JPH01290683A - 二環性複素環チオメチルセフェム誘導体 - Google Patents
二環性複素環チオメチルセフェム誘導体Info
- Publication number
- JPH01290683A JPH01290683A JP63120838A JP12083888A JPH01290683A JP H01290683 A JPH01290683 A JP H01290683A JP 63120838 A JP63120838 A JP 63120838A JP 12083888 A JP12083888 A JP 12083888A JP H01290683 A JPH01290683 A JP H01290683A
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- substituent
- formula
- atom
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、医薬の分野で有用、且つ新規なセファロスポ
リン誘導体、その製造法、その製造中間体及び該化合物
を有効成分とする抗菌剤に関するものである。
リン誘導体、その製造法、その製造中間体及び該化合物
を有効成分とする抗菌剤に関するものである。
従来技術
従来、セフェム核の７位側鎖に２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル） −２−ｆ！換オキシイミノアセトア
ミド基を有する化合物は極めて多く合成され、それらの
記載された公開技術としては、例えば特開昭５２−１０
２２９３号、同５２−１１６４９２号、同５３−１３７
９８８号、同５４−９２９６号、同５４−１５４７８６
号、同５４−１５７５９６号、同５５−１５４９８０号
、同５６−８６１８７号、同５７−５９８９５号、同５
７−９９５９２号、向５７−１９２３９４号及び同５８
−１７４３８７号公報等が挙げられ、グラム陰性菌及び
緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｓｒｕｇｉｎｏｓ
ａ）を含むセファロスポリン耐性のグラム陰性菌に対し
ても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌スペクトル
を有することが示唆されている。
ール−４−イル） −２−ｆ！換オキシイミノアセトア
ミド基を有する化合物は極めて多く合成され、それらの
記載された公開技術としては、例えば特開昭５２−１０
２２９３号、同５２−１１６４９２号、同５３−１３７
９８８号、同５４−９２９６号、同５４−１５４７８６
号、同５４−１５７５９６号、同５５−１５４９８０号
、同５６−８６１８７号、同５７−５９８９５号、同５
７−９９５９２号、向５７−１９２３９４号及び同５８
−１７４３８７号公報等が挙げられ、グラム陰性菌及び
緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｓｒｕｇｉｎｏｓ
ａ）を含むセファロスポリン耐性のグラム陰性菌に対し
ても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌スペクトル
を有することが示唆されている。
しかしながら、これらの化合物の抗菌力はメチシリン耐
性の黄色ブドウ球菌等のグラム陰性菌並びに緑膿菌、シ
ュードモナス セパシア（Ｐｓｅｕｄｏ−ｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｉａ） 、シュードモナス マルトフィリア
（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｍａｌｔｏｐｈｉｌｉａ）
及びアシネトバクタ−カルコアセティカス（Ａｃｆｎｅ
ｔｏｂａｃｔｅｒｃａｌｃｏａｃｅｔｉｃｕｓ）等のブ
ドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌（ｇｌｕｃｏｓｅ ｎｏｎ
−ｆｅｒｍｅｎｔａｔｉｖｅ ｇｒａｎｄ−ｎｅｇａｔ
ｉｖｅｒｏｄｓ）に対して十分とは言えない。
性の黄色ブドウ球菌等のグラム陰性菌並びに緑膿菌、シ
ュードモナス セパシア（Ｐｓｅｕｄｏ−ｍｏｎａｓ
ｃｅｐａｃｉａ） 、シュードモナス マルトフィリア
（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｍａｌｔｏｐｈｉｌｉａ）
及びアシネトバクタ−カルコアセティカス（Ａｃｆｎｅ
ｔｏｂａｃｔｅｒｃａｌｃｏａｃｅｔｉｃｕｓ）等のブ
ドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌（ｇｌｕｃｏｓｅ ｎｏｎ
−ｆｅｒｍｅｎｔａｔｉｖｅ ｇｒａｎｄ−ｎｅｇａｔ
ｉｖｅｒｏｄｓ）に対して十分とは言えない。
発明が解決しようとする問題点
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。
しかしながら、近年、ブドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌、
特に緑膿菌、更にはメチシリン耐性の黄色ブドウ球菌が
免疫力の低下した患者から、難治性感染症の起炎菌とし
て、しばしば分離され種々の問題を提起している。従っ
て、これらの菌に対して改善された抗菌力を有する抗菌
剤の開発が望まれている。
特に緑膿菌、更にはメチシリン耐性の黄色ブドウ球菌が
免疫力の低下した患者から、難治性感染症の起炎菌とし
て、しばしば分離され種々の問題を提起している。従っ
て、これらの菌に対して改善された抗菌力を有する抗菌
剤の開発が望まれている。
問題を解決するための手段
本発明者らは、メチシリン耐性の黄色ブドウ球菌等のグ
ラム陰性菌及び緑膿菌等のグラム陰性菌に対して強力な
抗菌力を有するセファロスポリン誘導体を創製すべく鋭
意研究した結果、後記−紋穴（ｒ）で示される新規なセ
ファロスポリン誘導体が、メチシリン耐性の黄色ブドウ
球菌を含むグラム陰性菌と共に緑膿菌を含むグラム陰性
菌に対して優れた抗菌作用を示すことを見出して、本発
明を完成した。
ラム陰性菌及び緑膿菌等のグラム陰性菌に対して強力な
抗菌力を有するセファロスポリン誘導体を創製すべく鋭
意研究した結果、後記−紋穴（ｒ）で示される新規なセ
ファロスポリン誘導体が、メチシリン耐性の黄色ブドウ
球菌を含むグラム陰性菌と共に緑膿菌を含むグラム陰性
菌に対して優れた抗菌作用を示すことを見出して、本発
明を完成した。
即ち、本発明は新規な一般式
、〔式中、Ｒ１は水素原子、置換基を有していてもよい
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基又
は置換基を有していてもよいアラルキル基を、Ｒ’は水
素原子、陰電荷又は生体内で加水分解可能な無毒性エス
テルを形成しつるエステル残基を、基Ａは不飽和結合を
含んでいてもよいアルキレン基（なお、該アルキレン基
の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいずれ
かの少なくとも１個で置き換わっていてもよい）をそれ
ぞれ示し、該ピリジン環及び族基Ａで形成される二環性
複素環は同−又は異なる工ないし３個の置換基を有して
いてもよい〕で表される化合物又はその無毒性塩、その
製造法及び該化合物の抗菌剤としての用途、並びに新規
な一般式【式中、Ｒ１は水素原子、アミノ基の保護基又
は−紋穴 （式中、Ｒ１は水素は水
素原子、水酸基の保護基、保護された置換基を有してい
てもよい低級アルキル基、保護された置換基を有してい
てもよい低級アルケニル基、保護された置換基を有して
いてもよい低級アルキニル基又は保護された置換基を有
していてもよいアラルキル基をそれぞれ示す）で表され
る基を、Ｒ゛は水素原子、陰電荷又はカルボキシル基の
保護基を、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキ
レン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、
硫黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１ｇで置
き換わっていてもよい）をそれぞれ示し、該ピリジン環
及び族基Ｂで形成される二環性複素環は同−又は異なる
工ないし３個の置換基（該置換基は保護されていてもよ
い）を有していてもよい〕で表される化合物又はその無
毒性塩、及び新規な一般式 〔式中、基Ｂは前記の意味を有する〕で表される化合物
及び製造中間体としての使用に関するものである。
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基又
は置換基を有していてもよいアラルキル基を、Ｒ’は水
素原子、陰電荷又は生体内で加水分解可能な無毒性エス
テルを形成しつるエステル残基を、基Ａは不飽和結合を
含んでいてもよいアルキレン基（なお、該アルキレン基
の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいずれ
かの少なくとも１個で置き換わっていてもよい）をそれ
ぞれ示し、該ピリジン環及び族基Ａで形成される二環性
複素環は同−又は異なる工ないし３個の置換基を有して
いてもよい〕で表される化合物又はその無毒性塩、その
製造法及び該化合物の抗菌剤としての用途、並びに新規
な一般式【式中、Ｒ１は水素原子、アミノ基の保護基又
は−紋穴 （式中、Ｒ１は水素は水
素原子、水酸基の保護基、保護された置換基を有してい
てもよい低級アルキル基、保護された置換基を有してい
てもよい低級アルケニル基、保護された置換基を有して
いてもよい低級アルキニル基又は保護された置換基を有
していてもよいアラルキル基をそれぞれ示す）で表され
る基を、Ｒ゛は水素原子、陰電荷又はカルボキシル基の
保護基を、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキ
レン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、
硫黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１ｇで置
き換わっていてもよい）をそれぞれ示し、該ピリジン環
及び族基Ｂで形成される二環性複素環は同−又は異なる
工ないし３個の置換基（該置換基は保護されていてもよ
い）を有していてもよい〕で表される化合物又はその無
毒性塩、及び新規な一般式 〔式中、基Ｂは前記の意味を有する〕で表される化合物
及び製造中間体としての使用に関するものである。
次に、この明細書の記載において言及される各種用語の
定義及びその適当な例について説明する。
定義及びその適当な例について説明する。
置換基を有していてもよい低級アルキル基とは、例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ブトキシ基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭
素数１ないし４個の低級アルコキシ基、例えばアセトキ
シ基、プロピオニルオキシ基若しくはブチリルオキシ基
等の炭素数２ないし４個の低級アルカノイルオキシ基、
水酸基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルホ基及
び例えば塩素原子、臭素原子若しくはフッ素原子等のハ
ロゲン原子等からなる群から選ばれる工ないし３個の置
換基で置換されていてもよい、炭素数１ないし６個の直
鎖状、分枝状若しくは環状の低級アルキル基を意味する
。該アルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペ
ンチル基、インペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、
ジクロロメチル基、２−クロロエチル基、２−フルオロ
エチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２．２．２−
トリフルオロエチル基、２−ブロモエチル基、カルボキ
シメチル基、１−カルボキシエチル基、カルバモイルメ
チル基、１−カルバモイルエチル基、ｌ−カルボキシ−
１−メチルエチル基、■−カルバモイルー１−メチルエ
チル基、２−カルボキシエチル基。
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ブトキシ基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭
素数１ないし４個の低級アルコキシ基、例えばアセトキ
シ基、プロピオニルオキシ基若しくはブチリルオキシ基
等の炭素数２ないし４個の低級アルカノイルオキシ基、
水酸基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルホ基及
び例えば塩素原子、臭素原子若しくはフッ素原子等のハ
ロゲン原子等からなる群から選ばれる工ないし３個の置
換基で置換されていてもよい、炭素数１ないし６個の直
鎖状、分枝状若しくは環状の低級アルキル基を意味する
。該アルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペ
ンチル基、インペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、フルオロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、
ジクロロメチル基、２−クロロエチル基、２−フルオロ
エチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２．２．２−
トリフルオロエチル基、２−ブロモエチル基、カルボキ
シメチル基、１−カルボキシエチル基、カルバモイルメ
チル基、１−カルバモイルエチル基、ｌ−カルボキシ−
１−メチルエチル基、■−カルバモイルー１−メチルエ
チル基、２−カルボキシエチル基。
２−カルバモイルエチル基、３−カルボキシプロピル基
、２−カルボキシプロピル基、ｌ−カルボキシプロピル
基、３−カルバモイルプロピル基、２−カルバモイルプ
ロピル基、■−カルバモイル°プロピル基、ｌ−カルボ
キシシクロプロビル基、１−カルバモイルシクロプロピ
ル基、１−カルボキシシクロブチル基、１−カルバモイ
ルシクロブチル基、１−カルボキシシクロペンチル基、
ｌ−カルバモイルシクロペンチル基、１−カルボキシシ
クロヘキシル基、１−カルバモイルシクロヘキシル基、
ｌ−スルホシクロヘキシル基、ｌ−スルホシクロペンチ
ル基、１−スルホシクロブチル基、１−スルホシクロプ
ロピル基、スルホメチル基、２−スルホエチル基、１−
スルホエチル基。
、２−カルボキシプロピル基、ｌ−カルボキシプロピル
基、３−カルバモイルプロピル基、２−カルバモイルプ
ロピル基、■−カルバモイル°プロピル基、ｌ−カルボ
キシシクロプロビル基、１−カルバモイルシクロプロピ
ル基、１−カルボキシシクロブチル基、１−カルバモイ
ルシクロブチル基、１−カルボキシシクロペンチル基、
ｌ−カルバモイルシクロペンチル基、１−カルボキシシ
クロヘキシル基、１−カルバモイルシクロヘキシル基、
ｌ−スルホシクロヘキシル基、ｌ−スルホシクロペンチ
ル基、１−スルホシクロブチル基、１−スルホシクロプ
ロピル基、スルホメチル基、２−スルホエチル基、１−
スルホエチル基。
３−スルホプロピル基、２−スルホプロピル基又はｉ−
スルホプロピル基等が挙げられる。
スルホプロピル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい低級アルケニル基とは、例え
ばカルボキシル基、カルバモイル基又はスルホ基等の置
換基で置換されていてもよい炭素数２ないし６個の低級
アルケニル基を意味する。
ばカルボキシル基、カルバモイル基又はスルホ基等の置
換基で置換されていてもよい炭素数２ないし６個の低級
アルケニル基を意味する。
該アルケニル基の具体例としては、例えばビニル基、ｌ
−プロペニル基、アリル基、１−メチルビニル基、２−
メチル−１−プロペニル基、１．３−ブタジェニル基、
■、１−ジメチルアリル基、２−ブテニル基、３−ブテ
ニル基、３−メチルブテニル基、１−カルボキシビニル
基、２−カルボキシビニル基、ｌ−カルボキシ−１−プ
ロペニル基、２−カルボキシ−１−プロペニル基。
−プロペニル基、アリル基、１−メチルビニル基、２−
メチル−１−プロペニル基、１．３−ブタジェニル基、
■、１−ジメチルアリル基、２−ブテニル基、３−ブテ
ニル基、３−メチルブテニル基、１−カルボキシビニル
基、２−カルボキシビニル基、ｌ−カルボキシ−１−プ
ロペニル基、２−カルボキシ−１−プロペニル基。
３−カルボキシ−１−プロペニル基、ｌ−力ルボキシ−
２−メチル−１−プロペニル基、ｌ−カルボキシアリル
基、２−カルボキシアリル基、３−カルボキシアリル基
、１−カルボキシ−３−ブテニル基、■−カルボキシー
３−メチルー２−ブテニル基、１−スルホビニル基、１
−カルバモイルビニル基、ｌ−スルホアリル基、ｌ−カ
ルバモイルアリル基、３−カルボキシ−１，１−ジメチ
ルアリル基、３−スルホ−１，１−ジメチルアリル基又
は３−カルバモイル−１，１−ジメチルアリル基等が挙
げられる。
２−メチル−１−プロペニル基、ｌ−カルボキシアリル
基、２−カルボキシアリル基、３−カルボキシアリル基
、１−カルボキシ−３−ブテニル基、■−カルボキシー
３−メチルー２−ブテニル基、１−スルホビニル基、１
−カルバモイルビニル基、ｌ−スルホアリル基、ｌ−カ
ルバモイルアリル基、３−カルボキシ−１，１−ジメチ
ルアリル基、３−スルホ−１，１−ジメチルアリル基又
は３−カルバモイル−１，１−ジメチルアリル基等が挙
げられる。
置換基を有していてもよい低級アルキニル基とは、例え
ばカルボキシル基又はスルホ基等の置換基で置換されて
いてもよい、例えばエチニル基。
ばカルボキシル基又はスルホ基等の置換基で置換されて
いてもよい、例えばエチニル基。
ｌ−プロピニル基、２−プロピニル基又は１．１−ジメ
チル−２−プロピニル基等の炭素数２ないし６個の低級
アルキニル基を意味する。該アルキニル基の具体例とし
ては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロ
ピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−
カルボキシエチニル基、２−スルホエチニル基、■−カ
ルボキシー２−プロピニル基、■−スルホー２−プロピ
ニル基、３−カルボキシ−１，１−ジメチル−２−プロ
ピニル基又は３−スルホ−１，１−ジメチル−２−プロ
ピニル基等が挙げられる。
チル−２−プロピニル基等の炭素数２ないし６個の低級
アルキニル基を意味する。該アルキニル基の具体例とし
ては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロ
ピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−
カルボキシエチニル基、２−スルホエチニル基、■−カ
ルボキシー２−プロピニル基、■−スルホー２−プロピ
ニル基、３−カルボキシ−１，１−ジメチル−２−プロ
ピニル基又は３−スルホ−１，１−ジメチル−２−プロ
ピニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアラルキル基とは、例えば水
酸基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、カルボキ
シ基、スルホ基、カルボキシメチル基又はスルホメチル
基等からなる群より選ばれる１ないし４個の置換基で置
換されていてもよい、例えばベンジル基、フェネチル基
、３−フェニルプロピル基又はナフチルメチル基等の炭
素数７ないし１１個のアラルキル基を意味する。該アラ
ルキル基の具体例としては、例えばベンジル基、フェネ
チル基、β−カルボキシフェネチル基、ｌ−カルボキシ
−３−フェニルプロピル基、α−カルボキシ−１−ナフ
チルメチル基、α−カルボキシナフチルメチル基、３−
ヒドロキシベンジル基、４−ヒドロキシベンジル基、３
−アセトキシベンジル基、４−アセトキシベンジル基、
２−カルボキシベンジル基、３−カルボキシベンジル基
、４−カルボキシベンジル基、２−カルボキシメチルベ
ンジル基、３−カルボキシメチルベンジル基、４−カル
ボキシメチルベンジル基、２−スルホベンジル基、３−
スルホベンジル基、４−スルホベンジル基、２−スルホ
メチルベンジル基、３−スルホメチルベンジル基、４−
スルホメチルベンジル基、３−カルボキシ−４−ヒドロ
キシベンジル基、３．４−ジヒドロキシベンジル基、３
，４−ジアセトキシベンジル基、３，４．５−トリヒド
ロキシベンジル基、３．４．５−トリアセトキシペンシ
ル基、α−カルボキシベンジル基、α−カルボキシ−３
−ヒドロキシベンジル基、α−カルボキシ−４−ヒドロ
キシベンジル基、α−カルボキシ−３ごアセトキシベン
ジル基、α−カルボキシ−４−アセトキシベンジル基、
α−カルボキシ−３，４−ジヒドロキシベンジル基、α
−カルボキシ−３，４−ジアセトキシベンジル基、α−
カルボキシ−３，４，５−トリヒドロキシベンジル基又
はα−カルボキシ−３，４，５−トリアセトキシベンジ
ル基等が挙げられる。
酸基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、カルボキ
シ基、スルホ基、カルボキシメチル基又はスルホメチル
基等からなる群より選ばれる１ないし４個の置換基で置
換されていてもよい、例えばベンジル基、フェネチル基
、３−フェニルプロピル基又はナフチルメチル基等の炭
素数７ないし１１個のアラルキル基を意味する。該アラ
ルキル基の具体例としては、例えばベンジル基、フェネ
チル基、β−カルボキシフェネチル基、ｌ−カルボキシ
−３−フェニルプロピル基、α−カルボキシ−１−ナフ
チルメチル基、α−カルボキシナフチルメチル基、３−
ヒドロキシベンジル基、４−ヒドロキシベンジル基、３
−アセトキシベンジル基、４−アセトキシベンジル基、
２−カルボキシベンジル基、３−カルボキシベンジル基
、４−カルボキシベンジル基、２−カルボキシメチルベ
ンジル基、３−カルボキシメチルベンジル基、４−カル
ボキシメチルベンジル基、２−スルホベンジル基、３−
スルホベンジル基、４−スルホベンジル基、２−スルホ
メチルベンジル基、３−スルホメチルベンジル基、４−
スルホメチルベンジル基、３−カルボキシ−４−ヒドロ
キシベンジル基、３．４−ジヒドロキシベンジル基、３
，４−ジアセトキシベンジル基、３，４．５−トリヒド
ロキシベンジル基、３．４．５−トリアセトキシペンシ
ル基、α−カルボキシベンジル基、α−カルボキシ−３
−ヒドロキシベンジル基、α−カルボキシ−４−ヒドロ
キシベンジル基、α−カルボキシ−３ごアセトキシベン
ジル基、α−カルボキシ−４−アセトキシベンジル基、
α−カルボキシ−３，４−ジヒドロキシベンジル基、α
−カルボキシ−３，４−ジアセトキシベンジル基、α−
カルボキシ−３，４，５−トリヒドロキシベンジル基又
はα−カルボキシ−３，４，５−トリアセトキシベンジ
ル基等が挙げられる。
生体内で加水分解可能な無毒性エステルを形成しつるエ
ステル残基として、例えばアセトキシメチル基、ピバロ
イルオキシメチル基等のアルカノイルオキシメチル基、
１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（イ
ソプロポキシカルボニルオキシ）エチル基等のアルコキ
シカルボニルオキシアルキル基、フタリジル基、例えば
（５−メチル−２−オキソ−１，３−オキソール−４−
イル）メチル基等の（５−置換−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ルー４−イル）メチル基等が挙げられる。
ステル残基として、例えばアセトキシメチル基、ピバロ
イルオキシメチル基等のアルカノイルオキシメチル基、
１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（イ
ソプロポキシカルボニルオキシ）エチル基等のアルコキ
シカルボニルオキシアルキル基、フタリジル基、例えば
（５−メチル−２−オキソ−１，３−オキソール−４−
イル）メチル基等の（５−置換−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ルー４−イル）メチル基等が挙げられる。
基Ａで示される不飽和結合を含んでいてもよいアルキレ
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個で置き
換わっていてもよい）とは。
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個で置き
換わっていてもよい）とは。
炭素数３ないし５個を含むアルキレン基であり、該アル
キレン基の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子
のいずれか少なくとも１個で置換されているか、また該
アルキレン基の炭素間の単結合が例えば二重結合等の不
飽和結合で置換されていてもよい、該アルキレン基の具
体例は基Ａとピリジン環で形成される二環性複素環基と
して示す。
キレン基の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子
のいずれか少なくとも１個で置換されているか、また該
アルキレン基の炭素間の単結合が例えば二重結合等の不
飽和結合で置換されていてもよい、該アルキレン基の具
体例は基Ａとピリジン環で形成される二環性複素環基と
して示す。
また該二環性複素環基は、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
若しくはｔｅｒｍ−ブチル基等の炭素数１ないし４個の
低級アルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブト阜シ基、イソブトキ
シ基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１ないし
４個の低級アルコキシ基、ホルミル基、カルボキシル基
、カルバモイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基又は水酸基等か
らなる群より選ばれる同−又は異なるｌないし３個の置
換基を有していてもよい。
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
若しくはｔｅｒｍ−ブチル基等の炭素数１ないし４個の
低級アルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブト阜シ基、イソブトキ
シ基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１ないし
４個の低級アルコキシ基、ホルミル基、カルボキシル基
、カルバモイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基又は水酸基等か
らなる群より選ばれる同−又は異なるｌないし３個の置
換基を有していてもよい。
該二環性複素環基の具体例としては、例えばＩＨ−イン
ドリジニウム−７−イル基、２．３−ジヒドロ−ＩＨ−
インドリジニウム−７−イル基、２，３−ジヒドロ−３
−メチル−ＩＨ−インドリジニウム−７−イル基、２，
３−ジヒドロ−６−メドキシー３−メチル−ＩＨ−イン
ドリジニウム−７−イル基、５−カルボキシ−２，３−
ジヒドロ−３−メチル−ＩＨ−インドリジニウム−７−
イル基、キノリジニウム−３−イル基、６，７，８．９
−テトラヒドロキノリジニウム−２−イル基、３，４−
ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃｌ （１，４）オ
キサジニウム−８−イル基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−
オキサゾロ（３，２−ａ）ピリジニウム−７−イル基、
２，３−ジヒドロ−７Ｈ−チアゾロ（３，２−ａ）ピリ
ジニウム−７−イル基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−チア
ゾロ（３，２−ａ〕 ピリジニウム−７−イル １−オ
キシド基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−オキサゾＯ（３，
２−ａ）ピリジニウム−７−イル １，１−ジオキシド
基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（２，１−ｂ）（
１，３）オキサジニウム−８−イル基、３．４−ジヒド
ロ−２１！−ピリド（２４−ｂｌ （１，３）チアジニ
ウム−８−イル基、３．４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（
２，１−ｂ） （１，３）チアジニウム−８−イル １
−オキシド基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（２，
１−ｂ） （１，３）チアジニウム−８−イル １，１
−ジオキシド基、３，４−ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２
，１−ｃ〕（１，４）チアジニウム−８−イル基、３．
４−ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃｌ（１，４）
チアジニウム−８−イル １−オキシド基、３，４−ジ
ヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃ） （１，４）チア
ジニウム−８−イル １，１−ジオキシド基、３，４−
ジヒドロ−ＩＨ９２Ｈ−ピリド（１，２−ａ）ピラジニ
ウム−８−イル基、３，４−ジヒドロ−２−メチル−Ｉ
Ｈ，２Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ ピラジニウム−８−
イル基、２−エチル−３，４−ジヒドロ−ＩＨ。
ドリジニウム−７−イル基、２．３−ジヒドロ−ＩＨ−
インドリジニウム−７−イル基、２，３−ジヒドロ−３
−メチル−ＩＨ−インドリジニウム−７−イル基、２，
３−ジヒドロ−６−メドキシー３−メチル−ＩＨ−イン
ドリジニウム−７−イル基、５−カルボキシ−２，３−
ジヒドロ−３−メチル−ＩＨ−インドリジニウム−７−
イル基、キノリジニウム−３−イル基、６，７，８．９
−テトラヒドロキノリジニウム−２−イル基、３，４−
ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃｌ （１，４）オ
キサジニウム−８−イル基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−
オキサゾロ（３，２−ａ）ピリジニウム−７−イル基、
２，３−ジヒドロ−７Ｈ−チアゾロ（３，２−ａ）ピリ
ジニウム−７−イル基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−チア
ゾロ（３，２−ａ〕 ピリジニウム−７−イル １−オ
キシド基、２，３−ジヒドロ−７Ｈ−オキサゾＯ（３，
２−ａ）ピリジニウム−７−イル １，１−ジオキシド
基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（２，１−ｂ）（
１，３）オキサジニウム−８−イル基、３．４−ジヒド
ロ−２１！−ピリド（２４−ｂｌ （１，３）チアジニ
ウム−８−イル基、３．４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（
２，１−ｂ） （１，３）チアジニウム−８−イル １
−オキシド基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（２，
１−ｂ） （１，３）チアジニウム−８−イル １，１
−ジオキシド基、３，４−ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２
，１−ｃ〕（１，４）チアジニウム−８−イル基、３．
４−ジヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃｌ（１，４）
チアジニウム−８−イル １−オキシド基、３，４−ジ
ヒドロ−ＩＨ−ピリド（２，１−ｃ） （１，４）チア
ジニウム−８−イル １，１−ジオキシド基、３，４−
ジヒドロ−ＩＨ９２Ｈ−ピリド（１，２−ａ）ピラジニ
ウム−８−イル基、３，４−ジヒドロ−２−メチル−Ｉ
Ｈ，２Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ ピラジニウム−８−
イル基、２−エチル−３，４−ジヒドロ−ＩＨ。
２Ｈ−ピリド（１，２−ａ）ピラジニウム−８−イル基
、２−ホルミル−３，４−ジヒドロ−ＩＨ，２Ｈ−ピリ
ド（１，２−ａ）ピラジニウム−８−イル基又は２−ア
セチル−３，４−ジヒドロ−１１（，２Ｈ−ピリド（１
，２−ａ）ピラジニウム−８−イル基等が挙げられる。
、２−ホルミル−３，４−ジヒドロ−ＩＨ，２Ｈ−ピリ
ド（１，２−ａ）ピラジニウム−８−イル基又は２−ア
セチル−３，４−ジヒドロ−１１（，２Ｈ−ピリド（１
，２−ａ）ピラジニウム−８−イル基等が挙げられる。
特に好ましい例としては、２．３−ジヒドロ−ＩＨ−イ
ンドリジニウム−７−イル基、６．７，８．９−テトラ
ヒドロキノリジニウム−２−イル基又は３，４−ジヒド
ロ−１１１−ピリド（２，１−ｃｌ （１，４）オキサ
ジニウム−８−イル基等が挙げられる。
ンドリジニウム−７−イル基、６．７，８．９−テトラ
ヒドロキノリジニウム−２−イル基又は３，４−ジヒド
ロ−１１１−ピリド（２，１−ｃｌ （１，４）オキサ
ジニウム−８−イル基等が挙げられる。
−紋穴（１）の化合物の無毒性塩としては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、セフェム核の４位の゛カル
ボキシル基、二環性複素環基またはＲ゛に置換したカル
ボキシル基またはスルホ基等の酸性残基、セフェム核の
７位の２−アミノチアゾール基または第４級アンモニウ
ム基等の塩基性残基における塩類を挙げることができる
。該化合物の塩類はモノ塩、ジ塩又はトリ塩であっても
よい。
れる慣用的なものを意味し、セフェム核の４位の゛カル
ボキシル基、二環性複素環基またはＲ゛に置換したカル
ボキシル基またはスルホ基等の酸性残基、セフェム核の
７位の２−アミノチアゾール基または第４級アンモニウ
ム基等の塩基性残基における塩類を挙げることができる
。該化合物の塩類はモノ塩、ジ塩又はトリ塩であっても
よい。
付加塩を形成する塩基としては、例えばナトリウム塩若
しくはカリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウ
ム塩若しくはマグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールア
ミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタノールアミン
塩若しくはブロカイン塩等の脂肪族アミン塩、例えばＮ
。
しくはカリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウ
ム塩若しくはマグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールア
ミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタノールアミン
塩若しくはブロカイン塩等の脂肪族アミン塩、例えばＮ
。
Ｎ゛−ジベンジルエチレンジアミン塩等のアラルキルア
ミン塩、例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩若
しくはイソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩、例え
ばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニ
ウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジル
トリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモ
ニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩若しくは
テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩
又は例えばアルギニン塩若しくはリジン塩等の塩基性ア
ミノ酸塩が挙げられる。
ミン塩、例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩若
しくはイソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩、例え
ばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニ
ウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジル
トリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモ
ニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩若しくは
テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩
又は例えばアルギニン塩若しくはリジン塩等の塩基性ア
ミノ酸塩が挙げられる。
付加塩を形成する酸としては、例えば塩酸塩、臭化水素
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩若
しくは過塩素酸塩等の無機酸塩、例えば酢酸塩、プロピ
オン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石
酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩若しくはアスコルビン酸
塩等の有機酸塩、例えばメタンスルホン酸塩、イセチオ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩若しくはｐ−トルエンス
ルホン酸塩等のスルホン酸塩、又は、例えばアスパラギ
ン酸塩若しくはグルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩が挙
げられる。
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩若
しくは過塩素酸塩等の無機酸塩、例えば酢酸塩、プロピ
オン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石
酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩若しくはアスコルビン酸
塩等の有機酸塩、例えばメタンスルホン酸塩、イセチオ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩若しくはｐ−トルエンス
ルホン酸塩等のスルホン酸塩、又は、例えばアスパラギ
ン酸塩若しくはグルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩が挙
げられる。
また、一般式（Ｉ）のオキシイミノ基における部分構造
はシン異性体（Ｚ配置）及びアンチ異性体（Ｅ配置）が
存在し、一般にシン異性体（Ｚ配ｒ！ｌ）が優れた抗菌
活性を示し、本明細書において○Ｒ″基はすべてシン異
性体（Ｚ配置）である。
はシン異性体（Ｚ配置）及びアンチ異性体（Ｅ配置）が
存在し、一般にシン異性体（Ｚ配ｒ！ｌ）が優れた抗菌
活性を示し、本明細書において○Ｒ″基はすべてシン異
性体（Ｚ配置）である。
Ｅ／Ｚ命名法は、ジャーナル オブ ジ アメリカン
ケミカル ソサエテ−１’ （Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
ｔｈｅＡＩＩｌｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ５ｏ
ｃｉｅｔｙ）第９０巻、５０９頁（１９６８年）に記述
される。
ケミカル ソサエテ−１’ （Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
ｔｈｅＡＩＩｌｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ５ｏ
ｃｉｅｔｙ）第９０巻、５０９頁（１９６８年）に記述
される。
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は一般式
〔式中、Ｒ１は水素原子又はアミノ基の保護基を、Ｒ４
は水素原子、保護された置換基を有していてもよい低級
アルキル基、保護された置換基を有していてもよい低級
アルケニル基、保護された置換基を有していてもよい低
級アルキニル基又は保護された置換基を有していてもよ
いアラルキル基を。
は水素原子、保護された置換基を有していてもよい低級
アルキル基、保護された置換基を有していてもよい低級
アルケニル基、保護された置換基を有していてもよい低
級アルキニル基又は保護された置換基を有していてもよ
いアラルキル基を。
Ｒ″は水素原子、陰電荷又はカルボキシル基の保護基を
、Ｘは脱離基をそれぞれ示す〕で表される化合物又はそ
の塩に、一般式 〔式中、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキレ
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個以上で
置き換わっていてもよい）を示し、該ピリジン環及び該
第Ｂで形成される二環性複素環は同−又は異なる工ない
し３個の置換基（該置換基は保護されていてもよい）で
置換されていてもよい〕で表される化合物を反応させて
。
、Ｘは脱離基をそれぞれ示す〕で表される化合物又はそ
の塩に、一般式 〔式中、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキレ
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個以上で
置き換わっていてもよい）を示し、該ピリジン環及び該
第Ｂで形成される二環性複素環は同−又は異なる工ない
し３個の置換基（該置換基は保護されていてもよい）で
置換されていてもよい〕で表される化合物を反応させて
。
一般式
〔式中、Ｒ゛、Ｒ“、Ｒ゛及び基Ｂは前記の意味を有し
、ｘｏは陰イオンを意味する〕で表される化合物となし
、ついで必要に応じて、 （＋＞保護基を脱離する工程 （ｉｉ ）遊離酸をその無毒性塩に変換する工程（■）
遊離酸をその生体内で加水分解可能な無毒性エステルに
変換する工程 以上の工程を１つ以上行なうにより製造することができ
る。
、ｘｏは陰イオンを意味する〕で表される化合物となし
、ついで必要に応じて、 （＋＞保護基を脱離する工程 （ｉｉ ）遊離酸をその無毒性塩に変換する工程（■）
遊離酸をその生体内で加水分解可能な無毒性エステルに
変換する工程 以上の工程を１つ以上行なうにより製造することができ
る。
一般式（ｎ）中の又は脱離基を表し、具体的には塩素、
臭素、ヨウ素等のハロゲン原子又はアセトキシ基等が挙
げられる。
臭素、ヨウ素等のハロゲン原子又はアセトキシ基等が挙
げられる。
一般式（ＩＶ）中のＸｏは脱離基の陰イオンを表す、次
に本発明化合物（１）の製造法を詳説する。
に本発明化合物（１）の製造法を詳説する。
一般式（ＩＶ）の化合物は、一般式（［＋）の化合物と
二環性複素環ピリドチオン誘導体（Ｉ［［）とを塩化メ
チレン、クロロホルム、エーテル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はこれ
らの混合溶媒中で、脱酸剤の存在下又は非存在下に製造
することができる。
二環性複素環ピリドチオン誘導体（Ｉ［［）とを塩化メ
チレン、クロロホルム、エーテル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はこれ
らの混合溶媒中で、脱酸剤の存在下又は非存在下に製造
することができる。
脱酸剤としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム又は炭酸マグネシウム等の金属塩、また例えばトリエ
チルアミン、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン又はＮ、Ｎ−ジメチルアニリン等の
有機アミンが挙げられる。また二環性複素環チオン誘導
体（ｍ）はＮ、Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド
等のシリル化剤でシリル化して使用する二ともできる１
反応は一般式（Ｉｆ）の化合物１モルに対して二環性複
素環チオン誘導体（ＩＩＩ）を１〜２モル用い、反応温
度及び反応時間は０〜４０℃で、０．５〜５時間である
。
ム又は炭酸マグネシウム等の金属塩、また例えばトリエ
チルアミン、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン又はＮ、Ｎ−ジメチルアニリン等の
有機アミンが挙げられる。また二環性複素環チオン誘導
体（ｍ）はＮ、Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド
等のシリル化剤でシリル化して使用する二ともできる１
反応は一般式（Ｉｆ）の化合物１モルに対して二環性複
素環チオン誘導体（ＩＩＩ）を１〜２モル用い、反応温
度及び反応時間は０〜４０℃で、０．５〜５時間である
。
また、一般式（ＩＩ）中のＸがアセトキシ基である場合
、二環性複素環チオン誘導体（ＩＩＩ）との反応は、例
えば水、燐酸緩衝液、アセトン、アセトニトリル、メタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド又はこれらの混合溶媒中で行うことができる０反
応は中性付近で行うことが好ましく、反応温度は室温か
ら９０℃で、反応時間は１〜１５時間である１本反応は
化合物（■）１モルに対して、１〜２０モルのヨウ化ナ
トリウム若しくはヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシ
アン酸ナトリウム若しくはチオシアン酸カリウム等のチ
オシアン酸塩又はトリメチルベンジルアンモニウムプロ
ミド等の第４級アンモニウム塩の存在下で行うことによ
り促進される。゛また、該化合物（ｎ）とピリドチオン
誘導体（ＩＩＩ）との反応は、例えば酢酸、アセトン、
アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド又はこれらの混合溶媒中、化合物（Ｕ）に対
して１〜５０モルの酸、例えば硫酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸、クロロスルホン酸、三ふつ化はう素又は三ふつ化
はう素工チルエーテル錯体等の存在下、室温から６０℃
で、１〜ｌＯ時間行っても化合物（ＴＶ）を製造するこ
とができる。
、二環性複素環チオン誘導体（ＩＩＩ）との反応は、例
えば水、燐酸緩衝液、アセトン、アセトニトリル、メタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド又はこれらの混合溶媒中で行うことができる０反
応は中性付近で行うことが好ましく、反応温度は室温か
ら９０℃で、反応時間は１〜１５時間である１本反応は
化合物（■）１モルに対して、１〜２０モルのヨウ化ナ
トリウム若しくはヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシ
アン酸ナトリウム若しくはチオシアン酸カリウム等のチ
オシアン酸塩又はトリメチルベンジルアンモニウムプロ
ミド等の第４級アンモニウム塩の存在下で行うことによ
り促進される。゛また、該化合物（ｎ）とピリドチオン
誘導体（ＩＩＩ）との反応は、例えば酢酸、アセトン、
アセトニトリル、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド又はこれらの混合溶媒中、化合物（Ｕ）に対
して１〜５０モルの酸、例えば硫酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸、クロロスルホン酸、三ふつ化はう素又は三ふつ化
はう素工チルエーテル錯体等の存在下、室温から６０℃
で、１〜ｌＯ時間行っても化合物（ＴＶ）を製造するこ
とができる。
本発明のセフェム化合物（＋）は、要すれば一般式（Ｉ
Ｖ）の化合物から保護基を除去することにより製造する
ことができる。
Ｖ）の化合物から保護基を除去することにより製造する
ことができる。
前記一般式におけるカルボキシル基、アミノ基又は水酸
基の保護及びその除去方法は、β−ラクタム合成の分野
で通常使用されている方法を適宜選択して用いることが
できる。保護基の導入及び除去方法は、例えばワイリイ
（ｌｊｉｌｅｙ）社より１９８１年に発行されたティ・
ダブりニー・グリーン（Ｔ。
基の保護及びその除去方法は、β−ラクタム合成の分野
で通常使用されている方法を適宜選択して用いることが
できる。保護基の導入及び除去方法は、例えばワイリイ
（ｌｊｉｌｅｙ）社より１９８１年に発行されたティ・
ダブりニー・グリーン（Ｔ。
Ｉｊ、Ｇｒｅｅｎｅ）著のプロテクティブ・グループス
・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅＧｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈ
ｅｓｉｓ）及びブレナム−プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒ
ｅｓｓ）社より１９７３年に発行されたジエイ・エフ・
ダブリュー・マコミイ−（Ｊ、Ｆｌｗ。
・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅＧｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈ
ｅｓｉｓ）及びブレナム−プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒ
ｅｓｓ）社より１９７３年に発行されたジエイ・エフ・
ダブリュー・マコミイ−（Ｊ、Ｆｌｗ。
にｃａｌ！１ｉｅ）著のプロテクティブ・グループス・
イン・オーガニック・ケミストリー（Ｐｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ）等に記載されている方法に串じて行うことが
できる。
イン・オーガニック・ケミストリー（Ｐｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ）等に記載されている方法に串じて行うことが
できる。
カルボキシル保護基としては１例えばｔｅｒｔ−ブチル
基等の低級アルキル基；例えば２，２．２−）リクロロ
エチル基等のハロ置換低級アルキル基；例えばアセトキ
シメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイル
オキシメチル基、１−アセトキシエチル基若しくは１−
プロピオニルオキシエチル基等の低級アルカノイルオキ
シアルキル基；例えば１− （メトキシカルボニルオキ
シ）エチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチ
ル基若しくは１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）
エチル基等の低級アルコキシカルボニルオキシアルキル
基；例えばベンジル基、４−メトキシベンジル基、３，
４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベンジル基、ベ
ンズヒドリル基若しくはビス（４−メトキシフェニル）
メチル基等のアラルキル基；例えば（５−メチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチル基等
の（５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４
−イル）メチル基：例えばトリメチルシリル基若しくは
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシ
リル基又はフタリジル基が挙げられ、特にベンズヒドリ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリメチルシリル基又はｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が好ましい。
基等の低級アルキル基；例えば２，２．２−）リクロロ
エチル基等のハロ置換低級アルキル基；例えばアセトキ
シメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイル
オキシメチル基、１−アセトキシエチル基若しくは１−
プロピオニルオキシエチル基等の低級アルカノイルオキ
シアルキル基；例えば１− （メトキシカルボニルオキ
シ）エチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチ
ル基若しくは１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）
エチル基等の低級アルコキシカルボニルオキシアルキル
基；例えばベンジル基、４−メトキシベンジル基、３，
４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベンジル基、ベ
ンズヒドリル基若しくはビス（４−メトキシフェニル）
メチル基等のアラルキル基；例えば（５−メチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチル基等
の（５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４
−イル）メチル基：例えばトリメチルシリル基若しくは
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシ
リル基又はフタリジル基が挙げられ、特にベンズヒドリ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリメチルシリル基又はｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が好ましい。
アミノ保護基としては、例えばベンジリデン基、ｐ−ク
ロロベンジリデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、サリ
チリデン基、α−ナフチリデン基若しくはβ−ナフチリ
デン基等のアラルキリデン基；例えばベンジル基、４−
メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、
４−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくはビス
（４−メトキシフェニル）メチル基等のアラルキル基；
例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、オキサリル基、スクシニル基若しくはピバロイ
ル基等の低級アルカノイル基；例えばクロロアセチル基
、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基若しくは
トリフルオロアセチル基等のハロゲン置換低級アルカノ
イル基；例えばフェニルアセチル基若しくはフェノキシ
アセチル基等のアリールアルカノイル基；例えばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等
の低級アルコキシカルボニル基；例えばベンジルオキシ
カルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシ基若しくはフ
ェネチルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカル
ボニル基又は例えばトリメチルシリル基若しくはｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシリル基
が挙げられる。
ロロベンジリデン基、ｐ−ニトロベンジリデン基、サリ
チリデン基、α−ナフチリデン基若しくはβ−ナフチリ
デン基等のアラルキリデン基；例えばベンジル基、４−
メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、
４−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくはビス
（４−メトキシフェニル）メチル基等のアラルキル基；
例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、オキサリル基、スクシニル基若しくはピバロイ
ル基等の低級アルカノイル基；例えばクロロアセチル基
、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基若しくは
トリフルオロアセチル基等のハロゲン置換低級アルカノ
イル基；例えばフェニルアセチル基若しくはフェノキシ
アセチル基等のアリールアルカノイル基；例えばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基若しくはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等
の低級アルコキシカルボニル基；例えばベンジルオキシ
カルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシ基若しくはフ
ェネチルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカル
ボニル基又は例えばトリメチルシリル基若しくはｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシリル基
が挙げられる。
水酸基の保護基としては、例えば２−メトキシエトキシ
メチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テ
トラヒドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基
、ｔｅｒｃ−ブチル基、ベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、４−ニトロベンジル基、アセチル基、２，２．
２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基、メチレンアセタール、エチレンアセ
タール、ベンジリデンアセタール等の環状アセタール、
メトキシメチリデン若しくはメトキシエチリデン等のオ
ルトエステル又はイソプロピリデンケタール等の環状ケ
タール若しくは環状の炭酸エステル等が挙げられる。
メチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テ
トラヒドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基
、ｔｅｒｃ−ブチル基、ベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、４−ニトロベンジル基、アセチル基、２，２．
２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基、メチレンアセタール、エチレンアセ
タール、ベンジリデンアセタール等の環状アセタール、
メトキシメチリデン若しくはメトキシエチリデン等のオ
ルトエステル又はイソプロピリデンケタール等の環状ケ
タール若しくは環状の炭酸エステル等が挙げられる。
保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、常用
の方法を適宜選択して行うことができる。
の方法を適宜選択して行うことができる。
例えばトリチル基、ホルミル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基、ベンズヒドリル基若しくはｔｅｒｔ−ブチ
ル基、２−メトキシエトキシメチル基等の保護基の除去
は、塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸若しくはＰ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で行うことができ、特にトリフルオロ酢酸が好まし
い、酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合、アニソー
ルを添加することにより反応は促進され、副反応も抑制
される。
ルボニル基、ベンズヒドリル基若しくはｔｅｒｔ−ブチ
ル基、２−メトキシエトキシメチル基等の保護基の除去
は、塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸若しくはＰ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で行うことができ、特にトリフルオロ酢酸が好まし
い、酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合、アニソー
ルを添加することにより反応は促進され、副反応も抑制
される。
反応は水、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン
又はベンゼン等の反応に悪影響を与えない溶媒中、或い
はこれらの混合溶媒中で行うことができる０反応温度及
び反応時間は化合物（ｒＶ）及び本発明のセフェム化合
物（１）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択
し、反応温度は一り０℃〜６０℃程度の緩和な条件で行
うのが好ましい。
又はベンゼン等の反応に悪影響を与えない溶媒中、或い
はこれらの混合溶媒中で行うことができる０反応温度及
び反応時間は化合物（ｒＶ）及び本発明のセフェム化合
物（１）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択
し、反応温度は一り０℃〜６０℃程度の緩和な条件で行
うのが好ましい。
本発明のセフェム化合物（１）の遊離体をその無毒性塩
に変換する工程は１例えば前記の製法により製造された
遊離体に当分野で慣用されている技術を適用することに
より製造することができる。
に変換する工程は１例えば前記の製法により製造された
遊離体に当分野で慣用されている技術を適用することに
より製造することができる。
本発明のセフェム化合物（１）の遊離体をその生理的に
加水分解可能な無毒、性エステル体に変換する工程は１
例えば特開昭５６−１６０７８２号、同５６−１４７７
８９号及び同５３−２１１９２号公報等に記載の方法又
はそれに率する方法により容易に実施することができる
。
加水分解可能な無毒、性エステル体に変換する工程は１
例えば特開昭５６−１６０７８２号、同５６−１４７７
８９号及び同５３−２１１９２号公報等に記載の方法又
はそれに率する方法により容易に実施することができる
。
以上の工程により製造された本発明のセフェム化合物（
１）及びその無毒性塩の単離精製は公知の方法、例えば
結晶化又はカラムクロマトグラフィー等により行うこと
ができる。
１）及びその無毒性塩の単離精製は公知の方法、例えば
結晶化又はカラムクロマトグラフィー等により行うこと
ができる。
本発明化合物の製造に使用する原料化合物の製造法につ
いて、以下に説明する。
いて、以下に説明する。
一般式（［１）で表される化合物は、−紋穴〔式中、Ｘ
及びＲ’は前記の意味を有する〕で表される化合物を、
−紋穴 〔式中、Ｒ′及びＲ４は前記の意味を有する〕で表され
る化合物又はそのカルボキシル基の反応性誘導体に反応
させることにより製造することができる０例えば水、ア
セトン、ジオキサン、エーテル、テトラヒドロフラン、
エチルメチルケトン、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエタン、酢酸エチル、ギ酸エチル、 Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はそれら
の混合溶媒等の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、反応
温度として水冷下ないし室温下及び反応時間として１時
間ないし１０時間という条件で行うことができる。化合
物（■）のカルボキシル基の反応性誘導体としては、例
えばＮ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド等の縮合
剤及び例えばＮ−ヒドロキシスクシンイミド又は１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール等により形成される活性エ
ステル；例えば塩化チオニル。
及びＲ’は前記の意味を有する〕で表される化合物を、
−紋穴 〔式中、Ｒ′及びＲ４は前記の意味を有する〕で表され
る化合物又はそのカルボキシル基の反応性誘導体に反応
させることにより製造することができる０例えば水、ア
セトン、ジオキサン、エーテル、テトラヒドロフラン、
エチルメチルケトン、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエタン、酢酸エチル、ギ酸エチル、 Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はそれら
の混合溶媒等の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、反応
温度として水冷下ないし室温下及び反応時間として１時
間ないし１０時間という条件で行うことができる。化合
物（■）のカルボキシル基の反応性誘導体としては、例
えばＮ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド等の縮合
剤及び例えばＮ−ヒドロキシスクシンイミド又は１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール等により形成される活性エ
ステル；例えば塩化チオニル。
五塩化リン又はオキサリルクロリド等のハロゲン化剤に
より形成される酸ハロゲン化物；例えばトリエチルアミ
ン又はＮ−メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に例え
ばメチルクロロホルマート又はイソブチルクロロホルマ
ート等のクロロホルマートにより形成される混合酸無水
物等が挙げられる。
より形成される酸ハロゲン化物；例えばトリエチルアミ
ン又はＮ−メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に例え
ばメチルクロロホルマート又はイソブチルクロロホルマ
ート等のクロロホルマートにより形成される混合酸無水
物等が挙げられる。
また用いられる該カルボン酸の反応性誘導体の種類によ
っては、塩基の存在下に反応させるのが、反応を円滑に
進行させる上で好ましい場合もある。
っては、塩基の存在下に反応させるのが、反応を円滑に
進行させる上で好ましい場合もある。
かかる塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウム等
の無機塩基又は例えばトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン若しくはピリジン等の
有機塩基が挙げられる。加えて一毅式（■）で表される
化合物を遊離カルボン酸の状態で使用するときは、Ｎ、
Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド又はＮ、Ｎ−ジエ
チルカルボジイミド等の縮合剤を使用するのが好ましい
。
水素カリウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウム等
の無機塩基又は例えばトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン若しくはピリジン等の
有機塩基が挙げられる。加えて一毅式（■）で表される
化合物を遊離カルボン酸の状態で使用するときは、Ｎ、
Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド又はＮ、Ｎ−ジエ
チルカルボジイミド等の縮合剤を使用するのが好ましい
。
前記の工程で製造された原料化合物（ロ）の分離精製は
、例えば結晶化又はカラムクロマトグラフィー等の公知
の方法により行うことができるが、場合によっては分離
精製することなく、次工程の原料として供することも可
能である。
、例えば結晶化又はカラムクロマトグラフィー等の公知
の方法により行うことができるが、場合によっては分離
精製することなく、次工程の原料として供することも可
能である。
−紋穴（Ｖｌ）で表される化合物は、公知の方法例えば
特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７号公報
、ジャーナル・オブ・アンティバイオティクス（Ｊ。
特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７号公報
、ジャーナル・オブ・アンティバイオティクス（Ｊ。
Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ）、 ３８巻、 １７３８頁（
１９８５年）及びテトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、）、 ２２巻、 ３９１５
頁（１９８１年）等に記載の方法により容易に製造され
つる。
１９８５年）及びテトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、）、 ２２巻、 ３９１５
頁（１９８１年）等に記載の方法により容易に製造され
つる。
本発明化合物の製造中間体である。−紋穴〔式中、基Ｂ
は前記の意味を有する〕で表される化合物は文献未記載
の新規化合物であり、本発明者らにより初めて製造され
た化合物である。
は前記の意味を有する〕で表される化合物は文献未記載
の新規化合物であり、本発明者らにより初めて製造され
た化合物である。
−紋穴（ＩＩＩ）で表される二環性ピリドチオン類は、
以下に示す二工程で製造される。
以下に示す二工程で製造される。
（＋０１ 、 ＣＩＩ）
（Ｉｌｌ）〔式中、基Ｂは前記の意味を有する６〕化合
物（■）を環化反応に付して化合物（ＩＸ）を製造する
工程は、例えばテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ）第３９巻、２５７１頁（１９８３年）及びシンセシ
ス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ） １頁（１９８１年）等に
記載の光延反応を適月して環化反応を行なうことができ
る。すなわち、化合物（１ｏ）を化合物（１１）に変換
する工程は１例えばテトラヒドロフラン、エーテル又は
ジオキサン等の不活性有機溶媒中で、例えばトリフェニ
ルホスフィン等のホスフィン及び例えばアゾジカルボン
酸ジメチルエステル又はアゾジカルボン酸ジエチルエス
テル等のアゾジカルボン酸エステルで化合物（］Ｏ）を
Ｏ℃〜８０℃で３０分〜１０時間処理することにより行
なうことができる。該ホスフィン及び該アゾジカルボン
酸エステルの使用量は、化合物（１０） １モルにつ
いてそれぞれ１〜３モルである。
（Ｉｌｌ）〔式中、基Ｂは前記の意味を有する６〕化合
物（■）を環化反応に付して化合物（ＩＸ）を製造する
工程は、例えばテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ）第３９巻、２５７１頁（１９８３年）及びシンセシ
ス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ） １頁（１９８１年）等に
記載の光延反応を適月して環化反応を行なうことができ
る。すなわち、化合物（１ｏ）を化合物（１１）に変換
する工程は１例えばテトラヒドロフラン、エーテル又は
ジオキサン等の不活性有機溶媒中で、例えばトリフェニ
ルホスフィン等のホスフィン及び例えばアゾジカルボン
酸ジメチルエステル又はアゾジカルボン酸ジエチルエス
テル等のアゾジカルボン酸エステルで化合物（］Ｏ）を
Ｏ℃〜８０℃で３０分〜１０時間処理することにより行
なうことができる。該ホスフィン及び該アゾジカルボン
酸エステルの使用量は、化合物（１０） １モルにつ
いてそれぞれ１〜３モルである。
次いで化合物（１１）を化合物（ＩＩＩ）に変換する工
程は、例えばピリジン、コリジン又はルチジン等の有・
機塩基中、例えば三硫化リン化合物又は口−エツソン（
Ｌａｗｅｓｓｏｎ）試薬〔テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ）第３５巻、２４３３頁（１９７９年）参
照〕等の硫化リン化合物で化合物（１１）を２０℃〜１
５０℃、好ましくは２０℃〜８０℃で１時間ないし１５
時間処理することにより行なうことができる。この工程
は、場合によってはトルエン、ベンゼン又はテトラヒド
ロフラン等の不活性溶媒にて希釈して行なうこともでき
る。
程は、例えばピリジン、コリジン又はルチジン等の有・
機塩基中、例えば三硫化リン化合物又は口−エツソン（
Ｌａｗｅｓｓｏｎ）試薬〔テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ）第３５巻、２４３３頁（１９７９年）参
照〕等の硫化リン化合物で化合物（１１）を２０℃〜１
５０℃、好ましくは２０℃〜８０℃で１時間ないし１５
時間処理することにより行なうことができる。この工程
は、場合によってはトルエン、ベンゼン又はテトラヒド
ロフラン等の不活性溶媒にて希釈して行なうこともでき
る。
上記の二工程を行なうことにより製造される化合物（Ｉ
［Ｉ）は、例えば溶媒抽出、結晶化又はクロマトグラフ
ィー等の精製法を適宜組み合せて精製するか又は精製す
ることなく、本発明のセフェム化合物の製造原料として
供することができる。
［Ｉ）は、例えば溶媒抽出、結晶化又はクロマトグラフ
ィー等の精製法を適宜組み合せて精製するか又は精製す
ることなく、本発明のセフェム化合物の製造原料として
供することができる。
化合物（ｎｌ）の製造原料として用いた化合物（１１）
は、例えば市販のケリダム酸（４−ヒドロキシ−２，６
−ピリジンジカルボン酸）又は２−カルボキシ−４−ヒ
ドロキシ５−メトキシ−ピリジン〔コウジ酸より、アク
タ・ケミ力・スカンジナビカ（Ａｃｔａ Ｃｈｅｍｉｃ
ａＳｃａｎｄｉｎａｖｉｃａ）第１６巻、７８頁〜８２
頁（１９６２年）に記載の方法により製造した〕から公
知の合成反応により容易に導かれるピコリン誘導体を共
通中間体として、さらに該ピリジン環の２位の側鎖延長
、官能基変換及び環化反応により製造される。
は、例えば市販のケリダム酸（４−ヒドロキシ−２，６
−ピリジンジカルボン酸）又は２−カルボキシ−４−ヒ
ドロキシ５−メトキシ−ピリジン〔コウジ酸より、アク
タ・ケミ力・スカンジナビカ（Ａｃｔａ Ｃｈｅｍｉｃ
ａＳｃａｎｄｉｎａｖｉｃａ）第１６巻、７８頁〜８２
頁（１９６２年）に記載の方法により製造した〕から公
知の合成反応により容易に導かれるピコリン誘導体を共
通中間体として、さらに該ピリジン環の２位の側鎖延長
、官能基変換及び環化反応により製造される。
例えばケリダム酸を原料とするピコリンアルデヒド誘導
体（４）の製造は下記の製造ルートで行うことができる
。
体（４）の製造は下記の製造ルートで行うことができる
。
〔式中、Ｒ１０は例えばベンジル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、２−メトキシエトキシメチル基又はし−ブチル
ジメチルシリル基等の水酸基の保護基を、ＲＩ １は例
えばメチル基又はベンズヒドリル基等のカルボキシル基
の保護基をそれぞれ示す〕ケリダム酸（１）を化合物（
２）に変換する工程は、例えばエーテル、酢酸エチル又
はメタノール等の不活性溶媒中で、化合物（１）をジフ
ェニルジアゾメタン又はジアゾメタン等で２０℃〜８０
℃で１時間ないし１０時間処理して、ジエステル体とな
した後、該ジエステル体を、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド又はテトラヒドロフ
ラン等の不活性溶媒中、例えば炭酸カリウム又はＮ、Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン等の塩基の存在下で、例
えばベンジルクロリド又はベンジルプロミド等のアルキ
ル化剤で２０℃〜８０℃で１時間ないし１０時間処理す
ることにより行うことができる。
ジル基、２−メトキシエトキシメチル基又はし−ブチル
ジメチルシリル基等の水酸基の保護基を、ＲＩ １は例
えばメチル基又はベンズヒドリル基等のカルボキシル基
の保護基をそれぞれ示す〕ケリダム酸（１）を化合物（
２）に変換する工程は、例えばエーテル、酢酸エチル又
はメタノール等の不活性溶媒中で、化合物（１）をジフ
ェニルジアゾメタン又はジアゾメタン等で２０℃〜８０
℃で１時間ないし１０時間処理して、ジエステル体とな
した後、該ジエステル体を、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド又はテトラヒドロフ
ラン等の不活性溶媒中、例えば炭酸カリウム又はＮ、Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン等の塩基の存在下で、例
えばベンジルクロリド又はベンジルプロミド等のアルキ
ル化剤で２０℃〜８０℃で１時間ないし１０時間処理す
ることにより行うことができる。
なお、水酸基の保護とカルボキシル基の保護とを同時に
行うには、該アルキル化剤の使用量をかえるだけで行う
ことができる。
行うには、該アルキル化剤の使用量をかえるだけで行う
ことができる。
化合物（２）を化合物（３）に変換する工程は、例えば
メタノール又はテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、
例えば炭酸カリウム又は水酸化ナトリウム等の塩基の１
当量を含む水溶液で化合物（２）を処理してハーフエス
テル体となした後、該ハーフエステル体を、ジフェニル
エーテル、トリクロルベンゼン又はキノリン等の高沸点
不活性有機溶媒中、場合によっては銅粉等の触媒を加え
て、１６０℃〜２００℃で１時間〜２０時間加熱するこ
とにより行うことができる。
メタノール又はテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、
例えば炭酸カリウム又は水酸化ナトリウム等の塩基の１
当量を含む水溶液で化合物（２）を処理してハーフエス
テル体となした後、該ハーフエステル体を、ジフェニル
エーテル、トリクロルベンゼン又はキノリン等の高沸点
不活性有機溶媒中、場合によっては銅粉等の触媒を加え
て、１６０℃〜２００℃で１時間〜２０時間加熱するこ
とにより行うことができる。
化合物（３）を化合物（４）に変換する工程は、例えば
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン又はテトラヒドロフ
ラン等の不活性溶媒中、低温、好ましくは一７０℃〜−
５０℃の範囲で、例えば水素化リチウムアルミニウム又
は水素化ジイソプロピルアルミニウム等の金居水素化物
を１〜３当量以内使用して化合物（３）を処理すること
により行なうことができる。
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン又はテトラヒドロフ
ラン等の不活性溶媒中、低温、好ましくは一７０℃〜−
５０℃の範囲で、例えば水素化リチウムアルミニウム又
は水素化ジイソプロピルアルミニウム等の金居水素化物
を１〜３当量以内使用して化合物（３）を処理すること
により行なうことができる。
なお、ケリダム酸の代りに２−カルボキシ−４−ヒドロ
キシ−５−メトキシ−ピリジンを出発原料として、前記
同様に行なうと相当するピコリンアルデヒドを得ること
ができる。
キシ−５−メトキシ−ピリジンを出発原料として、前記
同様に行なうと相当するピコリンアルデヒドを得ること
ができる。
ピコリンアルデヒド誘導体（４）を原料とする化合物（
Ｖ）類の製造は下記の製造ルートにより行なうことがで
きる。
Ｖ）類の製造は下記の製造ルートにより行なうことがで
きる。
〔式中、Ｒ１、Ｒ１及びＢは前記の意味を有し、Ｘは塩
素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子を、
Ｙは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を、Ｒ″は水素原
子又は例えばベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、２
−メトキシエトキシメチル基若しくはｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基等の水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 化合物（４）を増炭反応に付して化合物（５）に変換す
る工程は、化合物（４）にリンイリド化合物を、例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド又はメタノール等の不活性溶媒中、１０℃〜
８０℃で１時間〜ｌＯ時間反応させることにより行なう
ことができる。また、ホスホニウム塩を、例えば水素化
ナトリウム、ブチルリチウム、ナトリウムメトキシド又
は炭酸水素ナトリウム等の塩基で処理して反応系内に該
リンイリド化合物を発生させることによっても前記と同
様の増炭反応を行なうことができる。
素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子を、
Ｙは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を、Ｒ″は水素原
子又は例えばベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、２
−メトキシエトキシメチル基若しくはｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル基等の水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 化合物（４）を増炭反応に付して化合物（５）に変換す
る工程は、化合物（４）にリンイリド化合物を、例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド又はメタノール等の不活性溶媒中、１０℃〜
８０℃で１時間〜ｌＯ時間反応させることにより行なう
ことができる。また、ホスホニウム塩を、例えば水素化
ナトリウム、ブチルリチウム、ナトリウムメトキシド又
は炭酸水素ナトリウム等の塩基で処理して反応系内に該
リンイリド化合物を発生させることによっても前記と同
様の増炭反応を行なうことができる。
上記増炭反応により製造された化合物（５）の前駆体の
側鎖中にエステル基又はカルボニル基が存在する場合に
は、例えばメタノール中での水素化ホウ素ナトリウム、
テトラヒドロフラン中での水素化アルミニウムリチウム
又は塩化メチレン中での水素化ジイソブチル等の溶媒及
び金属水素化物との組み合せにより、−７０’Ｃ〜８０
℃で１時間〜２０時間処理することにより該エステル基
又は該カルボニル基を閉環反応に必要な水酸基に変換す
る。
側鎖中にエステル基又はカルボニル基が存在する場合に
は、例えばメタノール中での水素化ホウ素ナトリウム、
テトラヒドロフラン中での水素化アルミニウムリチウム
又は塩化メチレン中での水素化ジイソブチル等の溶媒及
び金属水素化物との組み合せにより、−７０’Ｃ〜８０
℃で１時間〜２０時間処理することにより該エステル基
又は該カルボニル基を閉環反応に必要な水酸基に変換す
る。
化合物（５）の１脱保護反応により化合物（１０）を製
造する工程は、公知の水酸基の保護基の脱離方法により
行なうことができる６例えばＲｌｏがｐ−メトキシベン
ジル基又は２−メトキシエトキシメチル基である場合に
は、例えばエーテル又はテトラヒドロフラン等の不活性
溶媒中、例えば塩酸又はトリフルオロ酢酸等の酸で処理
することにより、該脱保護工程を行なうことができる。
造する工程は、公知の水酸基の保護基の脱離方法により
行なうことができる６例えばＲｌｏがｐ−メトキシベン
ジル基又は２−メトキシエトキシメチル基である場合に
は、例えばエーテル又はテトラヒドロフラン等の不活性
溶媒中、例えば塩酸又はトリフルオロ酢酸等の酸で処理
することにより、該脱保護工程を行なうことができる。
また、Ｒ″。
がｔｅｒｔ−ブチルジメチル基である場合には、例えば
テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、例えばフッ化カ
リウム、テトラブチルアンモニウム フルオリド等で処
理することにより該脱保護工程を行なうことができる。
テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、例えばフッ化カ
リウム、テトラブチルアンモニウム フルオリド等で処
理することにより該脱保護工程を行なうことができる。
さらに、Ｒｌｏがベンジル基を示す場合には、例えばメ
タノール、テトラヒドロフラン又はＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の不活性溶媒中、例えば１０％パラジウム
炭素、パラジウム黒又は酸化白金等の金属触媒を用い、
常温、水素雰囲下２０℃〜８０℃、１時間〜１０時間加
水素分解を行なうことにより該脱保護工程を行なうこと
ができる。なお、この還元による脱保護工程の際に、ピ
リジン環の側鎖中に二重結合又は三重結合が存在する場
合には、族基も水素化される。したがって、製造する化
合物により水酸基の保護基又は反応試薬を適宜選択する
ことが必要である。また、該増炭反応の際に使用される
該リンイリド化合物又は該ホスホニウム化合物は市販又
は公知化合物を適宜使用できる。
タノール、テトラヒドロフラン又はＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の不活性溶媒中、例えば１０％パラジウム
炭素、パラジウム黒又は酸化白金等の金属触媒を用い、
常温、水素雰囲下２０℃〜８０℃、１時間〜１０時間加
水素分解を行なうことにより該脱保護工程を行なうこと
ができる。なお、この還元による脱保護工程の際に、ピ
リジン環の側鎖中に二重結合又は三重結合が存在する場
合には、族基も水素化される。したがって、製造する化
合物により水酸基の保護基又は反応試薬を適宜選択する
ことが必要である。また、該増炭反応の際に使用される
該リンイリド化合物又は該ホスホニウム化合物は市販又
は公知化合物を適宜使用できる。
化合物（４）を化合物（６）に変換する工程は、例えば
メタノール中での水素化ホウ素ナトリウム、テトラヒド
ロフラン中での水素化リチウムアルミニウム又は酢酸中
での水素化シアノホウ素ナトリウム等の溶媒−還元剤の
組み合せの条件下で行なうことができ、特に好ましい組
合せは酢酸中での水素化シアノホウ素ナトリウムである
。
メタノール中での水素化ホウ素ナトリウム、テトラヒド
ロフラン中での水素化リチウムアルミニウム又は酢酸中
での水素化シアノホウ素ナトリウム等の溶媒−還元剤の
組み合せの条件下で行なうことができ、特に好ましい組
合せは酢酸中での水素化シアノホウ素ナトリウムである
。
化合物（３）を化合物（６）に変換する工程は、例えば
テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、水素化リチウム
アルミニウム等の還元剤で化合物（３）を処理すること
により行なうことができる。
テトラヒドロフラン等の不活性溶媒中、水素化リチウム
アルミニウム等の還元剤で化合物（３）を処理すること
により行なうことができる。
化合物（６）を化合物（７）にする工程は、化合物（６
）を例えばピリジン、トリエチルアミン。
）を例えばピリジン、トリエチルアミン。
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基中、例えば塩化
チオニル又は五塩化リン等のハロゲン化剤を１〜５当量
用いて０℃〜８０℃で１時間〜１０時間処理することに
より行なうことができる。なお、該工程は、必要に応じ
て塩化メチレン、ベンゼン又はテトラヒドロフラン等の
不活性溶媒で希釈して行なうこともできる。
チオニル又は五塩化リン等のハロゲン化剤を１〜５当量
用いて０℃〜８０℃で１時間〜１０時間処理することに
より行なうことができる。なお、該工程は、必要に応じ
て塩化メチレン、ベンゼン又はテトラヒドロフラン等の
不活性溶媒で希釈して行なうこともできる。
化合物（７）を化合物（９）へ変換する工程は、−紋穴
ＨＹ−Ｂ−○Ｒ１１〔式中、Ｙ、Ｂ及びＲｌ １は前記
の意味を有する〕で表される化合物（８）を、例えば水
素化ナトリウム又はブチルリチウム等の塩基で処理後、
例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン又はジオキサン等の不活性溶媒中、−７０℃〜８０
℃、１時間〜２０時間、化合物（７）と反応させる二と
により行う二とができる１次に、化合物（８）の水酸基
の保護基を除去することにより化合物（１０）を製造す
ることができる。また、化合物（８）は市販品又は公知
化合物を利用できる。
ＨＹ−Ｂ−○Ｒ１１〔式中、Ｙ、Ｂ及びＲｌ １は前記
の意味を有する〕で表される化合物（８）を、例えば水
素化ナトリウム又はブチルリチウム等の塩基で処理後、
例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン又はジオキサン等の不活性溶媒中、−７０℃〜８０
℃、１時間〜２０時間、化合物（７）と反応させる二と
により行う二とができる１次に、化合物（８）の水酸基
の保護基を除去することにより化合物（１０）を製造す
ることができる。また、化合物（８）は市販品又は公知
化合物を利用できる。
一般式（■）で表される化合物は、公知の方法例えばケ
ミカル・アンド・ファーマシューテイカル・ブレチン（
Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ）、第２５巻。
ミカル・アンド・ファーマシューテイカル・ブレチン（
Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ）、第２５巻。
３１１５〜３１１９頁（１９７７年）及び日本化学会誌
、７８５〜８０１頁（１９８１年）等に記載の方法に準
じて２− （２−アミノチアゾール−４−イル）グリオ
キシルｍ誘導体又は２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エステル誘導体を用
いて製造することができる。
、７８５〜８０１頁（１９８１年）等に記載の方法に準
じて２− （２−アミノチアゾール−４−イル）グリオ
キシルｍ誘導体又は２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エステル誘導体を用
いて製造することができる。
次に本発明のセフェム化合物の種々の細菌に対する試験
管内抗菌活性を下記の寒天平板希釈法により測定した〔
日本化学療法学会標準法：ケモテラビ−（Ｃｈｅｍｏ
ｔｅｒａｐｙ ）、第２９巻、７６〜７９頁（１９８１
年）参照〕、ミューラー・ヒントン・ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒｌｌｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で一夜培養した
各試験菌株の一白金耳（接種菌１１ ： １０’ ＣＦ
Ｕ／ｍＱ ）をミューラー・ヒントン・アガー（ＭＨａ
ｇａｒ）に接種した。この培地には抗菌剤が各濃度で含
まれており、３７℃で１６時間培養した後、最小発育阻
止濃度（ＭＩＣ：μｇ／Ｕａｆｌ）を測定した。比較化
合物としてセフオタキシム（ｃｅｆｏｔａｘｉｍｅ）及
びセフタジジム（ｃｅｆｔａｚｉｄｉｍｅ）を用いた。
管内抗菌活性を下記の寒天平板希釈法により測定した〔
日本化学療法学会標準法：ケモテラビ−（Ｃｈｅｍｏ
ｔｅｒａｐｙ ）、第２９巻、７６〜７９頁（１９８１
年）参照〕、ミューラー・ヒントン・ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒｌｌｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で一夜培養した
各試験菌株の一白金耳（接種菌１１ ： １０’ ＣＦ
Ｕ／ｍＱ ）をミューラー・ヒントン・アガー（ＭＨａ
ｇａｒ）に接種した。この培地には抗菌剤が各濃度で含
まれており、３７℃で１６時間培養した後、最小発育阻
止濃度（ＭＩＣ：μｇ／Ｕａｆｌ）を測定した。比較化
合物としてセフオタキシム（ｃｅｆｏｔａｘｉｍｅ）及
びセフタジジム（ｃｅｆｔａｚｉｄｉｍｅ）を用いた。
その結果を次表に示す。
従って一般式（１）の本発明化合物は抗菌剤として特に
ダラム陽性菌及び緑膿菌などのブドウ糖非発酵ダラム陰
性桿菌を含むダラム陰性菌を起炎菌とするヒトの細菌感
染症の治療のために使用することができる。
ダラム陽性菌及び緑膿菌などのブドウ糖非発酵ダラム陰
性桿菌を含むダラム陰性菌を起炎菌とするヒトの細菌感
染症の治療のために使用することができる。
本発明のセフェム化合物は当分野で公知の固体又は液体
の賦形剤の担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外
部投与に適した医薬製剤の形で使用することができる。
の賦形剤の担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外
部投与に適した医薬製剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては、注射剤。
シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤、カプセル剤。
粒剤等の固形剤及び軟膏、坐剤等の外用剤等が挙げられ
る。また、これらの製剤には必要に応じて助剤、安定剤
、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等の通常使
用される添加剤が含まれていてもよい、添加剤としては
注射用蒸留水、リンゲル液、グルコース、ショ糖シロッ
プ、ゼラチン。
る。また、これらの製剤には必要に応じて助剤、安定剤
、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等の通常使
用される添加剤が含まれていてもよい、添加剤としては
注射用蒸留水、リンゲル液、グルコース、ショ糖シロッ
プ、ゼラチン。
食用油、カカオ脂、エチレングリコール、ショ糖、とう
もろこし澱粉、ステアリン酸マグネシウム、タルク等が
挙げられる。
もろこし澱粉、ステアリン酸マグネシウム、タルク等が
挙げられる。
本発明のセフェム化合物を抗菌剤として便用する場合、
その投与量は患者の年齢、性別等の状態によって異なる
が１通常、１日当り、１〜ｌｏｏ＋＋＋ｇ／電の範囲で
使用され、１日当り、５〜３０ｍｇ／−で２〜４回に分
けて投与するのが好ましい。
その投与量は患者の年齢、性別等の状態によって異なる
が１通常、１日当り、１〜ｌｏｏ＋＋＋ｇ／電の範囲で
使用され、１日当り、５〜３０ｍｇ／−で２〜４回に分
けて投与するのが好ましい。
本発明は更に下記の実施例及び参考例を挙げて本発明の
詳細な説明するが、これらの例は単なる実例であって本
発明を限定するものではなく、又本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。
詳細な説明するが、これらの例は単なる実例であって本
発明を限定するものではなく、又本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。
実施例及び参考例の薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）
はＴＬＣプレートとしてメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製のＫ
ｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０Ｆ、、、を、検出法としてＵＶ
検出器を用いた。カラム用シリカゲルは和光純薬工業社
製のワコーゲル Ｃ−３００又はケムコ（Ｋｅｍｃｏ）
社製のＬＣ−５ＯＲＢ ＲＰ−１８を、また分取用プ
レートはメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製のメルク・アート（
Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ） ５７１７を用いた。ＮＭＲスペ
クトルは内部基阜として、重ジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ、 ）又は重クロロホルム（ＣＤＣ１，）溶
液で測定する場合はテトラメチルシラン（ＴＭＳ） 、
重水（Ｄ、Ｏ）溶液で測定する場合は２，２−ジメチル
−２−シラペンタン−５−スルホナート（ＤＳＳ）を用
いて、パリアン（Ｖｒｉａｎ）社製のＸ Ｌ −２００
（２００Ｎ１１ｚ）又は日立製作所社製のＲ−４０（９
０にＨｚ）型スペクトロメータで測定し、全δ値をｐｐ
ｍで示した。
はＴＬＣプレートとしてメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製のＫ
ｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０Ｆ、、、を、検出法としてＵＶ
検出器を用いた。カラム用シリカゲルは和光純薬工業社
製のワコーゲル Ｃ−３００又はケムコ（Ｋｅｍｃｏ）
社製のＬＣ−５ＯＲＢ ＲＰ−１８を、また分取用プ
レートはメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製のメルク・アート（
Ｍｅｒｃｋ Ａｒｔ） ５７１７を用いた。ＮＭＲスペ
クトルは内部基阜として、重ジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ、 ）又は重クロロホルム（ＣＤＣ１，）溶
液で測定する場合はテトラメチルシラン（ＴＭＳ） 、
重水（Ｄ、Ｏ）溶液で測定する場合は２，２−ジメチル
−２−シラペンタン−５−スルホナート（ＤＳＳ）を用
いて、パリアン（Ｖｒｉａｎ）社製のＸ Ｌ −２００
（２００Ｎ１１ｚ）又は日立製作所社製のＲ−４０（９
０にＨｚ）型スペクトロメータで測定し、全δ値をｐｐ
ｍで示した。
ＮＭＲ測定における記号は次のような意味である。
Ｓ：シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）
ｄ：ダブレット（ｄｏｕｂｌｅｔ）
ｔニトリブレット（ｔｒｉｐｌｅｔ）
ｑ：クワルテット（ｑｕａｒｔｅｔ）
ＡＢｑ ： Ａ Ｂ型りワルテット（ＡＢ ｔｙｐｅ
ｑｕａｒｔｅｔ）ｄｄ：ダブル ダブレット（ｄｏｕｂ
ｌｅ ｄｏｕｂｌｅＬ）ｄｔ：ダブルトリプレット（ｄ
ｏｕｂｌｅ ｔｒｉｐｌｅｌｍ マルチブレット（ａ＋
ｕ １ ｔ ｉ ｐ ｌｅ ｔ ）ｂｒニブロード（ｂ
ｒｏａｄ） ｊ：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇｃｏｎｓｔａ
ｎｔ）ｔｌｚ ： ヘルツ（Ｈｅｒｚ） Ｄ？ｌ５Ｏ−ｄ、 ： 重ジメチルスルホキシドＣＤＣ
ｌ、 ：重クロロホルム Ｄ、Ｏ・重水 実施例１ （１） ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−
（（Ｚ）−２−メトキシイミノ−２−（２−）す°チル
アミノチアゾールー４−イル）アセトアミドゴー３−セ
フェム−４−カルボキシラード２５０ＩＩ１ｇ （０，
２７ミリモル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（
２Ｈ）−キノリジンチオン５３１ｇ （０，３２ミリモ
ル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２．ＯｍＱに溶か
す、混液を室温で１時間攪拌する。
ｑｕａｒｔｅｔ）ｄｄ：ダブル ダブレット（ｄｏｕｂ
ｌｅ ｄｏｕｂｌｅＬ）ｄｔ：ダブルトリプレット（ｄ
ｏｕｂｌｅ ｔｒｉｐｌｅｌｍ マルチブレット（ａ＋
ｕ １ ｔ ｉ ｐ ｌｅ ｔ ）ｂｒニブロード（ｂ
ｒｏａｄ） ｊ：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇｃｏｎｓｔａ
ｎｔ）ｔｌｚ ： ヘルツ（Ｈｅｒｚ） Ｄ？ｌ５Ｏ−ｄ、 ： 重ジメチルスルホキシドＣＤＣ
ｌ、 ：重クロロホルム Ｄ、Ｏ・重水 実施例１ （１） ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−
（（Ｚ）−２−メトキシイミノ−２−（２−）す°チル
アミノチアゾールー４−イル）アセトアミドゴー３−セ
フェム−４−カルボキシラード２５０ＩＩ１ｇ （０，
２７ミリモル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（
２Ｈ）−キノリジンチオン５３１ｇ （０，３２ミリモ
ル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２．ＯｍＱに溶か
す、混液を室温で１時間攪拌する。
減圧下に溶媒を留去してジフェニルメチル ３−（６，
７，８，９−テトラヒドロキノリジニウム−２−イル）
チオメチル−７β−［（Ｚ）−２−メトキシイミノ−２
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−セフェム−４−カルボキシラード ヨウ
化物を含む残渣を得、精製することなく次工程に用いる
。
７，８，９−テトラヒドロキノリジニウム−２−イル）
チオメチル−７β−［（Ｚ）−２−メトキシイミノ−２
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−セフェム−４−カルボキシラード ヨウ
化物を含む残渣を得、精製することなく次工程に用いる
。
（２）上記反応（１）で得た残渣を塩化メチレン１．２
ｍΩに溶かし、水冷下にアニソール０．２５ｍＡとトリ
フルオロ酢酸１．２＋ａｆｌを加える。反応混液を室温
で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、残渣にジエ
チルエーテルを加え、沈澱物を枦取する。沈澱物を水１
０ＩＩＩＱに懸濁し、１５分間超音波処理を行なう。炉
液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＬＣ−
５ＯＲＢ ＲＰ−１８，Ｋｅｗｃ。
ｍΩに溶かし、水冷下にアニソール０．２５ｍＡとトリ
フルオロ酢酸１．２＋ａｆｌを加える。反応混液を室温
で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、残渣にジエ
チルエーテルを加え、沈澱物を枦取する。沈澱物を水１
０ＩＩＩＱに懸濁し、１５分間超音波処理を行なう。炉
液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＬＣ−
５ＯＲＢ ＲＰ−１８，Ｋｅｗｃ。
社、２０％メタノール−水で溶出）に付し、目的物を含
む両分を集め、減圧下に約２ａ＋ｆｌまでｔｌＡ縮する
。濃縮液を凍結乾燥して表記化合物４６ｍｇ （収串３
１％）を得る。
む両分を集め、減圧下に約２ａ＋ｆｌまでｔｌＡ縮する
。濃縮液を凍結乾燥して表記化合物４６ｍｇ （収串３
１％）を得る。
Ｎｌ’ｌＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．８６（２Ｈ
，ｎ＋）、２．００（２Ｈ，ｍ）。
，ｎ＋）、２．００（２Ｈ，ｍ）。
３．１６（２１１，ｍ）、３．３〜３．７（２）１．＋
ｎ）、３．８６（３）１．ｓ）。
ｎ）、３．８６（３）１．ｓ）。
４．４０（２Ｈ，ｍ）、４．５０（２）１．ｍ）、５．
０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）。
０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）。
５．６０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、６．７８（
ＩＨ，ｓ）、７．３０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０６（
ｉｌ＋、＋ｏ）、８．２２（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．３
４（１１１，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．５８（ＩＨ，ｂ
ｒ ｄ、、Ｉ：８）１ｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’
： ３４００，１７６０．＋６６０．１６２０．１５３
０実施例２ （１） ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−
（（Ｚ） −２−（１−メチル−１−ジフェニルメチル
オキシカルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミドゴー３
−セフェム−４−カルボキシラード３００ｍｇ （０，
２６ミリモル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（
２１１）−キノリジンチオン５３ｍｇ （０，３２ミリ
モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２．ＯｍＱに溶
かし、混液を室温で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留
去してジフェニルメチル３− （６，７，８，９−テト
ラヒドロキノリジニウム−２−イル）チオメチル−７β
−（（Ｚ） −２−（ｔ−メチル−１−ジフェニルメチ
ルオキシカルボニルエトキシイミノ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミドゴー３
−セフェム−４−カルボキシラード ヨウ化物を含む残
渣を得、精製することなく次工程に用いる。
ＩＨ，ｓ）、７．３０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０６（
ｉｌ＋、＋ｏ）、８．２２（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．３
４（１１１，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．５８（ＩＨ，ｂ
ｒ ｄ、、Ｉ：８）１ｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’
： ３４００，１７６０．＋６６０．１６２０．１５３
０実施例２ （１） ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−
（（Ｚ） −２−（１−メチル−１−ジフェニルメチル
オキシカルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミドゴー３
−セフェム−４−カルボキシラード３００ｍｇ （０，
２６ミリモル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（
２１１）−キノリジンチオン５３ｍｇ （０，３２ミリ
モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２．ＯｍＱに溶
かし、混液を室温で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留
去してジフェニルメチル３− （６，７，８，９−テト
ラヒドロキノリジニウム−２−イル）チオメチル−７β
−（（Ｚ） −２−（ｔ−メチル−１−ジフェニルメチ
ルオキシカルボニルエトキシイミノ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミドゴー３
−セフェム−４−カルボキシラード ヨウ化物を含む残
渣を得、精製することなく次工程に用いる。
（２）上記反応（１）で得た残渣を塩化メチレン１．５
ｍ Ｄ、に溶かし、水冷下にアニソール０．３＋ｎＱと
トリフルオロ酢酸１．５ｍＡを加える。反応混液な室温
で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、残渣にジエ
チルエーテルを加え、沈澱物を枦取する。
ｍ Ｄ、に溶かし、水冷下にアニソール０．３＋ｎＱと
トリフルオロ酢酸１．５ｍＡを加える。反応混液な室温
で１時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去し、残渣にジエ
チルエーテルを加え、沈澱物を枦取する。
沈澱物を水１０ｍ Ｑに懸濁し、飽和重曹水で溶解し、
炉液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＬＣ
−５ＯＲＢ： Ｋｅｍｃｏ社、１０％メタノール−水で
溶出）に付し、目的物を含む画分を集め、減圧下に約２
ＩＩＩＱまで濃縮する。濃縮液を凍結乾燥して表記化合
物５１ｍｇ （収率３０％）を得る。
炉液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＬＣ
−５ＯＲＢ： Ｋｅｍｃｏ社、１０％メタノール−水で
溶出）に付し、目的物を含む画分を集め、減圧下に約２
ＩＩＩＱまで濃縮する。濃縮液を凍結乾燥して表記化合
物５１ｍｇ （収率３０％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．３６（３Ｈ，ｓ
）、１．３８（３Ｈ，ｓ）、１．８５（２Ｈ，ｍ）、１
．９５（２Ｈ，ｍ）、３．１２（２１１，ｍ）、３．３
〜３．６（２）１ 、ｍ）、４．２２（ｉｌｌ 、ｍ
）、 ４．５０（２１＋ 、 ｍ ） 、４．８２（Ｉ
ＩＩ 、 ｍ ）。
）、１．３８（３Ｈ，ｓ）、１．８５（２Ｈ，ｍ）、１
．９５（２Ｈ，ｍ）、３．１２（２１１，ｍ）、３．３
〜３．６（２）１ 、ｍ）、４．２２（ｉｌｌ 、ｍ
）、 ４．５０（２１＋ 、 ｍ ） 、４．８２（Ｉ
ＩＩ 、 ｍ ）。
５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４ｔｌｚ）、５．６２（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）。
，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）。
６．７２（ＩＩＩ、ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）
、８．１０（ＩＨ，ｍ）、８．３６（２１１，ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，１７６０，
１６２０．１５３０実施例３ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード３００ｍｇ （０，２８ミリ
モル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）キ
ノリジンチオン５０ｍｇ （０，３ミリモル）より実施
例１の（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合
物４６ｍｇ （収率３０％）を得る。
、８．１０（ＩＨ，ｍ）、８．３６（２１１，ｍ） ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，１７６０，
１６２０．１５３０実施例３ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード３００ｍｇ （０，２８ミリ
モル）と６．７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）キ
ノリジンチオン５０ｍｇ （０，３ミリモル）より実施
例１の（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合
物４６ｍｇ （収率３０％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．８２（２Ｈ，
ｍ）、２．００（２Ｈ，ｍ）、３．１０（２Ｈ，ｍ）、
３．３０（２Ｈ，ｍ）、４．４０（３Ｈ，ｍ）、４．５
６（ＬＨ，ｄ。
ｍ）、２．００（２Ｈ，ｍ）、３．１０（２Ｈ，ｍ）、
３．３０（２Ｈ，ｍ）、４．４０（３Ｈ，ｍ）、４．５
６（ＬＨ，ｄ。
Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．００（１１（、ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）
、５．５８（１８，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．６
４（ＩＨ，ｓ）、７．１６（２８，ｂｒ ｓ）、８．０
２（ＬＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．２２（ＩＨ，
ｂｒ ｓ）、８．５０（ＩＨ，ｄ。
、５．５８（１８，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．６
４（ＩＨ，ｓ）、７．１６（２８，ｂｒ ｓ）、８．０
２（ＬＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．２２（ＩＨ，
ｂｒ ｓ）、８．５０（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、９．３８（１）１．ｂｒ ｄ、Ｊ＝８ｔ
ｌｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７
６５，１６２０．１５３０実施例４ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ ５）−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボキシラード３５４ｍｇ （０，３３ミリモ
ル）と６．７，８゜９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キ
ノリジンチオン５０ｍｇ（０，３０ミリモル）より実施
例２の（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合
物ｕ３ｍｇ（収率５８％）を得る。
ｌｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７
６５，１６２０．１５３０実施例４ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ ５）−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボキシラード３５４ｍｇ （０，３３ミリモ
ル）と６．７，８゜９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キ
ノリジンチオン５０ｍｇ（０，３０ミリモル）より実施
例２の（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合
物ｕ３ｍｇ（収率５８％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．３０（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、１．８６（２Ｈ，ｍ）。
Ｊ＝６Ｈｚ）、１．８６（２Ｈ，ｍ）。
２．００（２１１，ｍ）、３．１２（２Ｈ，ｍ）、３．
３０（２Ｈ，ｍ） 、４．２２（ＩＨ。
３０（２Ｈ，ｍ） 、４．２２（ＩＨ。
ｄ 、Ｊ＝１６１１ｚ） 、４．３５（Ｉｌｌ 、ｍ）
、４．４６（２１１、ｍ） 、４．８０（１）１ 。
、４．４６（２１１、ｍ） 、４．８０（１）１ 。
ｄ、Ｊ＝１６１１ｚ）、５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈ
ｚ）、５．７０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４及び８１１ｚ）、
６．７８（１１１，ｓ）、７．２０（２１＋、ｂｒ ｓ
）、８．１２（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４
４（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．６０（ＬＨ，ｄ。
ｚ）、５．７０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４及び８１１ｚ）、
６．７８（１１１，ｓ）、７．２０（２１＋、ｂｒ ｓ
）、８．１２（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４
４（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．６０（ＬＨ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃＩｌｌ−’ ： ３４００，１７６
０，１６２０，１５９０．１５３０実施例５ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシ’） −２−（
２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキ
シラード３１７ｍｇ （０，３３ミリモル）と６．７，
８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジンチオン
５０ｍｇ （０，３０ミリモル）より実施例２の（１）
及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物９７ｍｇ
（収率５０％）を得る。
０，１６２０，１５９０．１５３０実施例５ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシ’） −２−（
２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキ
シラード３１７ｍｇ （０，３３ミリモル）と６．７，
８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジンチオン
５０ｍｇ （０，３０ミリモル）より実施例２の（１）
及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物９７ｍｇ
（収率５０％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．８８（２Ｈ，ｍ）
、２．００（２Ｈ，ｍ）、３．１２（２Ｈ，ｍ）、３．
４０（２Ｈ，ｍ）、４．３０（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、４．４４（２Ｈ，ｌ１１）、４．７６（１８，ｄ
、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．８８（ＬＨ，ｓ）、５．００（
Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．１８（ＬＨ，ｓ）、５
．６０（ＬＨ，ｍ）、６．９５（ＩＨ，ｓ）、７．３０
（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０８（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝
６Ｈｚ）。
、２．００（２Ｈ，ｍ）、３．１２（２Ｈ，ｍ）、３．
４０（２Ｈ，ｍ）、４．３０（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、４．４４（２Ｈ，ｌ１１）、４．７６（１８，ｄ
、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．８８（ＬＨ，ｓ）、５．００（
Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．１８（ＬＨ，ｓ）、５
．６０（ＬＨ，ｍ）、６．９５（ＩＨ，ｓ）、７．３０
（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０８（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝
６Ｈｚ）。
８．４６（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）［Ｒ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，
１７６０，１６２０．１５３０実施例６ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−ジフェニルメチルオキシメトキシイミノ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミドクー３−セフェム−４−カルボキシラード３
００ｍｇ（０，２６ミリモル）と６．７，８．９−テト
ラヒドロ−２（２１１）−キノリジンチオン５０ｍｇ
（０，３０ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２
）と同様の反応を行ない表記化合物１０２ｍｇ （収率
６２％）を得る。
＝６Ｈｚ）［Ｒ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，
１７６０，１６２０．１５３０実施例６ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−ジフェニルメチルオキシメトキシイミノ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミドクー３−セフェム−４−カルボキシラード３
００ｍｇ（０，２６ミリモル）と６．７，８．９−テト
ラヒドロ−２（２１１）−キノリジンチオン５０ｍｇ
（０，３０ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２
）と同様の反応を行ない表記化合物１０２ｍｇ （収率
６２％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．８２（２＋１．ｌ
１１）、１．９８（２）１．ｍ）、３．１０（２Ｈ，ｍ
）、３．３０（２Ｈ，ｍ）、４．１８（２Ｈ，ｂｒ ｓ
）、４．２２（１）１゜ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．４０
（ＩＨ，ｍ）、４．６０（ＩＨ，ｍ）、４．７５（ｉｌ
ｌ。
１１）、１．９８（２）１．ｍ）、３．１０（２Ｈ，ｍ
）、３．３０（２Ｈ，ｍ）、４．１８（２Ｈ，ｂｒ ｓ
）、４．２２（１）１゜ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．４０
（ＩＨ，ｍ）、４．６０（ＩＨ，ｍ）、４．７５（ｉｌ
ｌ。
ｄ 、Ｊ＝１６Ｈｚ） 、４．９８（１Ｂ 、ｄ 、Ｊ
：＝４Ｈｚ）、５．６０（ＩＨ、ｄｄ 、、ｂ４及び８
Ｈｚ）、６．８２（ｌｔｌ、ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂ
ｒ ｓ）、８．０２（１１１，ｄ、Ｊ”６Ｈｚ）、８．
４４（ＩＨ，ｓ）、８．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃＩｌｌ−’ ： ３４００，１７６
０，１６２０．１５３０実施例７ 之二五 ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミドクー３−セフェム−４
−カルボキシラード１００ｍｇ（０，１１ミリモル）と
３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ）
（１，４）オキサジンチオン２０Ｉｌ１ｇ （０，１
２ミリモル）より、実施例１の（１）及び（２）と同様
の反応を行ない表記化合物２９ｍｇ （収率４８％）を
得る。
：＝４Ｈｚ）、５．６０（ＩＨ、ｄｄ 、、ｂ４及び８
Ｈｚ）、６．８２（ｌｔｌ、ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂ
ｒ ｓ）、８．０２（１１１，ｄ、Ｊ”６Ｈｚ）、８．
４４（ＩＨ，ｓ）、８．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃＩｌｌ−’ ： ３４００，１７６
０，１６２０．１５３０実施例７ 之二五 ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミドクー３−セフェム−４
−カルボキシラード１００ｍｇ（０，１１ミリモル）と
３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ）
（１，４）オキサジンチオン２０Ｉｌ１ｇ （０，１
２ミリモル）より、実施例１の（１）及び（２）と同様
の反応を行ない表記化合物２９ｍｇ （収率４８％）を
得る。
Ｎ？ＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： ３．３〜３．６（
２Ｈ，ＩＯ）、３．８２（３ｔｌ、ｓ）。
２Ｈ，ＩＯ）、３．８２（３ｔｌ、ｓ）。
４．２０（２ｔｌ、ｍ）、４．５０（４１（、ａ＋）、
５．０Ｏ（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝４及び１６Ｈｚ）、５．１
２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、５．５８（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７８（１）（、ｓ）、７．
２８（２１，ｂｒ ｓ）、８．１８（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ
：６Ｈｚ）、８．３０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．５６（
ＩＩ（、ｄ。
５．０Ｏ（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝４及び１６Ｈｚ）、５．１
２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、５．５８（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７８（１）（、ｓ）、７．
２８（２１，ｂｒ ｓ）、８．１８（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ
：６Ｈｚ）、８．３０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．５６（
ＩＩ（、ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、９．５５（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ″’ ： ３４００，１７６５
，１６２０．１５３０実施例８ キシラード ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミドクー３−セフェム
−４−カルボキシラード２１０ｍｇ （０，１８ミリモ
ル）と３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１
−ｃ） （１，４）オキサジンチオン３０ｍｇ （０，
１８ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同
様の反応により表記化合物２１ｍｇ （収率１８％）を
得る６ ＨＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ、）δ： １．３８（６Ｈ，ｓ）
、３．３０（２Ｈ，＋ｎ）、４’、２２（２Ｈ，１１）
、４．２４（１１（、ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．５６（
２Ｈ，＋ｏ）、４．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４）１ｚ）
、５．００（３Ｈ，ｍ）、５．６０（１８，ｌ１１）、
６．７０（ＩＨ，ｓ）、７．１８（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、
８．１５（１８，ｂｒ ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）。
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ″’ ： ３４００，１７６５
，１６２０．１５３０実施例８ キシラード ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミドクー３−セフェム
−４−カルボキシラード２１０ｍｇ （０，１８ミリモ
ル）と３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１
−ｃ） （１，４）オキサジンチオン３０ｍｇ （０，
１８ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同
様の反応により表記化合物２１ｍｇ （収率１８％）を
得る６ ＨＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ、）δ： １．３８（６Ｈ，ｓ）
、３．３０（２Ｈ，＋ｎ）、４’、２２（２Ｈ，１１）
、４．２４（１１（、ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．５６（
２Ｈ，＋ｏ）、４．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４）１ｚ）
、５．００（３Ｈ，ｍ）、５．６０（１８，ｌ１１）、
６．７０（ＩＨ，ｓ）、７．１８（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、
８．１５（１８，ｂｒ ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）。
８．４８（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．５５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝４Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，
１７６０，１６８５，１６２０．１５３０実施例９ 之二ｔ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ Ｓ） −１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード２００ｍｇ （０，１９ミリ
モル）と３，４−ジヒドロ−８（ＬＨ）−ピリド（２，
１−ｃ） （１，４）オキサジンチオン５軸ｇ （０，
３０ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同
様の反応を行ない表記化合物５３ｍｇ （収率４４％）
を得る。
＝４Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，
１７６０，１６８５，１６２０．１５３０実施例９ 之二ｔ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ Ｓ） −１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード２００ｍｇ （０，１９ミリ
モル）と３，４−ジヒドロ−８（ＬＨ）−ピリド（２，
１−ｃ） （１，４）オキサジンチオン５軸ｇ （０，
３０ミリモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同
様の反応を行ない表記化合物５３ｍｇ （収率４４％）
を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ・１．３０（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）、４．２０（２Ｈ，ａ＋）。
＝６Ｈｚ）、４．２０（２Ｈ，ａ＋）。
４．３０（ｌｔｌ＋ｍ）＋４−４−５８（２８９＋４−
７４（１）１．ｄ＋Ｊ＝１２Ｈｚ）＋５．００（１８，
ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．０２（２Ｈ，ｍ）、５．６４（
ＬＨ，ｄｄ。
７４（１）１．ｄ＋Ｊ＝１２Ｈｚ）＋５．００（１８，
ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．０２（２Ｈ，ｍ）、５．６４（
ＬＨ，ｄｄ。
Ｊ＝４及び８１１ｚ）、６．７８（ＩＨ，ｓ）、７．２
０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）。
０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）。
８．２２（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４０（
ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．６０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ＩＲ（ＫＢｒ） ａＩｌｌ−’ ： ３４００，１７６
０．＋６２０．１５９０．１５３０実施例１Ｏ ナトリウム ７β−（（Ｚ） −２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（１−カルボキシラードビニ
ルオキシイミノ）アセトアミド） −３−（３，４−ジ
ヒドロジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−〔
（Ｚ）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビニ
ルオキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４−
カルボキシラード１７１＋ｎｇ （０，１８ミリモル）
と３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ
） （１，４）オキサジンチオン３０ｍｇ（０，１８ミ
リモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同様の反
応を行ない表記化合物４６ｍｇ （収率４０％）を得る
。
ＩＨ，ｂｒ ｓ）、８．６０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ＩＲ（ＫＢｒ） ａＩｌｌ−’ ： ３４００，１７６
０．＋６２０．１５９０．１５３０実施例１Ｏ ナトリウム ７β−（（Ｚ） −２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（１−カルボキシラードビニ
ルオキシイミノ）アセトアミド） −３−（３，４−ジ
ヒドロジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−〔
（Ｚ）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビニ
ルオキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４−
カルボキシラード１７１＋ｎｇ （０，１８ミリモル）
と３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ
） （１，４）オキサジンチオン３０ｍｇ（０，１８ミ
リモル）より、実施例２の（１）及び（２）と同様の反
応を行ない表記化合物４６ｍｇ （収率４０％）を得る
。
Ｎ）ＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： ３．２０（２Ｈ，ｍ
）、４．０〜４．８（６Ｈ，＋ｎ）。
）、４．０〜４．８（６Ｈ，＋ｎ）。
４．８２（ＩＨ，ｓ）、５．００（１）１．ｄ、Ｊ＝４
Ｈｚ）、５．０２（２Ｈ，ｍ）。
Ｈｚ）、５．０２（２Ｈ，ｍ）。
５、１２（ＩＨ，ｓ）、５．５６（ＬＨ，ｍ）、６．９
０（ＩＨ，ｓ）、６．２２（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．１
０（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６１（ｚ）、８．５０（ＩＨ
，ｄ。
０（ＩＨ，ｓ）、６．２２（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．１
０（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６１（ｚ）、８．５０（ＩＨ
，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、８．６２（ＩＨ，５）
ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７６０，
１６２０．１５３０実施例１１ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラード２００ｍｇ （０，２１ミリモル）
と２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジンチオン
３８ｍｇ （０，２６ミリモル）より、実施例１の（１
）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物３０ｍｇ
（収率２６％）を得る。
１６２０．１５３０実施例１１ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラード２００ｍｇ （０，２１ミリモル）
と２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジンチオン
３８ｍｇ （０，２６ミリモル）より、実施例１の（１
）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物３０ｍｇ
（収率２６％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： ２．３６（２１１
，＋ｎ）、３．２０−３．６２（４Ｈ，ｍ） 。
，＋ｎ）、３．２０−３．６２（４Ｈ，ｍ） 。
３．８２（３Ｈ，ｓ）、４．５２（２１＋、ｍ）、４．
６２（２Ｈ，ｍ） 、５．００（Ｉｔｌ 、ｄ 、Ｊ＝
４１１ｚ） 、５．５６（ｉｌｌ 、ｄｄ 、Ｊ＝４及
び８Ｈｚ）、６．７６（ＩＨ，ｓ）、７．２４（２１！
、ｂｒ ｓ）、８．１０（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６１１
ｚ）。
６２（２Ｈ，ｍ） 、５．００（Ｉｔｌ 、ｄ 、Ｊ＝
４１１ｚ） 、５．５６（ｉｌｌ 、ｄｄ 、Ｊ＝４及
び８Ｈｚ）、６．７６（ＩＨ，ｓ）、７．２４（２１！
、ｂｒ ｓ）、８．１０（ＩＨ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝６１１
ｚ）。
８．３４（ＩＩＩ、ｂｒ ｓ）、８．６８（１１１，ｄ
、Ｊ＝８１１ｚ）、９．５２（ＩＨ。
、Ｊ＝８１１ｚ）、９．５２（ＩＨ。
ｂｒ ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７６５，
１６２０．１５３０実施例１２ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−
４−カルボキシラード２５０ｍｇ （０，２１ミリモル
）と２，３−ジヒドロ−７（ＬＨ）−インドリジンチオ
ン３８ｍｇ （０，２６ミリモル）より、実施例２の（
１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物５３ｍ
ｇ （収率３９％）を得る。
１６２０．１５３０実施例１２ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−
４−カルボキシラード２５０ｍｇ （０，２１ミリモル
）と２，３−ジヒドロ−７（ＬＨ）−インドリジンチオ
ン３８ｍｇ （０，２６ミリモル）より、実施例２の（
１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物５３ｍ
ｇ （収率３９％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．３６（３）１
．ｓ）、１．３８（３Ｈ，ｓ）、２．３８（２Ｈ、ｍ
） 、３．２０−３．６０（４ｔ（、ｌ１１） 、４．
２８（ＩＨ、ｄ 、、Ｊ’１２ｔｌｚ ） 。
．ｓ）、１．３８（３Ｈ，ｓ）、２．３８（２Ｈ、ｍ
） 、３．２０−３．６０（４ｔ（、ｌ１１） 、４．
２８（ＩＨ、ｄ 、、Ｊ’１２ｔｌｚ ） 。
４．６８（２Ｈ，ｍ）、４．７８（１１１，ｄ、ＪＪ２
ｔｌｚ）、５．００（ＩＨ，ｄ。
ｔｌｚ）、５．００（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝４Ｈｚ）、５．６４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４及び８１
１ｚ）、６．７４（ＩＩＩ、ｓ）。
１ｚ）、６．７４（ＩＩＩ、ｓ）。
７．２０（２１１，ｂｒ ｓ）、８．１２（ｉｌｌ、ｂ
ｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．６０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、
８．７２（１）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ）
ｃＩｌｌ−’ ＋ ３４００．１７６０，１６２０，１
５９０．１５３０実施例１３ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（ｌ Ｓ） −１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード２５０ｍｇ （０，２３ミリ
モル）と２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジン
チオン５０ｍｇ（０，３３ミリモル）より、実施例２の
（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物５８
ｍｇ （収率４０％）を得る。
ｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．６０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、
８．７２（１）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ）
ｃＩｌｌ−’ ＋ ３４００．１７６０，１６２０，１
５９０．１５３０実施例１３ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（ｌ Ｓ） −１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラード２５０ｍｇ （０，２３ミリ
モル）と２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジン
チオン５０ｍｇ（０，３３ミリモル）より、実施例２の
（１）及び（２）と同様の反応を行ない表記化合物５８
ｍｇ （収率４０％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．３０（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、２．３８（２Ｈ，ｍ）。
Ｊ＝６Ｈｚ）、２．３８（２Ｈ，ｍ）。
２．６０（２Ｈ、ｍ）’、３．４０（２Ｈ、ｍ）、 ４
．３０（２Ｈ、ｍ）、４．７０（３Ｈ。
．３０（２Ｈ、ｍ）、４．７０（３Ｈ。
ｍ） 、５．００（ＩＩＩ、ｄ、、Ｊ’４Ｈｚ）、５．
６４（ＩＩＩ、ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７８（
ＩＨ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．１８（
ＩＨ，ｌ１１）。
６４（ＩＩＩ、ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７８（
ＩＨ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．１８（
ＩＨ，ｌ１１）。
８．５２（ＬＨ，ｂｒ ｓ）、８．７２（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃＩｌｌ−’ ： ３４０
０，１７６０，１６２０．１５３０実施例１４ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシイミノ）−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボ
キシラード２００ｍｇ （０，２１ミリモル）と２，３
−ジヒドロ−７（ＬＨ）−インドリジンチオン５０ｍｇ
（０，３３ミリモル）より、実施例２の（１）及び（
２）と同様の反応を行ない表記化合物５４ｍｇ （収率
４１％）を得る。
＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃＩｌｌ−’ ： ３４０
０，１７６０，１６２０．１５３０実施例１４ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシイミノ）−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボ
キシラード２００ｍｇ （０，２１ミリモル）と２，３
−ジヒドロ−７（ＬＨ）−インドリジンチオン５０ｍｇ
（０，３３ミリモル）より、実施例２の（１）及び（
２）と同様の反応を行ない表記化合物５４ｍｇ （収率
４１％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： ２．３８（２Ｈ，ｍ）
、３．３〜３．７（４Ｈ，ｍ）。
、３．３〜３．７（４Ｈ，ｍ）。
４．２２（Ｉｌｌ、ｍ）、４．５〜４．８（３Ｈ，ｍ）
、４．８２（１８，ｓ）。
、４．８２（１８，ｓ）。
５．００（１１１，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．１５（ＩＩ
、ｓ）、５．６０（１８，Ｉｎ）。
、ｓ）、５．６０（１８，Ｉｎ）。
６．９２（Ｉｌｌ、ｓ）、７．２６（２Ｈ，ｂｒ ｓ）
、８．０８（Ｉｌｌ、ｂｒ ｄ、Ｊ：６１１ｚ）、８．
５４（Ｈｌ、ｂｒ ｓ）、８．６６（ｌ［ｌ、ｂｒ ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃ＋ｎ−’ ＋ ３４
００．１７６０，１６２０．１５３０実施例１５ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メ
チル−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオンより、実施例
１と同様にして表記化合物を得る。
、８．０８（Ｉｌｌ、ｂｒ ｄ、Ｊ：６１１ｚ）、８．
５４（Ｈｌ、ｂｒ ｓ）、８．６６（ｌ［ｌ、ｂｒ ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃ＋ｎ−’ ＋ ３４
００．１７６０，１６２０．１５３０実施例１５ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノアセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メ
チル−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオンより、実施例
１と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５８（３１１，ｄ
、Ｊ＝６ｔｌｚ）、１．９８（２）１．ｍ）。
、Ｊ＝６ｔｌｚ）、１．９８（２）１．ｍ）。
２．４０（２Ｈ，ｍ）、３．３８（２Ｈ，ｍ）、４．５
０（２１１，ｂｒ ｓ）、４．９０（ＩＨ，ｍ）、５．
００（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４１１ｚ） 、５．８（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝４及び８１１ｚ）、６．７０（１！Ｉ、ｓ）
、７．１６（２１１，ｂｒ ｓ）、８．１８（ＬＨ，ｂ
ｒ ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、８．３０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、
８．７２（ＩＨ，ｄ。
０（２１１，ｂｒ ｓ）、４．９０（ＩＨ，ｍ）、５．
００（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４１１ｚ） 、５．８（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝４及び８１１ｚ）、６．７０（１！Ｉ、ｓ）
、７．１６（２１１，ｂｒ ｓ）、８．１８（ＬＨ，ｂ
ｒ ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、８．３０（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、
８．７２（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、９．３８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）ＩＲ
（ＫＢｒ） ｃ＋ｎ−’ ： ３４００，１７６５，１
６２０．１５２５実施例１６ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミドゴー３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−
７（ＩＨ）−インドリジンチオンより、実施例１と同様
にして表記化合物を得る。
（ＫＢｒ） ｃ＋ｎ−’ ： ３４００，１７６５，１
６２０．１５２５実施例１６ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミドゴー３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−
７（ＩＨ）−インドリジンチオンより、実施例１と同様
にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５６（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、２．００（２Ｈ，ｍ）。
Ｊ＝６Ｈｚ）、２．００（２Ｈ，ｍ）。
３．３０〜３．６０（４Ｈ、ｍ）、３．８／＋（３ｔｌ
、ｓ ）、４．５２（２Ｈ，ｍ）。
、ｓ ）、４．５２（２Ｈ，ｍ）。
４．９２（ＩＨ，Ｉｎ）、５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
Ｈｚ）、５．５６（１８，ｄｄ。
Ｈｚ）、５．５６（１８，ｄｄ。
Ｊ＝４及び８１１ｚ）、６．７６（ＬＨ，ｓ）、７．２
２（２１１，ｂｒ ｓ）。
２（２１１，ｂｒ ｓ）。
８．１６（ＩＩＩ、ｂｒ ｄ、Ｊ＝６！ｌｚ）、８．３
２（ＩＩＩ、ｂｒ ｓ）、８．７２（１８，ｄ、Ｊ＝６
１１ｚ）、９．５４（Ｉｆｆ、ｂｒ ｄ、Ｊ＝８１１ｚ
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，１７６５
，１６７０，１６２０．１５３０実施例１７ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミドツー３−セフェム
＝４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メチ
ル−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオンより、実施例２
と同様にして表記化合物を得る。
２（ＩＩＩ、ｂｒ ｓ）、８．７２（１８，ｄ、Ｊ＝６
１１ｚ）、９．５４（Ｉｆｆ、ｂｒ ｄ、Ｊ＝８１１ｚ
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，１７６５
，１６７０，１６２０．１５３０実施例１７ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミドツー３−セフェム
＝４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メチ
ル−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオンより、実施例２
と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．３６（３１１，ｓ
）、１．３８（１，５Ｈ，ｓ）。
）、１．３８（１，５Ｈ，ｓ）。
１．４０（１，５Ｈ，ｓ）、１．９８（２１１，ｍ）、
３．１〜３．６（４Ｈ，ｍ）。
３．１〜３．６（４Ｈ，ｍ）。
４．３０（０，５１１、ｄ・、Ｊ＝１６Ｈｚ）、 ４．
３６（０，５Ｈ、ｄ 、Ｊ＝１６１１ｚ ）。
３６（０，５Ｈ、ｄ 、Ｊ＝１６１１ｚ ）。
４．６６（０，５１１、ｄ 、Ｊ＝１６Ｈｚ） 、４．
７６（０，５１！ 、ｄ 、Ｊ＝１６ｔｌｚ ）＋５．
００（１８，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．０２（ＩＨ，ｍ）
、５．６４（ＩＩＩ、ｄｄ。
７６（０，５１！ 、ｄ 、Ｊ＝１６ｔｌｚ ）＋５．
００（１８，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．０２（ＩＨ，ｍ）
、５．６４（ＩＩＩ、ｄｄ。
Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７４（ＬＨ，ｓ）、７．２０
（２１１，ｂｒ ｓ）。
（２１１，ｂｒ ｓ）。
８．０６（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．２
４（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．３２（０
，５Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．５８（０，５Ｈ，ｂｒ ｓ）
。
４（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．３２（０
，５Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．５８（０，５Ｈ，ｂｒ ｓ）
。
８．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．８０（０，５
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ＋
３４００．１７６０，１６２０．１５３５実施例１８ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ Ｓ ）−１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メ
チル−７（ＩＨ）−インドリジンチオンより、実施例２
と同様にして表記化合物を得る。
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ＋
３４００．１７６０，１６２０．１５３５実施例１８ ジフェニルメチル ３−クロロメチル−７β−（（Ｚ）
−２−（（Ｉ Ｓ ）−１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メ
チル−７（ＩＨ）−インドリジンチオンより、実施例２
と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ ： １．３０（３１
１、ｄ 、Ｊ＝６１１ｚ）、 １．５８（３Ｈ、ｄ 。
１、ｄ 、Ｊ＝６１１ｚ）、 １．５８（３Ｈ、ｄ 。
Ｊ＝６１１ｚ） 、２．００（２１１、ｍ ）、 ２．
５０（２Ｈ、ｍ） 、３．４０（２１１、ｍ ） 。
５０（２Ｈ、ｍ） 、３．４０（２１１、ｍ ） 。
４．２０〜４．６０（３１１，ｍ）、４．８０（ｌｆｔ
、ｍ） 、５．００（ＬＨ，ｄ、Ｊ：４１！ｚ）、５．
６８（１１１，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．８０（
ＩＨ，ｓ）。
、ｍ） 、５．００（ＬＨ，ｄ、Ｊ：４１！ｚ）、５．
６８（１１１，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．８０（
ＩＨ，ｓ）。
７．２２（２１１，ｂｒ ｓ）、７．８〜８．９（３Ｈ
，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７
６０，１６２０．１５３０実施例１９ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシ） −２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
ツー３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキシ
ラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−７（１１１）
−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして表記
化合物を得る。
，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ） ａｍ−’ ： ３４００，１７
６０，１６２０．１５３０実施例１９ ジフェニルメチル ７β−（（Ｚ） −２−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシ） −２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
ツー３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキシ
ラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−７（１１１）
−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして表記
化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５６（３Ｈ，ｄ、
、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．００（２Ｈ，＋ｎ）。
、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．００（２Ｈ，＋ｎ）。
２．６２（２Ｈ，＋ｎ）、３．２５（２Ｈ，ｍ）、４．
２〜４．８（３Ｈ，ｍ）。
２〜４．８（３Ｈ，ｍ）。
４．８６（ＩＨ，ｓ）、５．００（１８，ｄ、Ｊ＝４）
１ｚ）、５．１６（１Ｂ、ｓ）。
１ｚ）、５．１６（１Ｂ、ｓ）。
５．６０（ｉｌｌ、ｍ）、６．９２（ＩＨ，ｓ）、７．
２８（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０８（０，５Ｈ，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．２６（０，５１１，ｂｒ ｄ、
Ｊ＝６）１ｚ）。
２８（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０８（０，５Ｈ，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．２６（０，５１１，ｂｒ ｄ、
Ｊ＝６）１ｚ）。
８．３６（０，５■、ｂｒ ｓ）、８．６０（０，５Ｈ
，ｂｒ ｓ）、８．７６（０，５１１，ｄ、Ｊ：６Ｈｚ
）、８．７８（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）ＩＲ
（ＫＢｒ） Ｃｌ１１−’ ： ３４００，１７６０，
１６２０．１５３５実施例２０ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−ジフェニルメチルオキシカルボニルメトキシイミ
ノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
アセトアミドツー３−セフェム−４−カルボキシラード
と２，３−ジヒドロ−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオ
ンより、実施例２と同様にして表記化合物を得る。
，ｂｒ ｓ）、８．７６（０，５１１，ｄ、Ｊ：６Ｈｚ
）、８．７８（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）ＩＲ
（ＫＢｒ） Ｃｌ１１−’ ： ３４００，１７６０，
１６２０．１５３５実施例２０ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−ジフェニルメチルオキシカルボニルメトキシイミ
ノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
アセトアミドツー３−セフェム−４−カルボキシラード
と２，３−ジヒドロ−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオ
ンより、実施例２と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５５（３Ｈ，ｄ、
に６Ｈｚ）、２．０Ｏ（２Ｈ，ｍ）。
に６Ｈｚ）、２．０Ｏ（２Ｈ，ｍ）。
２．６０（２Ｈ，ｍ）、３．４０（２１１，ｍ）、４．
２０（２Ｈ，ｓ）、４．２５（２１１，ｍ）、４．８０
（ＩＨ，ｍ）、５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５
．６０（１８，ｍ）、６．８２（ＩＩＩ、ｓ）、７．２
２（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０４（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ
、Ｊ＝６１１ｚ）、８．２８（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、、
Ｉ＝６ｔｌｚ）。
２０（２Ｈ，ｓ）、４．２５（２１１，ｍ）、４．８０
（ＩＨ，ｍ）、５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５
．６０（１８，ｍ）、６．８２（ＩＩＩ、ｓ）、７．２
２（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．０４（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ
、Ｊ＝６１１ｚ）、８．２８（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、、
Ｉ＝６ｔｌｚ）。
８．３６（０，５１１，ｂｒ ｓ）、８．６８（０，５
１１，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．７０（０，５１１，ｂｒ
ｓ）、８．７２（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、、Ｊ’６Ｈｚ
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃ＋ｎｎ’ ： ３４００，１７６
０，１６２０．１５３０実施例２１ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−（（Ｚ）
−２−〔α−（ジフェニルメチルオキシカルボニル）ベ
ンジルオキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−
４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−７（ｉｌ＋
）−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして表
記化合物を得る。
１１，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、８．７０（０，５１１，ｂｒ
ｓ）、８．７２（０，５Ｈ，ｂｒ ｄ、、Ｊ’６Ｈｚ
）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃ＋ｎｎ’ ： ３４００，１７６
０，１６２０．１５３０実施例２１ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−（（Ｚ）
−２−〔α−（ジフェニルメチルオキシカルボニル）ベ
ンジルオキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−
４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−７（ｉｌ＋
）−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして表
記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５０（３Ｈ，ｍ）
、１．９６（２１（、ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｍ）、３
．３０（２１１，ｍ）、４．２８（２１（、ｍ） 、４
．９０〜５．１０（２１１、ｍ ）、５．１８（０，５
１１、ｓ ）、５．２４（０，５Ｈ、ｓ ）、５．７２
（ＩＨ’。
、１．９６（２１（、ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｍ）、３
．３０（２１１，ｍ）、４．２８（２１（、ｍ） 、４
．９０〜５．１０（２１１、ｍ ）、５．１８（０，５
１１、ｓ ）、５．２４（０，５Ｈ、ｓ ）、５．７２
（ＩＨ’。
ｍ）、６．８０（０，５１１、ｓ ） 、６．９０（０
，５１１、ｓ ） 、７ 、１〜７．８（５Ｈ。
，５１１、ｓ ） 、７ 、１〜７．８（５Ｈ。
ｍ） 、８．０〜８．９（３Ｈ，ｍ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍｌ’Ｖ’ ： ３４００，１７６
０，１６２０．１５３０実施例２２ シラート ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−（（２）
−２−（３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
−α−ジフェニルメチルオキシカルボニルベンジルオキ
シイミノ） −２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボ
キシラードと２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリ
ジンチオンより、実施例２と同様にして表記化合物を得
る。
０，１６２０．１５３０実施例２２ シラート ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−（（２）
−２−（３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
−α−ジフェニルメチルオキシカルボニルベンジルオキ
シイミノ） −２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボ
キシラードと２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリ
ジンチオンより、実施例２と同様にして表記化合物を得
る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．５０（３１１，ｍ
）、２．００（２Ｈ，ｍ）、２．４０（２Ｈ，ｍ）、３
．４０（２１１，ｍ）、４．２〜５．８（４Ｈ，ｍ）、
６．６〜７．１（４ｔｌ、ｍ）、７．１〜７．５（２Ｈ
，ｍ）、８．０〜８．９（３Ｈ，＋ｎ）ＩＲ（ＫＢｒ）
ｃｍ−’ ： ３４００，１？６０，１６００．１５
３０実施例２３ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−）リチルアミノチア
ゾールー４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−
５−ジフェニルオキシカルボニル−７（ＩＩＩ）−イン
ドリジンチオンより、実施例２と同様にして表記化合物
を得る。
）、２．００（２Ｈ，ｍ）、２．４０（２Ｈ，ｍ）、３
．４０（２１１，ｍ）、４．２〜５．８（４Ｈ，ｍ）、
６．６〜７．１（４ｔｌ、ｍ）、７．１〜７．５（２Ｈ
，ｍ）、８．０〜８．９（３Ｈ，＋ｎ）ＩＲ（ＫＢｒ）
ｃｍ−’ ： ３４００，１？６０，１６００．１５
３０実施例２３ ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−）リチルアミノチア
ゾールー４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−３−メチル−
５−ジフェニルオキシカルボニル−７（ＩＩＩ）−イン
ドリジンチオンより、実施例２と同様にして表記化合物
を得る。
Ｎ）ＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．４０（３１１，
ｄ、Ｊ＝６ｔｌｚ）、２．００（２！ｌ、ｍ）。
ｄ、Ｊ＝６ｔｌｚ）、２．００（２！ｌ、ｍ）。
２．４４（２８，ｍ） 、３．３〜３．７（２１！、＋
ｎ）、３．９０（３８，ｓ）。
ｎ）、３．９０（３８，ｓ）。
４．３２（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、４．３８（
０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）。
０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）。
４．７４（０，５Ｈ、ｄ 、Ｊ＝１２Ｈｚ）、 ４．８
０（０，５１１、ｄ 、Ｊ＝１２Ｈｚ ） 。
０（０，５１１、ｄ 、Ｊ＝１２Ｈｚ ） 。
５．０２（１１１，ｄ、、Ｉ’４Ｈｚ）、５．５８（Ｉ
Ｈ，ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｄｄ。
Ｈ，ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７６（ＩＨ，ｓ）、７．２８
（２Ｈ，ｂｒ ｓ）。
（２Ｈ，ｂｒ ｓ）。
７．７６（０，５Ｈ，ｓ）、７．８０（０，５Ｈ，ｓ）
、８．００（０，５Ｈ，ｓ）。
、８．００（０，５Ｈ，ｓ）。
８．１０（０，５Ｈ，ｓ）、９．５６（ｌｔｌ、ｂｒ
ｄ、Ｊ＝８）１ｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍｒＶ’ ：
３４００，１７６０，１６０５．１５３０実施例２４ ４ジフエニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２
）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メ
チル−５−ジフェニルメチルオキシカルボニル−７（Ｉ
Ｈ）−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして
表記化合物を得る。
ｄ、Ｊ＝８）１ｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍｒＶ’ ：
３４００，１７６０，１６０５．１５３０実施例２４ ４ジフエニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（２
）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカ
ルボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシラードと２．３−ジヒドロ−３−メ
チル−５−ジフェニルメチルオキシカルボニル−７（Ｉ
Ｈ）−インドリジンチオンより、実施例２と同様にして
表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．４０（６Ｈ，ｓ）
、１．４４（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。
、１．４４（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。
２．００（ＩＨ，ｍ）、２．４０（ＩＨ，ｍ）、３．２
２〜３．６０（２Ｈ，ｍ）。
２〜３．６０（２Ｈ，ｍ）。
４．２２（０，５１１，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．３２
（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ４４Ｈｚ）。
（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ４４Ｈｚ）。
４．７８（０，５１！、ｄ、Ｊ＝１４ｔｌｚ）、４．８
０（０，５！（、ｄ、Ｊ４４Ｈｚ）。
０（０，５！（、ｄ、Ｊ４４Ｈｚ）。
５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５．６４（ＬＨ，
ｍ）’、５．９０（ＩＨ，ｍ）。
ｍ）’、５．９０（ＩＨ，ｍ）。
６．７２（ＩＨ，ｓ）、７．１８（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、
７．７６（ＩＨ，ｂｒ ｓ）。
７．７６（ＩＨ，ｂｒ ｓ）。
８．０８（ＩＨ，ｂｒ ５）
ＩＲ（ＫＢｒ） ａｌＷ−’ ： ３４００，１７６０
，１６０５．１５３０実施例２５ 一７−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボキ
シラード ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−６−メドキシ
ー３−メチル−７（ｌＩ（）−インドリジンチオンより
、実施例１と同様にして表記化合物を得る。
，１６０５．１５３０実施例２５ 一７−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボキ
シラード ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム−４
−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−６−メドキシ
ー３−メチル−７（ｌＩ（）−インドリジンチオンより
、実施例１と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（Ｄ！’１５０−ｄ、）δ： １．３２（３ｔｌ
、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０４（２Ｈ，ｍ）。
、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０４（２Ｈ，ｍ）。
３．００（２Ｈ，ｍ）、３．３〜３．６（２１（、ｍ）
、３．８３（３Ｈ，ｓ）。
、３．８３（３Ｈ，ｓ）。
４．０４（３Ｈ，ｓ）、４．４６（２Ｈ，ｍ）、５．０
０（山ｍ）、５．０２（ＩＨ，’ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５
．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７６（
ＩＨ。
０（山ｍ）、５．０２（ＩＨ，’ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、５
．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４及び８Ｈｚ）、６．７６（
ＩＨ。
ｓ）、７．２６（２Ｈ，ｂｒ ｓ）、８．５０（２Ｈ，
ｍ）、９．５５（ＩＨ，ｂｒ ｄ。
ｍ）、９．５５（ＩＨ，ｂｒ ｄ。
Ｊ＝８Ｈｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３４００，１７６０，
１６６５，１６１５，１５３０．１５００実施例２６ ヒドロー６−メトキシー３−メチル−１■−インドリジ
ニウシラート ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム
−４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−６−メド
キシー３−メチル−７（１）１）−インドリジンチオン
より、実施例２と同様にして表記化合物を得る。
１６６５，１６１５，１５３０．１５００実施例２６ ヒドロー６−メトキシー３−メチル−１■−インドリジ
ニウシラート ジフェニルメチル ３−ヨードメチル−７β−〔（Ｚ）
−２−（１−メチル−１−ジフェニルメチルオキシカル
ボニルエトキシイミノ） −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−セフェム
−４−カルボキシラードと２，３−ジヒドロ−６−メド
キシー３−メチル−７（１）１）−インドリジンチオン
より、実施例２と同様にして表記化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．３４（６Ｈ，ｓ）
、１．６０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
、１．６０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
２．００（２Ｈ，ｍ）、３．０５（２１１，ｌ１１）、
３．３〜３．６（２１１，ｍ）。
３．３〜３．６（２１１，ｍ）。
４．００（３Ｈ，ｓ）、４．１〜４．８（２Ｈ，ｍ）、
５．００（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、５．０２（
０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、５．０２（０，５Ｈ，
＋ａ）。
５．００（０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、５．０２（
０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、５．０２（０，５Ｈ，
＋ａ）。
５．１５（０，５Ｈ，ｍ） 、５．６２（ＩＨ，＋ｏ）
、６．７６（ＩＨ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）
、８．５０（１）１．ｂｒ ｓ）、８．７２（ＬＨ，ｂ
ｒ ｓ）。
、６．７６（ＩＨ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｂｒ ｓ）
、８．５０（１）１．ｂｒ ｓ）、８．７２（ＬＨ，ｂ
ｒ ｓ）。
８．９６（ｉｌｌ、ｂｒ ５）
ｒＲ（ＫＢｒ） ｃ＋ｎ−’ ： ３４００，１７６５
．＋６１０．．１５３０．１５００実施例２７ ６．７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジ
ンチオン （１） （３−ヒドロキシプロピル）トリフェニルホ
スホニウム プロミド１．７１ ｇ （４，２６ミリモ
ル）をテトラヒドロフラン１７ｍ Ｑに溶かす、この溶
液を一７８℃に冷却し、１．６Ｎブチルリチウムヘキサ
ン溶液を滴下する０反応混液を室温まで昇温し、更に２
時間攪拌した後、４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカ
ルバルデヒド７００ｍｇ （３，２８ミリモル）をテト
ラヒドロフラン３．５ｏ＋ Ｑに溶かした溶液を加える
。
．＋６１０．．１５３０．１５００実施例２７ ６．７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジ
ンチオン （１） （３−ヒドロキシプロピル）トリフェニルホ
スホニウム プロミド１．７１ ｇ （４，２６ミリモ
ル）をテトラヒドロフラン１７ｍ Ｑに溶かす、この溶
液を一７８℃に冷却し、１．６Ｎブチルリチウムヘキサ
ン溶液を滴下する０反応混液を室温まで昇温し、更に２
時間攪拌した後、４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカ
ルバルデヒド７００ｍｇ （３，２８ミリモル）をテト
ラヒドロフラン３．５ｏ＋ Ｑに溶かした溶液を加える
。
室温で一夜攪拌した後、反応液を飽和塩化アンモニウム
水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する６有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。
水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する６有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲ
ル Ｃ−３００，酢酸エチルで溶出）に付し、４− （
４−ベンジルオキシ−２−ピリジル）−３−ブテン−１
−オール６７０ｍｇ （収率８０％）を得る。
ル Ｃ−３００，酢酸エチルで溶出）に付し、４− （
４−ベンジルオキシ−２−ピリジル）−３−ブテン−１
−オール６７０ｍｇ （収率８０％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： ２．５０（２１１，ｍ
）、３．８０（２１１，ｔ、に６Ｈｚ）＋５．０８（２
１１，ｓ）、６．５５（１）１．ｄ、Ｊ”１６１１ｚ）
、６．７４（ＩＨ，ｄｄ。
）、３．８０（２１１，ｔ、に６Ｈｚ）＋５．０８（２
１１，ｓ）、６．５５（１）１．ｄ、Ｊ”１６１１ｚ）
、６．７４（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２及び６１１ｚ）、６．７５（１１１，ｄｔ、、Ｊ
＝１６及び７Ｈｚ）、６．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
）、７．４０（５１１，ｍ）、８．３５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
”６Ｈｚ）（２）上記反応（１）で得た化合物１．１８
ｇ （４，６２ミリモル）をメタノール２２ｍΩに溶
かし、ｌＯ％パラジウム炭素触媒１２０ｍｇを加え、室
温で接触還元を行なう、２時間後、同触媒１２０ｍｇを
追加し、更に３時間還元する。触媒を炉別した後、減圧
下に溶媒を留去する。残渣をテトラヒドロフラン１０ｍ
Ｒに溶かし、トリフェニルホスフィン２．４２ ｇ （
９゜２３ミリモル）を加える。水冷下にアゾジカルボン
酸ジエチル１．４６ｍΩ（９，２３ミリモル）を滴下し
、室温で３０分間攪拌する１反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲ
ル Ｃ−３００，１０％メタノールで溶出）に付し、６
，７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジノ
ン５０９ｍｇ （収率７４％）を得る。
＝１６及び７Ｈｚ）、６．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
）、７．４０（５１１，ｍ）、８．３５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
”６Ｈｚ）（２）上記反応（１）で得た化合物１．１８
ｇ （４，６２ミリモル）をメタノール２２ｍΩに溶
かし、ｌＯ％パラジウム炭素触媒１２０ｍｇを加え、室
温で接触還元を行なう、２時間後、同触媒１２０ｍｇを
追加し、更に３時間還元する。触媒を炉別した後、減圧
下に溶媒を留去する。残渣をテトラヒドロフラン１０ｍ
Ｒに溶かし、トリフェニルホスフィン２．４２ ｇ （
９゜２３ミリモル）を加える。水冷下にアゾジカルボン
酸ジエチル１．４６ｍΩ（９，２３ミリモル）を滴下し
、室温で３０分間攪拌する１反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲ
ル Ｃ−３００，１０％メタノールで溶出）に付し、６
，７，８．９−テトラヒドロ−２（２Ｈ）−キノリジノ
ン５０９ｍｇ （収率７４％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．７０（２１１
，ｍ）、１．８４（２Ｈ，ｍ）、２．６８（２１１、ｔ
、Ｊ＝５Ｈｚ） 、３．８８（２１１、Ｌ 、Ｊ＝６
ｔｌｚ） 、５．９８（ＩＨ、ｄ 。
，ｍ）、１．８４（２Ｈ，ｍ）、２．６８（２１１、ｔ
、Ｊ＝５Ｈｚ） 、３．８８（２１１、Ｌ 、Ｊ＝６
ｔｌｚ） 、５．９８（ＩＨ、ｄ 。
Ｊ＝２１１ｚ）、６．０２（Ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝２及び
６１１ｚ）、７．５４（ＩＨ，ｄ。
６１１ｚ）、７．５４（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝６１１ｚ）
（３）上記反応（２）で得た化合物５０９＋ｎｇ （３
，４２ミリモル）をピリジン５ｍｆｌに溶かし、五硫化
ニリン５６４＋ｎｇ（２，５４ミリモル）を加え、反応
混液を８０℃で１時間攪拌する０反応液を水中に注ぎ、
塩化メチレンで３回抽出する。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残渣をエー
テル−メタノールで洗浄して６，７，８．９−テトラヒ
ドロ−２（２Ｈ）−キノリジンチオン（収率５２％）を
得る。
，４２ミリモル）をピリジン５ｍｆｌに溶かし、五硫化
ニリン５６４＋ｎｇ（２，５４ミリモル）を加え、反応
混液を８０℃で１時間攪拌する０反応液を水中に注ぎ、
塩化メチレンで３回抽出する。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残渣をエー
テル−メタノールで洗浄して６，７，８．９−テトラヒ
ドロ−２（２Ｈ）−キノリジンチオン（収率５２％）を
得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： １．７２（２ｆｌ
、ｍ）、１．９０（２Ｈ，ｍ）、２．７２（２Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、４．００（２ｔｌ、ｔ、Ｊ＝６ｔｌｚ）
、７．０４（ＩＨ，ｄｄ。
、ｍ）、１．９０（２Ｈ，ｍ）、２．７２（２Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、４．００（２ｔｌ、ｔ、Ｊ＝６ｔｌｚ）
、７．０４（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２及び６Ｈｚ）、７．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２ｔｌ
ｚ）、７．５０（ＩＨ，ｄ。
ｚ）、７．５０（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝６１１ｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｉ−’ ＋ ３４００．１６２０，
１５３０，１４６０．１０８０ＵＶ （ＭｅＯＩｌ）λ
ｎｍ ： ２０４，２４０，３３９実施例２８ ２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジンチオン（
１）４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカルバルデヒド
１．２３ ｇ （５，７７ミリモル）をジオキサン２０
ｍ Ｑに溶かし、室温下にトリエチルホスホノアセター
ト１．５５ｇ （６，２３ミリモル）と５０％油性水素
化ナトリウム０．４１ｇ （８，６５ミリモル）を加え
、反応混液を１５分間攪拌する。反応液を水中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クコ−ゲルＣ−３００
，酢酸エチル−ヘキサン＝３；１で溶出）に付し、エチ
ル ３−（４−ベンジルオキシ−２−ピリジル）アクリ
ラート０．９０ｇ（収率５７％）を得る。
１５３０，１４６０．１０８０ＵＶ （ＭｅＯＩｌ）λ
ｎｍ ： ２０４，２４０，３３９実施例２８ ２．３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インドリジンチオン（
１）４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカルバルデヒド
１．２３ ｇ （５，７７ミリモル）をジオキサン２０
ｍ Ｑに溶かし、室温下にトリエチルホスホノアセター
ト１．５５ｇ （６，２３ミリモル）と５０％油性水素
化ナトリウム０．４１ｇ （８，６５ミリモル）を加え
、反応混液を１５分間攪拌する。反応液を水中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クコ−ゲルＣ−３００
，酢酸エチル−ヘキサン＝３；１で溶出）に付し、エチ
ル ３−（４−ベンジルオキシ−２−ピリジル）アクリ
ラート０．９０ｇ（収率５７％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１，） δ： １．３５（３Ｈ，ｔ、Ｊ
＝６Ｈ２）、４．３２（２Ｈ，ｔ。
＝６Ｈ２）、４．３２（２Ｈ，ｔ。
に６１１ｚ）、５．１６（２１１，ｓ）、６．９０（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２及び６Ｈｚ）。
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２及び６Ｈｚ）。
６、９５（Ｉｆｔ 、ｄ 、Ｊ＝１６１１ｚ ）、７．
０６（ＩＩＩ 、ｄ 、Ｊ＝２１１ｚ ）、７．４６（
５１１，＋ｎ）、７．６６（Ｉｔ（、ｄ、Ｊ＝１６）、
８．５０（ｌＨ，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）（２）上記反応（
１）で得た化合物３．０ｇ（１１，１ミリモル）を塩化
メチレン６０ｍ Ｑに溶かす、 −７８’Ｃで１．５Ｍ
水素化ジイソブチルアルミニウム（トルエン溶液） ２
２ｍΩ（３３，３ミリモル）を加える。同温度で３０分
間攪拌した後、酢酸２ｍＱを加え、反応混液を更に室温
で１０分間攪拌する。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する６残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢
酸エチルで溶出）に付し、３−（４−ベンジルオキシ−
２−ピリジル）−２−プロペン−１−オールｚ、ｕｇ（
収率８３％）を得る。
０６（ＩＩＩ 、ｄ 、Ｊ＝２１１ｚ ）、７．４６（
５１１，＋ｎ）、７．６６（Ｉｔ（、ｄ、Ｊ＝１６）、
８．５０（ｌＨ，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）（２）上記反応（
１）で得た化合物３．０ｇ（１１，１ミリモル）を塩化
メチレン６０ｍ Ｑに溶かす、 −７８’Ｃで１．５Ｍ
水素化ジイソブチルアルミニウム（トルエン溶液） ２
２ｍΩ（３３，３ミリモル）を加える。同温度で３０分
間攪拌した後、酢酸２ｍＱを加え、反応混液を更に室温
で１０分間攪拌する。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する６残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢
酸エチルで溶出）に付し、３−（４−ベンジルオキシ−
２−ピリジル）−２−プロペン−１−オールｚ、ｕｇ（
収率８３％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２） δ： ４．４２（２Ｈ，ｄ、Ｊ
＝４）１ｚ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）。
＝４）１ｚ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）。
６．６８（ＬＨ、ｄ 、Ｊ＝１６ｔｌｚ） 、６．７８
（ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝２及び６Ｈｚ）。
（ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝２及び６Ｈｚ）。
６．８８（ＬＨ，ｄｔｊ＝１６及び４Ｈｚ）、６．９２
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）。
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）。
８．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）
（３）上記反応（２）で得た化合物２．１１ ｇ （９
，２１ミリモル）を用いて、実施例２７−（２）と同様
の反応を行ない２，３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インド
リジノン１．０９ｇ （収率８８％）を得る。
，２１ミリモル）を用いて、実施例２７−（２）と同様
の反応を行ない２，３−ジヒドロ−７（ＩＨ）−インド
リジノン１．０９ｇ （収率８８％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： ２．１５（２Ｈ，ｍ）
、２．９５（２Ｈ，ｔ、Ｊ：６）１ｚ）。
、２．９５（２Ｈ，ｔ、Ｊ：６）１ｚ）。
４．０８（２Ｂ、Ｌ、Ｊ＝６Ｈｚ）、６．０３（ＩＨ，
ｄ、に６Ｈｚ）、６．０５（ｉｌｌ、ｓ）、７．７２（
ＩＨ，ｄ、に６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍｎ’ ：
３４００，１６４０．１５４０ＬＩＶ （ＭｅＯＩＩ）
λｎｍ ： ２０４，２５８（４）上記反応（３）で得
た化合物１．０９ ｇ （８，０７ミリモル）を用いて
、実施例２７−（３）と同様の反応を行ない２，３−ジ
ヒドロ−７（Ｉｌｌ）−インドリジンチオン３００ｍｇ
（収率２５％）及び原料３２０ｍｇ （回収率２６％
）を得る。
ｄ、に６Ｈｚ）、６．０５（ｉｌｌ、ｓ）、７．７２（
ＩＨ，ｄ、に６Ｈｚ）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍｎ’ ：
３４００，１６４０．１５４０ＬＩＶ （ＭｅＯＩＩ）
λｎｍ ： ２０４，２５８（４）上記反応（３）で得
た化合物１．０９ ｇ （８，０７ミリモル）を用いて
、実施例２７−（３）と同様の反応を行ない２，３−ジ
ヒドロ−７（Ｉｌｌ）−インドリジンチオン３００ｍｇ
（収率２５％）及び原料３２０ｍｇ （回収率２６％
）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ ： ２．２０（２Ｂ、ｌ
１１）、３．０４（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
１１）、３．０４（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
４．２０（２１１，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、７．１２（ＩＩ
Ｉ、ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
Ｉ、ｂｒ ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
７．２２（ＩＨ，ｂｒ ｓ）、７．７４（ＩＨ，ｂｒ
ｓ、に６４１ｚ）実施例２９ ２．３−ジヒドロ−３−メチル−７１１Ｉ）−インドリ
ジンチオン （１）４−ヒドロキシ−２，６−ピリジンジカルボン酸
１０ｇ （５４，６ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００ｍ Ｑに溶かし、室温でベンジルプロミ
ド１９．５ｔａＱ （１６４ミリモル）及びＮ、Ｎ−
ジイソプロピルエチルアミン２８．５ｍ Ｑ （１６４
ミリモル）を加える。２時間攪拌した後、更にベンジル
プロミド６．５１１ＩＱ （５４，６ミリモル）及び炭
酸カリウム７．５ ｇ （５４，６ミリモル）を追加す
る。反応混液を８０℃で３０分間加熱攪拌する１反応液
を室温まで放冷した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキ
サン＝１：１で溶出）に付し、ジベンジル ４−ベンジ
ルオキシ−２，６−ビリシンジカルボキシラートの結晶
１９．３ ｇ （７８％）を得る。
ｓ、に６４１ｚ）実施例２９ ２．３−ジヒドロ−３−メチル−７１１Ｉ）−インドリ
ジンチオン （１）４−ヒドロキシ−２，６−ピリジンジカルボン酸
１０ｇ （５４，６ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１００ｍ Ｑに溶かし、室温でベンジルプロミ
ド１９．５ｔａＱ （１６４ミリモル）及びＮ、Ｎ−
ジイソプロピルエチルアミン２８．５ｍ Ｑ （１６４
ミリモル）を加える。２時間攪拌した後、更にベンジル
プロミド６．５１１ＩＱ （５４，６ミリモル）及び炭
酸カリウム７．５ ｇ （５４，６ミリモル）を追加す
る。反応混液を８０℃で３０分間加熱攪拌する１反応液
を室温まで放冷した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキ
サン＝１：１で溶出）に付し、ジベンジル ４−ベンジ
ルオキシ−２，６−ビリシンジカルボキシラートの結晶
１９．３ ｇ （７８％）を得る。
ＮＭＲ（ｃＤｃｌ、） δ： ５．２４（２Ｈ，ｓ）
、５．４８（４Ｈ，ｓ）、７．２〜７．７（１５■、＋
ａ）、７．８８（２１（，５）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｒａ
−’ ： １７２０，１５９０，１３５０，１２４０．
１１１０（２）上記反応（１）で得た化合物５．０ｇ（
１１，。
、５．４８（４Ｈ，ｓ）、７．２〜７．７（１５■、＋
ａ）、７．８８（２１（，５）ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｒａ
−’ ： １７２０，１５９０，１３５０，１２４０．
１１１０（２）上記反応（１）で得た化合物５．０ｇ（
１１，。
ミリモル）をテトラヒドロフラン５０ｍ Ｑ及びメタノ
ール５０ｍ Ｑの混液に溶かし、室温で２Ｎ水酸化ナト
リウム５．５ｍＱ（１１，０ミリモル）を加える。１５
分間攪拌した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣を水で希
釈する。混液を酢酸エチルで洗浄する。水層を希塩酸で
ｐＨ４，０にｗＲ整し、酢酸エチルで抽出する。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去して４−ベンジルオキシ−６−メトキシカルボニル
ピコリン酸の固体残渣３．３９ｇを得る。
ール５０ｍ Ｑの混液に溶かし、室温で２Ｎ水酸化ナト
リウム５．５ｍＱ（１１，０ミリモル）を加える。１５
分間攪拌した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣を水で希
釈する。混液を酢酸エチルで洗浄する。水層を希塩酸で
ｐＨ４，０にｗＲ整し、酢酸エチルで抽出する。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去して４−ベンジルオキシ−６−メトキシカルボニル
ピコリン酸の固体残渣３．３９ｇを得る。
（３）上記反応（２）で得た残渣にジフェニルエーテル
６、ＯｍＱを加え、混液を１８０℃に予熱した油浴中で
３０分間加熱する。室温まで放冷した後、反応液を酢酸
エチルで希釈し、飽和重曹水で洗浄する。有機層をＩＮ
塩酸で３回抽出する。水層を集め、２０％水酸化ナトリ
ウムを加えてｐｔｎｏ、ｏに調整し、酢酸エチルで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下に溶媒を留去してメチル ４−ペンジルオキシビコ
リナート２．０７ｇ（収率７７％）の固体を得る。
６、ＯｍＱを加え、混液を１８０℃に予熱した油浴中で
３０分間加熱する。室温まで放冷した後、反応液を酢酸
エチルで希釈し、飽和重曹水で洗浄する。有機層をＩＮ
塩酸で３回抽出する。水層を集め、２０％水酸化ナトリ
ウムを加えてｐｔｎｏ、ｏに調整し、酢酸エチルで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下に溶媒を留去してメチル ４−ペンジルオキシビコ
リナート２．０７ｇ（収率７７％）の固体を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： ４．０４（３Ｈ，ｓ）、
５．２２（２Ｈ，ｓ）、７．０８（ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝
２及び６Ｈｚ）、７．４４（５８，ｍ）、７．８０（Ｉ
Ｈ，ｄ 。
５．２２（２Ｈ，ｓ）、７．０８（ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝
２及び６Ｈｚ）、７．４４（５８，ｍ）、７．８０（Ｉ
Ｈ，ｄ 。
Ｊ＝２■Ｚ）、８．８０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ
（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ＋７３０．１５８０，１３
００．１２２０（４）上記反応（３）で得た化合物２．
６２ ｇ （１０，８ミリモル）を塩化メチレン５２ｍ
ｎに溶かし、−７８℃で１．５Ｍ水素化ジイソブチル
アルミニウム（トルエン溶液） ２１．６ｎ＋Ｑ（３２
，４ミリモル）を滴下する。
（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ＋７３０．１５８０，１３
００．１２２０（４）上記反応（３）で得た化合物２．
６２ ｇ （１０，８ミリモル）を塩化メチレン５２ｍ
ｎに溶かし、−７８℃で１．５Ｍ水素化ジイソブチル
アルミニウム（トルエン溶液） ２１．６ｎ＋Ｑ（３２
，４ミリモル）を滴下する。
１時間攪拌した後、酢酸４．６ｒｎ Ｑを加える。反応
混液を室温まで昇温させ、続いて飽和重曹水中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して４−ベンジルオ
キシ−２−ピリジンカルバルデヒドの固体残渣２．２８
ｇ（収率９９％）を得る。
混液を室温まで昇温させ、続いて飽和重曹水中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して４−ベンジルオ
キシ−２−ピリジンカルバルデヒドの固体残渣２．２８
ｇ（収率９９％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： ５．２０（２Ｈ，ｓ）、
７．１０（ｉｌｌ、ｄｄ、’Ｊ”２及び６Ｈｚ）、７．
４４（５Ｈ，ｍ）、７．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２）１ｚ
）、８．６２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： １７００，１５８０，
１４８０，１３６０．１３００（５）上記反応（４）で
得た化合物１．０ｇ （４，６９ミリモル）をジオキサ
ンｌ０ＩＩＩＱに溶かし、１−トリフェニルホスホラニ
リデン−２−プロパノン１．５０ｇ（４，７１ミリモル
）を加える０反応溶液を８０℃で３０分間攪拌する６反
応液を減圧下にａ縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−
ヘキサン＝１＝３で溶出）に付し、４−（４−ベンジル
オキシ−２−ピリジル）−３＝ブテン−２−オン１．７
６ｇ（トリフェニルホスフィンオキシトを含む）を得る
。
７．１０（ｉｌｌ、ｄｄ、’Ｊ”２及び６Ｈｚ）、７．
４４（５Ｈ，ｍ）、７．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２）１ｚ
）、８．６２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： １７００，１５８０，
１４８０，１３６０．１３００（５）上記反応（４）で
得た化合物１．０ｇ （４，６９ミリモル）をジオキサ
ンｌ０ＩＩＩＱに溶かし、１−トリフェニルホスホラニ
リデン−２−プロパノン１．５０ｇ（４，７１ミリモル
）を加える０反応溶液を８０℃で３０分間攪拌する６反
応液を減圧下にａ縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−
ヘキサン＝１＝３で溶出）に付し、４−（４−ベンジル
オキシ−２−ピリジル）−３＝ブテン−２−オン１．７
６ｇ（トリフェニルホスフィンオキシトを含む）を得る
。
ＮＭＲ（にＤＣＩ３） δ： ２．４０（３１１，ｓ
）、５．１６（２Ｂ、ｓ）、６．８８（ＩＩＩ、ｄｄ、
Ｊ＝２及び６Ｈｚ）、７．１０（ＩＨ，ｄ、、Ｊ’２Ｈ
ｚ） 、７．１５（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝１６）１ｚ）、７
．４４（５Ｈ，ｌ１１）、７．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１
６１１Ｚ）、８．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６）ＩＺ）（６
）上記反応（５）で得た化合物１．７６ｇをメタノール
２０ｍΩに溶かし、０℃で水素化ホウ素ナトリウム０．
１８ ｇ （４，７３ミリモル）を加える。１時間攪拌
した後、酢酸０．５ｍＱを加える０反応混液を飽和重曹
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して４−（
４−ベンジル−２−ピリジル）−３−プテンー２−オー
ルの粗生成物１．９０ｇを得る６ＨＭＲ（ＣＤＣＩｊ）
δ： １．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、４．５６
（ＬＨ，ｍ）。
）、５．１６（２Ｂ、ｓ）、６．８８（ＩＩＩ、ｄｄ、
Ｊ＝２及び６Ｈｚ）、７．１０（ＩＨ，ｄ、、Ｊ’２Ｈ
ｚ） 、７．１５（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝１６）１ｚ）、７
．４４（５Ｈ，ｌ１１）、７．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１
６１１Ｚ）、８．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６）ＩＺ）（６
）上記反応（５）で得た化合物１．７６ｇをメタノール
２０ｍΩに溶かし、０℃で水素化ホウ素ナトリウム０．
１８ ｇ （４，７３ミリモル）を加える。１時間攪拌
した後、酢酸０．５ｍＱを加える０反応混液を飽和重曹
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して４−（
４−ベンジル−２−ピリジル）−３−プテンー２−オー
ルの粗生成物１．９０ｇを得る６ＨＭＲ（ＣＤＣＩｊ）
δ： １．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、４．５６
（ＬＨ，ｍ）。
５．１２（２Ｈ，ｓ）、６．６２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６
Ｈｚ）、６．７８（ＩＨ，ｄｄ。
Ｈｚ）、６．７８（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２及び６Ｈｚ）、６．７０（１１１，ｄｄ、Ｊ＝６
及び１６１１Ｚ）、６．９０（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
） 、７．３〜７．６（５）１．＋ｎ） 、８．４０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ） （７）上記反応（６）で得た化合物２．７２ ｇ （１
０，７ミリモル）より実施例２７−（２）と同様の反応
を行ない、２．３−ジヒドロ−３−メチル−７（ＩＩＩ
）−インドリジノン４７８ＩＩ１ｇ （上記（４）工程
の４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカルバルデヒドか
らの収率：４８％）を得る。
及び１６１１Ｚ）、６．９０（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
） 、７．３〜７．６（５）１．＋ｎ） 、８．４０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ） （７）上記反応（６）で得た化合物２．７２ ｇ （１
０，７ミリモル）より実施例２７−（２）と同様の反応
を行ない、２．３−ジヒドロ−３−メチル−７（ＩＩＩ
）−インドリジノン４７８ＩＩ１ｇ （上記（４）工程
の４−ベンジルオキシ−２−ピリジンカルバルデヒドか
らの収率：４８％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ、）δ： １．３８（３１（、ｄ
、に６Ｈｚ）、１．７８（ＩＨ，ｍ）。
、に６Ｈｚ）、１．７８（ＩＨ，ｍ）。
２．３８（ＩＨ，ｍ）、２．９５（２Ｈ，＋ｏ）、４．
３８（ＩＨ，ｍ）、６．０２（ＩＨ。
３８（ＩＨ，ｍ）、６．０２（ＩＨ。
ｂｒ ｓ）、６．０６（１）１．ｂｒ ｄ、Ｊ’６Ｈｚ
）、７．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２） （８）上記反応（７）で得た化合物０．７８ ｇ （５
，２３ミリモル）を用いて実施例２７−（３）と同様の
反応を行ない、２，３−ジヒドロ−３−メチル−７（Ｉ
Ｈ）−インドリジンチオン０．４４ ｇ （収率５１％
）を得る。
）、７．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２） （８）上記反応（７）で得た化合物０．７８ ｇ （５
，２３ミリモル）を用いて実施例２７−（３）と同様の
反応を行ない、２，３−ジヒドロ−３−メチル−７（Ｉ
Ｈ）−インドリジンチオン０．４４ ｇ （収率５１％
）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： １．４０（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９０（ＩＨ，ｍ）。
Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９０（ＩＨ，ｍ）。
２．４０（ＩＨ，ｍ）、３．００（２）１．ｍ）、４．
３５（ＩＨ，ｍ）、７．１６（ＩＩＩ。
３５（ＩＨ，ｍ）、７．１６（ＩＩＩ。
ｄｄ、Ｊ＝２及び６Ｈｚ）、７．２０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
２Ｈｚ）、７．７８（ＩＨ。
２Ｈｚ）、７．７８（ＩＨ。
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）
実施例３０
（１）４−ヒドロキシ−２，６−ピリジンジカルボン酸
５．０ｇ（２７，３ミリモル）をメタノール５軸ρと酢
酸エチル５０ｍ （ｌの混液に溶かし、ジフェニルジア
ゾメタン２０ ｇ （０，１０ミリモル）を室温で数回
に分は加える。２時間攪拌した後１反応混液を飽和重曹
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝１＝１で溶出）に
付し、２，６−ジ（ジフェニルメチルオキシカルボニル
）−４−ヒドロキシピリジンの結晶９．１ｇ （収率６
４％）を得る。
５．０ｇ（２７，３ミリモル）をメタノール５軸ρと酢
酸エチル５０ｍ （ｌの混液に溶かし、ジフェニルジア
ゾメタン２０ ｇ （０，１０ミリモル）を室温で数回
に分は加える。２時間攪拌した後１反応混液を飽和重曹
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝１＝１で溶出）に
付し、２，６−ジ（ジフェニルメチルオキシカルボニル
）−４−ヒドロキシピリジンの結晶９．１ｇ （収率６
４％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ： ７．０６（２４＋、ｓ）、
７．２〜７．６（２２）１．ｍ）（２）上記反応（１）
で得た化合物３．０ ｇ （５，８２ミリモル）をＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド３０＋ｎ Ｑに溶かし、炭酸
カリウム８０４ｍｇ （５，８２ミリモル）及びベンジ
ルクロリド１．ＯｍＱ（８，８ミリモル）を加える。
７．２〜７．６（２２）１．ｍ）（２）上記反応（１）
で得た化合物３．０ ｇ （５，８２ミリモル）をＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド３０＋ｎ Ｑに溶かし、炭酸
カリウム８０４ｍｇ （５，８２ミリモル）及びベンジ
ルクロリド１．ＯｍＱ（８，８ミリモル）を加える。
混液を８０℃で１時間攪拌する。室温まで放冷した後、
反応混液を水中に注ぎ、 ｍｒ１ｉエチルで抽出する。
反応混液を水中に注ぎ、 ｍｒ１ｉエチルで抽出する。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝
ｌ：１で溶出）に付し、ジ（ジフェニルメチル）４−ベ
ンジルオキシ−２，６−ピリシンジカルボキシラートの
固体３．ｏ３ｇ（収率７４％）を得る。
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝
ｌ：１で溶出）に付し、ジ（ジフェニルメチル）４−ベ
ンジルオキシ−２，６−ピリシンジカルボキシラートの
固体３．ｏ３ｇ（収率７４％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： ５．２０（２Ｍ、ｓ）
、７．１６（２）１．ｓ）、７．２〜７．６（２０１１
，ｍ）、７．８８（２Ｈ，５）（３）上記反応（２）で
得た化合物６．０ｇ（９，９２ミリモル）を塩化メチレ
ン１２０ｍＱに溶かし、−７８℃で１．５Ｍ水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（トルエン溶液’） １９．８＋
ｎ １２ （２９，７ミリモル）を滴下する。３０分間
攪拌した後、酢酸６ｍｆｌを加える。反応混液を室温ま
で昇温させ、続いて飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレン
で抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。残渣をジオキサン４０ｍ ｆ
）、に溶かし、トリフェニルホスホラニリデン−２−プ
ロパノン３．１５ ｇ （９，９０ミリモル）を加え、
混液を８０℃で３０分間攪拌する１反応液を減圧下にｔ
！：４１Ｈシ、析出結晶を塩化メチレン−酢酸エチルの
混液で洗浄して４−（４−ペンジルオキシー６−シフエ
ニルメチルオキシカルボニルー２−ピリジル）−３−ブ
テン−２−オン２．１７ｇ（収率４７％）を得る。
、７．１６（２）１．ｓ）、７．２〜７．６（２０１１
，ｍ）、７．８８（２Ｈ，５）（３）上記反応（２）で
得た化合物６．０ｇ（９，９２ミリモル）を塩化メチレ
ン１２０ｍＱに溶かし、−７８℃で１．５Ｍ水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（トルエン溶液’） １９．８＋
ｎ １２ （２９，７ミリモル）を滴下する。３０分間
攪拌した後、酢酸６ｍｆｌを加える。反応混液を室温ま
で昇温させ、続いて飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレン
で抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。残渣をジオキサン４０ｍ ｆ
）、に溶かし、トリフェニルホスホラニリデン−２−プ
ロパノン３．１５ ｇ （９，９０ミリモル）を加え、
混液を８０℃で３０分間攪拌する１反応液を減圧下にｔ
！：４１Ｈシ、析出結晶を塩化メチレン−酢酸エチルの
混液で洗浄して４−（４−ペンジルオキシー６−シフエ
ニルメチルオキシカルボニルー２−ピリジル）−３−ブ
テン−２−オン２．１７ｇ（収率４７％）を得る。
（４）上記反応（３）で得た化合物８３軸ｇ （１，７
９ミリモル）をメタノール１０＋１１ Ｑ、と塩化メチ
レン４ｍｆｌの混液に懸濁し、室温で水素化ホウ素ナト
リウム１５０ｍｇ （３、９５ミリモル）を加える。１
時間攪拌した後、酢酸０．５ｍ ｎを加える１反応混液
を飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、炉液を減圧下に濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝１：
２で溶出）に付し、４−（４−ベンジルオキシ−６−ジ
フェニルメチルオキシカルボニル−２−ピリジル）−３
−ブテン−２−オール３２１ｍｇ （収率３８％）を得
る。
９ミリモル）をメタノール１０＋１１ Ｑ、と塩化メチ
レン４ｍｆｌの混液に懸濁し、室温で水素化ホウ素ナト
リウム１５０ｍｇ （３、９５ミリモル）を加える。１
時間攪拌した後、酢酸０．５ｍ ｎを加える１反応混液
を飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、炉液を減圧下に濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ワコーゲル Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン＝１：
２で溶出）に付し、４−（４−ベンジルオキシ−６−ジ
フェニルメチルオキシカルボニル−２−ピリジル）−３
−ブテン−２−オール３２１ｍｇ （収率３８％）を得
る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： １．４２（３Ｈ、ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ） 、４．６０（ＬＨ、ｍ）。
、Ｊ＝６Ｈｚ） 、４．６０（ＬＨ、ｍ）。
５．２０（２１１，ｓ）、６．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ：１
６Ｈｚ）、６．９４（ＩＨ，ｄｄ。
６Ｈｚ）、６．９４（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝５及び１６ｔｌｚ）、７．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２
１１ｚ） 、７．１８（ＩＩＩ、ｓ）。
１１ｚ） 、７．１８（ＩＩＩ、ｓ）。
７．２〜７．６（＋５Ｈ，ｍ）、７．６２（Ｉｆｆ、ｄ
、Ｊ：２Ｈｚ）（５）上記反応（４）で得た化合物７８
０ｍｇ （１，６８ミリモル）をメタノール１６ｍ ｎ
に溶かし、１０％パラジウム炭素触Ｉｓ７０ｒｎｇを加
え、室温で３０分間接接触光を行なう、触媒を炉別した
後、炉液にジフェニルジアゾメタン３２６ｍｇ （１，
６８ミリモル）を加え、混液を３０分間攪拌する。減圧
下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，５％メタノール−
塩化メチレンで溶出）に付し、６−（３−ヒドロキシブ
チル）−２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−４−
ヒドロキシピリジン５１２ｍｇ （収率８１％）を得る
。
、Ｊ：２Ｈｚ）（５）上記反応（４）で得た化合物７８
０ｍｇ （１，６８ミリモル）をメタノール１６ｍ ｎ
に溶かし、１０％パラジウム炭素触Ｉｓ７０ｒｎｇを加
え、室温で３０分間接接触光を行なう、触媒を炉別した
後、炉液にジフェニルジアゾメタン３２６ｍｇ （１，
６８ミリモル）を加え、混液を３０分間攪拌する。減圧
下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲル Ｃ−３００，５％メタノール−
塩化メチレンで溶出）に付し、６−（３−ヒドロキシブ
チル）−２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−４−
ヒドロキシピリジン５１２ｍｇ （収率８１％）を得る
。
Ｎｌ’ｌＲ（ＣＤＣ１，） δ： １２２（３ｔｌ、ｄ
、Ｊ＝６ｔｌｚ）、１．６〜２．０（２Ｈ，ｌ１１）、
２．７８（２Ｈ，ｍ）、３．９２（ＬＨ，ｍ）、６．４
８（ＩＨ，ｄ。
、Ｊ＝６ｔｌｚ）、１．６〜２．０（２Ｈ，ｌ１１）、
２．７８（２Ｈ，ｍ）、３．９２（ＬＨ，ｍ）、６．４
８（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝２Ｈｚ）、７．０２（ＩＨ，ｓ）、７．１〜７．８
（ＩＨ，ｌ１１）（６）上記反応（５）で得た化合物５
１２ｍｇ （１，３６ミリモル）をテトラヒドロフラン
１０ｍｆｌに溶かし、水冷下にトリフェニルホスフィン
３５６ｍｇ（１，３６ミリモル）及びアゾジカルボン酸
ジエチル２３６＋ｎｇ（１，３６ミリモル）を加える。
（ＩＨ，ｌ１１）（６）上記反応（５）で得た化合物５
１２ｍｇ （１，３６ミリモル）をテトラヒドロフラン
１０ｍｆｌに溶かし、水冷下にトリフェニルホスフィン
３５６ｍｇ（１，３６ミリモル）及びアゾジカルボン酸
ジエチル２３６＋ｎｇ（１，３６ミリモル）を加える。
室温で１０分間攪拌した後、再び水冷下に上記同量のト
リフェニルホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルを
追加し、反応液を室温で１０分間攪拌する。減圧下に溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ワコーゲル Ｃ−３００，５％メタノール−塩化メ
チレンで溶出）に付し、２，３−ジヒドロ−３−メチル
−５−ジフェニルメチルオキシカルボニル−７（ｔ＋＋
）−インドリジノン３６３ｍｇ （収率７４％）を得る
。
リフェニルホスフィン及びアゾジカルボン酸ジエチルを
追加し、反応液を室温で１０分間攪拌する。減圧下に溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ワコーゲル Ｃ−３００，５％メタノール−塩化メ
チレンで溶出）に付し、２，３−ジヒドロ−３−メチル
−５−ジフェニルメチルオキシカルボニル−７（ｔ＋＋
）−インドリジノン３６３ｍｇ （収率７４％）を得る
。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： １．２０（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）、１．９６（ＩＨ，ｍ）。
＝６Ｈｚ）、１．９６（ＩＨ，ｍ）。
２．３２（ＩＨ，ａ＋）、３．００（２Ｈ，ｍ）、５．
４２（ＩＨ，ｍ）、６．４６（ＩＨ。
４２（ＩＨ，ｍ）、６．４６（ＩＨ。
ｂｒ ｓ）、７．０４（ＩＨ，ｓ）、７．２〜７．６（
１０１（、ｍ）（７）上記反応（６）で得た化合物３５
０ｍｇ（０，９７ミリモル）をピリジン３．６ｍ Ｑに
溶かし、三硫化リン４４９ｍｇ （２，０２ミリモル）
を加える。混液を１００℃で３０分間攪拌する。反応液
を放冷した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（Ｍｅｒｋ Ａｒｔ ５７１
７． ５％メタノール−塩化メチレンで展開）に付し、
２，３−ジヒドロ−３−メチル−５−ジフェニルメチル
オキシカルボニル−７（ＩＩＩ）−インドリシンチオン
２３５ｍｇ （収率６５％）を得る。
１０１（、ｍ）（７）上記反応（６）で得た化合物３５
０ｍｇ（０，９７ミリモル）をピリジン３．６ｍ Ｑに
溶かし、三硫化リン４４９ｍｇ （２，０２ミリモル）
を加える。混液を１００℃で３０分間攪拌する。反応液
を放冷した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（Ｍｅｒｋ Ａｒｔ ５７１
７． ５％メタノール−塩化メチレンで展開）に付し、
２，３−ジヒドロ−３−メチル−５−ジフェニルメチル
オキシカルボニル−７（ＩＩＩ）−インドリシンチオン
２３５ｍｇ （収率６５％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、） δ： １．２２（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９８（ＩＨ，ｍ）。
、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９８（ＩＨ，ｍ）。
２．３８（１１（、ｍ）、３．０４（２Ｈ，ｍ）、５．
５４（ｉｔ（、ｍ） 、７．０６（ＩＨ，ｓ）、７．２
〜７．６（ＩＩＨ，ｌ１１）、８．１６（ＩＨ，ｂｒ
ｓ）実施例３１ （１）２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピロン９．
２ｇ（５，４ミリモル）を濃アンモニア水３０ＩＩｌΩ
と１００℃で一夜加熱攪拌する。放冷した後、減圧下に
溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル−メタノールの混液
で洗浄して２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピリド
ンの固体４．７３ｇ （収率５２％）を得る。
５４（ｉｔ（、ｍ） 、７．０６（ＩＨ，ｓ）、７．２
〜７．６（ＩＩＨ，ｌ１１）、８．１６（ＩＨ，ｂｒ
ｓ）実施例３１ （１）２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピロン９．
２ｇ（５，４ミリモル）を濃アンモニア水３０ＩＩｌΩ
と１００℃で一夜加熱攪拌する。放冷した後、減圧下に
溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル−メタノールの混液
で洗浄して２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピリド
ンの固体４．７３ｇ （収率５２％）を得る。
ＮＭＲ（１）！！５ｏ−ｄ、） δ： ３．６６（３Ｌ
ｓ）、６．５２（ＩＬｓ）、７．１６（ＬＨ，ｂｒ ５
） （２）上記反応（１）で得た化合物２．７３ｇ（１，６
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２７ｍ １
２に溶かし、炭酸カリウム６．６ ｇ （４，８ミリモ
ル）とベンジルクロリド５．６ｍ Ｑ （４，８ミリモ
ル）を加える。
ｓ）、６．５２（ＩＬｓ）、７．１６（ＬＨ，ｂｒ ５
） （２）上記反応（１）で得た化合物２．７３ｇ（１，６
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２７ｍ １
２に溶かし、炭酸カリウム６．６ ｇ （４，８ミリモ
ル）とベンジルクロリド５．６ｍ Ｑ （４，８ミリモ
ル）を加える。
混液を８０℃で１時間攪拌する。放冷した後、反応混液
を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。結
晶性残渣を酢酸エチルで洗浄してベンジル ４−ベンジ
ルオキシ−５−メトキシビコリナート２．４５ｇ （収
率４３％）を得る。
を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。結
晶性残渣を酢酸エチルで洗浄してベンジル ４−ベンジ
ルオキシ−５−メトキシビコリナート２．４５ｇ （収
率４３％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＮＳＯ−ｄ、） δ： ４．０２（３Ｈ，
Ｓ）、５．２２（２Ｈ，Ｓ）、５．４２（２１１，ｓ）
、７．２〜７．６（１０１１，ｍ）、７．７６（ＩＨｌ
ｓ）、８．２８（ＬＨ，５） （３）上記反応（２）で得た化合物２．４５ ｇより実
施例３０−（３）と同様の反応を行ない、４−（４−ベ
ンジルオキシ−５−メトキシ−２−ピリジル）−３−ブ
テン−２−オン２．２４ｇ （少量のトリフェニルホス
フィンオキシトを含む）を得る。
Ｓ）、５．２２（２Ｈ，Ｓ）、５．４２（２１１，ｓ）
、７．２〜７．６（１０１１，ｍ）、７．７６（ＩＨｌ
ｓ）、８．２８（ＬＨ，５） （３）上記反応（２）で得た化合物２．４５ ｇより実
施例３０−（３）と同様の反応を行ない、４−（４−ベ
ンジルオキシ−５−メトキシ−２−ピリジル）−３−ブ
テン−２−オン２．２４ｇ （少量のトリフェニルホス
フィンオキシトを含む）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ： ２．３８（３Ｈ，ｓ）、４
．００（３Ｈ，ｓ）、５．２２（２）１．ｓ）、６．９
４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、７．０８（ＩＩＩ、ｓ
）、７．３〜７．６（６Ｈ，ｌ１１）、８．２０（ＩＨ
，５）（４）上記反応（３）で得た粗生成物２．２４ｇ
より実施例３０−（４）と同様の反応を行ない、４−（
４−ベンジルオキシ−５−メトキシ−２−ピリジル）−
３−ブテン−２−オール０．８３ｇ （上記（２）工程
の２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピリドンからの
収率：３７％）を得る。
．００（３Ｈ，ｓ）、５．２２（２）１．ｓ）、６．９
４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、７．０８（ＩＩＩ、ｓ
）、７．３〜７．６（６Ｈ，ｌ１１）、８．２０（ＩＨ
，５）（４）上記反応（３）で得た粗生成物２．２４ｇ
より実施例３０−（４）と同様の反応を行ない、４−（
４−ベンジルオキシ−５−メトキシ−２−ピリジル）−
３−ブテン−２−オール０．８３ｇ （上記（２）工程
の２−カルボキシ−５−メトキシ−４−ピリドンからの
収率：３７％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： １．３５（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６Ｈ２）、３．９４（３８，Ｓ）。
Ｊ＝６Ｈ２）、３．９４（３８，Ｓ）。
４−４−５０（ＩＨ４＋５．２０（２１１，ｓ）＋６．
５４（２Ｈ９ｍ）、６．８（ＩＨ９ｓ）、７．３〜７．
６（５Ｈ，ｍ）、８．０８（ＩＨ，５）（５）上記反応
（４）で得た化合物０．８３ｇより実施例２９−（７）
と同様の反応を行ない、２，３−ジヒドロ−６−メドキ
シー３−メチル−７（ＩＨ）−インドリジノン４８１ａ
＋ｇ （収率９３％）を得る。
５４（２Ｈ９ｍ）、６．８（ＩＨ９ｓ）、７．３〜７．
６（５Ｈ，ｍ）、８．０８（ＩＨ，５）（５）上記反応
（４）で得た化合物０．８３ｇより実施例２９−（７）
と同様の反応を行ない、２，３−ジヒドロ−６−メドキ
シー３−メチル−７（ＩＨ）−インドリジノン４８１ａ
＋ｇ （収率９３％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ＋ＣＤＣ１，） δ： ２．５５
（３１１，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、２．００（ＩＩＩ 、
ｌ１１） 、２．５６（ｉｌｌ 、ｍ） 、３．１０（
２Ｈ，ｍ）、３．８６（３ｔｌ 、ｓ ）。
（３１１，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、２．００（ＩＩＩ 、
ｌ１１） 、２．５６（ｉｌｌ 、ｍ） 、３．１０（
２Ｈ，ｍ）、３．８６（３ｔｌ 、ｓ ）。
４．５６（ＩＨ，ｍ）、６．４２（１８，ｂｒ ｓ）、
７．３６（ＩＩＩ、５）（６）上記反応（５）で得た化
合物４８１ｍｇより実施例２７−（３）と同様の反応を
行ない、２．３−ジヒドロ−６−メドキシー３−メチル
−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオン２９４ｍｇ （収
率５６％）を得る。
７．３６（ＩＩＩ、５）（６）上記反応（５）で得た化
合物４８１ｍｇより実施例２７−（３）と同様の反応を
行ない、２．３−ジヒドロ−６−メドキシー３−メチル
−７（ＩＩＩ）−インドリジンチオン２９４ｍｇ （収
率５６％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ＋ＣＤＣ１，） δ： １．６０（
３Ｂ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０５（ＩＨ、ｍ）、２．
５８（ｌｔｌ 、ｍ）、３．１６（２１１、ｍ） 、３
．９２（３１１、ｓ ） 。
３Ｂ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０５（ＩＨ、ｍ）、２．
５８（ｌｔｌ 、ｍ）、３．１６（２１１、ｍ） 、３
．９２（３１１、ｓ ） 。
４．６２（ｉｌｌ、ｍ）、７．３２（ＩＨ，ｓ）、７．
７０（ＩＩ！、ｓ）実施例３２ ３．４−ジヒドロ−８（ｉｌｌ）−ピリド（２，１−ｃ
）〔１，４）オキサジンチオン （１）水素化リチウムアルミニウム１５６ｍｇ （４，
１０ミリモル）を含むテトラヒドロフラン溶液２０ｍ
Ｑに、−７８℃でメチル ４−ペンジルオキシビコリナ
ート１．０ｇ（４，１１ミリモル）を加え、反応混液を
１５分間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加える。混液
を室温まで昇温した後、飽和重曹水で洗浄する。
７０（ＩＩ！、ｓ）実施例３２ ３．４−ジヒドロ−８（ｉｌｌ）−ピリド（２，１−ｃ
）〔１，４）オキサジンチオン （１）水素化リチウムアルミニウム１５６ｍｇ （４，
１０ミリモル）を含むテトラヒドロフラン溶液２０ｍ
Ｑに、−７８℃でメチル ４−ペンジルオキシビコリナ
ート１．０ｇ（４，１１ミリモル）を加え、反応混液を
１５分間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加える。混液
を室温まで昇温した後、飽和重曹水で洗浄する。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。残渣を酢酸５．０ｍ Ｑに溶かし、室温下
に水素化シアノホウ素ナトリウム０．２６ｇ、 （４，
１４ミリモル）を加える。反応混液を３０分間攪拌した
後、減圧下に溶媒を留去する。残渣に酢酸エチル及び飽
和重曹水を加え、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去して４−ベンジル−２−ヒド
ロキシメチルピリジンの固体０．８５ｇ （収率９６％
）を得る。
を留去する。残渣を酢酸５．０ｍ Ｑに溶かし、室温下
に水素化シアノホウ素ナトリウム０．２６ｇ、 （４，
１４ミリモル）を加える。反応混液を３０分間攪拌した
後、減圧下に溶媒を留去する。残渣に酢酸エチル及び飽
和重曹水を加え、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去して４−ベンジル−２−ヒド
ロキシメチルピリジンの固体０．８５ｇ （収率９６％
）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ： ４．７２（２１１，ｂｒ
ｓ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）、６．８２（ＩＩＩ、ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、６．８６（ＩＩＩ、ｂｒ ｓ）
、７．４２（５１１，ｍ）。
ｓ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）、６．８２（ＩＩＩ、ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、６．８６（ＩＩＩ、ｂｒ ｓ）
、７．４２（５１１，ｍ）。
８．３８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６１１Ｚ）
ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ−’ ： ３２００，１６００，
１３１０．１０１０（２）上記反応（１）で得た化合物
１．９２ ｇ （８，９３ミリモル）を塩化メチレン２
０ｍ０に溶かし、塩化チオニル１．軸Ｑ （１３，７ミ
リモル）を加える。水冷下にピリジン０．７０ｍ Ｑ
（８，８６ミリモル）を滴下し、混液を３０分間攪拌す
る０反応液を飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去して４−ベンジル−２−クロロメチルビリ
ジンの粗生成物１．５４ｇ （収率７４％）を得る。
１３１０．１０１０（２）上記反応（１）で得た化合物
１．９２ ｇ （８，９３ミリモル）を塩化メチレン２
０ｍ０に溶かし、塩化チオニル１．軸Ｑ （１３，７ミ
リモル）を加える。水冷下にピリジン０．７０ｍ Ｑ
（８，８６ミリモル）を滴下し、混液を３０分間攪拌す
る０反応液を飽和重曹水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に溶媒を留去して４−ベンジル−２−クロロメチルビリ
ジンの粗生成物１．５４ｇ （収率７４％）を得る。
（３）上記反応（２）で得た粗生成物１．２ｇ（５，１
４ミリモル）及びヨウ化ナトリウム１．０ｇ（６，６ミ
リモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３．０ｍ Ｑ
に懸濁する。２−ベンジルオキシエタノール１．２ ｇ
（７，８９ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド２４ｍ Ｑに溶かし、室温で５０％水素化ナトリウム
１．９０ ｇ （３９，６ミリモル）を加え、この混液
に上記調製の懸濁液を加える。室温で３０分間攪拌した
後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ワコーゲル Ｃ−３００，Ｍｌ’酸エチル−ヘキサン＝
ｌ：１で溶出）に付し、４−ベンジルオキシ−２−（２
−ベンジルオキシエトキシメチル）ピリジン１．５６ｇ
（収率８７％）を得る。
４ミリモル）及びヨウ化ナトリウム１．０ｇ（６，６ミ
リモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３．０ｍ Ｑ
に懸濁する。２−ベンジルオキシエタノール１．２ ｇ
（７，８９ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド２４ｍ Ｑに溶かし、室温で５０％水素化ナトリウム
１．９０ ｇ （３９，６ミリモル）を加え、この混液
に上記調製の懸濁液を加える。室温で３０分間攪拌した
後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ワコーゲル Ｃ−３００，Ｍｌ’酸エチル−ヘキサン＝
ｌ：１で溶出）に付し、４−ベンジルオキシ−２−（２
−ベンジルオキシエトキシメチル）ピリジン１．５６ｇ
（収率８７％）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ： ３．７５（２１＋、ｍ）、
３．７８（２１１，ｍ）、４．６２（２Ｈ，ｓ）、４．
７０（２Ｈ，ｓ）、５．１０（２Ｈ，ｓ）、６．８０（
ＩＨ，ｄｄ。
３．７８（２１１，ｍ）、４．６２（２Ｈ，ｓ）、４．
７０（２Ｈ，ｓ）、５．１０（２Ｈ，ｓ）、６．８０（
ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２及び６１１ｚ） 、７ 、１６（ＩＨ、ｄ 、Ｊ
＝２Ｈｚ）、７．２〜？、６（１０８，ｍ）、８．３８
（ｌ）ｌ、ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）（４）上記反応（３）で
得た化合物２００ｍｇ （０，５７ミリモル）をエタノ
ール４．０ｍｆ）、に溶かし、１０％パラジウム炭素触
媒４０ｍｇを加える。８０℃で３時間接触還元を行なう
。触媒を炉別し、減圧下に溶媒を留去して２−（２−と
ドロキシエトキシメチル） −４−ピリドンの残渣を得
る。
＝２Ｈｚ）、７．２〜？、６（１０８，ｍ）、８．３８
（ｌ）ｌ、ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）（４）上記反応（３）で
得た化合物２００ｍｇ （０，５７ミリモル）をエタノ
ール４．０ｍｆ）、に溶かし、１０％パラジウム炭素触
媒４０ｍｇを加える。８０℃で３時間接触還元を行なう
。触媒を炉別し、減圧下に溶媒を留去して２−（２−と
ドロキシエトキシメチル） −４−ピリドンの残渣を得
る。
（５）上記反応（４）で得た残渣及びトリフェニルホス
フィン２６４ｍｇ （１，４１ミリモル）をテトラヒド
ロフラン２．０ｍＱに溶かし、室温でアゾジカルボン酸
ジエチルｌｏｎｇ（１，０３ミリモル）を滴下する。
フィン２６４ｍｇ （１，４１ミリモル）をテトラヒド
ロフラン２．０ｍＱに溶かし、室温でアゾジカルボン酸
ジエチルｌｏｎｇ（１，０３ミリモル）を滴下する。
１時間攪拌した後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィー（ＭｅｒｋＡｒｔ５７
１７．１０％メタノール−塩化メチレンで展開）に付し
、３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド［２，１−ｃ
］（１，４）オキサジノン７０ｎ＋ｇを得る。
リカゲル薄層クロマトグラフィー（ＭｅｒｋＡｒｔ５７
１７．１０％メタノール−塩化メチレンで展開）に付し
、３，４−ジヒドロ−８（ＩＨ）−ピリド［２，１−ｃ
］（１，４）オキサジノン７０ｎ＋ｇを得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ： ３．９８（２Ｈ１ｍ
）、４．０２（２Ｈ、Ｉｌｌ ） 、４−６４（２Ｈ
，ｓ）、５．９６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２１１ｚ）、６．１
０（ＬＨ，ｄｄ、、Ｃ２及び６Ｈ２）、７．５８（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝６）ＩＺ）（６）上記反応（５）で得た化合
物０．７４ ｇ （４，９０ミリモル）を実施例２７−
（３）と同様の反応を行ない、３．４−ジヒドロ−８（
ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ）（１，４）オキサジンチ
オン４７０ｍｇ （収率５７％）を得る。
）、４．０２（２Ｈ、Ｉｌｌ ） 、４−６４（２Ｈ
，ｓ）、５．９６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２１１ｚ）、６．１
０（ＬＨ，ｄｄ、、Ｃ２及び６Ｈ２）、７．５８（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝６）ＩＺ）（６）上記反応（５）で得た化合
物０．７４ ｇ （４，９０ミリモル）を実施例２７−
（３）と同様の反応を行ない、３．４−ジヒドロ−８（
ＩＨ）−ピリド（２，１−ｃ）（１，４）オキサジンチ
オン４７０ｍｇ （収率５７％）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ： ４．０４（４Ｈ，ｓ）
、４．７０（２１１，ｓ）、７．０６（１１（、ｄ、Ｊ
＝２Ｈｚ）、７．１０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２及び６ｔｌ
ｚ）、７．５４（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ■孔例仇里 本発明の化合物は文献未記載の新規化合物であり、感受
性及び耐性のダラム陽性菌及びダラム陰性菌、特にメチ
シリン耐性の黄色ブドウ球菌及び緑膿菌を含むブドウ糖
非発酵ダラム陰性桿菌に対して、予期せざる強い抗菌活
性を有し、β−ラクタマーゼに対する安定性に優れ、抗
菌剤として有効である。
、４．７０（２１１，ｓ）、７．０６（１１（、ｄ、Ｊ
＝２Ｈｚ）、７．１０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２及び６ｔｌ
ｚ）、７．５４（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ■孔例仇里 本発明の化合物は文献未記載の新規化合物であり、感受
性及び耐性のダラム陽性菌及びダラム陰性菌、特にメチ
シリン耐性の黄色ブドウ球菌及び緑膿菌を含むブドウ糖
非発酵ダラム陰性桿菌に対して、予期せざる強い抗菌活
性を有し、β−ラクタマーゼに対する安定性に優れ、抗
菌剤として有効である。
Claims (5)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、置換基を有していてもよい
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基又
は置換基を有していてもよいアラルキル基を、Ｒ＾２は
水素原子、陰電荷又は生体内で加水分解可能な無毒性エ
ステルを形成しうるエステル残基を、基Ａは不飽和結合
を含んでいてもよいアルキレン基（なお、該アルキレン
基の炭素原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいず
れかの少なくとも１個で置き換わっていてもよい）をそ
れぞれ示し、該ピリジン環及び該基Ａで形成される二環
性複素環は同一又は異なる１ないし３個の置換基を有し
ていてもよい〕で表される化合物又はその無毒性塩。 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＾３は水素原子又はアミノ基の保護基を、Ｒ
＾４は水素原子、保護された置換基を有していてもよい
低級アルキル基、保護された置換基を有していてもよい
低級アルケニル基、保護された置換基を有していてもよ
い低級アルキニル基又は保護された置換基を有していて
もよいアラルキル基を、Ｒ＾５は水素原子、陰電荷又は
カルボキシル基の保護基を、Ｘは脱離基をそれぞれ示す
〕で表される化合物又はその塩に、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキレ
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子が酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個以上で
置き換わっていてもよい）を示し、該ピリジン環及び該
基Ｂで形成される二環性複素環は同一又は異なる１ない
し３個の置換基（該置換基は保護されていてもよい）を
有していてもよい〕で表される化合物を反応させて、一
般式▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及び基Ｂは前記の意味
を有し、Ｘ＾■は陰イオンを意味する〕で表される化合
物となし、ついで必要に応じて、 （ｉ）保護基を脱離する工程 （ｉｉ）遊離酸をその無毒性塩に変換する工程（ｉｉｉ
）遊離酸をその生体内で加水分解可能な無毒性エステル
に変換する工程 以上の工程を１つ以上行うことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、置換基を有していてもよい
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基又
は置換基を有していてもよいアラルキル基を、Ｒ＾２は
水素原子、陰電荷又は生体内で加水分解可能な無毒性エ
ステルを形成しうるエステル残基を、基Ａは不飽和結合
を含んでいてもよいアルキレン基（なお、該アルキレン
基の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいず
れかの少なくとも１個で置き換わっていてもよい）をそ
れぞれ示し、該ピリジン環及び該基Ａで形成される二環
性複素環は同一又は異なる１ないし３個の置換基を有し
ていてもよい〕で表される化合物又はその無毒性塩の製
造法。 - （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒ＾６は水素原子、アミノ基の保護基又は一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾３は水素 原子又はアミノ基 の保護基を、Ｒ＾４ は水素原子、水酸基の保護基、保護された置換基を有し
ていてもよい低級アルキル基、保護された置換基を有し
ていてもよい低級アルケニル基、保護された置換基を有
していてもよい低級アルキニル基又は保護された置換基
を有していてもよいアラルキル基をそれぞれ示す）で表
される基を、Ｒ＾５は水素原子、陰電荷又はカルボキシ
ル基の保護基を、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよい
アルキレン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素
原子、硫黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１
個で置き換わっていてもよい）をそれぞれ示し、該ピリ
ジン環及び該基Ｂで形成される二環性複素環は同一又は
異なる１ないし３個の置換基（該置換基は保護されてい
てもよい）を有していてもよい〕で表される化合物又は
その無毒性塩。 - （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、基Ｂは不飽和結合を含んでいてもよいアルキレ
ン基（なお、該アルキレン基の炭素原子は酸素原子、硫
黄原子又は窒素原子のいずれかの少なくとも１個以上で
置き換わっていてもよい）を示し、該ピリジン環及び該
基Ｂで形成される二環性複素環は同一又は異なる１ない
し３個の置換基（該置換基で保護されていてもよい）を
有していてもよい〕で表される化合物。 - （５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、置換基を有していてもよい
低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニル基、置換基を有していてもよい低級アルキニル基又
は置換基を有していてもよいアラルキル基を、Ｒ＾２は
水素原子、陰電荷又は生体内で加水分解可能な無毒性エ
ステルを形成しうるエステル残基を、基Ａは不飽和結合
を含んでいてもよいアルキレン基（なお、該アルキレン
基の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいず
れかの少なくとも１個で置き換わっていてもよい）をそ
れぞれ示し、該ピリジン環及び該基Ａで形成される二環
式複素環は同一又は異なる１ないし３個の置換基を有し
ていてもよい〕で表される化合物又はその無毒性塩を有
効成分とする抗菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120838A JPH01290683A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 二環性複素環チオメチルセフェム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120838A JPH01290683A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 二環性複素環チオメチルセフェム誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01290683A true JPH01290683A (ja) | 1989-11-22 |
Family
ID=14796210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63120838A Pending JPH01290683A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 二環性複素環チオメチルセフェム誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01290683A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5637580A (en) * | 1988-10-24 | 1997-06-10 | The Procter & Gamble Company | Antimicrobial penem-quinolones |
| EP0838457A4 (en) * | 1996-03-15 | 1999-06-30 | Ss Pharmaceutical Co | NOVEL PYRIDINE DERIVATIVES AND MEDICAMENTS CONTAINING THESE DERIVATIVES AS ACTIVE INGREDIENT |
-
1988
- 1988-05-18 JP JP63120838A patent/JPH01290683A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5637580A (en) * | 1988-10-24 | 1997-06-10 | The Procter & Gamble Company | Antimicrobial penem-quinolones |
| US5646139A (en) * | 1988-10-24 | 1997-07-08 | The Procter & Gamble Company | Antimicrobial carbapenem quinolones |
| US5648346A (en) * | 1988-10-24 | 1997-07-15 | The Procter & Gamble Company | Antimicrobial carbacephem-quinolones |
| EP0838457A4 (en) * | 1996-03-15 | 1999-06-30 | Ss Pharmaceutical Co | NOVEL PYRIDINE DERIVATIVES AND MEDICAMENTS CONTAINING THESE DERIVATIVES AS ACTIVE INGREDIENT |
| US6046218A (en) * | 1996-03-15 | 2000-04-04 | Ss Pharmaceutical Co., Ltd. | Pyridine derivative and medicament containing the same as an effective ingredient |
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