JPH0144676B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0144676B2 JPH0144676B2 JP2513382A JP2513382A JPH0144676B2 JP H0144676 B2 JPH0144676 B2 JP H0144676B2 JP 2513382 A JP2513382 A JP 2513382A JP 2513382 A JP2513382 A JP 2513382A JP H0144676 B2 JPH0144676 B2 JP H0144676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- layer
- resist layer
- corrosive
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面に凹凸部分を有するセラミツク製
品の製造方法に関するものであり、更に詳しくは
所謂乾式のガラス腐食によるガラスの表面加工技
術を用いて表面に凹凸部分を有するセラミツク製
品を製造する方法において、凹凸部分とそうでな
い部分との境界を鮮明にしたセラミツク製品を得
ることを目的とするものである。
品の製造方法に関するものであり、更に詳しくは
所謂乾式のガラス腐食によるガラスの表面加工技
術を用いて表面に凹凸部分を有するセラミツク製
品を製造する方法において、凹凸部分とそうでな
い部分との境界を鮮明にしたセラミツク製品を得
ることを目的とするものである。
本出願人が既に出願したガラスの腐食方法と
は、ガラス腐食剤を混合した固体皮膜化可能なイ
ンキをガラス表面に塗布、印刷し、これを適当な
温度で乾式加熱する方法である（特開昭58−
88142号公報参照）。この方法は従来の腐食液を用
いる所謂湿式の腐食方法における作業者の安全、
廃液処理等の諸問題を解消するものであるが、凹
凸部分によつて文字・絵柄を形成しようとする場
合は凹凸部分とそうでない部分との境界が不鮮明
になるという問題があつた。本発明者はかかる問
題点に鑑み、種々研究考察を重ねた結果、本発明
を完成するに至つたものである。即ち本発明はセ
ラミツク基材表面の必要部分にガラス腐食性ガス
を透過させないようなレジスト層を設けた後、少
なくとも該レジスト層を設けない部分を覆うよう
に、加熱によつてガラス腐食性ガスを発生するよ
うなガラス腐食剤と固体皮膜形成能をもつ有機物
質とを主成分とするインキ組成物を用いて腐食剤
層を設け、しかる後該ガラス腐食剤が熱分解して
ガラス腐食性ガスを発生するような温度で加熱す
ることを特徴とする表面に凹凸部分を有するセラ
ミツク製品の製造方法である。
は、ガラス腐食剤を混合した固体皮膜化可能なイ
ンキをガラス表面に塗布、印刷し、これを適当な
温度で乾式加熱する方法である（特開昭58−
88142号公報参照）。この方法は従来の腐食液を用
いる所謂湿式の腐食方法における作業者の安全、
廃液処理等の諸問題を解消するものであるが、凹
凸部分によつて文字・絵柄を形成しようとする場
合は凹凸部分とそうでない部分との境界が不鮮明
になるという問題があつた。本発明者はかかる問
題点に鑑み、種々研究考察を重ねた結果、本発明
を完成するに至つたものである。即ち本発明はセ
ラミツク基材表面の必要部分にガラス腐食性ガス
を透過させないようなレジスト層を設けた後、少
なくとも該レジスト層を設けない部分を覆うよう
に、加熱によつてガラス腐食性ガスを発生するよ
うなガラス腐食剤と固体皮膜形成能をもつ有機物
質とを主成分とするインキ組成物を用いて腐食剤
層を設け、しかる後該ガラス腐食剤が熱分解して
ガラス腐食性ガスを発生するような温度で加熱す
ることを特徴とする表面に凹凸部分を有するセラ
ミツク製品の製造方法である。
本発明においてセラミツク製品とは、ガラス製
品、タイル、ホーロー製品等を意味するものであ
る。以下においてはガラス製品の場合について本
発明について更に詳しく説明する。
品、タイル、ホーロー製品等を意味するものであ
る。以下においてはガラス製品の場合について本
発明について更に詳しく説明する。
まず、ガラス基材表面の必要部分、即ち艶消し
加工等の凹凸部分を設けない部分にレジスト層を
設ける。レジスト層はガラス腐食性ガスを透過さ
せないためのものであり、無機物質に樹脂バイン
ダーを用いてインキ化したものを塗布又は印刷に
よつて形成する。無機物質としては各種の金属酸
化物、金属塩化物、金属炭化物、金属元素とのケ
イ酸化合物、炭酸化合物、水酸化化合物等を単独
で或いは混合物として用いる。樹脂バインダーと
しては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、天然樹脂
等があり、特にポリアミドイミド、ポリイミド、
ポリベンズイミダゾール、芳香族ポリイミド、芳
香族ポリエステル等の耐熱性樹脂が好ましい。
加工等の凹凸部分を設けない部分にレジスト層を
設ける。レジスト層はガラス腐食性ガスを透過さ
せないためのものであり、無機物質に樹脂バイン
ダーを用いてインキ化したものを塗布又は印刷に
よつて形成する。無機物質としては各種の金属酸
化物、金属塩化物、金属炭化物、金属元素とのケ
イ酸化合物、炭酸化合物、水酸化化合物等を単独
で或いは混合物として用いる。樹脂バインダーと
しては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、天然樹脂
等があり、特にポリアミドイミド、ポリイミド、
ポリベンズイミダゾール、芳香族ポリイミド、芳
香族ポリエステル等の耐熱性樹脂が好ましい。
レジスト層は焼成後の除去を容易にするため、
加熱工程で溶融しないような高融点の無機物質の
使用が好ましく、この場合は高融点無機物質層の
上に低融点無機物質層を積層してもよい。このよ
うな構成にすると、上側に位置する低融点物質層
のみが加熱時に溶融し、連続した皮膜層を形成す
るのでより効率的にガスの透過を防ぎ且つ焼成後
の除去が容易となる。
加熱工程で溶融しないような高融点の無機物質の
使用が好ましく、この場合は高融点無機物質層の
上に低融点無機物質層を積層してもよい。このよ
うな構成にすると、上側に位置する低融点物質層
のみが加熱時に溶融し、連続した皮膜層を形成す
るのでより効率的にガスの透過を防ぎ且つ焼成後
の除去が容易となる。
又、レジスト層はフツ化水素等のガラス腐食性
ガスと結合するものを適用してもよく、このよう
なものとしては、無機物質としてはCaO、
Al2O3、BaCO3、Na2CO3、KHCO3、SrCO3、
SiO2・Al2O3、シリカゲル、アルカリ金属又はア
ルカリ土類、金属水素化物等の固体塩基があり、
樹脂バインダーでは含窒素樹脂がある。
ガスと結合するものを適用してもよく、このよう
なものとしては、無機物質としてはCaO、
Al2O3、BaCO3、Na2CO3、KHCO3、SrCO3、
SiO2・Al2O3、シリカゲル、アルカリ金属又はア
ルカリ土類、金属水素化物等の固体塩基があり、
樹脂バインダーでは含窒素樹脂がある。
レジスト層の上に腐食剤層を設ける。腐食剤層
は、加熱によつてフツ化水素等のガラス腐食性ガ
スを発生するようなガラス腐食剤と固体皮膜形成
能をもつ有機物質とを主成分とするインキ組成物
を用いて、少なくとも前記レジスト層を設けてい
ない部分を覆うように塗布又は印刷手段にて形成
する。ガラス腐食剤としては例えばNH4F
（NH4）3AlF6、（NH4）2CuF4、（NH4）3FeF6、
（NH4）2CoF4、NaHF2、KHF2（NH4）2NiF4等が
あり、前記固体皮膜形成能をもつ有機物質として
は熱硬化性樹脂等の高分子物質を用いる。更に必
要に応じて反応促進剤、溶剤等を混合してインキ
組成物を得る。反応促進剤としては例えば、
KH2PO4、KHSO4等がある。ガラス腐食剤の含
有量は形成しようとするセラミツク製品の凹凸表
面の凹凸程度によつて適宜調節する。
は、加熱によつてフツ化水素等のガラス腐食性ガ
スを発生するようなガラス腐食剤と固体皮膜形成
能をもつ有機物質とを主成分とするインキ組成物
を用いて、少なくとも前記レジスト層を設けてい
ない部分を覆うように塗布又は印刷手段にて形成
する。ガラス腐食剤としては例えばNH4F
（NH4）3AlF6、（NH4）2CuF4、（NH4）3FeF6、
（NH4）2CoF4、NaHF2、KHF2（NH4）2NiF4等が
あり、前記固体皮膜形成能をもつ有機物質として
は熱硬化性樹脂等の高分子物質を用いる。更に必
要に応じて反応促進剤、溶剤等を混合してインキ
組成物を得る。反応促進剤としては例えば、
KH2PO4、KHSO4等がある。ガラス腐食剤の含
有量は形成しようとするセラミツク製品の凹凸表
面の凹凸程度によつて適宜調節する。
尚、腐食剤層を覆うようにガス拡散防止層を設
けてもよい。ガス拡散防止層は、ガラス腐食剤よ
り発生するガラス腐食性ガスの大気中への拡散を
防止することができるから、取り扱い作業がより
安全に行われ、ガラス腐食剤を効率的に利用する
ことができる。このガス拡散防止層は前記したレ
ジスト層に適用できる無機物質と樹脂バインダー
を用いてインキ化したものを塗布又は印刷して設
ける。
けてもよい。ガス拡散防止層は、ガラス腐食剤よ
り発生するガラス腐食性ガスの大気中への拡散を
防止することができるから、取り扱い作業がより
安全に行われ、ガラス腐食剤を効率的に利用する
ことができる。このガス拡散防止層は前記したレ
ジスト層に適用できる無機物質と樹脂バインダー
を用いてインキ化したものを塗布又は印刷して設
ける。
次に前記ガラス基材を、腐食剤層が熱分解して
フツ化水素ガス等のガラス腐食性ガスを発生する
ような温度で加熱する。前記のような腐食剤であ
れば250℃〜550℃の温度範囲にて加熱処理すれば
よい。この加熱処理によつて腐食剤層がガラス基
材表面に接して設けられている部分、即ちレジス
ト層の設けた部分を除いて腐食剤層を設けた部分
のガラス基材は腐食され、凹凸部分が形成され
る。
フツ化水素ガス等のガラス腐食性ガスを発生する
ような温度で加熱する。前記のような腐食剤であ
れば250℃〜550℃の温度範囲にて加熱処理すれば
よい。この加熱処理によつて腐食剤層がガラス基
材表面に接して設けられている部分、即ちレジス
ト層の設けた部分を除いて腐食剤層を設けた部分
のガラス基材は腐食され、凹凸部分が形成され
る。
加熱処理により生じた残存物は適宜の手段にて
洗浄除去する。
洗浄除去する。
本発明は以上述べたような凹凸部分を有するセ
ラミツク製品の製造方法であるから、本発明を適
用することにより、繊細な図柄を形成する凹凸部
分を容易に、安全な作業をもつて得られるもので
ある。
ラミツク製品の製造方法であるから、本発明を適
用することにより、繊細な図柄を形成する凹凸部
分を容易に、安全な作業をもつて得られるもので
ある。
以下本発明の実施例を説明する。
実施例
１mm厚のソーダガラス板表面にスクリーン印刷
で、下記組成のレジストインキを花柄に印刷
し、つづいて、下記組成のガラス腐食剤を上記
ガラス板表面にスプレーで全面コートした。更に
組成のガス拡散防止剤をスクリーン印刷で全面
塗布した。この結果ガラス板表面に厚さ15μのレ
ジスト層の上に厚さ20μのガラス腐食剤層、厚さ
15μのガス拡散防止層が形成された。
で、下記組成のレジストインキを花柄に印刷
し、つづいて、下記組成のガラス腐食剤を上記
ガラス板表面にスプレーで全面コートした。更に
組成のガス拡散防止剤をスクリーン印刷で全面
塗布した。この結果ガラス板表面に厚さ15μのレ
ジスト層の上に厚さ20μのガラス腐食剤層、厚さ
15μのガス拡散防止層が形成された。
レジスト剤組成
高融点ガラスフリツト OC−790（奥野製薬
工業社製） 40部 ポリアミド酸 SP−510（東レ社製） 30部 Ｎ・メチル・２ピロリドン 30部 ガラス腐食剤組成 フツ化アルミニウムアンモニウム塩
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウム KH2PO4 ８部 コーポニール 4906（日本合成化学社製）
15部 トルエン 45部 デユオミン TDO（ライオン・アクゾ社製）
２部 ガス拡散防止剤組成 高融点フリツト OG−15（日本フエロー社
製） 40部 アルマテツクス 762・LV55A（三井東圧化
学社製） 14部 ユーバン 203E60（三井東圧化学社製） ４部 エピコート 1009（シエル社製） ２部 ソルベツソ ＃100（エツソ社製） 40部 その後該ガラス板に450℃、20分の加熱処理を
施し、残余物を水洗で取り除いた結果、美麗な花
柄抜きのマツト部が形成されたガラス板を得るこ
とができた。
工業社製） 40部 ポリアミド酸 SP−510（東レ社製） 30部 Ｎ・メチル・２ピロリドン 30部 ガラス腐食剤組成 フツ化アルミニウムアンモニウム塩
（NH4）3AlF6 30部 リン酸水素−カリウム KH2PO4 ８部 コーポニール 4906（日本合成化学社製）
15部 トルエン 45部 デユオミン TDO（ライオン・アクゾ社製）
２部 ガス拡散防止剤組成 高融点フリツト OG−15（日本フエロー社
製） 40部 アルマテツクス 762・LV55A（三井東圧化
学社製） 14部 ユーバン 203E60（三井東圧化学社製） ４部 エピコート 1009（シエル社製） ２部 ソルベツソ ＃100（エツソ社製） 40部 その後該ガラス板に450℃、20分の加熱処理を
施し、残余物を水洗で取り除いた結果、美麗な花
柄抜きのマツト部が形成されたガラス板を得るこ
とができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セラミツク基材表面の必要部分にガラス腐食
性ガスを透過させないようなレジスト層を設けた
後、少なくとも該レジスト層を設けない部分を覆
うように、加熱によつてガラス腐食性ガスを発生
するようなガラス腐食剤と固体皮膜形成能をもつ
有機物質とを主成分とするインキ組成物を用いて
腐食剤層を設け、しかる後該ガラス腐食剤が熱分
解してガラス腐食性ガスを発生するような温度で
加熱することを特徴とする表面に凹凸部分を有す
るセラミツク製品の製造方法。 ２ レジスト層が高融点無機物質よりなるもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の表面に凹凸部分を有するセラミツク製品の製造
方法。 ３ レジスト層が高融点無機物質よりなる層の上
に低融点無機物質よりなる層が積層されて構成さ
れるものであることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の表面に凹凸部分を有するセラミツク
製品の製造方法。 ４ レジスト層がガラス腐食性ガスと化学的に結
合する固体塩基及び／又は含窒素樹脂を主成分と
するものであることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の表面に凹凸部分を有するセラミツク
製品の製造方法。 ５ 腐食剤層が、無機物質よりなるガス拡散防止
層によつて覆われたことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の表面に凹凸部分を有するセラミ
ツク製品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513382A JPS58145675A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 表面に凹凸部分を有するセラミツク製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513382A JPS58145675A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 表面に凹凸部分を有するセラミツク製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58145675A JPS58145675A (ja) | 1983-08-30 |
| JPH0144676B2 true JPH0144676B2 (ja) | 1989-09-28 |
Family
ID=12157460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2513382A Granted JPS58145675A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 表面に凹凸部分を有するセラミツク製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58145675A (ja) |
-
1982
- 1982-02-17 JP JP2513382A patent/JPS58145675A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58145675A (ja) | 1983-08-30 |
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