JPH0129879B2 - - Google Patents
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- JPH0129879B2 JPH0129879B2 JP21233484A JP21233484A JPH0129879B2 JP H0129879 B2 JPH0129879 B2 JP H0129879B2 JP 21233484 A JP21233484 A JP 21233484A JP 21233484 A JP21233484 A JP 21233484A JP H0129879 B2 JPH0129879 B2 JP H0129879B2
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Description
産業上の利用分野
本発明はハンダ付け性に優れた電気ニツケル又
はニツケル合金めつき被膜を与える電気めつき方
法に関する。 従来技術及びその問題点 従来、ハンダ付け性の良好な電気めつき被膜と
しては、ハンダめつき、錫めつき、金めつき、銀
めつき等の被膜が知られているが、これらのめつ
き法は材料が高価であつたり、めつき浴管理が難
かしい等の問題がある。 これに対し、電気ニツケルめつきや電気ニツケ
ル合金めつき法は、材料も比較的安価であり、浴
管理も容易であるが、得られるめつき被膜は、光
沢浴、半光沢浴、添加剤無含有の無光沢浴のいず
れからのものもハンダ付け性に劣る。また、無電
解ニツケル―リン合金めつき被膜のハンダ付け性
も必ずしも十分でない。更に、ジメチルアミンボ
ランを還元剤とする無電解ニツケル―ホウ素合金
めつき被膜のハンダ付け性は上記のニツケルめつ
き被膜に比べて比較的良好であるといわれている
が、この無電解ニツケル―ホウ素めつき法はめつ
き速度が遅い等の問題があり、またいずれにして
も無電解めつき法は電気めつき法に比較してめつ
きコストが高くつく。 発明の概要 本発明者らは、上記事情に鑑み、電気ニツケル
又はニツケル合金めつき法によりハンダ付け性に
優れた電気めつき被膜を与える方法につき鋭意研
究を行なつた結果、下記(A)式 （但し、R1は炭素数１〜18の鎖状アルキル基、
炭素数１〜18の環状アルキル基、合計炭素数６〜
18で１以上の芳香環を有しかつ三重結合を含まな
い基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピ
ル基を示し、R2はカルボキシル基もしくはその
水素原子が金属原子で置換されたもの又は−
CONH2を示し、Xはハロゲンイオン、NO3 -、
SO2- 4又はCH3COO-を示す。） で示される第４級アンモニウム塩を添加した電気
ニツケルめつき浴又は電気ニツケル合金めつきか
ら得られためつき被膜のハンダ付け性が非常に優
れていることを知見した。即ち、上記(A)式の第４
級アンモニウム塩を添加した電気ニツケル又はニ
ツケル合金めつき浴から得られためつき被膜は、
従来の電気ニツケル及びニツケル合金めつき浴か
ら得られるめつき被膜は勿論、ジメチルアミンボ
ラン等のホウ素系化合物を還元剤とする無電解ニ
ツケル―ホウ素合金めつき被膜よりもハンダ付け
性に優れることを知見し、本発明をなすに至つた
ものである。 従つて、本発明は上記(A)式で示される第４級ア
ンモニウム塩を含有する電気ニツケル又はニツケ
ル合金めつき浴中に被めつき物を浸漬し、電気め
つきすることを特徴とする電気めつき方法を提供
するものである。 本発明によれば、電気めつき法を採用するの
で、無電解めつき法に比較してめつき速度が大き
く、まためつき被膜の内部応力を小さくすること
もでき、しかもめつきコストも安価である上、全
硫酸塩浴、全塩化物浴、ワツト浴、スルフアミン
酸浴等の錯化剤を含有しないいわゆる単純塩浴を
使用することも可能で、これにより排水処理上の
問題を少なくすることができる。 本発明方法から得られるめつき被膜は、上述し
たようにハンダ付け性が良好であるが、更に種々
のろう付け性、溶接性にも優れているものであ
る。 それ故、本発明により得られるめつき被膜は、
このように優れたハンダ付け性等の性能を有する
ため、現在ハンダ付け等の目的で行なわれている
ハンダ、錫、金、銀めつき等の代りに本発明電気
ニツケル及びニツケル合金めつき方法を採用で
き、例えばリードフレーム、フープ、半導体部
品、コンデンサー、抵抗体、コイル、リレー、ス
イツチ、コネクター、電気接点部品、プリント配
線基板等、種々の電気、電子部品のめつきに好適
に採用し得る。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 発明の構成 本発明に係るめつき方法は、上記(A)式の第４級
アンモニウム塩を添加した電気ニツケルめつき浴
又は電気ニツケル合金めつき浴中に被めつき物を
浸漬し、所用の電気を通じて電気めつきを行なう
ものである。 ここで、電気ニツケル合金めつき浴を使用する
場合、ニツケルと合金を形成する金属又は非金属
としては、コバルト、鉄、錫、鉛、銅、クロム、
亜鉛、ビスマス、インジウム、タングステン、モ
リブデン、砒素、アンチモン、リン等が挙げられ
るが、ハンダ付け性の点からは、コバルト、鉄、
タングステン、リンが好ましい。これらの合金成
分の含有量は必ずしも制限されないが、めつき被
膜中に20％（重量％、以下同じ）以下、特に５％
以下含有することが好ましい。 また、電気ニツケルめつき浴及び電気ニツケル
合金めつき浴としては、全硫酸浴、全塩化物浴、
ワツト浴、スルフアミン酸浴、無機又は有機化合
物による錯化浴、ホウフツ化浴等が用いられる。 これらめつき浴のPH、それにめつき条件は、使
用するめつき浴の種類等によつて選定され、例え
ばPHは約１〜14、特に約２〜13、めつき温度は約
10〜90℃、特に約35〜60℃、陰極電流密度（Dk）
は約0.01〜100A／ｄm2、特に約0.1〜10A／ｄm2
とすることができる。また、必要により液撹拌を
行なうこともできるが、この場合液撹拌方法とし
ては、空気撹拌、カソードロツキング、ポンプに
よる液循環、プロペラ式撹拌機による液撹拌等の
方法が採用し得る。 なお、めつき浴中の塩類濃度を高くすると共
に、めつき温度を高くし、かつ強撹拌を採用する
ことにより高速めつきを行なうことができ、また
通常のラツクを用いるめつき法以外に、めつき浴
中の塩濃度、めつき条件を適宜選定することによ
り、バレルめつき、振動めつき等の各種めつき法
を採用し得る。 本発明に使用し得る電気ニツケルめつき浴の代
表的な例を下記に示す。 １ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 45 〃 N3BO3 40 〃 PH 5.0 温度 55℃ Dk ５ Ａ／ｄm2 ２ NiSO4・6H2O 280ｇ／ H3BO3 40 〃 PH 5.0 温度 55℃ Dk ４ Ａ／ｄm2 ３ NiSO4・6H2O 60ｇ／ エチレンジアミン 120 〃 NaOH 80 〃 PH 12.5 温度 55℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ４ NiSO4・6H2O 80ｇ／ クエン酸ナトリウム 40 〃 乳酸 20 〃 PH 7.0 温度 40℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ５ NiSO4・6H2O 60ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 ピロリン酸カリウム 150 〃 PH 10.0 温度 60℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ６ NiSO4・7H2O 250ｇ／ NiCl2・6H2O 40 〃 （NH4）2SO4 100 〃 PH（アンモニアで調整） 8.5 温度 50℃ Dk ４ Ａ／ｄm2 ７ Ni（BF4）2 220ｇ／ H3BO3 30 〃 PH 3.0〜4.5 温度 50〜60℃ Dk ７ Ａ／ｄm2 ８ スルフアミン酸ニツケル 300ｇ／ NiCl2・6H2O 10 〃 H3BO3 30 〃 PH 3.5〜4.5 温度 30〜60℃ Dk ２〜25A／ｄm2 ９ Ｎスルフアミン酸ニツケル 450ｇ／ H3BO3 30 〃 PH ３〜５ 温度 40〜60℃ Dk ２〜３ Ａ／ｄm2 10 NiSO4・6H2O 80〜150ｇ／ NiCl2・6H2O 40〜110 〃 硫酸第１鉄 ５〜20 〃 H3BO3 40〜50 〃 PH 2.8〜3.5 温度 55〜65℃ Dk ２〜８ Ａ／ｄm2 なお、合金めつきの場合は上記の浴に合金化に
必要な適宜な塩類を添加する。 本発明においては、上述した電気ニツケル又は
ニツケル合金めつき浴に第４級アンモニウム塩を
添加するものであるが、この場合第４級アンモニ
ウム塩としては、下記(A)式 （但し、R1は炭素数１〜18の鎖状アルキル基、
炭素数１〜18の環状アルキル基、合計炭素数６〜
18で１以上の芳香環を有しかつ三重結合を含まな
い基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピ
ル基を示し、R2はカルボキシル基もしくはその
水素原子が金属原子で置換されたもの又は−
CONH2を示し、Xはハロゲンイオン、NO3 -、
SO2- 4又はCH3COO-を示す。） で示される三重結合を含まないピリジン骨格を有
する第４級アンモニウム塩が用いられる。かかる
第４級アンモニウム塩の代表例としては、
はニツケル合金めつき被膜を与える電気めつき方
法に関する。 従来技術及びその問題点 従来、ハンダ付け性の良好な電気めつき被膜と
しては、ハンダめつき、錫めつき、金めつき、銀
めつき等の被膜が知られているが、これらのめつ
き法は材料が高価であつたり、めつき浴管理が難
かしい等の問題がある。 これに対し、電気ニツケルめつきや電気ニツケ
ル合金めつき法は、材料も比較的安価であり、浴
管理も容易であるが、得られるめつき被膜は、光
沢浴、半光沢浴、添加剤無含有の無光沢浴のいず
れからのものもハンダ付け性に劣る。また、無電
解ニツケル―リン合金めつき被膜のハンダ付け性
も必ずしも十分でない。更に、ジメチルアミンボ
ランを還元剤とする無電解ニツケル―ホウ素合金
めつき被膜のハンダ付け性は上記のニツケルめつ
き被膜に比べて比較的良好であるといわれている
が、この無電解ニツケル―ホウ素めつき法はめつ
き速度が遅い等の問題があり、またいずれにして
も無電解めつき法は電気めつき法に比較してめつ
きコストが高くつく。 発明の概要 本発明者らは、上記事情に鑑み、電気ニツケル
又はニツケル合金めつき法によりハンダ付け性に
優れた電気めつき被膜を与える方法につき鋭意研
究を行なつた結果、下記(A)式 （但し、R1は炭素数１〜18の鎖状アルキル基、
炭素数１〜18の環状アルキル基、合計炭素数６〜
18で１以上の芳香環を有しかつ三重結合を含まな
い基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピ
ル基を示し、R2はカルボキシル基もしくはその
水素原子が金属原子で置換されたもの又は−
CONH2を示し、Xはハロゲンイオン、NO3 -、
SO2- 4又はCH3COO-を示す。） で示される第４級アンモニウム塩を添加した電気
ニツケルめつき浴又は電気ニツケル合金めつきか
ら得られためつき被膜のハンダ付け性が非常に優
れていることを知見した。即ち、上記(A)式の第４
級アンモニウム塩を添加した電気ニツケル又はニ
ツケル合金めつき浴から得られためつき被膜は、
従来の電気ニツケル及びニツケル合金めつき浴か
ら得られるめつき被膜は勿論、ジメチルアミンボ
ラン等のホウ素系化合物を還元剤とする無電解ニ
ツケル―ホウ素合金めつき被膜よりもハンダ付け
性に優れることを知見し、本発明をなすに至つた
ものである。 従つて、本発明は上記(A)式で示される第４級ア
ンモニウム塩を含有する電気ニツケル又はニツケ
ル合金めつき浴中に被めつき物を浸漬し、電気め
つきすることを特徴とする電気めつき方法を提供
するものである。 本発明によれば、電気めつき法を採用するの
で、無電解めつき法に比較してめつき速度が大き
く、まためつき被膜の内部応力を小さくすること
もでき、しかもめつきコストも安価である上、全
硫酸塩浴、全塩化物浴、ワツト浴、スルフアミン
酸浴等の錯化剤を含有しないいわゆる単純塩浴を
使用することも可能で、これにより排水処理上の
問題を少なくすることができる。 本発明方法から得られるめつき被膜は、上述し
たようにハンダ付け性が良好であるが、更に種々
のろう付け性、溶接性にも優れているものであ
る。 それ故、本発明により得られるめつき被膜は、
このように優れたハンダ付け性等の性能を有する
ため、現在ハンダ付け等の目的で行なわれている
ハンダ、錫、金、銀めつき等の代りに本発明電気
ニツケル及びニツケル合金めつき方法を採用で
き、例えばリードフレーム、フープ、半導体部
品、コンデンサー、抵抗体、コイル、リレー、ス
イツチ、コネクター、電気接点部品、プリント配
線基板等、種々の電気、電子部品のめつきに好適
に採用し得る。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 発明の構成 本発明に係るめつき方法は、上記(A)式の第４級
アンモニウム塩を添加した電気ニツケルめつき浴
又は電気ニツケル合金めつき浴中に被めつき物を
浸漬し、所用の電気を通じて電気めつきを行なう
ものである。 ここで、電気ニツケル合金めつき浴を使用する
場合、ニツケルと合金を形成する金属又は非金属
としては、コバルト、鉄、錫、鉛、銅、クロム、
亜鉛、ビスマス、インジウム、タングステン、モ
リブデン、砒素、アンチモン、リン等が挙げられ
るが、ハンダ付け性の点からは、コバルト、鉄、
タングステン、リンが好ましい。これらの合金成
分の含有量は必ずしも制限されないが、めつき被
膜中に20％（重量％、以下同じ）以下、特に５％
以下含有することが好ましい。 また、電気ニツケルめつき浴及び電気ニツケル
合金めつき浴としては、全硫酸浴、全塩化物浴、
ワツト浴、スルフアミン酸浴、無機又は有機化合
物による錯化浴、ホウフツ化浴等が用いられる。 これらめつき浴のPH、それにめつき条件は、使
用するめつき浴の種類等によつて選定され、例え
ばPHは約１〜14、特に約２〜13、めつき温度は約
10〜90℃、特に約35〜60℃、陰極電流密度（Dk）
は約0.01〜100A／ｄm2、特に約0.1〜10A／ｄm2
とすることができる。また、必要により液撹拌を
行なうこともできるが、この場合液撹拌方法とし
ては、空気撹拌、カソードロツキング、ポンプに
よる液循環、プロペラ式撹拌機による液撹拌等の
方法が採用し得る。 なお、めつき浴中の塩類濃度を高くすると共
に、めつき温度を高くし、かつ強撹拌を採用する
ことにより高速めつきを行なうことができ、また
通常のラツクを用いるめつき法以外に、めつき浴
中の塩濃度、めつき条件を適宜選定することによ
り、バレルめつき、振動めつき等の各種めつき法
を採用し得る。 本発明に使用し得る電気ニツケルめつき浴の代
表的な例を下記に示す。 １ NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 45 〃 N3BO3 40 〃 PH 5.0 温度 55℃ Dk ５ Ａ／ｄm2 ２ NiSO4・6H2O 280ｇ／ H3BO3 40 〃 PH 5.0 温度 55℃ Dk ４ Ａ／ｄm2 ３ NiSO4・6H2O 60ｇ／ エチレンジアミン 120 〃 NaOH 80 〃 PH 12.5 温度 55℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ４ NiSO4・6H2O 80ｇ／ クエン酸ナトリウム 40 〃 乳酸 20 〃 PH 7.0 温度 40℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ５ NiSO4・6H2O 60ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 ピロリン酸カリウム 150 〃 PH 10.0 温度 60℃ Dk ３ Ａ／ｄm2 ６ NiSO4・7H2O 250ｇ／ NiCl2・6H2O 40 〃 （NH4）2SO4 100 〃 PH（アンモニアで調整） 8.5 温度 50℃ Dk ４ Ａ／ｄm2 ７ Ni（BF4）2 220ｇ／ H3BO3 30 〃 PH 3.0〜4.5 温度 50〜60℃ Dk ７ Ａ／ｄm2 ８ スルフアミン酸ニツケル 300ｇ／ NiCl2・6H2O 10 〃 H3BO3 30 〃 PH 3.5〜4.5 温度 30〜60℃ Dk ２〜25A／ｄm2 ９ Ｎスルフアミン酸ニツケル 450ｇ／ H3BO3 30 〃 PH ３〜５ 温度 40〜60℃ Dk ２〜３ Ａ／ｄm2 10 NiSO4・6H2O 80〜150ｇ／ NiCl2・6H2O 40〜110 〃 硫酸第１鉄 ５〜20 〃 H3BO3 40〜50 〃 PH 2.8〜3.5 温度 55〜65℃ Dk ２〜８ Ａ／ｄm2 なお、合金めつきの場合は上記の浴に合金化に
必要な適宜な塩類を添加する。 本発明においては、上述した電気ニツケル又は
ニツケル合金めつき浴に第４級アンモニウム塩を
添加するものであるが、この場合第４級アンモニ
ウム塩としては、下記(A)式 （但し、R1は炭素数１〜18の鎖状アルキル基、
炭素数１〜18の環状アルキル基、合計炭素数６〜
18で１以上の芳香環を有しかつ三重結合を含まな
い基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピ
ル基を示し、R2はカルボキシル基もしくはその
水素原子が金属原子で置換されたもの又は−
CONH2を示し、Xはハロゲンイオン、NO3 -、
SO2- 4又はCH3COO-を示す。） で示される三重結合を含まないピリジン骨格を有
する第４級アンモニウム塩が用いられる。かかる
第４級アンモニウム塩の代表例としては、
【式】
【式】
【式】
【式】
が挙げられる。なお、これら第４級アンモニウム
塩はその１種を単独で使用しても２種以上を組合
せて用いてもよい。その添加量は必ずしも制限さ
れないが、0.01〜10ｇ／、特に0.1〜１ｇ／
とすることが好ましい。 本発明において、電気ニツケル又はニツケル合
金めつき浴には必要に応じて通常これらめつき浴
に使用する一次光沢剤又は応力減少剤や二次光沢
剤又はレベラーを加えても差支えない。 この場合、一次光沢剤又は応力減少剤として
は、サツカリンナトリウム、ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、２，７―ナフタリンジスルホン酸ナ
トリウム、１，３，６―ナフタリントリスルホン
酸ナトリウム、ベンゼンスルホンアミド、３，３
―チオジプロピオニトリル、チオ硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸ナトリウム、アゾジスルホン酸ナトリ
ウム、クマリン、安息香酸、フタル酸、樟脳酸、
酢酸等が例示され、これらの１種又は２種以上を
通常0.01〜10ｇ／、特に0.01〜0.3ｇ／の範囲
で添加することができるが、有機又は無機硫黄化
合物を多量に添加するめつき被膜中の硫黄量が多
くなり、めつき被膜のハンダ付け性を低下させた
り、加熱による変色を生じさせたり、更には耐食
性を低下させ、硫黄脆性を生じさせる場合がある
ので、硫黄化合物は添加しないが、添加しても少
量とすることが好ましい。 また、二次光沢剤又はレベラーとしては、２―
ブチン―１，４―ジオール、プロパギルアルコー
ル、２―ブチン―１，４―ジオールにエチレンオ
キシドやプロピレンオキシドを付加した化合物、
プロパギルアルコールにエチレンオキシドやプロ
ピレンオキシドを付加した化合物、アリールスル
ホン酸ナトリウム、プロパルギルスルホン酸ナト
リウム、３，３―チオジプロピオニトリル、ホル
マリン、更には１―ジメチルアミノ―２―プロピ
ン、１―ジエチルアミノ―２―プロピン、１―ジ
メチルアミノ―４―ヒドロキシ―２―プロピン、
１―ジエチルアミノ―２―ヒドロキシ―２―プロ
ピンなどといつたアミノアセチレン化合物やアミ
ノアセチレンアルコール等が例示され、これらの
１種又は２種以上が使用し得るが、これらの中で
は特にハンダ付け性の点でアミノアセチレン化合
物、アミノアセチレンアルコールが好適に用いら
れる。その添加量は、多量に添加するとめつき応
力が増大するので少なめとすることが望ましく、
0.01〜0.5ｇ／、特に0.01〜0.3ｇ／程度が適
当である。 本発明に係るめつき方法は、上記の第４級アン
モニウム塩を加えた電気ニツケル又はニツケル合
金めつき浴に被めつき物を浸漬し、これを陰極と
して陽極との間に所用の電圧を印加し、電気めつ
きを行なうものであるが、この場合被めつき物と
しては、スチール、鉄、銅、ニツケル、コバル
ト、亜鉛、これらの合金等の金属素材、プラスチ
ツクやセラミツク等の非金属素材に導電化処理を
施したものなどが使用し得、またこれらに直接本
発明のめつき処理を施すこともできるが、銅、無
光沢ニツケル、半光沢ニツケル、光沢ニツケルな
どの下地めつき被膜を単層又は複層形成した上に
本発明めつき処理を施すこともできる。なお、陽
極としては、炭素棒、白金板等の不溶性陽極を用
いてもよいが、ニツケル板、ニツケルボール等の
ニツケル陽極が好ましく、例えば電気ニツケル、
デポラライズドニツケル、カーボナイズドニツケ
ル等を用いることができる。 具体的には、被めつき物として、リードフレー
ム、フープ、半導体部品、コンデンサー、抵抗
体、コイル、リレー、スイツチ、コネクター、電
気接点部品、プリント配線基板等を挙げることが
でき、これら被めつき物の種類に応じた前処理を
施した後、本発明めつき法を適用することができ
る。 ここで、本発明めつき法によりめつき被膜を形
成する場合、そのめつき被膜の膜厚は必ずしも制
限されず、被めつき物の種類等により適宜選定さ
れるが、一般に１〜20μm、特に２〜5μmとする
ことが好ましい。 発明の効果 以上述べたように、本発明によれば、ハンダ付
け性に優れた電気ニツケル又はニツケル合金めつ
き被膜を得ることができ、種々の電気、電子部品
等に対し、ハンダ付け性を付与するためのめつき
法として有効に採用することができる。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的
に説明するが、本発明は下記の実施例に制限され
るものではない。 実施例 １ バフ研摩した銅板を50×５×0.5mmに切断し、
これを脱脂、水洗、酸洗、水洗した後、下記組成
のめつき浴を用い、下記のめつき条件で電気ニツ
ケルめつきを行なつた。 めつき浴組成 NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 H3BO3 40 〃 Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物 0.3 〃 PH 5.2 めつき条件 陰極電流密度 ３ Ａ／ｄm2 めつき温度 45℃ 撹拌 空気 陽極 ニツケル めつき膜厚 ３ μm 実施例 ２ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代りにエピク
ロルヒドリンでピリジン核の窒素原子を４級化し
たニコチン酸アミドを使用した以外は実施例１と
同様にしてめつきを行なつた。 実施例 ３ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代わりにＮ―
メチルニコチン酸塩化物を使用した以外は実施例
１と同様にしてめつきを行なつた。 実施例 ４ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代わりにＮ―
フエニルニコチン酸アミド臭化物を使用した以外
は実施例１と同様にしてめつきを行なつた。 比較例 １ 下記組成のめつき浴を用い、下記の条件で電気
ニツケルめつきを行なつた。 めつき浴組成 NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 H3BO3 40 〃 PH 5.2 めつき条件 陰極電流密度 ３ Ａ／ｄm2 めつき温度 45℃ 撹拌 空気 陽極 ニツケル めつき膜厚 ３ μm 比較例 ２ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と２―ブチン―１，４―ジオール0.2ｇを
添加しためつき浴を用い、比較例１と同様にして
めつきを行なつた。 比較例 ３ 下記組成の無電解ニツケル―ホウ素合金めつき
浴を使用し、上記銅板上に3μmの無電解ニツケル
―ホウ素合金めつき被膜を形成した。 めつき浴組成 NiCl2・6H2O 25ｇ／ CH3COONa 15 〃 ジメチルアミンボラン ４ 〃 PH ６ めつき温度 55℃ 比較例 ４ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と下記式 で示されるＮ―プロパギルニコチン酸塩化物0.1
ｇ／を添加しためつき浴を用い、比較例１と同
様にしてめつきを行なつた。 比較例 ５ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と下記式 で示されるビス（ピリジニウムアイオダイド）―
２，４，６―コリジン0.1ｇ／を添加しためつ
き浴を用い、比較例１と同様にしてめつきを行な
つた。 次に、上記めつき浴から得られためつき被膜の
ハンダ付け性を下記方法によつて評価した。 ハンダ付け性試験法 めつき終了後、水洗し、次いでメタノールに浸
漬して素早く乾燥しためつき試片を用い、下記No.
１〜３のハンダ付け性試験用サンプルを作成し
た。 No.１：室内に７日間自然放置したもの。 No.２：ASTM Ｂ―545規格に準じ、100℃で１
時間の沸騰蒸気処理を行なつたもの。 No.３：電気炉によつて400℃±５℃で５分間加
熱処理を行なつたもの。 次に、上記サンプルにつき、RHESCA CO.
LTD製SAT―2000型のSOLDER CHECKERを
用い、メニスコグラフ法によつてハンダ付け性試
験を下記の試験条件で行なつた。即ち、ハンダ温
度230℃のハンダへの浸漬時間は10秒、浸漬深さ
は２mm、浸漬速度は1.6mm／秒の試験条件で、上
記サンプルに活性ロジンフラツクスを塗布した
後、浸漬開始から表面張力による浮力が０になる
までの時間T2秒及びハンダ表面張力による浮力
のピーク値WBgrを測定することによつてハンダ
付け性（ぬれ性）を下記基準により評価した。こ
こで、T2、WBの値が小さい程ハンダ付け性は良
好である。 ハンダ付け性評価基準 T2及びWBを上記サンプルにつきＡ〜Ｅの５段
階で評価した。 サンプルNo.１ 評価段階 T2 WB Ａ 0.66〜0.70秒 0.56〜0.58gr Ｂ 0.71〜0.75 0.59〜0.61 Ｃ 0.76〜0.80 0.62〜0.64 Ｄ 0.81〜0.85 0.65〜0.67 Ｅ 0.86〜0.90 0.68〜0.70 サンプルNo.２ 評価段階 T2 WB Ａ 0.75〜0.82秒 0.65〜0.68gr Ｂ 0.83〜0.90 0.69〜0.72 Ｃ 0.91〜0.98 0.73〜0.76 Ｄ 0.99〜1.06 0.77〜0.81 Ｅ 1.07〜1.14 0.82〜0.85 サンプルNo.３ 評価段階 T2 WB Ａ 0.68〜0.82秒 0.54〜0.59gr Ｂ 0.83〜0.97 0.60〜0.65 Ｃ 0.98〜1.12 0.66〜0.71 Ｄ 1.13〜1.27 0.72〜0.77 Ｅ 1.28以上 0.78〜0.83 ハンダ付け性評価結果 上記めつき浴から得られためつき被膜のハンダ
付け性結果を第１表に示す。
塩はその１種を単独で使用しても２種以上を組合
せて用いてもよい。その添加量は必ずしも制限さ
れないが、0.01〜10ｇ／、特に0.1〜１ｇ／
とすることが好ましい。 本発明において、電気ニツケル又はニツケル合
金めつき浴には必要に応じて通常これらめつき浴
に使用する一次光沢剤又は応力減少剤や二次光沢
剤又はレベラーを加えても差支えない。 この場合、一次光沢剤又は応力減少剤として
は、サツカリンナトリウム、ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、２，７―ナフタリンジスルホン酸ナ
トリウム、１，３，６―ナフタリントリスルホン
酸ナトリウム、ベンゼンスルホンアミド、３，３
―チオジプロピオニトリル、チオ硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸ナトリウム、アゾジスルホン酸ナトリ
ウム、クマリン、安息香酸、フタル酸、樟脳酸、
酢酸等が例示され、これらの１種又は２種以上を
通常0.01〜10ｇ／、特に0.01〜0.3ｇ／の範囲
で添加することができるが、有機又は無機硫黄化
合物を多量に添加するめつき被膜中の硫黄量が多
くなり、めつき被膜のハンダ付け性を低下させた
り、加熱による変色を生じさせたり、更には耐食
性を低下させ、硫黄脆性を生じさせる場合がある
ので、硫黄化合物は添加しないが、添加しても少
量とすることが好ましい。 また、二次光沢剤又はレベラーとしては、２―
ブチン―１，４―ジオール、プロパギルアルコー
ル、２―ブチン―１，４―ジオールにエチレンオ
キシドやプロピレンオキシドを付加した化合物、
プロパギルアルコールにエチレンオキシドやプロ
ピレンオキシドを付加した化合物、アリールスル
ホン酸ナトリウム、プロパルギルスルホン酸ナト
リウム、３，３―チオジプロピオニトリル、ホル
マリン、更には１―ジメチルアミノ―２―プロピ
ン、１―ジエチルアミノ―２―プロピン、１―ジ
メチルアミノ―４―ヒドロキシ―２―プロピン、
１―ジエチルアミノ―２―ヒドロキシ―２―プロ
ピンなどといつたアミノアセチレン化合物やアミ
ノアセチレンアルコール等が例示され、これらの
１種又は２種以上が使用し得るが、これらの中で
は特にハンダ付け性の点でアミノアセチレン化合
物、アミノアセチレンアルコールが好適に用いら
れる。その添加量は、多量に添加するとめつき応
力が増大するので少なめとすることが望ましく、
0.01〜0.5ｇ／、特に0.01〜0.3ｇ／程度が適
当である。 本発明に係るめつき方法は、上記の第４級アン
モニウム塩を加えた電気ニツケル又はニツケル合
金めつき浴に被めつき物を浸漬し、これを陰極と
して陽極との間に所用の電圧を印加し、電気めつ
きを行なうものであるが、この場合被めつき物と
しては、スチール、鉄、銅、ニツケル、コバル
ト、亜鉛、これらの合金等の金属素材、プラスチ
ツクやセラミツク等の非金属素材に導電化処理を
施したものなどが使用し得、またこれらに直接本
発明のめつき処理を施すこともできるが、銅、無
光沢ニツケル、半光沢ニツケル、光沢ニツケルな
どの下地めつき被膜を単層又は複層形成した上に
本発明めつき処理を施すこともできる。なお、陽
極としては、炭素棒、白金板等の不溶性陽極を用
いてもよいが、ニツケル板、ニツケルボール等の
ニツケル陽極が好ましく、例えば電気ニツケル、
デポラライズドニツケル、カーボナイズドニツケ
ル等を用いることができる。 具体的には、被めつき物として、リードフレー
ム、フープ、半導体部品、コンデンサー、抵抗
体、コイル、リレー、スイツチ、コネクター、電
気接点部品、プリント配線基板等を挙げることが
でき、これら被めつき物の種類に応じた前処理を
施した後、本発明めつき法を適用することができ
る。 ここで、本発明めつき法によりめつき被膜を形
成する場合、そのめつき被膜の膜厚は必ずしも制
限されず、被めつき物の種類等により適宜選定さ
れるが、一般に１〜20μm、特に２〜5μmとする
ことが好ましい。 発明の効果 以上述べたように、本発明によれば、ハンダ付
け性に優れた電気ニツケル又はニツケル合金めつ
き被膜を得ることができ、種々の電気、電子部品
等に対し、ハンダ付け性を付与するためのめつき
法として有効に採用することができる。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的
に説明するが、本発明は下記の実施例に制限され
るものではない。 実施例 １ バフ研摩した銅板を50×５×0.5mmに切断し、
これを脱脂、水洗、酸洗、水洗した後、下記組成
のめつき浴を用い、下記のめつき条件で電気ニツ
ケルめつきを行なつた。 めつき浴組成 NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 H3BO3 40 〃 Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物 0.3 〃 PH 5.2 めつき条件 陰極電流密度 ３ Ａ／ｄm2 めつき温度 45℃ 撹拌 空気 陽極 ニツケル めつき膜厚 ３ μm 実施例 ２ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代りにエピク
ロルヒドリンでピリジン核の窒素原子を４級化し
たニコチン酸アミドを使用した以外は実施例１と
同様にしてめつきを行なつた。 実施例 ３ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代わりにＮ―
メチルニコチン酸塩化物を使用した以外は実施例
１と同様にしてめつきを行なつた。 実施例 ４ Ｎ―ベンジルニコチン酸塩化物の代わりにＮ―
フエニルニコチン酸アミド臭化物を使用した以外
は実施例１と同様にしてめつきを行なつた。 比較例 １ 下記組成のめつき浴を用い、下記の条件で電気
ニツケルめつきを行なつた。 めつき浴組成 NiSO4・6H2O 280ｇ／ NiCl2・6H2O 20 〃 H3BO3 40 〃 PH 5.2 めつき条件 陰極電流密度 ３ Ａ／ｄm2 めつき温度 45℃ 撹拌 空気 陽極 ニツケル めつき膜厚 ３ μm 比較例 ２ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と２―ブチン―１，４―ジオール0.2ｇを
添加しためつき浴を用い、比較例１と同様にして
めつきを行なつた。 比較例 ３ 下記組成の無電解ニツケル―ホウ素合金めつき
浴を使用し、上記銅板上に3μmの無電解ニツケル
―ホウ素合金めつき被膜を形成した。 めつき浴組成 NiCl2・6H2O 25ｇ／ CH3COONa 15 〃 ジメチルアミンボラン ４ 〃 PH ６ めつき温度 55℃ 比較例 ４ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と下記式 で示されるＮ―プロパギルニコチン酸塩化物0.1
ｇ／を添加しためつき浴を用い、比較例１と同
様にしてめつきを行なつた。 比較例 ５ 比較例１のめつき液にサツカリンナトリウム２
ｇ／と下記式 で示されるビス（ピリジニウムアイオダイド）―
２，４，６―コリジン0.1ｇ／を添加しためつ
き浴を用い、比較例１と同様にしてめつきを行な
つた。 次に、上記めつき浴から得られためつき被膜の
ハンダ付け性を下記方法によつて評価した。 ハンダ付け性試験法 めつき終了後、水洗し、次いでメタノールに浸
漬して素早く乾燥しためつき試片を用い、下記No.
１〜３のハンダ付け性試験用サンプルを作成し
た。 No.１：室内に７日間自然放置したもの。 No.２：ASTM Ｂ―545規格に準じ、100℃で１
時間の沸騰蒸気処理を行なつたもの。 No.３：電気炉によつて400℃±５℃で５分間加
熱処理を行なつたもの。 次に、上記サンプルにつき、RHESCA CO.
LTD製SAT―2000型のSOLDER CHECKERを
用い、メニスコグラフ法によつてハンダ付け性試
験を下記の試験条件で行なつた。即ち、ハンダ温
度230℃のハンダへの浸漬時間は10秒、浸漬深さ
は２mm、浸漬速度は1.6mm／秒の試験条件で、上
記サンプルに活性ロジンフラツクスを塗布した
後、浸漬開始から表面張力による浮力が０になる
までの時間T2秒及びハンダ表面張力による浮力
のピーク値WBgrを測定することによつてハンダ
付け性（ぬれ性）を下記基準により評価した。こ
こで、T2、WBの値が小さい程ハンダ付け性は良
好である。 ハンダ付け性評価基準 T2及びWBを上記サンプルにつきＡ〜Ｅの５段
階で評価した。 サンプルNo.１ 評価段階 T2 WB Ａ 0.66〜0.70秒 0.56〜0.58gr Ｂ 0.71〜0.75 0.59〜0.61 Ｃ 0.76〜0.80 0.62〜0.64 Ｄ 0.81〜0.85 0.65〜0.67 Ｅ 0.86〜0.90 0.68〜0.70 サンプルNo.２ 評価段階 T2 WB Ａ 0.75〜0.82秒 0.65〜0.68gr Ｂ 0.83〜0.90 0.69〜0.72 Ｃ 0.91〜0.98 0.73〜0.76 Ｄ 0.99〜1.06 0.77〜0.81 Ｅ 1.07〜1.14 0.82〜0.85 サンプルNo.３ 評価段階 T2 WB Ａ 0.68〜0.82秒 0.54〜0.59gr Ｂ 0.83〜0.97 0.60〜0.65 Ｃ 0.98〜1.12 0.66〜0.71 Ｄ 1.13〜1.27 0.72〜0.77 Ｅ 1.28以上 0.78〜0.83 ハンダ付け性評価結果 上記めつき浴から得られためつき被膜のハンダ
付け性結果を第１表に示す。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記(A)式 （但し、R1は炭素数１〜18の鎖状アルキル基、
炭素数１〜18の環状アルキル基、合計炭素数６〜
18で１以上の芳香環を有しかつ三重結合を含まな
い基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピ
ル基を示し、R2はカルボキシル基もしくはその
水素原子が金属原子で置換されたもの又は−
CONH2を示し、Xはハロゲンイオン、NO3 -、
SO2- 4又はCH3COO-を示す。） で示される第４級アンモニウム塩を含有する電気
ニツケルめつき浴又は電気ニツケル合金めつき浴
中に被めつき物を浸漬し、電気めつきすることを
特徴とする電気めつき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21233484A JPS6191384A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 電気めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21233484A JPS6191384A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 電気めつき方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP550288A Division JPS63171892A (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 電気めっき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191384A JPS6191384A (ja) | 1986-05-09 |
| JPH0129879B2 true JPH0129879B2 (ja) | 1989-06-14 |
Family
ID=16620815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21233484A Granted JPS6191384A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 電気めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6191384A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6379993A (ja) * | 1986-09-20 | 1988-04-09 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 電解ニツケル−ホウ素合金めつき浴 |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP21233484A patent/JPS6191384A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6191384A (ja) | 1986-05-09 |
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