JPH01301885A - 電解処理装置 - Google Patents

電解処理装置

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JPH01301885A
JPH01301885A JP13021288A JP13021288A JPH01301885A JP H01301885 A JPH01301885 A JP H01301885A JP 13021288 A JP13021288 A JP 13021288A JP 13021288 A JP13021288 A JP 13021288A JP H01301885 A JPH01301885 A JP H01301885A
Authority
JP
Japan
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cell
post
electrolytic
web
treatment
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Pending
Application number
JP13021288A
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English (en)
Inventor
Kazutaka Oda
和孝 小田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は金属ストリップの電解処理装置に関する、特に
PS版の電解処理装置、鉄板の電解メツキ処理装置、電
解コンデンサー用金属フィルムの電解処理装置等に関す
るものである。
〔従来の技術〕
従来の電解処理装置は、例えば第3図に示すように、送
出a1より送り出された金属ウェブ2は、バスロール3
を経て先ず金属表面を清浄にするためN a OH又は
酸等によるエツチング処理を行う前処理槽4に入り、W
i環タンク5内のエツチング液をポンプ6で前処理槽4
に循環しながらエツチングを行う。エツチング後金属ウ
ェブはデスマット、水洗後パスロールを経て電解処理槽
7に浸入する。電解処理槽7は例えば給電セル11と反
応セル 12とにわけられ各セルには夫々循環タンク1
3と循環ポンプ14を有しセルに電解液を循環し、一方
電解電源(交流又は直流)10により給電し、電流は給
電セル電柱89反応セル電極9を通しで金属ウェブ2と
通電することにより、金属ウェブ2は電解エツチング又
は電解メツキされる。金属ウェブ2は、上記の様に電解
処理後、後処理として電解により金属ウェブ表面に付着
したスマットを除去したり洗浄したりする等の目的で酸
又はアルカリの液が入った後処理槽16に入る。
後処理槽16へは、循環タンク17内の後処理液をポン
プ18によって循環する。
洗浄された金属ウェブ2は次に乾燥装置19に入り、乾
燥後巻取機20により巻取巻芯21に巻き取られる様に
なっている。
この様な装置において、電解処理槽7の給電セル11.
反応セル12はポリ塩化ビニール(PVC)、繊維強化
プラスチック(FRP)、ゴムライニングの鉄板などの
絶縁材料で製作されており又電解処理槽7の循環タンク
13.ポンプ+4゜配管材料も同様に対処されている。
又、パスロール3についてもゴムロールなどの絶縁材料
を用いており、送出し巻芯229巻取巻芯21も、紙や
鉄材のゴムライニングなどの絶縁材料でつくられ、これ
らによって全体的に絶縁の考慮が佛われている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、電解処理装置の前処理槽4.(例えばN
aOHによるエツチング処理)、や後処理16(例、デ
スマット処理)などでは通常は酸・アルカリ・水等の通
電性溶液で処理され、又これらの槽は耐食性、耐熱性の
点よりステンレス材にて製作されるのが普通である。
このため金属ウェブ2→処理液槽5又は17→配管を通
し架台23にリーク電流が流れ、等価基本回路としては
第4図に示すように電解電源41の電流は給電セル抵抗
421反応セル抵抗43にだけでなく、前処理槽側リー
ク電流45と後処理槽側リーク電流46が生じ、架台抵
抗44に流れる。
この電流は通常電解反応に寄与する電流値の1/100
〜1/10000と小さいので反応性に影響を与えるこ
とはないが、次の様な欠点をもっている。即ち、 ■ リーク電流により、前処理槽4.後処理槽16、循
環タンク5.17.ポンプ6.18.及び関係配管に電
蝕が発生し、液洩れなどのトラブルが発生する。
■ もし金属ウェブが蛇行などにより前処理槽4゜後処
理槽16と接触した場合リーク電流回路の抵抗が金属接
触のため小さくなるため、大きな電流が流れスパークが
発生する。このため金属の表面処理での溶解により発生
するH7の雰囲気では非常に危険である。
本発明は従来の問題点を解消し、リーク電流を減らして
電蝕による設備トラブルをなくし、設備の信頬性を向上
させると共に金属ウェブの蛇行や切断などの異常時に金
属ウェブが槽と接触する事態が発生しても、リーク電流
を押えることが出来て、スパークを発生させない電解処
理装置を提供することにある。
C課題を解決するための手段及び作用〕本発明の上記目
的は走行する金属ウェブを連続的に電解処理する電解処
理装置において、該電解処理装置の前処理槽及び/又は
後処理槽とそれぞれの配管に電気的絶縁を施したことを
特徴とする電解処理装置に依って達成される。
本発明の前処理槽及び/又は後処理槽の電気絶縁をする
ということは、電解処理装置が前処理槽及び後処理槽を
有する場合はどちらも、どちらか片方を有する場合はを
する方について、電気絶縁することで、第3図と同様の
電解処理装置の場合第1図のように電気絶縁することで
あり、電気絶縁の仕方の1実施例としては例えば第1図
、第5図(alに示すように、架台23に前処理槽絶縁
25゜後処理槽絶縁26の絶縁スペーサとしてナイロン
を施し、ボルト(SUS材)32で止める。
又、それぞれの配管に対する電気的絶縁としては例えば
第1図、第5図(b)に示すように配管材料33aと3
3bとの間に前処理槽配管絶縁29゜後処理槽配管絶縁
30としてポリプロピレン製絶縁管を挿入することによ
って行うことが出来る。
尚この場合、本発明による等価基本回路は第2図に示す
ように電解電源41の電流は給電セル抵抗421反応セ
ル抵抗43に対して流れ、前処理槽側リーク電流45と
後処理槽側リーク電流46とはそれぞれ前処理絶縁抵抗
47.後処理絶縁抵抗48の大きな抵抗が加わって、非
常に小さいリーク電流となる。
尚本発明に加えて第1図に示すように送出機lの架台部
における絶縁279巻取機の架台部における絶縁28.
乾燥装置19の架台部における絶縁31も施して万全を
期してもかまわない。
〔実 施 例〕
本発明の電解処理装置に第1図のように絶縁を施したと
きと、従来の電解処理装置第3図のようなときのリーク
電流を測定してみた。
この場合の電解電流としては直流50■。
10.0OOAを用いたが従来のリーク電流値200A
が本発明によると20Aの約10分の1に減じることが
出来た。
〔発明の効果] 本発明のような絶縁を施した電解処理装置により、リー
ク電流を減らして電蝕による設備トラブルをなくし設備
の信鎖性を向上させると共に、金属ウェブの蛇行や切断
などの異常時に金属ウェブが槽と接触する事態が発生し
ても、リーク電流を押えてスパークを発生させることが
なくなり安全が確保された。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の電解処理装置の一実施例の概略配置図
、第2図は本発明による等価基本回路図、第3図は従来
の電解処理装置の一例の概略配置図、第4図は従来の等
価基本回路図、第5図は本発明に係わる絶縁の1実施例
の架台部(a)と、管の一部(b) Q側面図である。 1・・・送出R2・・・金属ウェブ 3・・・パスロール  4・・・前処fl N7・・・
電解処理槽  11・・・給電セルI2・・・反応セル
  16・・・後処理槽19・・・乾燥装置  20・
・・巻取機23・・・架台 24・・・電解処理槽絶縁 25・・・前処理槽絶縁 26・・・後処理槽絶縁 27・・・送出機絶縁 28・・・巻取機絶縁 29・・・前処理槽配管絶縁 30・・・後処理槽配管絶縁 31・・・乾燥装置絶縁 32・・・ボルト 33a、33b−−−配管 41・・・電解電源 42・・・給電セル抵抗 43・ ・反応セル抵抗 44・・・架台抵抗 45・・・前処理槽側リーク電流回路 46・・・後処理槽側リーク電流回路 47・・・前処理絶縁抵抗 48・・・後処理絶縁抵抗 第  5  図 (b)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 走行する金属ウェブを連続的に電解処理する電解処理装
    置において、該電解処理装置の前処理槽及び/又は後処
    理槽とそれぞれの配管に電気的絶縁を施したことを特徴
    とする電解処理装置。
JP13021288A 1988-05-30 1988-05-30 電解処理装置 Pending JPH01301885A (ja)

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JP13021288A JPH01301885A (ja) 1988-05-30 1988-05-30 電解処理装置

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JP13021288A JPH01301885A (ja) 1988-05-30 1988-05-30 電解処理装置

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JPH01301885A true JPH01301885A (ja) 1989-12-06

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JP13021288A Pending JPH01301885A (ja) 1988-05-30 1988-05-30 電解処理装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105926028A (zh) * 2016-06-23 2016-09-07 成都新图新材料股份有限公司 一种ctp版基涂布工序前的处理系统
CN105951165A (zh) * 2016-06-23 2016-09-21 成都新图新材料股份有限公司 一种铝板基电解池

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105926028A (zh) * 2016-06-23 2016-09-07 成都新图新材料股份有限公司 一种ctp版基涂布工序前的处理系统
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