JPH0129369B2 - - Google Patents
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
この発明は、耐湿特性にすぐれたポリイミド成
形物およびその製造方法に関するものである。 従来公知のポリイミドは、芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物成分と芳香族ジアミン成分とを反応
させて得られ、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、
耐放射線性、機械的強度などにすぐれているため
半導体素子の表面保護膜、多層配線用絶縁膜、ジ
ヤンクシヨン保護膜などに用いられている。従来
公知のポリイミドはこのようにすぐれた特性を有
している反面、耐湿性が低いという欠点があつ
た。 すなわち、よく知られているピロメリツト酸二
無水物と4・4′−ジアミンジフエニルエーテルか
ら得られるポリイミドフイルムでは吸湿率が2〜
2.5%(25℃、80R.H.)程度であり、ポリエステ
ルの吸湿率が同条件で0.4〜0.6%程度であるのに
比べてかなり高く、このため湿度の変化にともな
つてポリイミドフイルムに寸法変化が生じる、半
導体素子の電気特性が低下する、フレキシブルプ
リント回路基板の用途においてはラミネート時や
ハンダ時に水分の蒸発によるボイドが発生しやす
く、これを防ぐためにラミネートやハンダの前に
ポリイミドフイルムを予備乾燥する必要があり、
回路基板の製造工程を複雑にしているなどの問題
があつた。 これに対して、最近では吸湿率の低いポリイミ
ド成形物を得る試みが種々なされており、前記と
同条件での吸湿率が0.6〜0.8%程度であるポリイ
ミドフイルムが知られるようになつた。しかしな
がら、このようなポリイミド成形物もポリエステ
ルに比べるとまだ吸湿率が高く、ポリエステルと
同程度の耐湿性を有するポリイミド成形物、すな
わち前記と同条件での吸湿率が0.5%以下である
ポリイミドフイルムは今までに知られていなかつ
た。 前記のようにすぐれた諸特性を有するポリイミ
ド成形物がポリエステルと同程度の耐湿性を兼ね
備えることができれば、前記のような問題が解決
されるとともにポリイミド成形物の有用性がさら
に高められる。 そこで、この発明者らは、ポリエステルと同程
度の耐湿性を有するポリイミド成形物を提供する
ことを目的として鋭意検討した結果、特定の芳香
族ジアミンと特定の芳香族テトラカルボン酸ない
しはその誘導体とを主成分として使用して得られ
たポリイミド成形物では、従来公知のポリイミド
成形物に比べて非常にすぐれた耐湿性を有するこ
とを見い出しこの発明をなすに至つた。 すなわち、この発明は、一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は水素原子または
その置換基であり、互いに同じであつても異なつ
ていてもよい。また、R5およびR6は水素原子、
低級アルキル基またはハロゲン化アルキル基であ
り、互いに同じであつても異なつていてもよい。) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなる吸湿率が0.5%以下(25℃、80%RH)で
ある高耐湿性ポリイミド成形物およびその製造方
法に係るものである。 この発明の高耐湿性ポリイミド成形物は、吸湿
率が0.5%以下(25℃、80%R.H.)と従来のポリ
イミド成形物の吸湿率に比べて低く、従来のポリ
イミド成形物でみられた吸湿水分に起因する種々
の問題が生じることがないので、従来のポリイミ
ド成形物に比べて一段と有用性の高いものであ
る。 なお、ここでいう吸湿率とは、50℃で24時間乾
燥させた乾燥状態の成形物を、一定の湿度条件で
飽和させ、その前後の重量変化から次式により求
められるものである。 吸湿率=飽和吸湿時の重量−乾燥時の重量/乾燥時の重
量×100 この発明のポリイミド成形物は、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなるものであり、このポリイミドを製造する
には、一般式 で示されるビフエニルテトラカルボン酸二無水物
ないしはその誘導体を主成分とする芳香族テトラ
カルボン酸成分と、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される芳香族エーテルジアミンを主成分とす
る芳香族ジアミンとを使用する。 前記の一般式で示されるビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物ないしはその誘導体としては、
3・3′・4・4′−ビフエニルテトラカルボン酸二
無水物、2・3・3′・4′−ビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物およびこれらの酸ハロゲン化物、
ジエステル、モノエステルなどの誘導体が挙げら
れ、これら化合物を単独あるいは2種以上混合し
て使用する。 なお、これら化合物の中でも3・3′・4・4′−
ビフエニルテトラカルボン酸二無水物を前記の一
般式で示される成分中通常は50モル%以上使用す
るのが、得られるポリイミド成形物の機械的強度
の面から好ましい。 これらの主成分とともに使用される他の芳香族
テトラカルボン酸成分としては、ピロメリツト
酸、3・3′・4・4′−ベンゾフエノンテトラカル
ボン酸、2・3・6・7−ナフタリンテトラカル
ボン酸、1・4・5・8−ナフタリンテトラカル
ボン酸、3・3′・4・4′−ジフエニルエーテルテ
トラカルボン酸などの酸二無水物およびその誘導
体などを挙げることができ、これら化合物のうち
1種または2種以上を用いることができる。 前記の一般式で示される芳香族エーテルジアミ
ンにおいてR1、R2、R3およびR4は水素原子また
は低級アルキル基、塩素原子、臭素原子などの置
換基であり、R5およびR6は水素原子、低級アル
キル基またはハロゲン化アルキル基であり、この
芳香族エーテルジアミンの具体例としては、2・
2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕プロパン、2・2−ビス〔3−メチル−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、
2・2−ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕プロパン、1・1−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタ
ン、1・1−ビス〔3−メチル−4−(4−アミ
ノフエノキシ)フエニル〕エタン、1・1−ビス
〔3−クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕エタン、1・1−ビス〔3・5−ジメチル
−4−〔4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタ
ン、ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕メタン、ビス〔3−メチル−4−(4−アミ
ノフエノキシ)−フエニル〕メタン、ビス〔3−
クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
エタン、ビス〔3・5−ジメチル−4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕メタン、2・2−ビ
ス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ヘ
キサフルオロプロパン、2・2−ビス〔3・5−
ジブロモ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕プロパンなどが挙げられ、これら化合物のう
ち1種または2種以上混合して使用する。 なお、これら化合物のうちでも2・2−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパ
ンがとくに好ましく使用される。また、これ以外
に2・2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕ヘキサフルオロプロパンなども好まし
く使用される。 これらの主成分とともに使用される他の芳香族
ジアミンとしては、4・4′−ジアミノジフエニル
エーテル、4・4′−ジアミノジフエニルメタン、
4・4′−ジアミノジフエニルスルホン、3・3′−
ジアミノジフエニルスルホン、4・4′−ジアミノ
ジフエニルスルフアイド、4・4′−ジアミノジフ
エニルプロパン、4・4′−ジアミノジフエニル、
パラフエニレンジアミン、メタフエニレンジアミ
ン、1・5−ジアミノナフタリン、3・3′−ジメ
チル−4・4′−ジフエニルジアミンおよび などが挙げられ、これらのうち1種または2種以
上を用いることができる。 上記の芳香族テトラカルボン酸成分および芳香
族ジアミンを使用してポリイミド成形物を製造す
る好ましい方法には、次の2通りの方法がある。 まずひとつの方法は、これら両成分を略等モル
有機極性溶媒中で反応させてポリアミド酸などの
ポリイミド前駆体とし、このポリイミド前駆体の
溶液からポリイミド前駆体の成形物を成形したの
ち、この成形物を加熱してイミド化するものであ
る。 前記の有機極性溶媒としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N・N−ジメチルホルムアミド、
N・N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、テトラメチル尿素、メタクレゾール、パ
ラクレゾール、メタ−、パラ−クレゾールの混合
物、キシレノール、フエノールなどのポリイミド
前駆体を溶解しうる溶媒を挙げることができる。
この有機極性溶媒の使用量は、上記の両成分の濃
度が通常5〜30重量%となるようにするのがよ
い。 この有機溶媒中で上記の両成分を略等モル通常
0〜80℃で1〜10時間反応させてポリイミド前駆
体の溶液とする。このとき得られるポリイミド前
駆体は、対数粘度(N−メチル−2−ピロリドン
中0.5g/100mlの濃度で30℃で測定)が通常は
1.5〜6の範囲内にある高分子量のものであるこ
とが好ましい。この値が小さすぎると得られるポ
リイミド成形物の機械的強度が低くなり好ましく
ない。なお、この対数粘度とは次の式で計算され
る。 対数粘度=(溶液の粘度/溶剤の粘度)の自然対
数/溶液中の重合体の濃度 このようにして得られたポリイミド前駆体の溶
液からポリイミド前駆体の成形物を成形するに
は、すでに公知の成形方法によつて行うことがで
きる。例えばフイルム成形する場合には、ポリイ
ミド前駆体の溶液をステンレス板、ガラス板、ア
ルミ板、銅板などの平滑な平板上に流して皮膜を
形成し、加熱によりこの皮膜から徐々に溶媒を除
去する方法、あるいはエンドレスステンレスベル
ト上にこの溶液を流して皮膜を形成して加熱炉に
導き、徐々に溶媒を除去する方法などがある。こ
のようにして得られたポリイミド前駆体の成形物
を通常100〜350℃で約30〜300分間加熱してイミ
ド化反応させることにより、この発明の高耐湿性
ポリイミド成形物を得ることができる。なお、ポ
リイミド前駆体の溶液からこれら成形物を成形す
る際の溶媒の除去およびイミド化反応のための加
熱は連続して行つてもよく、また溶媒除去の後半
とイミド化反応の前半とが同時に行われてもよ
い。 この発明のポリイミド成形物の他の製造方法
は、この発明者らが高耐湿性ポリイミド成形物を
得るために検討する中で、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
が溶媒可溶性であることを知り、これに基づいて
見い出されたものである。 すなわち、この製造方法では、前記の芳香族テ
トラカルボン酸成分と芳香族ジアミンとを略等モ
ル、フエノール系溶媒中で反応させて溶剤可溶性
のポリイミドを得、このポリイミドの溶液からポ
リイミドの成形物を成形する。 この製造方法によるとフイルムなどに成形加工
後にイミド化のための高温処理の工程を必要とせ
ず、成形物にイミド化反応時の脱水などによるボ
イドの発生がないため品質の良好な成形物を得る
ことができる。 この製造方法におけるフエノール系溶媒中での
反応は、アミド化反応などのポリイミド前駆体を
生成する反応とこれに引き続くイミド化反応とか
らなる重縮合反応であり、通常80〜220℃の温度
で1〜7時間行わせるものである。ポリイミド前
駆体がポリアミド酸の場合にはイミド化反応時に
水が副生するのでこの水は反応系外に留去して取
り除く。水の除去は反応率を高め高分子量のポリ
イミドの生成に好結果を与える。 フエノール系溶媒は水と相溶しにくいために副
生する水の留去が容易となり、また経済的でしか
も皮膜形成時に揮散させやすい。ピロリドンの如
き極性溶媒は上記観点からこの反応には不適当で
ある。フエノール系溶媒としてはメタクレゾー
ル、パラクレゾール、キシレノール、フエノール
およびこれらの混合溶媒などが用いられる。これ
らのフエノール系溶媒と共に水と共沸しやすいキ
シレン、トルエンなどの芳香族溶媒を併用して水
の留去をより容易にさせることは好ましい手段で
ある。 このようにして得られる重合反応物は、ほぼ完
全にイミド化されかつN−メチル−2−ピロリド
ン中0.5g/100mlの濃度で30℃下で測定される対
数粘度が約1.5〜6の範囲にある高分子量のポリ
イミドとされたものである。 このポリイミドは重合反応時に用いたフエノー
ル系溶媒の溶液としてそのまま使用に供すること
ができ、また必要なら一旦アセトンやメタノール
中に沈でんさせてろ過乾燥して精製したのち、ク
レゾールその他のフエノール系溶媒やN−メチル
−2−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチレンホスホルアミ
ドなどの各種有機溶媒に溶解させて使用に供する
ことができる。 使用時の固形分濃度はとくに規定されるもので
はなく、用途日的に応じて適宜選択することがで
きるが、通常は25重量%以下とするのがよい。こ
の固型分濃度が高すぎるとポリイミドが不溶化し
たり保存中ににごりが生じたりするので好ましく
ない。なお、このポリイミドの溶液は保存安定性
が良好で通常6〜12カ月は安定に保存される。 この溶剤可溶性のポリイミドの溶液からポリイ
ミドの成形物を成形するには、ガラス板などの平
滑な平板上にこの溶液を流して皮膜を形成し、加
熱により徐々に溶媒を除去する方法などにより行
う。 なお、この発明の高耐湿性ポリイミド成形物を
得るには、上記の方法以外に次のような方法によ
つてもよい。 ひとつは、上記の方法と同様にして得られたポ
リイミド前駆体の溶液をガラス繊維布やカーボン
フアイバー布などに含浸させて、加熱により徐々
に溶媒を除去したのち、さらに加熱してイミド化
反応を行わせポリイミド含浸ガラス繊維布または
カーボンフアイバー布を得、さらにこれを数枚積
層して加熱プレスで加圧して高耐湿性のポリイミ
ド積層板を得るものである。 さらに他の方法としては、上記の方法と同様に
して得られたポリイミド前駆体の溶液からポリイ
ミド前駆体を水で再沈させてロ過し、5〜30μm
程度の微粉末を得、さらにこのポリイミド前駆体
微粉末を250℃で2時間程度加熱して乾燥させる
とともにイミド化を完全に行いポリイミド粉末を
製造し、このポリイミド粉末を金型を用いて300
〜350℃でプレスにより加圧成形することにより
高耐湿性のポリイミド成形物を得るものである。 また、前記のポリイミド粉末を製造するには、
上記の溶剤可溶性のポリイミドを用いてこのポリ
イミドの溶液から水中での再沈によりポリイミド
粉末を得ることもできる。 上記のいずれかの方法により得られるポリイミ
ド成形物は、製造の際に芳香族テトラカルボン酸
成分中における前記の一般式で示されるビフエニ
ルテトラカルボン酸二無水物ないしはその誘導体
の1種または2種以上の混合物の割合および芳香
族ジアミン中における前記の一般式で示される芳
香族エーテルジアミンの1種または2種以上の混
合物の割合のいずれか一方を70モル%以上、他方
を50モル%以上、好ましくは両者を70モル%以上
とすることにより吸湿率が0.5%以下(25℃、80
%R.H.)の高耐湿性のものとなる。 とくに前記の一般式で示されるビフエニルテト
ラカルボン酸二無水物ないしはその誘導体として
3・3′・4・4′−ビフエニルテトラカルボン酸二
無水物を使用し、前記の一般式で示される芳香族
エーテルジアミンとして2・2−ビス〔4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパンを使用
して得られる式 で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなるポリイミド成形物では、耐湿性がさらに
良好なものであるとともに機械的強度にもすぐれ
ている。 なお、芳香族テトラカルボン酸成分中、前記の
一般式で示されるビフエニルテトラカルボン酸二
無水物ないしはその誘導体を100モル%で使用し、
芳香族ジアミン中、前記の一般式で示される芳香
族エーテルジアミンを100モル%で使用して得ら
れるポリイミド成形物の吸湿率は0.2〜0.4%程度
(25℃、80%R.H.)、さらに好ましい態様におい
ては0.3%以下となりよりすぐれた耐湿性を示す
ものである。 以下にこの発明の実施例を記載する。なお、第
1〜3表においてS−BPDAは3・3′・4・4′−
ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、a−
BPDAは2・3・3′・4′−ビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物、PDAはピロメリツト酸二無水
物、BTDAは3・3′・4・4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物、BAPPは2・2−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパ
ン、BAPFは2・2−ビス〔4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン、
BAPMは2・2−ビス〔4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕メタン、BAPBrPは2・2−
ビス〔3・5−ジブロモ−4−(4−アミノフエ
ノキシ)フエニル〕プロパン、BAPSは4・4′−
ジ(m−アミノフエノキシ)ジフエニルスルホ
ン、DADEは4・4′−ジアミノジフエニルエーテ
ルを示す。 また、対数粘度はN−メチル−2−ピロリドン
中0.5g/100mlの濃度で30℃で測定した値である 実施例 1〜9 1のセパラブルフラスコにN−メチル−2−
ピロリドンと第1表に示す芳香族ジアミンを入れ
てジアミンが完全に溶解するまで室温でよく混合
した。なお、N−メチル−2−ピロリドンの使用
量は、芳香族ジアミンおよび芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物のモノマー仕込み濃度が12重量%と
なるようにした。 次に、このフラスコ中に第1表に示す芳香族テ
トラカルボン酸二無水物を発熱をおさえながら
徐々に加熱した。この間溶液の粘度は徐々に上昇
した。この後、室温で5時間撹拌して第1表に示
す対数粘度を有するポリアミド酸の溶液を得た。 このポリアミド酸の溶液をガラス板上に流して
皮膜を形成し、熱風乾燥機中120℃で30分間乾燥
させたのち、さらに180℃で30分間乾燥させ、次
に250℃で3時間加熱してイミド化させることに
より50±5μmの厚みのポリイミドフイルムを得
た。 実施例 10〜16 1のセパラブルフラスコにメタ、パラクレゾ
ール、キシレン、第2表に示す芳香族テトラカル
ボン酸二無水物および芳香族ジアミンを仕込ん
だ。なおメタ、パラクレゾールの使用量は酸二無
水物およびジアミンの両モノマー成分がメタ、パ
ラクレゾールとの合計量中15重量%となるように
した。また、キシレンの使用量はこのメタ、パラ
−クレゾールの使用量の10重量%とした。 これらの混合物を撹拌しながら60分かけて150
℃まで昇温した。この昇温中140〜145℃で脱水反
応が起こり、系外に水とキシレンの共沸混合物が
留出した。150℃で3時間反応させることにより
ポリイミドの均一な黒かつ色の高粘度溶液を得
た。このようにして得られたポリイミドの対数粘
度は第2表に示すとおりであつた。 このポリイミドの溶液をガラス板上に流して皮
膜を形成し、熱風乾燥機中120℃で30分間乾燥さ
せたのち、さらに200℃で60分間乾燥させて50±
5μmの厚みのポリイミドフイルムを得た。 比較例 1〜5 比較例1、2、3および5は第3表に示す芳香
族テトラカルボン酸二無水物および芳香族ジアミ
ンを使用して実施例1〜9と同様にして第3表に
示す対数粘度を有するポリアミド酸の溶液を得、
この溶液から50±5μmの厚みのポリイミドフイ
ルムを得た。比較例4は市販の50μm厚のフイル
ム(デユポン社製カプトン)を使用した。 比較例 6、7 第3表に示す芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミンとを使用して実施例10〜16と同
様にして溶剤可溶性のポリイミドを得ようとした
が150℃、1時間の反応で完全に不溶化した。 上記実施例および比較例で得られたポリイミド
フイルムを50℃の熱風乾燥機中で24時間乾燥さ
せ、10cm×10cmの大きさにして秤量したのち、25
℃、80%R.H.に湿度調整されたデシケーター内
に24時間放置して秤量し、重量変化から吸湿率を
求め第1〜3表に併記した。 なお、参考のため50μmの厚みのポリエステル
フイルム(ポリエチレンテレフタレートフイル
ム)の吸湿率について上記と同様にして調べた結
果は0.5%であつた。
形物およびその製造方法に関するものである。 従来公知のポリイミドは、芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物成分と芳香族ジアミン成分とを反応
させて得られ、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、
耐放射線性、機械的強度などにすぐれているため
半導体素子の表面保護膜、多層配線用絶縁膜、ジ
ヤンクシヨン保護膜などに用いられている。従来
公知のポリイミドはこのようにすぐれた特性を有
している反面、耐湿性が低いという欠点があつ
た。 すなわち、よく知られているピロメリツト酸二
無水物と4・4′−ジアミンジフエニルエーテルか
ら得られるポリイミドフイルムでは吸湿率が2〜
2.5%(25℃、80R.H.)程度であり、ポリエステ
ルの吸湿率が同条件で0.4〜0.6%程度であるのに
比べてかなり高く、このため湿度の変化にともな
つてポリイミドフイルムに寸法変化が生じる、半
導体素子の電気特性が低下する、フレキシブルプ
リント回路基板の用途においてはラミネート時や
ハンダ時に水分の蒸発によるボイドが発生しやす
く、これを防ぐためにラミネートやハンダの前に
ポリイミドフイルムを予備乾燥する必要があり、
回路基板の製造工程を複雑にしているなどの問題
があつた。 これに対して、最近では吸湿率の低いポリイミ
ド成形物を得る試みが種々なされており、前記と
同条件での吸湿率が0.6〜0.8%程度であるポリイ
ミドフイルムが知られるようになつた。しかしな
がら、このようなポリイミド成形物もポリエステ
ルに比べるとまだ吸湿率が高く、ポリエステルと
同程度の耐湿性を有するポリイミド成形物、すな
わち前記と同条件での吸湿率が0.5%以下である
ポリイミドフイルムは今までに知られていなかつ
た。 前記のようにすぐれた諸特性を有するポリイミ
ド成形物がポリエステルと同程度の耐湿性を兼ね
備えることができれば、前記のような問題が解決
されるとともにポリイミド成形物の有用性がさら
に高められる。 そこで、この発明者らは、ポリエステルと同程
度の耐湿性を有するポリイミド成形物を提供する
ことを目的として鋭意検討した結果、特定の芳香
族ジアミンと特定の芳香族テトラカルボン酸ない
しはその誘導体とを主成分として使用して得られ
たポリイミド成形物では、従来公知のポリイミド
成形物に比べて非常にすぐれた耐湿性を有するこ
とを見い出しこの発明をなすに至つた。 すなわち、この発明は、一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は水素原子または
その置換基であり、互いに同じであつても異なつ
ていてもよい。また、R5およびR6は水素原子、
低級アルキル基またはハロゲン化アルキル基であ
り、互いに同じであつても異なつていてもよい。) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなる吸湿率が0.5%以下(25℃、80%RH)で
ある高耐湿性ポリイミド成形物およびその製造方
法に係るものである。 この発明の高耐湿性ポリイミド成形物は、吸湿
率が0.5%以下(25℃、80%R.H.)と従来のポリ
イミド成形物の吸湿率に比べて低く、従来のポリ
イミド成形物でみられた吸湿水分に起因する種々
の問題が生じることがないので、従来のポリイミ
ド成形物に比べて一段と有用性の高いものであ
る。 なお、ここでいう吸湿率とは、50℃で24時間乾
燥させた乾燥状態の成形物を、一定の湿度条件で
飽和させ、その前後の重量変化から次式により求
められるものである。 吸湿率=飽和吸湿時の重量−乾燥時の重量/乾燥時の重
量×100 この発明のポリイミド成形物は、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなるものであり、このポリイミドを製造する
には、一般式 で示されるビフエニルテトラカルボン酸二無水物
ないしはその誘導体を主成分とする芳香族テトラ
カルボン酸成分と、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される芳香族エーテルジアミンを主成分とす
る芳香族ジアミンとを使用する。 前記の一般式で示されるビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物ないしはその誘導体としては、
3・3′・4・4′−ビフエニルテトラカルボン酸二
無水物、2・3・3′・4′−ビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物およびこれらの酸ハロゲン化物、
ジエステル、モノエステルなどの誘導体が挙げら
れ、これら化合物を単独あるいは2種以上混合し
て使用する。 なお、これら化合物の中でも3・3′・4・4′−
ビフエニルテトラカルボン酸二無水物を前記の一
般式で示される成分中通常は50モル%以上使用す
るのが、得られるポリイミド成形物の機械的強度
の面から好ましい。 これらの主成分とともに使用される他の芳香族
テトラカルボン酸成分としては、ピロメリツト
酸、3・3′・4・4′−ベンゾフエノンテトラカル
ボン酸、2・3・6・7−ナフタリンテトラカル
ボン酸、1・4・5・8−ナフタリンテトラカル
ボン酸、3・3′・4・4′−ジフエニルエーテルテ
トラカルボン酸などの酸二無水物およびその誘導
体などを挙げることができ、これら化合物のうち
1種または2種以上を用いることができる。 前記の一般式で示される芳香族エーテルジアミ
ンにおいてR1、R2、R3およびR4は水素原子また
は低級アルキル基、塩素原子、臭素原子などの置
換基であり、R5およびR6は水素原子、低級アル
キル基またはハロゲン化アルキル基であり、この
芳香族エーテルジアミンの具体例としては、2・
2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕プロパン、2・2−ビス〔3−メチル−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、
2・2−ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕プロパン、1・1−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタ
ン、1・1−ビス〔3−メチル−4−(4−アミ
ノフエノキシ)フエニル〕エタン、1・1−ビス
〔3−クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕エタン、1・1−ビス〔3・5−ジメチル
−4−〔4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタ
ン、ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕メタン、ビス〔3−メチル−4−(4−アミ
ノフエノキシ)−フエニル〕メタン、ビス〔3−
クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
エタン、ビス〔3・5−ジメチル−4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕メタン、2・2−ビ
ス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ヘ
キサフルオロプロパン、2・2−ビス〔3・5−
ジブロモ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕プロパンなどが挙げられ、これら化合物のう
ち1種または2種以上混合して使用する。 なお、これら化合物のうちでも2・2−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパ
ンがとくに好ましく使用される。また、これ以外
に2・2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕ヘキサフルオロプロパンなども好まし
く使用される。 これらの主成分とともに使用される他の芳香族
ジアミンとしては、4・4′−ジアミノジフエニル
エーテル、4・4′−ジアミノジフエニルメタン、
4・4′−ジアミノジフエニルスルホン、3・3′−
ジアミノジフエニルスルホン、4・4′−ジアミノ
ジフエニルスルフアイド、4・4′−ジアミノジフ
エニルプロパン、4・4′−ジアミノジフエニル、
パラフエニレンジアミン、メタフエニレンジアミ
ン、1・5−ジアミノナフタリン、3・3′−ジメ
チル−4・4′−ジフエニルジアミンおよび などが挙げられ、これらのうち1種または2種以
上を用いることができる。 上記の芳香族テトラカルボン酸成分および芳香
族ジアミンを使用してポリイミド成形物を製造す
る好ましい方法には、次の2通りの方法がある。 まずひとつの方法は、これら両成分を略等モル
有機極性溶媒中で反応させてポリアミド酸などの
ポリイミド前駆体とし、このポリイミド前駆体の
溶液からポリイミド前駆体の成形物を成形したの
ち、この成形物を加熱してイミド化するものであ
る。 前記の有機極性溶媒としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N・N−ジメチルホルムアミド、
N・N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、テトラメチル尿素、メタクレゾール、パ
ラクレゾール、メタ−、パラ−クレゾールの混合
物、キシレノール、フエノールなどのポリイミド
前駆体を溶解しうる溶媒を挙げることができる。
この有機極性溶媒の使用量は、上記の両成分の濃
度が通常5〜30重量%となるようにするのがよ
い。 この有機溶媒中で上記の両成分を略等モル通常
0〜80℃で1〜10時間反応させてポリイミド前駆
体の溶液とする。このとき得られるポリイミド前
駆体は、対数粘度(N−メチル−2−ピロリドン
中0.5g/100mlの濃度で30℃で測定)が通常は
1.5〜6の範囲内にある高分子量のものであるこ
とが好ましい。この値が小さすぎると得られるポ
リイミド成形物の機械的強度が低くなり好ましく
ない。なお、この対数粘度とは次の式で計算され
る。 対数粘度=(溶液の粘度/溶剤の粘度)の自然対
数/溶液中の重合体の濃度 このようにして得られたポリイミド前駆体の溶
液からポリイミド前駆体の成形物を成形するに
は、すでに公知の成形方法によつて行うことがで
きる。例えばフイルム成形する場合には、ポリイ
ミド前駆体の溶液をステンレス板、ガラス板、ア
ルミ板、銅板などの平滑な平板上に流して皮膜を
形成し、加熱によりこの皮膜から徐々に溶媒を除
去する方法、あるいはエンドレスステンレスベル
ト上にこの溶液を流して皮膜を形成して加熱炉に
導き、徐々に溶媒を除去する方法などがある。こ
のようにして得られたポリイミド前駆体の成形物
を通常100〜350℃で約30〜300分間加熱してイミ
ド化反応させることにより、この発明の高耐湿性
ポリイミド成形物を得ることができる。なお、ポ
リイミド前駆体の溶液からこれら成形物を成形す
る際の溶媒の除去およびイミド化反応のための加
熱は連続して行つてもよく、また溶媒除去の後半
とイミド化反応の前半とが同時に行われてもよ
い。 この発明のポリイミド成形物の他の製造方法
は、この発明者らが高耐湿性ポリイミド成形物を
得るために検討する中で、一般式 (R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前述のとお
り) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
が溶媒可溶性であることを知り、これに基づいて
見い出されたものである。 すなわち、この製造方法では、前記の芳香族テ
トラカルボン酸成分と芳香族ジアミンとを略等モ
ル、フエノール系溶媒中で反応させて溶剤可溶性
のポリイミドを得、このポリイミドの溶液からポ
リイミドの成形物を成形する。 この製造方法によるとフイルムなどに成形加工
後にイミド化のための高温処理の工程を必要とせ
ず、成形物にイミド化反応時の脱水などによるボ
イドの発生がないため品質の良好な成形物を得る
ことができる。 この製造方法におけるフエノール系溶媒中での
反応は、アミド化反応などのポリイミド前駆体を
生成する反応とこれに引き続くイミド化反応とか
らなる重縮合反応であり、通常80〜220℃の温度
で1〜7時間行わせるものである。ポリイミド前
駆体がポリアミド酸の場合にはイミド化反応時に
水が副生するのでこの水は反応系外に留去して取
り除く。水の除去は反応率を高め高分子量のポリ
イミドの生成に好結果を与える。 フエノール系溶媒は水と相溶しにくいために副
生する水の留去が容易となり、また経済的でしか
も皮膜形成時に揮散させやすい。ピロリドンの如
き極性溶媒は上記観点からこの反応には不適当で
ある。フエノール系溶媒としてはメタクレゾー
ル、パラクレゾール、キシレノール、フエノール
およびこれらの混合溶媒などが用いられる。これ
らのフエノール系溶媒と共に水と共沸しやすいキ
シレン、トルエンなどの芳香族溶媒を併用して水
の留去をより容易にさせることは好ましい手段で
ある。 このようにして得られる重合反応物は、ほぼ完
全にイミド化されかつN−メチル−2−ピロリド
ン中0.5g/100mlの濃度で30℃下で測定される対
数粘度が約1.5〜6の範囲にある高分子量のポリ
イミドとされたものである。 このポリイミドは重合反応時に用いたフエノー
ル系溶媒の溶液としてそのまま使用に供すること
ができ、また必要なら一旦アセトンやメタノール
中に沈でんさせてろ過乾燥して精製したのち、ク
レゾールその他のフエノール系溶媒やN−メチル
−2−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチレンホスホルアミ
ドなどの各種有機溶媒に溶解させて使用に供する
ことができる。 使用時の固形分濃度はとくに規定されるもので
はなく、用途日的に応じて適宜選択することがで
きるが、通常は25重量%以下とするのがよい。こ
の固型分濃度が高すぎるとポリイミドが不溶化し
たり保存中ににごりが生じたりするので好ましく
ない。なお、このポリイミドの溶液は保存安定性
が良好で通常6〜12カ月は安定に保存される。 この溶剤可溶性のポリイミドの溶液からポリイ
ミドの成形物を成形するには、ガラス板などの平
滑な平板上にこの溶液を流して皮膜を形成し、加
熱により徐々に溶媒を除去する方法などにより行
う。 なお、この発明の高耐湿性ポリイミド成形物を
得るには、上記の方法以外に次のような方法によ
つてもよい。 ひとつは、上記の方法と同様にして得られたポ
リイミド前駆体の溶液をガラス繊維布やカーボン
フアイバー布などに含浸させて、加熱により徐々
に溶媒を除去したのち、さらに加熱してイミド化
反応を行わせポリイミド含浸ガラス繊維布または
カーボンフアイバー布を得、さらにこれを数枚積
層して加熱プレスで加圧して高耐湿性のポリイミ
ド積層板を得るものである。 さらに他の方法としては、上記の方法と同様に
して得られたポリイミド前駆体の溶液からポリイ
ミド前駆体を水で再沈させてロ過し、5〜30μm
程度の微粉末を得、さらにこのポリイミド前駆体
微粉末を250℃で2時間程度加熱して乾燥させる
とともにイミド化を完全に行いポリイミド粉末を
製造し、このポリイミド粉末を金型を用いて300
〜350℃でプレスにより加圧成形することにより
高耐湿性のポリイミド成形物を得るものである。 また、前記のポリイミド粉末を製造するには、
上記の溶剤可溶性のポリイミドを用いてこのポリ
イミドの溶液から水中での再沈によりポリイミド
粉末を得ることもできる。 上記のいずれかの方法により得られるポリイミ
ド成形物は、製造の際に芳香族テトラカルボン酸
成分中における前記の一般式で示されるビフエニ
ルテトラカルボン酸二無水物ないしはその誘導体
の1種または2種以上の混合物の割合および芳香
族ジアミン中における前記の一般式で示される芳
香族エーテルジアミンの1種または2種以上の混
合物の割合のいずれか一方を70モル%以上、他方
を50モル%以上、好ましくは両者を70モル%以上
とすることにより吸湿率が0.5%以下(25℃、80
%R.H.)の高耐湿性のものとなる。 とくに前記の一般式で示されるビフエニルテト
ラカルボン酸二無水物ないしはその誘導体として
3・3′・4・4′−ビフエニルテトラカルボン酸二
無水物を使用し、前記の一般式で示される芳香族
エーテルジアミンとして2・2−ビス〔4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパンを使用
して得られる式 で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなるポリイミド成形物では、耐湿性がさらに
良好なものであるとともに機械的強度にもすぐれ
ている。 なお、芳香族テトラカルボン酸成分中、前記の
一般式で示されるビフエニルテトラカルボン酸二
無水物ないしはその誘導体を100モル%で使用し、
芳香族ジアミン中、前記の一般式で示される芳香
族エーテルジアミンを100モル%で使用して得ら
れるポリイミド成形物の吸湿率は0.2〜0.4%程度
(25℃、80%R.H.)、さらに好ましい態様におい
ては0.3%以下となりよりすぐれた耐湿性を示す
ものである。 以下にこの発明の実施例を記載する。なお、第
1〜3表においてS−BPDAは3・3′・4・4′−
ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、a−
BPDAは2・3・3′・4′−ビフエニルテトラカル
ボン酸二無水物、PDAはピロメリツト酸二無水
物、BTDAは3・3′・4・4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物、BAPPは2・2−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパ
ン、BAPFは2・2−ビス〔4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン、
BAPMは2・2−ビス〔4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕メタン、BAPBrPは2・2−
ビス〔3・5−ジブロモ−4−(4−アミノフエ
ノキシ)フエニル〕プロパン、BAPSは4・4′−
ジ(m−アミノフエノキシ)ジフエニルスルホ
ン、DADEは4・4′−ジアミノジフエニルエーテ
ルを示す。 また、対数粘度はN−メチル−2−ピロリドン
中0.5g/100mlの濃度で30℃で測定した値である 実施例 1〜9 1のセパラブルフラスコにN−メチル−2−
ピロリドンと第1表に示す芳香族ジアミンを入れ
てジアミンが完全に溶解するまで室温でよく混合
した。なお、N−メチル−2−ピロリドンの使用
量は、芳香族ジアミンおよび芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物のモノマー仕込み濃度が12重量%と
なるようにした。 次に、このフラスコ中に第1表に示す芳香族テ
トラカルボン酸二無水物を発熱をおさえながら
徐々に加熱した。この間溶液の粘度は徐々に上昇
した。この後、室温で5時間撹拌して第1表に示
す対数粘度を有するポリアミド酸の溶液を得た。 このポリアミド酸の溶液をガラス板上に流して
皮膜を形成し、熱風乾燥機中120℃で30分間乾燥
させたのち、さらに180℃で30分間乾燥させ、次
に250℃で3時間加熱してイミド化させることに
より50±5μmの厚みのポリイミドフイルムを得
た。 実施例 10〜16 1のセパラブルフラスコにメタ、パラクレゾ
ール、キシレン、第2表に示す芳香族テトラカル
ボン酸二無水物および芳香族ジアミンを仕込ん
だ。なおメタ、パラクレゾールの使用量は酸二無
水物およびジアミンの両モノマー成分がメタ、パ
ラクレゾールとの合計量中15重量%となるように
した。また、キシレンの使用量はこのメタ、パラ
−クレゾールの使用量の10重量%とした。 これらの混合物を撹拌しながら60分かけて150
℃まで昇温した。この昇温中140〜145℃で脱水反
応が起こり、系外に水とキシレンの共沸混合物が
留出した。150℃で3時間反応させることにより
ポリイミドの均一な黒かつ色の高粘度溶液を得
た。このようにして得られたポリイミドの対数粘
度は第2表に示すとおりであつた。 このポリイミドの溶液をガラス板上に流して皮
膜を形成し、熱風乾燥機中120℃で30分間乾燥さ
せたのち、さらに200℃で60分間乾燥させて50±
5μmの厚みのポリイミドフイルムを得た。 比較例 1〜5 比較例1、2、3および5は第3表に示す芳香
族テトラカルボン酸二無水物および芳香族ジアミ
ンを使用して実施例1〜9と同様にして第3表に
示す対数粘度を有するポリアミド酸の溶液を得、
この溶液から50±5μmの厚みのポリイミドフイ
ルムを得た。比較例4は市販の50μm厚のフイル
ム(デユポン社製カプトン)を使用した。 比較例 6、7 第3表に示す芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミンとを使用して実施例10〜16と同
様にして溶剤可溶性のポリイミドを得ようとした
が150℃、1時間の反応で完全に不溶化した。 上記実施例および比較例で得られたポリイミド
フイルムを50℃の熱風乾燥機中で24時間乾燥さ
せ、10cm×10cmの大きさにして秤量したのち、25
℃、80%R.H.に湿度調整されたデシケーター内
に24時間放置して秤量し、重量変化から吸湿率を
求め第1〜3表に併記した。 なお、参考のため50μmの厚みのポリエステル
フイルム(ポリエチレンテレフタレートフイル
ム)の吸湿率について上記と同様にして調べた結
果は0.5%であつた。
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は水素原子または
その置換基であり、互いに同じであつても異なつ
ていてもよい。また、R5およびR6は水素原子、
低級アルキル基またはハロゲン化アルキル基であ
り、互いに同じであつても異なつていてもよい。) で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなる吸湿率が0.5%以下(25℃、80%R.H.)
である高耐湿性ポリイミド成形物。 2 式 で示される繰返し単位を主成分とするポリイミド
からなる特許請求の範囲第1項記載の高耐湿性ポ
リイミド成形物。 3 一般式 で示されるビフエニルテトラカルボン酸二無水物
ないしはその誘導体を主成分とする芳香族テトラ
カルボン酸成分と、一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は水素原子または
その置換基であり、互いに同じであつても異なつ
ていてもよい。また、R5およびR6は水素原子、
低級アルキル基またはハロゲン化アルキル基であ
り、互いに同じであつても異なつていてもよい。) で示される芳香族エーテルジアミンを主成分とす
る芳香族ジアミンとを、略等モル有機極性溶媒中
で反応させて得られるポリイミド前駆体の溶液か
ら、ポリイミド前駆体の成形物を成形したのち、
この成形物を加熱してイミド化することを特徴と
する高耐湿性ポリイミド成形物の製造方法。 4 芳香族テトラカルボン酸成分が を主成分とし、芳香族ジアミンが を主成分とする特許請求の範囲第3項記載の高耐
湿性ポリイミド成形物の製造方法。 5 一般式 で示されるビフエニルテトラカルボン酸二無水物
ないしはその誘導体を主成分とする芳香族テトラ
カルボン酸成分と、 一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は水素原子または
その置換基であり、互いに同じであつても異なつ
ていてもよい。また、R5およびR6は水素原子、
低級アルキル基またはそのハロゲン化アルキル基
であり、互いに同じであつても異なつていてもよ
い。) で示される芳香族エーテルジアミンを主成分とす
る芳香族ジアミンとを略等モル、フエノール系溶
媒中で反応させて溶剤可溶性のポリイミドを得、
このポリイミドの溶液からポリイミドの成形物を
成形することを特徴とする高耐湿性ポリイミド成
形物の製造方法。 6 芳香族テトラカルボン酸成分が を主成分とし、芳香族ジアミンが を主成分とする特許請求の範囲第5項記載の高耐
湿性ポリイミド成形物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14839483A JPS6040131A (ja) | 1983-08-13 | 1983-08-13 | 高耐湿性ポリイミド成形物とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14839483A JPS6040131A (ja) | 1983-08-13 | 1983-08-13 | 高耐湿性ポリイミド成形物とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6040131A JPS6040131A (ja) | 1985-03-02 |
| JPH0129369B2 true JPH0129369B2 (ja) | 1989-06-09 |
Family
ID=15451793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14839483A Granted JPS6040131A (ja) | 1983-08-13 | 1983-08-13 | 高耐湿性ポリイミド成形物とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6040131A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211727A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-20 | Ube Ind Ltd | 保護膜形成用の芳香族ポリイミド組成物 |
| JPH0195155A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-04-13 | Mitsubishi Kasei Corp | ポリイミド樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-08-13 JP JP14839483A patent/JPS6040131A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6040131A (ja) | 1985-03-02 |
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