。この場合、ポリマー
ないしオリゴマーは、熱可塑性樹脂に対し、概ね
30重量％以下の範囲で含有させ、支持体との接着
性を向上させたり、塗布性を向上させたり、軟化
温度を変化させたりすることができる。この他、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止
剤、滑剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、
安定剤、分散剤等を含有させることができる。これに対し、このような記録層を設層支持する
基体については特に限定されるものではなく、そ
の材質としては種々のものを用いることができ
る。ただ、熱伝導度の点では、通常、各種ガラ
ス、各種セラミクス、あるいはポリメタクリル樹
脂、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
フエノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド
樹脂等の各種樹脂等を用いることが好ましい。こ
れらのいずれのものを用いても記録ピツトは記録
層の層底に到達せず、本発明の効果は実現する。
又、形状や寸法は、用いる用途に応じ、デイス
ク、テープ、ベルト、ドラム等種々のものとする
ことができる。この場合、この出願の媒体は、このような基体
の一面上に上記の記録層を有するものであつても
よく、その両面に記録層を有するものであつても
よい。又、基体の一面上に記録層を塗設したもの
を２つ用い、それらを記録層が向かいあうように
して、所定の間隙をもつて対向させ、それを密閉
したりして、ホコリやキズがつかないようにする
こともできる。なお、上記した媒体には、必要に応じ金属製の
反射層や各種樹脂層等の下引層を設け、この下引
層上に記録層を設層することもできる。このように構成される、この出願の光記録媒体
を用いて、情報の書込みおよび消去を行うには以
下のようにして行えばよい。まず、記録光照射を行う。記録光は、各種レー
ザー、例えばHe―Ne、He―Cd、Ar、半導体等
の400〜850nm程度の波長の各種レーザーを集光
して行い、その出力も種々のものを用いることが
できる。又レーザー光の走査条件、パルス巾、集
光条件等も種々広範に変更可能であり、例えば、
通常のデイスク面上出力１〜20mW、通常のパル
ス幅20〜1000nsec程度の照射条件にて、記録ピツ
トは記録層の層底に到達せず、本発明の効果は実
現するものである。そして、このようなレーザーによる記録光照射
により、記録層中の熱可塑性樹脂が融解軟化し
て、照射部分には、記録層表面に照射光に対応す
る微少記録ピツトが形成される。この場合、通常
の記録光照射条件にて、記録ピツトは記録層の層
底にまでは到達せず、ピツト底には、熱可塑性樹
脂と光吸収染料ないし顔料を含む層が残存するこ
とになる。このようにして、ピツトが形成される結果、後
述の消去が可能となるものである。そして、この
出願の媒体では、きわめて感度よく、しかも良好
な形状のピツトが得られる。またピツト形成に要
する記録光エネルギーの閾値のブロードニングも
きわめて少ない。さらに、高温下にて保存して
も、ピツトからの読み出し光のＳ／Ｎ比の劣化は
きわめて少ない。一方、このように形成されるピツトから、媒体
上に書込まれた情報を読み出すには、記録光より
低パワーの読み出しレーザー光を用い、これを集
光し、走査して、透過光または反射光のいずれか
の出力を検出する。このとき、上記したように、この出願の媒体に
形成されたピツトは、形状が良好であり、読み出
しに際し、高いＳ／Ｎ比が得られる。また、読み
出し光によつて、媒体に記録された情報のＳ／Ｎ
比が劣化したり、ピツト部以外の領域に不必要情
報が記録されるようなこともない。他方、このようにして記録された情報を消去す
るには、媒体を再加熱すればよい。このとき一旦
記録されて凹凸状ピツトとなつていた表面は、再
融解して平坦に戻る。これは、前述したように、
記録時にピツト底に熱可塑性樹脂と光吸収染料な
いし顔料が残存しているためである。すなわち、
消去時の再加熱により熱可塑性樹脂が融解軟化し
て媒体表面は平坦に戻る。加熱が光照射によつて
行なわれる場合には、光吸収染料ないし顔料によ
り温度上昇が可能となり、熱可塑性樹脂が融解軟
化するものである。消去のための加熱としては、
レーザー光照射、各種ヒーター加熱、赤外線ラン
プ照射等いずれを用いてもよい。そして、このような消去と書き込みを繰返した
とき、書き込み感度は常に良好で、ピツトは常に
良好な形状を示し、Ｓ／Ｎ比の高い読み取りが行
われ、さらに読み取りによつて、Ｓ／Ｎ比は劣化
せず、又消去により、表面は常に平坦に戻るの
で、消去の繰返し回数が多くなつても、消去と書
込みとを、常に確実かつ良好に行うことができ
る。発明の具体的効果この出願の光記録媒体によれば、一旦書込まれ
た情報を容易かつ確実に消去することができる。また、記録層のピツト形成に要する光エネルギ
ーないし温度の閾値のブロードニングはきわめて
少なく、ピツト形成の再現性のバラツく入力光エ
ネルギーないし温度の領域はきわめて狭い範囲と
なる。さらに、耐熱性が高く、50〜60℃程度以上の高
温に保存されても、ピツトに記録された情報信号
のＳ／Ｎ比の劣化はきわめて少ない。また、読み出し光による、ピツトの形状変化
や、ピツト周辺の形状変化はきわめて少なく、読
み出し光によるＳ／Ｎ比劣化はきわめて少ない。加えて、書込み感度は良好であり、また、読み
取りに透過光を用いても反射光を用いても、高い
Ｓ／Ｎ比が得られる。さらに、消去は常に安定に行われるので、消去
書替を繰返し多数回行つても、十分安定な情報書
込みができる。この場合、用いる熱可塑性樹脂の数平均分子量
が所定値以下のものを用いるときには、これら諸
効果は、より一層すぐれたものとなる。本発明者らは、本発明の効果を確認するため
種々実験を行つた。以下にそのうちの１例を示
す。実験例１熱可塑性樹脂として、酢酸ビニルの重合を行
い、分子量分別して、数平均分子量10000のポリ
酢酸ビニルを得た。この酢酸ビニルと、レーキ顔料（C.I.Pigment
Blue １、カラーインデツクス番号42595―
Lake；BASF社製Fanal Blue Ｂ Supra）と
を、重量比３：１にて混合し、サンドグラインド
ミルにて分散した後、フイルターで0.5μｍ以上の
粒子を除去し、バーコートにより、150mmφ、1.2
mm厚のパイレツクスガラス板上に30μｍ厚および
1μｍ厚にて塗布設層して、この出願の発明の媒
体を得た。これとは別に比較のため、ポリ酢酸ビニルをそ
れぞれ数平均分子量10万のポリスチレン、ポリエ
チレン、ポリプロピレンにかえ、３種の比較用の
媒体を得た。これら４種の媒体のうち、30μｍ厚の記録層を
もつものにつき、記録層表面の変形と温度との関
係を測定した。すなわち、媒体を恒温槽に入れ、
記録層表面に0.64mmφ、50ｇの針体を載置し、温
度を５℃／分にて昇温させながら、針体の層内へ
の侵入度との関係を測定した。そして、針体が層
内に侵入しはじめてから、一定侵入深さにまで到
達するまでの温度巾を測定し、ピツト形成閾値の
ブロードニングを評価した。結果を下記表１に示
す。これとは別に、４種の媒体につき、1μｍ厚の
記録層をもつものにつき、以下の実験を行つた。まず、10mWのHe―Neレーザーを、AN（開口
数）0.55、40倍の対物レンズで1μｍに集光し、パ
ルス照射した。パルス巾を変更し、記録層表面に
ピツトが形成されるパルス巾を測定し、書込み感
度の逆数（μsec）とした。結果を相対値にて表１
に示す。またその際雰囲気温度を20℃下げて、入
力エネルギーの閾値のブロードニングを評価した
ところ、上記閾値エネルギーにおいて、比較用の
媒体はいずれもピツト形成が行われたのに対し、
この出願の発明の媒体は、いずれもピツト形成が
行われなかつた。次に、上記レーザーのパルス巾を0.5μsecに固
定し、書込みを行い、次いで1mWのHe―Neレ
ーザーを、上記と同じ光学系にて1μｍφに集光
し、1μsec、くりかえし周波数10Hzにて照射し、
その反射光をフオトダイオードで検出し、Ｓ／Ｎ
比を算出した。この場合、アンプ系は、10MHz帯
域のものを用い、また、ノイズはRMS値（実効
値）を用いた。結果を表１に示す。また、各媒体を70℃にて100時間保存し、その
後のＳ／Ｎ比の劣化（％）を測定し、耐熱性を評
価した。結果を表１に示す。さらに、上記読み出しレーザーのパルスの繰返
し周波数を変更し、10秒間照射し、記録層表面に
ピツトが形成されるに至る読み出し光の周波数を
測定した。結果を表１に示す。

【表】表１に示される結果から、ポリ酢酸ビニルは、
の樹脂と比較して、特性上きわめてすぐれている
ことがわかる。実験例２実施例１におけるこの出願の媒体において、ポ
リ酢酸ビニルの数平均分子量を2000、4000、
10000、600000にかえ、また、有機顔料（OPと称
する）を、銅―フタロシアニン系染料のオレオゾ
ールフアーストブルーEL（住友化学工業株式会社
製、Ｄと称す）、13ｍμカーボンブラツク（CBと
称する）および10nmNi超微粉（真空冶金株式会
社製、Niと称する）にかえ、各種媒体を作製し、
実験例１と同様の実験を行つた。結果を表２に示す。

【表】なお、耐熱性試験では、全媒体ともＳ／Ｎ比の
劣化は６％以下であり、また読み出し光によるノ
イズの発生については、全媒体とも250Hzの周波
数にて、ピツト形成は何ら行われなかつた。表２の結果から、ポリ酢酸ビニルの数平均分子
量が100000以下となると、より好ましい結果が得
られることがわかる。実験例３下記表３に示されるような各種媒体を作製し
て、同表に示される結果を得た。この場合、熱可塑性樹脂としては、ジオキシジ
フエニルプロパンとジフエニルカーボネートとの
エステル交換法で得たポリカーボネートを用い
た。

【表】

【表】なお、全媒体とも、耐熱試験では、Ｓ／Ｎ比の
劣化は５％以下であり、また読み出し光によるノ
イズ発生は250Hzの周波数まで行われなかつた。実験例４下記表４に示されるような各種媒体を作製し
て、同表に示される結果を得た。この場合、熱可塑性樹脂としては、アクリルニ
トリルをN₂中、重亜硫酸塩の存在下で重合した
ポリアクリルニトリルを用いた。

【表】なお、全媒体とも、耐熱性試験でのＳ／Ｎ比は
５％以下であり、また300Hzの読み出し光周波数
によつてピツトの形成は行われなかつた。実験例５下記表５に示される各種媒体を作製して、同表
に示される結果を得た。この場合、熱可塑性樹脂としては、ポリビニル
エチルエーテルを用いた。

【表】

【表】なお、全媒体とも、耐熱性試験でのＳ／Ｎ比の
劣化は５％以内、また250Hzの読み出し光周波数
によつてピツトの形成は行われなかつた。実験例６スチレン対アクリルニトリル10：３のAS樹脂
を用い、下記表６に示されるような各種媒体を作
製し、同表に示される結果を得た。

【表】なお、全媒体とも、耐熱性試験でのＳ／Ｎの劣
化は５％以内、また300Hzの読み出し光周波数に
よつてピツトの形成は行われなかつた。実験例７アクリルニトリル対ブタジエン対スチレン２：
３：５のABS樹脂を用い、下記表７に示される
各種媒体を作製し、同表に示される結果を得た。

【表】なお、全媒体とも、耐熱性試験でのＳ／Ｎ比の
劣化は６％以内、また300Hzの読み出し光周波数
によつてピツトの形成は行われなかつた。実験例８下記表８〜表14に示される各種媒体を作製し、
同表に示される結果を得た。この場合、用いた樹脂は下記のとおりである。 EVA；エチレン対酢酸ビニル
７：３塩素化PP；塩素化ポリプロピレン、
塩素化率30％ PVCl；ポリ塩化ビニル PVdCl；ポリ塩化ビニリデン PVdF；ポリフツ化ビニリデン
（―CH₂―CF₂―）_o VCl／VA；塩化ビニル―酢酸ビニル
共重合体（９：１） VCl／VdCl；塩化ビニル―塩化ビニリ
デン（８：２）共重合体 VCl／MA；塩化ビニル―無水マレイ
ン酸（98：２）共重合体 VCl／MMA；塩化ビニル―メチルメタ
アクリレート共重合体 VCl／AN；塩化ビニル―アクリルニ
トリル（６：４）共重合体 VCl／VE；塩化ビニル―ビニルエー
テル（７：３）共重合体 VCl／Ｅ；塩化ビニル―エチレン
（95：５）共重合体 EVA―VCl；エチレン酢ビ（１：１）
―塩化ビニル(1)グラフトマー VdCl／VCl；塩化ビニリデン―塩化ビ
ニル（３：２）共重合体 VdCl／VCl／AN；塩化ビニリデン―塩化ビ
ニル―アクリルニトリル（80：15：５）共重
合体 VdCl／Ｂ／VCl；塩化ビニリデン―ブタジ
エン―塩化ビニル（５：３：２）共重合体 St／MA；スチレン―無水マレイン
酸（１：１）共重合体 AN／VA；アクリルニトリル―酢ビ
（６：１）共重合体 AN／VCl；アクリルニトリル―塩ビ
（１：１）共重合体 AN／VdCl；アクリルニトリル―塩化
ビニリデン（１：１）共重合体 AN／VP；アクリルニトリル―ビニ
ルピリジン（１：１）共重合体 AN／MMA；アクリルニトリル―メタ
クリル酸メチル（３：１）共重合体 AN／Ｂ；アクリルニトリル―ブタ
ジエン（１：３）共重合体 PAA；ポリアクリルアミド DAAP；ダイアセトンアクリルア
ミド VA／VES；酢酸ビニル―プロピオン
酸ビニル（２：１）共重合体 VA／AE；酢酸ビニル―アクリル酸
エチル（３：１）共重合体 VA／VET；酢酸ビニル―ビニルエー
テル（２：１）共重合体 VA／Ｅ；EVA（１：１） VA／VCl；酢ビ―塩ビ（１：１）共
重合体 PVK；ポリビニルカルバゾール PVK／St；ビニルカルバゾール―ス
チレン（４：１）共重合体 PVP；ポリビニルピロリドン PVP／VA；ポリビニルピロリドン―
酢ビ（３：１）共重合体 PVPd；ポリビニルピリジン POM；ポリオキシメチレン PEO；ポリエチレンオキサイド PPO；ポリプロピレンオキサイ
ド PPhO；ポリフエニレンオキサイ
ド PECl；塩素化ポリエーテル PH；ビスフエノールＡ―エピ
クロルヒドリン。熱可塑性ビスフエノール系
エポキシド

【表】

【表】なお、これら全媒体とも、耐熱性試験でのＳ／
Ｎ比は６％以内であり、また250Hzの読み出し光
周波数によつて、ピツト形成は行われなかつた。表８〜表14に示される結果から、この出願の媒
体はいずれもすぐれた特性を示すことがわかる。なお、このような効果は、染料ないし顔料とし
て、半導体レーザー用等のものを用いても同様に
実現することが確認されている。

Claims

【特許請求の範囲】

１基体上に、熱可塑性樹脂と光吸収染料ないし
顔料とを含む記録層を形成してなり、記録光の照
射により、上記記録層が融解軟化して記録ピツト
が形成され、上記記録層に形成された上記記録ピ
ツト底には、熱可塑性樹脂と光吸収染料ないし顔
料とをともに含む層が残存し、上記記録ピツトが
形成された上記記録層に加熱を行うことにより、
上記記録層表面が再度平坦となるように構成した
再記録可能な光記録媒体であつて、上記熱可塑性
樹脂が、それぞれ数平均分子量３万以下のポリオ
レフイン共重合体、炭素原子数４〜６のポリオレ
フインおよびスチロール型重合体、それぞれ数平
均分子量６万以下のポリオレフインハロゲン化
物、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合
体およびアクリルニトリル共重合体、それぞれ数
平均分子量５万以下のスチレン共重合体、ポリビ
ニルエーテルおよびジエン系重合体、数平均分子
量2000以下のクマロン―インデン樹脂、数平均分
子量1200以下のテルペン樹脂ないしピコライト、
数平均分子量７万以下のポリアクリルニトリル、
数平均分子量８万以下のポリアクリルアミドない
しダイアセトンアクリルアミドポリマー、数平均
分子量10万以下のポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル共
重合体、ポリエーテルおよびポリエチレンイミン
類、数平均分子量１万以下の含窒素ヘテロ環含有
ビニル重合体、ならびに数平均分子量２万以下の
ポリカーボネートのうちの１種、これらの２種以
上のブレンド体、またはこれら１種以上と他の熱
可塑性樹脂とのブレンド体であり、上記記録層中
には熱可塑性樹脂１重量部に対し、光吸収染料な
いし顔料が0.002〜10重量部含有されることを特
徴とする光記録媒体。