JPH0130795B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0130795B2 JPH0130795B2 JP2513282A JP2513282A JPH0130795B2 JP H0130795 B2 JPH0130795 B2 JP H0130795B2 JP 2513282 A JP2513282 A JP 2513282A JP 2513282 A JP2513282 A JP 2513282A JP H0130795 B2 JPH0130795 B2 JP H0130795B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- gas diffusion
- layer
- corrosive
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は凹凸表面を有するセラミツク製品の製
造方法に関するものであり、その目的とするとこ
ろは、ガラス腐食剤を有効に利用し、且つ製造工
程中に有害なガスが大気中に拡散しないように凹
凸表面を有するセラミツク製品を製造することに
ある。
造方法に関するものであり、その目的とするとこ
ろは、ガラス腐食剤を有効に利用し、且つ製造工
程中に有害なガスが大気中に拡散しないように凹
凸表面を有するセラミツク製品を製造することに
ある。
本発明においてセラミツク製品とは、ガラス製
品、タイル、ホーロ製品等を意味するものであ
る。以下においてはセラミツク製品の一例として
ガラス製品の製造方法の場合について述べる。
品、タイル、ホーロ製品等を意味するものであ
る。以下においてはセラミツク製品の一例として
ガラス製品の製造方法の場合について述べる。
従来、ガラス板やガラス容器等のガラス製品の
表面に艷消し加工や彫刻を施す場合には、フツ化
水素酸溶液とフツ化カルシウムと硫酸もしくはフ
ツ化水素アンモニウム溶液等を用いる所謂湿式の
腐食方法が採られていた。この方法においてはフ
ツ酸等の毒性の強い溶液を取扱うため作業者の健
康を損う危険度が高いこと、廃液処理に多くの手
間、費用を要すること等の欠点があつた。本出願
人はかかる状況において、以上の従来法を改良す
べく研究を重ねた結果、比較的安定な毒性の少な
い腐食剤を混入した固体皮膜化可能なインキを用
いてガラス表面に該腐食剤の固体皮膜を形成し、
これを適当な温度で乾式加熱する方法を発明し、
既に出願した（特開昭58−88142号公報参照）。し
かしながらこの方法においても、加熱時に発生し
たフツ化ガスが大気中に拡散するため腐食剤が必
ずしも有効に利用できない、大気を汚染するおそ
れがある等の欠点があつた。本発明はかかる欠点
を解消せんとし、種々研究考察を重ねた結果完成
するに至つたものである。即ち本発明はセラミツ
ク基材表面の必要部分に、加熱によつてガラス腐
食性ガスを発生するようなガラス腐食剤と固体皮
膜形成能をもつ有機物質とを主成分とするインキ
組成物を用いて腐食剤層を設け、該腐食剤層を覆
うようにガス拡散防止層を設け、しかる後前記ガ
ラス腐食剤が熱分解してガラス腐食性ガスを発生
するような温度で加熱することを特徴とする凹凸
表面を有するセラミツク製品の製造方法である。
表面に艷消し加工や彫刻を施す場合には、フツ化
水素酸溶液とフツ化カルシウムと硫酸もしくはフ
ツ化水素アンモニウム溶液等を用いる所謂湿式の
腐食方法が採られていた。この方法においてはフ
ツ酸等の毒性の強い溶液を取扱うため作業者の健
康を損う危険度が高いこと、廃液処理に多くの手
間、費用を要すること等の欠点があつた。本出願
人はかかる状況において、以上の従来法を改良す
べく研究を重ねた結果、比較的安定な毒性の少な
い腐食剤を混入した固体皮膜化可能なインキを用
いてガラス表面に該腐食剤の固体皮膜を形成し、
これを適当な温度で乾式加熱する方法を発明し、
既に出願した（特開昭58−88142号公報参照）。し
かしながらこの方法においても、加熱時に発生し
たフツ化ガスが大気中に拡散するため腐食剤が必
ずしも有効に利用できない、大気を汚染するおそ
れがある等の欠点があつた。本発明はかかる欠点
を解消せんとし、種々研究考察を重ねた結果完成
するに至つたものである。即ち本発明はセラミツ
ク基材表面の必要部分に、加熱によつてガラス腐
食性ガスを発生するようなガラス腐食剤と固体皮
膜形成能をもつ有機物質とを主成分とするインキ
組成物を用いて腐食剤層を設け、該腐食剤層を覆
うようにガス拡散防止層を設け、しかる後前記ガ
ラス腐食剤が熱分解してガラス腐食性ガスを発生
するような温度で加熱することを特徴とする凹凸
表面を有するセラミツク製品の製造方法である。
以下、本発明についてガラス基材を用いる場合
を例にとつて更に詳しく説明する。
を例にとつて更に詳しく説明する。
まず、ガラス基材表面の必要部分即ち、凹凸表
面を形成しようとする部分にガラス腐食剤と固体
皮膜形成能をもつ有機物質とを主成分とするイン
キ組成物を塗布又は印刷することにより腐食剤層
を設ける。印刷手段としてはスクリーン印刷等の
直接印刷や転写印刷方法がある。ガラス腐食剤と
は、加熱によつて熱分解し、フツ化水素ガス等の
ガラス腐食性ガスを発生せしめるような化合物を
いい、例えばNH4F（NH4）3AlF6（NH4）2CuF4、
NaHF4（NH4）3FeF6、（NH4）2CoF4、
（NH4）2NiF4KHF2等がある。固体皮膜形成能を
もつ有機物質とは例えば熱硬化性樹脂等の高分子
樹脂バインダーがある。更に、必要に応じて、
KH2PO4、KHSO4等の反能促進剤、溶剤等を混
合してインキ組成物を得る。ガラス腐食剤の含有
量は形成しようとする凹凸表面の凹凸程度によつ
て適宜調合する。
面を形成しようとする部分にガラス腐食剤と固体
皮膜形成能をもつ有機物質とを主成分とするイン
キ組成物を塗布又は印刷することにより腐食剤層
を設ける。印刷手段としてはスクリーン印刷等の
直接印刷や転写印刷方法がある。ガラス腐食剤と
は、加熱によつて熱分解し、フツ化水素ガス等の
ガラス腐食性ガスを発生せしめるような化合物を
いい、例えばNH4F（NH4）3AlF6（NH4）2CuF4、
NaHF4（NH4）3FeF6、（NH4）2CoF4、
（NH4）2NiF4KHF2等がある。固体皮膜形成能を
もつ有機物質とは例えば熱硬化性樹脂等の高分子
樹脂バインダーがある。更に、必要に応じて、
KH2PO4、KHSO4等の反能促進剤、溶剤等を混
合してインキ組成物を得る。ガラス腐食剤の含有
量は形成しようとする凹凸表面の凹凸程度によつ
て適宜調合する。
次に前記ガラス腐食剤層を覆うようにガス拡散
防止層を塗布又は印刷することにより設ける。ガ
ス拡散防止層は、ガラス腐食剤層より発生するガ
ラス腐食性ガスの大気中への拡散を防止するため
に設けるものであり、無機物質と樹脂バインダー
を用いてインキ化したものを適用する。無機物質
としては金属酸化物、金属塩化物、金属炭化物、
金属元素とのケイ酸化合物、炭酸化合物、水酸化
化合物等を単独で或いは混合物として使用する。
ここで金属元素としてはナトリウム、カリウム、
ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、
イツトソウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、クロム、モリブデン、マンガン、テクネチウ
ム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニツ
ケル、パラジウム、銅、銀、亜鉛、カドミニウ
ム、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ハフ
ニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オ
スミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウ
ム、ホウ素、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、鉛、窒素、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマ
ス、イオウ、セレン、テルル、ポロニウム等があ
る。又、使用する樹脂バインダーは、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、天然樹脂、耐熱性樹脂があ
る。その例としては、 熱可塑性樹脂 ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩酢ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタ
ール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸系エステ
ル、ポリアミド、ポリエステル、ゴム系樹脂等 熱硬化性樹脂 尿素、フエノール、エポキシ、ポリイソシアネ
ート、不飽和ポリエステル、アルキツド、メラミ
ン、ウレタン等 天然樹脂 でんぷん、セルロース系樹脂、にわか、カゼイ
ン等 耐熱性樹脂 ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾール、
ポリアミド、芳香族ポリイミド、芳香族ポリエス
テル等 である。
防止層を塗布又は印刷することにより設ける。ガ
ス拡散防止層は、ガラス腐食剤層より発生するガ
ラス腐食性ガスの大気中への拡散を防止するため
に設けるものであり、無機物質と樹脂バインダー
を用いてインキ化したものを適用する。無機物質
としては金属酸化物、金属塩化物、金属炭化物、
金属元素とのケイ酸化合物、炭酸化合物、水酸化
化合物等を単独で或いは混合物として使用する。
ここで金属元素としてはナトリウム、カリウム、
ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、
イツトソウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、クロム、モリブデン、マンガン、テクネチウ
ム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニツ
ケル、パラジウム、銅、銀、亜鉛、カドミニウ
ム、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ハフ
ニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オ
スミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウ
ム、ホウ素、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、鉛、窒素、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマ
ス、イオウ、セレン、テルル、ポロニウム等があ
る。又、使用する樹脂バインダーは、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、天然樹脂、耐熱性樹脂があ
る。その例としては、 熱可塑性樹脂 ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩酢ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタ
ール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸系エステ
ル、ポリアミド、ポリエステル、ゴム系樹脂等 熱硬化性樹脂 尿素、フエノール、エポキシ、ポリイソシアネ
ート、不飽和ポリエステル、アルキツド、メラミ
ン、ウレタン等 天然樹脂 でんぷん、セルロース系樹脂、にわか、カゼイ
ン等 耐熱性樹脂 ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾール、
ポリアミド、芳香族ポリイミド、芳香族ポリエス
テル等 である。
又、ガス拡散防止層はフツ化水素等のガラス腐
食性ガスと結合するものを適用してもよく、この
ようなものとしては、無機物質ではCaO、
Al2O3、BaCO3、Na2CO3、KHCO3、SrCO3、
SiO2・Al2O3、シリカゲル、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の水素化物等の固体塩基があり、
樹脂バインダーでは含窒素樹脂がある。
食性ガスと結合するものを適用してもよく、この
ようなものとしては、無機物質ではCaO、
Al2O3、BaCO3、Na2CO3、KHCO3、SrCO3、
SiO2・Al2O3、シリカゲル、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の水素化物等の固体塩基があり、
樹脂バインダーでは含窒素樹脂がある。
又、ガス拡散防止層は焼成後の除去が容易であ
るものが好ましく、このためには後の加熱工程で
溶融しない高融点の無機物質を用いることができ
る。更に高融点無機物質を用いた場合はその上に
低融点無機物質よりなる層を積層してガス拡散防
止層を構成すると、加熱時に上側の層のみが溶融
して連続した皮膜層を形成するのでガス拡散をよ
り効率的に防ぐ効果が得られる。
るものが好ましく、このためには後の加熱工程で
溶融しない高融点の無機物質を用いることができ
る。更に高融点無機物質を用いた場合はその上に
低融点無機物質よりなる層を積層してガス拡散防
止層を構成すると、加熱時に上側の層のみが溶融
して連続した皮膜層を形成するのでガス拡散をよ
り効率的に防ぐ効果が得られる。
次に、該ガラス基材表面を加熱する。加熱は前
記ガラス腐食剤が熱分解してフツ化水素ガス等の
ガラス腐食性ガスを発生せしめるような温度範囲
で行い、前記のような腐食剤であれば250℃〜550
℃において加熱処理すればよい。この加熱処理に
よつて腐食剤層を設けた部分のガラス基材は腐食
される。又、ガラス腐食剤から発生するフツ化水
素ガス等のガラス腐食性ガスはガス拡散防止層に
よつて大気中への拡散を防止され、腐食剤をより
有効にガラスの腐食に利用することができる。
記ガラス腐食剤が熱分解してフツ化水素ガス等の
ガラス腐食性ガスを発生せしめるような温度範囲
で行い、前記のような腐食剤であれば250℃〜550
℃において加熱処理すればよい。この加熱処理に
よつて腐食剤層を設けた部分のガラス基材は腐食
される。又、ガラス腐食剤から発生するフツ化水
素ガス等のガラス腐食性ガスはガス拡散防止層に
よつて大気中への拡散を防止され、腐食剤をより
有効にガラスの腐食に利用することができる。
焼成により、残存したガス拡散防止層等を適宜
の手段にて洗浄除去する。
の手段にて洗浄除去する。
本発明は以上のような凹凸表面を有するセラミ
ツク製品の製造方法であるから、本発明にかかる
製造方法を適用することによつてガラス腐食性ガ
スの大気中への拡散を防ぐことが容易であるた
め、ガラス腐食剤を有効に利用でき、又、大気汚
染等の必要も少なく、その工程も簡便であるため
広い利用が期待される。
ツク製品の製造方法であるから、本発明にかかる
製造方法を適用することによつてガラス腐食性ガ
スの大気中への拡散を防ぐことが容易であるた
め、ガラス腐食剤を有効に利用でき、又、大気汚
染等の必要も少なく、その工程も簡便であるため
広い利用が期待される。
以下本発明の実施例を説明する。
実施例 １
１mm厚のソーダガラス板表面に下記の組成の
ガラス腐食剤をスクリーン印刷で花柄を印刷した
後、下記の組成の第１ガス拡散防止層を上記ガ
ラス板表面にスプレーで全面コートを行ない、更
にの組成の第２ガス拡散防止剤をスクリーン印
刷で全面塗布した。この結果ガラス板表面に厚さ
20μのガラス腐食剤層の上に厚さ20μの第１ガス
拡散防止層、厚さ15μの第２ガス拡散防止層が形
成された。
ガラス腐食剤をスクリーン印刷で花柄を印刷した
後、下記の組成の第１ガス拡散防止層を上記ガ
ラス板表面にスプレーで全面コートを行ない、更
にの組成の第２ガス拡散防止剤をスクリーン印
刷で全面塗布した。この結果ガラス板表面に厚さ
20μのガラス腐食剤層の上に厚さ20μの第１ガス
拡散防止層、厚さ15μの第２ガス拡散防止層が形
成された。
ガラス腐食剤組成
フツ化アルミニウムアンモニウム塩
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウムKH2PO4 ８部 コーポニール4906（日本合成化学社製） 15部 トルエン 45部 デユオミンTDO（ライオン・アクゾ社製） ２部 第１ガス拡散防止剤組成 高融点ガラスフリツトOC−790（奥野製薬工業
社製） 50部 ポリアミド酸SP−510（東レ社製） 20部 Ｎ・メチル２・ピロリドン 30部 第２ガス拡散防止剤組成 低融点ガラスフリツトOC−410（奥野製薬工業
社製） 35部 メトローズSM100（信越化学社製） ５部 水 60部 その後該ガラス板に500℃、30分間の加熱処
理を施した後残余物を水洗で取り除いた結果、
美麗な花柄の凹凸マツト形状を有するガラス板
を得る事ができた。
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウムKH2PO4 ８部 コーポニール4906（日本合成化学社製） 15部 トルエン 45部 デユオミンTDO（ライオン・アクゾ社製） ２部 第１ガス拡散防止剤組成 高融点ガラスフリツトOC−790（奥野製薬工業
社製） 50部 ポリアミド酸SP−510（東レ社製） 20部 Ｎ・メチル２・ピロリドン 30部 第２ガス拡散防止剤組成 低融点ガラスフリツトOC−410（奥野製薬工業
社製） 35部 メトローズSM100（信越化学社製） ５部 水 60部 その後該ガラス板に500℃、30分間の加熱処
理を施した後残余物を水洗で取り除いた結果、
美麗な花柄の凹凸マツト形状を有するガラス板
を得る事ができた。
実施例 ２
2.5mm厚のガラス板表面に、スクリーン印刷で
下記のガラス腐食剤を膜厚10μで文字柄に印刷
し、続いて、この上からの組成のガス拡散防止
剤を用いてスクリーン印刷で、該ガラス腐食剤層
を覆うように厚さ20μのガス拡散防止層を形成し
た。
下記のガラス腐食剤を膜厚10μで文字柄に印刷
し、続いて、この上からの組成のガス拡散防止
剤を用いてスクリーン印刷で、該ガラス腐食剤層
を覆うように厚さ20μのガス拡散防止層を形成し
た。
ガラス腐食剤組成
フツ化鉄アンモニウム塩（NH4）3FeF6 30部
硫酸水素カリウムKHSO4 ５部
コーポニール4906（日本合成化学社製） 15部
トルエン 48部
デユオミンTDO（ライオン・アクゾ社製） ２部
ガス拡散防止剤組成
高融点フリツトOG−15（日本フエロー社製）
40部 アルマテツクス762LV55A（三井東圧化学社製）
14部 ユーバン203E60（三井東圧化学社製） ４部 エピコート1001（シエル社製） ２部 ソルベツソ＃100（エツソ社製） 40部 その後該ガラス板に450℃、20分の加熱処理
を施し、残余物を水洗で取り除いた結果、美麗
なマツトの文字柄が形成されたガラス板を得る
ことができた。
40部 アルマテツクス762LV55A（三井東圧化学社製）
14部 ユーバン203E60（三井東圧化学社製） ４部 エピコート1001（シエル社製） ２部 ソルベツソ＃100（エツソ社製） 40部 その後該ガラス板に450℃、20分の加熱処理
を施し、残余物を水洗で取り除いた結果、美麗
なマツトの文字柄が形成されたガラス板を得る
ことができた。
実施例 ３
ポリエチレンテレフタレートフイルムよりなる
基体シート上に下記(イ)(ロ)(ハ)(ニ)の各組成よりなる
イ
ンキを用いて順次グラビア印刷し、転写紙を作成
する。
基体シート上に下記(イ)(ロ)(ハ)(ニ)の各組成よりなる
イ
ンキを用いて順次グラビア印刷し、転写紙を作成
する。
(イ) 剥離剤組成
ダイヤナールBR−50（三菱レイヨン社製）
10部 トルエン 90部 (ロ) 第２ガス拡散防止剤組成 ガラスフリツトOC−410（奥野製薬社製） 30部 エスレツクスＣ（積水化学社製） ７部 メチルエチルケトン 33部 メチルイソブチルケトン 30部 (ハ) 第１ガス拡散防止剤組成 高融点ガラスフリツトOC−790（奥野製薬社製）
30部 アルマテツクス762LV55A（三井東圧化学社製）
７部 ユーバン20SE60（三井東圧化学社製） ２部 エピコート1001（シエル社製） １部 ソルベツソ 60部 (ニ) ガラス腐食剤組成 フツ化アルミニウムアンモニウム塩
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウムKH2PO4 ５部 エピコート1009（シエル社製） 10部 メチルエチルケトン 53部 デユオミンTDO（ライオン・アクゾ社製） ２部 テトラヒドロ無水フタル酸 0.2部 上記転写紙を用いて、ガラス板に下記転写条件
で転写し、ガラス板上にガラス腐食剤層、第１ガ
ス拡散防止層、第２ガス拡散防止層を順次設け
た。しかる後、500℃、30分の焼成処理を施こし、
反応残余物を水洗にて取り除いた結果、精度の高
い目盛りラインをマツト形状に得ることができ
た。
10部 トルエン 90部 (ロ) 第２ガス拡散防止剤組成 ガラスフリツトOC−410（奥野製薬社製） 30部 エスレツクスＣ（積水化学社製） ７部 メチルエチルケトン 33部 メチルイソブチルケトン 30部 (ハ) 第１ガス拡散防止剤組成 高融点ガラスフリツトOC−790（奥野製薬社製）
30部 アルマテツクス762LV55A（三井東圧化学社製）
７部 ユーバン20SE60（三井東圧化学社製） ２部 エピコート1001（シエル社製） １部 ソルベツソ 60部 (ニ) ガラス腐食剤組成 フツ化アルミニウムアンモニウム塩
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウムKH2PO4 ５部 エピコート1009（シエル社製） 10部 メチルエチルケトン 53部 デユオミンTDO（ライオン・アクゾ社製） ２部 テトラヒドロ無水フタル酸 0.2部 上記転写紙を用いて、ガラス板に下記転写条件
で転写し、ガラス板上にガラス腐食剤層、第１ガ
ス拡散防止層、第２ガス拡散防止層を順次設け
た。しかる後、500℃、30分の焼成処理を施こし、
反応残余物を水洗にて取り除いた結果、精度の高
い目盛りラインをマツト形状に得ることができ
た。
転写条件
ロール転写機転写温度 200℃
転写速度 ５cm／sec
転写圧力 ３mm圧
比較例
ガラス板表面に、実施例１において用いたガラ
ス腐食剤のみを同様の厚さに塗布した。この上部
を覆うように約１mmの間隔をもつてガラス板で設
置した状態で、実施例１と同様の条件で加熱処理
を施した結果、上部に置いたガラス板は激しく腐
食されていた。
ス腐食剤のみを同様の厚さに塗布した。この上部
を覆うように約１mmの間隔をもつてガラス板で設
置した状態で、実施例１と同様の条件で加熱処理
を施した結果、上部に置いたガラス板は激しく腐
食されていた。
次に下記実施例１、２、３において同様に上部
を覆うようにガラス板を設置し、それぞれの条件
で加熱処理を施した結果、いずれの場合も上部に
置いたガラス板は全く腐食されていなかつた。よ
つて実施例１、２、３においてはガラス腐食性ガ
スはほとんんど大気中に拡散していなかつたこと
がわかる。
を覆うようにガラス板を設置し、それぞれの条件
で加熱処理を施した結果、いずれの場合も上部に
置いたガラス板は全く腐食されていなかつた。よ
つて実施例１、２、３においてはガラス腐食性ガ
スはほとんんど大気中に拡散していなかつたこと
がわかる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セラミツク基材表面の必要部分に、加熱によ
つてガラス腐食性ガスを発生するようなガラス腐
食剤と固体皮膜形成能をもつ有機物質とを主成分
とするインキ組成物を用いて腐食剤層を設け、該
腐食剤層を覆うようにガス拡散防止層を設け、し
かる後前記ガラス腐食剤が熱分解してガラス腐食
性ガスを発生するような温度で加熱することを特
徴とする凹凸表面を有するセラミツク製品の製造
方法。 ２ ガス拡散防止層が高融点無機物質よりなるも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の凹凸表面を有するセラミツク製品の製造方
法。 ３ ガス拡散防止層が高融点無機物質よりなる層
の上に低融点無機物質よりなる層が積層されて構
成されるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の凹凸表面を有するセラミツク製
品の製造方法。 ４ ガス拡散防止層がガラス腐食性ガスと化学的
に結合する固体塩基及び／又は含窒素樹脂と主成
分とするものであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の凹凸表面を有するセラミツク製
品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513282A JPS58145674A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 凹凸表面を有するセラミツク製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513282A JPS58145674A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 凹凸表面を有するセラミツク製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58145674A JPS58145674A (ja) | 1983-08-30 |
| JPH0130795B2 true JPH0130795B2 (ja) | 1989-06-21 |
Family
ID=12157430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2513282A Granted JPS58145674A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 凹凸表面を有するセラミツク製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58145674A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0694382B2 (ja) * | 1986-04-03 | 1994-11-24 | 日本化薬株式会社 | フツ酸からガラス製装置を保護する方法 |
-
1982
- 1982-02-17 JP JP2513282A patent/JPS58145674A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58145674A (ja) | 1983-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU749943B2 (en) | Deposition of substances on a surface | |
| US6344277B1 (en) | Coating method of amorphous type titanium peroxide | |
| JPS62129846A (ja) | フオトレジストの塗布方法及び塗布装置 | |
| JPH02253692A (ja) | パターン形成方法およびパネル基板の製造方法 | |
| JPS6214101Y2 (ja) | ||
| JPS58145674A (ja) | 凹凸表面を有するセラミツク製品の製造方法 | |
| JP2001080939A (ja) | 光触媒ガラスの製造装置及び製造方法 | |
| JPS6214099Y2 (ja) | ||
| JPH0144676B2 (ja) | ||
| JPH0428693Y2 (ja) | ||
| JPS5888142A (ja) | 高温用ガラス腐触剤並びにそれを用いたガラスの腐触方法 | |
| JPS63745Y2 (ja) | ||
| JPS58161979A (ja) | 艶消し表面を有するセラミツク製品の製造方法 | |
| JP3571454B2 (ja) | 浸炭もしくは窒化防止用粉末および浸炭もしくは窒化防止法 | |
| EP0387264B1 (de) | Farbband | |
| US539187A (en) | Art of decorating stoneware | |
| US343608A (en) | Ornamenting glassware | |
| JPH01173041A (ja) | パターン形成方法 | |
| JPH0378076B2 (ja) | ||
| JPH09208264A (ja) | 複写機用天板ガラス | |
| JPS60210469A (ja) | サ−マルヘツド | |
| DE1621494C (de) | Mittel zum Herstellen eines Schutzüberzuges für Metallgegenstände | |
| JPH0394054A (ja) | 金属酸化物皮膜基板 | |
| JPH02115374A (ja) | 無電解メッキ方法 | |
| Macauley et al. | Comparison of processes for selective electroless copper plating on 96% alumina photo-selectively activated using chlorinated and non-chlorinated photochemical coatings: photoactivity and reliability studies |