JPH01321610A - 永久磁石およびその製造方法 - Google Patents
永久磁石およびその製造方法Info
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種
以上)、FeおよびBを含有し、特に耐食性にすぐれた
永久磁石およびその製造方法に関する。
以上)、FeおよびBを含有し、特に耐食性にすぐれた
永久磁石およびその製造方法に関する。
〈従来の技術〉
高性能を有する希土類磁石としては、粉末冶金法による
Sm−Co系磁石でエネルギー積として、32MGOe
のものが量産されている。
Sm−Co系磁石でエネルギー積として、32MGOe
のものが量産されている。
しかし、このものは、Sm、Coの原料価格が高いとい
う欠点を有する。 希土類の中では原子量の小さい希土
類元素、たとえばセリウムやプラセオジム、ネオジムは
、サマリウムよりも豊富にあり価格が安い、 また、F
eは安価である。
う欠点を有する。 希土類の中では原子量の小さい希土
類元素、たとえばセリウムやプラセオジム、ネオジムは
、サマリウムよりも豊富にあり価格が安い、 また、F
eは安価である。
そこで、近年Nd−Fe−B系磁石が開発され、特開昭
59−46008号公報では、焼結磁石が、また特開昭
60−9852号公報では、高速急冷法によるものが開
示されている。
59−46008号公報では、焼結磁石が、また特開昭
60−9852号公報では、高速急冷法によるものが開
示されている。
このものは、25MGOe以上の高エネルギー積を示す
高性能磁石であるが、主成分として酸化され易い希土類
元素と鉄とを含有するため、耐食性が低く、性能の劣化
、バラつき等が問題となっている。
高性能磁石であるが、主成分として酸化され易い希土類
元素と鉄とを含有するため、耐食性が低く、性能の劣化
、バラつき等が問題となっている。
このようなR−Fe−B系磁石の耐食性の低さを改善す
ることを目的として、種々の耐食性膜を表面に有する永
久磁石あるいはその製造方法が提案されているC特開昭
60−54406号公報、同60−63901号公報、
同60−63902号公報、同61−130453号公
報、同61−150201号公報、同61−16611
5号公報、同61−166116号公報、同61−18
6117号公報、同61−185910号公報、同61
−270308号公報等)。
ることを目的として、種々の耐食性膜を表面に有する永
久磁石あるいはその製造方法が提案されているC特開昭
60−54406号公報、同60−63901号公報、
同60−63902号公報、同61−130453号公
報、同61−150201号公報、同61−16611
5号公報、同61−166116号公報、同61−18
6117号公報、同61−185910号公報、同61
−270308号公報等)。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、これらの耐食性膜によっても、R−Fe−B系
磁石の耐食性は十分とはいえない。
磁石の耐食性は十分とはいえない。
特に、特開昭60−54406号公報に開示されている
金属または合金の耐食性膜はメツキによって成膜される
ため、成膜時にピンホール、スルーホール等が発生し易
く、耐食性が不十分である。
金属または合金の耐食性膜はメツキによって成膜される
ため、成膜時にピンホール、スルーホール等が発生し易
く、耐食性が不十分である。
本発明の目的は、これらの問題を解決し、耐食性にすぐ
れたR−Fe−B系永久磁石およびその製造方法を提供
することにある。
れたR−Fe−B系永久磁石およびその製造方法を提供
することにある。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、下記(1)〜(7)である。
(1)R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上
)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相を
有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であっ
て、 前記保護層が前記永久磁石体表面に設層された第1の保
護層と、この第1の保護層上に設層された第2の保護層
とから構成され、前記第2の保護層を形成する金属が前
記第1の保護層を形成する金属より軟質である永久磁石
。
)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相を
有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であっ
て、 前記保護層が前記永久磁石体表面に設層された第1の保
護層と、この第1の保護層上に設層された第2の保護層
とから構成され、前記第2の保護層を形成する金属が前
記第1の保護層を形成する金属より軟質である永久磁石
。
(2)前記第2の保護層を形成する金属がCuまたはS
nであり、前記第1の保護層を形成する金属がNiであ
る上記(1)に記載の永久磁石。
nであり、前記第1の保護層を形成する金属がNiであ
る上記(1)に記載の永久磁石。
(3)上記(1)または(2)に記載の永久磁石の表面
に、第3の保護層を有し、この第3の保護層を形成する
金属が、前記第2の保護層を形成する金属より硬質であ
る永久磁石。
に、第3の保護層を有し、この第3の保護層を形成する
金属が、前記第2の保護層を形成する金属より硬質であ
る永久磁石。
(4)前記第3の保護層を形成する金属が、Niである
上記(3)に記載の永久磁石。
上記(3)に記載の永久磁石。
(5)前記永久磁石体の表面に前記第1の保護層をめっ
きにより設層し、この第1の保護層上に前記第2の保護
層をめっきにより設層した後、この第2の保護層表面に
圧力を印加して、上記(1)または(2)に記載の永久
磁石を得る永久磁石の製造方法。
きにより設層し、この第1の保護層上に前記第2の保護
層をめっきにより設層した後、この第2の保護層表面に
圧力を印加して、上記(1)または(2)に記載の永久
磁石を得る永久磁石の製造方法。
(6)上記(5)に記載の永久磁石の製造方法により上
記(1)または(2)に記載の永久磁石を得、この永久
磁石表面に前記第3の保護層をめっきにより設層して、
上記(3)または(4)に記載の永久磁石を得る永久磁
石の製造方法。
記(1)または(2)に記載の永久磁石を得、この永久
磁石表面に前記第3の保護層をめっきにより設層して、
上記(3)または(4)に記載の永久磁石を得る永久磁
石の製造方法。
(7)前記圧力が、非静的に印加されるものである上記
(5)または(6)に記載の永久磁石の製造方法。
(5)または(6)に記載の永久磁石の製造方法。
なお、本発明において、第1の保護層、第2の保護層お
よび第3の保護層を形成する金属は、相対的に硬質ある
いは軟質であればよいが、好ましくは、下記の性質を有
することが好ましい。
よび第3の保護層を形成する金属は、相対的に硬質ある
いは軟質であればよいが、好ましくは、下記の性質を有
することが好ましい。
すなわち、本発明においてより硬質な金属とは、後述す
るような圧力印加方法(バレル研摩、パフ研摩、ショッ
トピーニング等)によってもほとんど変形を生じないこ
とが好ましく、また、より軟質な金属とは、このような
圧力印加方法により変形を生じることが好ましい。
るような圧力印加方法(バレル研摩、パフ研摩、ショッ
トピーニング等)によってもほとんど変形を生じないこ
とが好ましく、また、より軟質な金属とは、このような
圧力印加方法により変形を生じることが好ましい。
さらに具体的には、めっきにより成膜された金属膜の表
面にはピンホール、スルーホール等が存在するが、上記
圧力印加方法により印加された圧力によりピンホール、
スルーホール等を閉塞することができる程度の硬度を有
する金属を、より軟質な金属として用いることが好まし
い。
面にはピンホール、スルーホール等が存在するが、上記
圧力印加方法により印加された圧力によりピンホール、
スルーホール等を閉塞することができる程度の硬度を有
する金属を、より軟質な金属として用いることが好まし
い。
以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。
上記した組成の永久磁石体表面に設層される保護層は、
永久磁石体に耐食性を付与する機能を有する。
永久磁石体に耐食性を付与する機能を有する。
第1の保護層を形成する金属は、第2の保護層を形成す
る金属よりも硬質であればよく、その組成に特に制限は
ない。
る金属よりも硬質であればよく、その組成に特に制限は
ない。
このような金属としては、第2の保護層を形成する金属
にもよるが、Ni、Go、Cr。
にもよるが、Ni、Go、Cr。
Fe等が好ましく、これらのうち耐食性の高さから、N
i、Co、特にNiを用いることが好ましい、 第1の
保護層は、これらの金属単体から構成されてもよく、ま
た、これらの金属の2種以上を含む合金であってもよい
。
i、Co、特にNiを用いることが好ましい、 第1の
保護層は、これらの金属単体から構成されてもよく、ま
た、これらの金属の2種以上を含む合金であってもよい
。
用いる合金としては、Ni−Co%Ni−Zn、Fe−
Zn、N1−P、N1−B等が好ましく、特にNi合金
が好ましい。
Zn、N1−P、N1−B等が好ましく、特にNi合金
が好ましい。
第1の保護層の厚さは、3〜30μm、より好ましくは
5〜10μm程度であることが好ましい。 厚さが3μ
m未満であると保護層としての機能が不十分であり、ま
た、30μmを超えると、第1の保護層が強磁性材料か
ら形成される場合フラックスロスが大きくなり、その他
の場合、ヨークとのギャップ増大による磁力低下が生じ
る。
5〜10μm程度であることが好ましい。 厚さが3μ
m未満であると保護層としての機能が不十分であり、ま
た、30μmを超えると、第1の保護層が強磁性材料か
ら形成される場合フラックスロスが大きくなり、その他
の場合、ヨークとのギャップ増大による磁力低下が生じ
る。
このような第1の保護層は、めっきにより設層される。
めっきとしては、液相めっきまたは気相めっきを用い
ることが好ましい。
ることが好ましい。
液相めっきとしては、無電解めっきまたは電解めっきを
用いることが好ましい、 無電解めっきまたは電解めっ
きは、通常のめっき法に従えばよい。
用いることが好ましい、 無電解めっきまたは電解めっ
きは、通常のめっき法に従えばよい。
なお、第1の保護層設層前に、永久磁石体表面には前処
理を施すことが好ましい。
理を施すことが好ましい。
前処理は通常のめっきと同様に有機溶剤による脱脂を行
い、次いで、酸処理(活性化)を行うことが好ましい。
い、次いで、酸処理(活性化)を行うことが好ましい。
気相めっきとしては、スパッタ、イオンブレーティング
、真空蒸着等の公知の通常の方法を用いることができる
。
、真空蒸着等の公知の通常の方法を用いることができる
。
第2の保護層を形成する金属は、前記第1の保護層を形
成する金属よりも軟質であればよく、その組成に特に制
限はない、 このような金属としては、第1の保護層を
形成する金属にもよるが、Cu%Sn等が好ましい、
第2の保護層は、これらの金属単体から構成されてもよ
く、また、これらの金属の2種以上を含む合金であって
もよい。
成する金属よりも軟質であればよく、その組成に特に制
限はない、 このような金属としては、第1の保護層を
形成する金属にもよるが、Cu%Sn等が好ましい、
第2の保護層は、これらの金属単体から構成されてもよ
く、また、これらの金属の2種以上を含む合金であって
もよい。
第2の保護層の厚さは、5〜50μm、より好ましくは
10〜30μm程度であることが好ましい、 厚さが5
μm未満であると、後述する圧力印加の際に第2の保護
層の脱落や剥離が生じて被覆が不完全となり易い、 ま
た、50μmを超えると、第1の保護層の説明において
述べたように、磁力の低下が生じる。
10〜30μm程度であることが好ましい、 厚さが5
μm未満であると、後述する圧力印加の際に第2の保護
層の脱落や剥離が生じて被覆が不完全となり易い、 ま
た、50μmを超えると、第1の保護層の説明において
述べたように、磁力の低下が生じる。
このような第2の保護層はめっきにより設層される。
めっきとしては、第1の保護層の説明において述べたよ
うな液相めっき、あるいは気相めっきを用いることが好
ましい。
めっきとしては、第1の保護層の説明において述べたよ
うな液相めっき、あるいは気相めっきを用いることが好
ましい。
さらに詳述するならば、酸化防止の意味から、第1の保
護層を真空中にて行なう気相めっきにより設層し、第2
の保護層を液相めっきにより設層することが好ましい。
護層を真空中にて行なう気相めっきにより設層し、第2
の保護層を液相めっきにより設層することが好ましい。
本発明では、上記第1の保護層および第2の保護層を設
層した後、第2の保護層表面に圧力を印加する。
層した後、第2の保護層表面に圧力を印加する。
第1の保護層は、めっきにより設層されるため、その表
面にピンホール、スルーホールが存在するが、この圧力
の印加により、第1の保護層に存在するピンホール、ス
ルーホールが第2の保’TJMを形成する金属により閉
塞される。
面にピンホール、スルーホールが存在するが、この圧力
の印加により、第1の保護層に存在するピンホール、ス
ルーホールが第2の保’TJMを形成する金属により閉
塞される。
なお、第2の保護層も、めっきにより設層されるためピ
ンホール、スルーホールを有するが、この圧力の印加に
より第2の保護層は変形し、第2の保護層に存在するピ
ンホール、スルーホールも閉塞される。
ンホール、スルーホールを有するが、この圧力の印加に
より第2の保護層は変形し、第2の保護層に存在するピ
ンホール、スルーホールも閉塞される。
印加する圧力は、非静的な圧力であることが好ましい。
非静的な圧力を印加する方法は、第1の保護層のピンホ
ール、スルーホールを、第2の保護層を形成する金属に
より閉塞することが可能であればよ(、その他、特に制
限はないが、生産性が高く実用的であることから、バレ
ル研摩、パフ研摩、ショットピーニングを用いることが
好ましい。
ール、スルーホールを、第2の保護層を形成する金属に
より閉塞することが可能であればよ(、その他、特に制
限はないが、生産性が高く実用的であることから、バレ
ル研摩、パフ研摩、ショットピーニングを用いることが
好ましい。
バレル研摩は、槽の中に被研摩物(本発明の場合、永久
磁石)を遊離または固定状態にして遊離研摩材とともに
装入し、研摩材または被研摩物を運動させることにより
発生する被研摩物と研摩材との間の相対運動により、被
研摩物の研摩を行なうものである。 本発明では、通常
のバレル研摩を用いればよく、バレル研摩の方式、研摩
材の種類等は、保護層を形成する金属の種類あるいは研
摩される永久磁石の寸法、形状等により適当なものを選
択すればよいが、好適な方式としては、例えば、容器中
に永久磁石と研磨材とを入れて容器を回転する方法が挙
げられ、好適な研摩材としては、例えば、プラスチック
ボールが挙げられる。
磁石)を遊離または固定状態にして遊離研摩材とともに
装入し、研摩材または被研摩物を運動させることにより
発生する被研摩物と研摩材との間の相対運動により、被
研摩物の研摩を行なうものである。 本発明では、通常
のバレル研摩を用いればよく、バレル研摩の方式、研摩
材の種類等は、保護層を形成する金属の種類あるいは研
摩される永久磁石の寸法、形状等により適当なものを選
択すればよいが、好適な方式としては、例えば、容器中
に永久磁石と研磨材とを入れて容器を回転する方法が挙
げられ、好適な研摩材としては、例えば、プラスチック
ボールが挙げられる。
パフ研摩は、研摩材の支持体または保持体として、布、
皮革等の柔軟性材料により構成されたパフを用い、高速
度で回転するパフと被研摩物との間に発生する圧力によ
って、被研摩物の表面を研摩するものである。 本発明
では、通常のパフ研摩を用いればよく、パフ研摩の方式
、研摩材の種類等は、保護層を形成する金属の種類ある
いは研摩される永久磁石の寸法、形状等により適当なも
のを選択すればよい。
皮革等の柔軟性材料により構成されたパフを用い、高速
度で回転するパフと被研摩物との間に発生する圧力によ
って、被研摩物の表面を研摩するものである。 本発明
では、通常のパフ研摩を用いればよく、パフ研摩の方式
、研摩材の種類等は、保護層を形成する金属の種類ある
いは研摩される永久磁石の寸法、形状等により適当なも
のを選択すればよい。
ショットピーニングは、吹付加工(ブラスティング)法
の1種であり、吹付ける砥粒トシてほぼ球状のショット
を用いる金属表面加工法である。 本発明では、ショッ
トピーニングを保護層表面への圧力印加に用いるが、本
発明では、通常のショットピーニングを用いればよい、
ショットの種類、ショットピーニング機械の種類等は
、保護層を形成する金属の種類あるいは研摩される永久
磁石の寸法、形状等により適当なものを選択すればよい
が、本発明に好適なショットとしては、例えば、帯電防
止処理を施した樹脂ビーズを用いればよい。
の1種であり、吹付ける砥粒トシてほぼ球状のショット
を用いる金属表面加工法である。 本発明では、ショッ
トピーニングを保護層表面への圧力印加に用いるが、本
発明では、通常のショットピーニングを用いればよい、
ショットの種類、ショットピーニング機械の種類等は
、保護層を形成する金属の種類あるいは研摩される永久
磁石の寸法、形状等により適当なものを選択すればよい
が、本発明に好適なショットとしては、例えば、帯電防
止処理を施した樹脂ビーズを用いればよい。
本発明では、以上のように形成された第1の保護層およ
び第2の保護層からなる保護層上に、第3の保護層を有
してもよい。
び第2の保護層からなる保護層上に、第3の保護層を有
してもよい。
第3の保護層は、めっきにより形成され、第3の保護層
を形成する金属は、第2の保護層を形成する金属よりも
、硬質なものとされる。
を形成する金属は、第2の保護層を形成する金属よりも
、硬質なものとされる。
第3の保護層は、永久磁石のハンドリング時に第2の保
護層が損傷することを防ぐためと、永久磁石により高い
耐食性を付与するために設層されるものであり、その材
質および設層方法としては、第1の保護層の説明におい
て前述したものを用いることが好ましい。
護層が損傷することを防ぐためと、永久磁石により高い
耐食性を付与するために設層されるものであり、その材
質および設層方法としては、第1の保護層の説明におい
て前述したものを用いることが好ましい。
第3の保護層の層厚は、3〜10tLm程度であること
が好ましい。
が好ましい。
上記のようにして保護層が表面に設層される永久磁石体
は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)
、FeおよびB、を含有するものである。
は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)
、FeおよびB、を含有するものである。
R,FeおよびBの含有量は、
5.5at%≦R≦30at%
42at%≦Fe≦90at%
2at%≦B≦28at%
であることが好ましい。
特に、磁石を焼結法により製造する場合、下記の組成で
あることが好ましい。
あることが好ましい。
希土類元素Rとしては、Nd、Pr、Ho、Tbのうち
少なくとも1種、あるいはさらに、La、Sm、Ce%
Gd%Er、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1種以
上を含むものが好ましい。
少なくとも1種、あるいはさらに、La、Sm、Ce%
Gd%Er、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1種以
上を含むものが好ましい。
なお、Rとして2種以上の元素を用いる場合、原料とし
てミツシュメタル等の混合物を用いることもできる。
てミツシュメタル等の混合物を用いることもできる。
Rの含有量は、8〜30at%であることが好ましい。
8at%未満では、結晶構造がα−鉄と同一構造の立方
晶組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、
30at%を超えると、Rリッチな非磁性相が多くなり
、残留磁束密度(Br)が低下する。
晶組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、
30at%を超えると、Rリッチな非磁性相が多くなり
、残留磁束密度(Br)が低下する。
Feの含有量は42〜90at%であることが好ましい
。
。
Feが42at%未満であるとBrが低下し、90at
%を超えるとiHcが低下する。
%を超えるとiHcが低下する。
Bの含有量は、2〜28at%であることが好ましい。
Bが2at%未満であると菱面体組織となるためiHc
が不十分であり、28at%を超えるとBリッチな非磁
性相が多くなるため、Brが低下する。
が不十分であり、28at%を超えるとBリッチな非磁
性相が多くなるため、Brが低下する。
なお、Feの一部をGo−で置換することにより、磁気
特性を損うことなく温度特性を改善することができる。
特性を損うことなく温度特性を改善することができる。
この場合、Co置換量がFeの50%を超大ると磁気
特性が劣化するため、Co置換量は50%以下とするこ
とが好ましい。
特性が劣化するため、Co置換量は50%以下とするこ
とが好ましい。
また、R,FeおよびBの他、不可避的不純物としてN
i、Si、A1.Cu、Ca等が全体の3at%以下含
有されていてもよい。
i、Si、A1.Cu、Ca等が全体の3at%以下含
有されていてもよい。
さらに、Bの一部を、C,P、S、Cuのうちの1種以
上で置換することにより、生産性の向上および低コスト
化が実現できる。 この場合、置換量は全体の4at%
以下であることが好ましい。
上で置換することにより、生産性の向上および低コスト
化が実現できる。 この場合、置換量は全体の4at%
以下であることが好ましい。
また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のため
に、Ag、Ti、■、Cr、Mn、B i、Nb、Ta
、Mo、W、Sb%Ge、Sn、Zr、Ni、Si、H
f等の1種以上を添加してもよい、 この場合、添加量
は総計で10at%以下とすることが好ましい。
に、Ag、Ti、■、Cr、Mn、B i、Nb、Ta
、Mo、W、Sb%Ge、Sn、Zr、Ni、Si、H
f等の1種以上を添加してもよい、 この場合、添加量
は総計で10at%以下とすることが好ましい。
本発明に用いるこのような永久磁石体は、実質的に正方
晶系の結晶構造の主相を有する。
晶系の結晶構造の主相を有する。
この主相の粒径は、1〜100μm程度であることが好
ましい。
ましい。
そして、通常、体積比で1〜50%の非磁性相を含むも
のである。
のである。
本発明に好適に用いられるこのような永久磁石体は、前
述した特開昭61−185910号公報等に開示されて
いる。
述した特開昭61−185910号公報等に開示されて
いる。
上記のような永久磁石体は、以下に述べるような焼結法
により製造されることが好ましい。
により製造されることが好ましい。
まず、所望の組成の合金を鋳造し、インゴットを得る。
得られたインゴットを、スタンプミル等により粒径lO
〜100μm程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル、ス
タンプミル等により−0,5〜5μm程度の粒径に微粉
砕する。
〜100μm程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル、ス
タンプミル等により−0,5〜5μm程度の粒径に微粉
砕する。
得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成形する。 こ
の場合、磁場強度は10kOe以上、成形圧力は1〜5
t / c m ”程度であることが好ましい。
の場合、磁場強度は10kOe以上、成形圧力は1〜5
t / c m ”程度であることが好ましい。
得られた成形体を、1000〜1200℃で0.5〜5
時間焼結し、急冷する。 なお、焼結雰囲気は、Arガ
ス等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
時間焼結し、急冷する。 なお、焼結雰囲気は、Arガ
ス等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で、500〜9
00℃にて1〜5時間時効処理を行なう。
00℃にて1〜5時間時効処理を行なう。
なお、本発明は、上記の焼結法により製造される永久磁
石体に限らず、いわゆる急冷法により製造されるバルク
体磁石にも好適に適用することができる。
石体に限らず、いわゆる急冷法により製造されるバルク
体磁石にも好適に適用することができる。
急冷法により製造されるバルク体磁石であって、特に磁
気特性に優れ、本発明に好適に用いられる永久磁石は、
特願昭62−90709号、同62−191380号、
同62−259373号等に開示されている。
気特性に優れ、本発明に好適に用いられる永久磁石は、
特願昭62−90709号、同62−191380号、
同62−259373号等に開示されている。
〈実施例〉
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
[実施例1]
鋳造によりl 4Nd−I Dy−7B−78Fe(数
字は原子比)の組成のインゴットを得た。
字は原子比)の組成のインゴットを得た。
このインゴットをスタンプミルにより粗粉砕後、ボール
ミルにより微粉砕し、平均粒径3.5μmの合金粉末を
得た。
ミルにより微粉砕し、平均粒径3.5μmの合金粉末を
得た。
この合金粉末を12kOeの磁場中にて1.5 t/c
m”の圧力で成形し、成形体を得た。
m”の圧力で成形し、成形体を得た。
この成形体を、Ar雰囲気中で1100℃、1時間加熱
後、急冷し、焼結体を得た。
後、急冷し、焼結体を得た。
得られた焼結体を、Ar雰囲気中で600℃にて2時間
時効処理を施し、永久磁石を得た。
時効処理を施し、永久磁石を得た。
この永久磁石から1010X10X20の磁石片を切り
出し、永久磁石体とした。
出し、永久磁石体とした。
この永久磁石体の表面に、第1の保護層としてNiを、
第2の保護層としてCuあるいはSnを電解めっきによ
り順次設層した。
第2の保護層としてCuあるいはSnを電解めっきによ
り順次設層した。
これら保護層を形成する金属および保護層層厚を表1に
示す。
示す。
° 次いで、第2の保護層表面に、表1に示す圧力印
加方法により圧力を印加し、本発明の永久磁石サンプル
を得た。 なお、圧力印加方法の詳細を、下記に示す。
加方法により圧力を印加し、本発明の永久磁石サンプル
を得た。 なお、圧力印加方法の詳細を、下記に示す。
(バレル研摩)
振動バレル研磨装置を用い、保護層が設層された永久磁
石体と、メディア(五角錐型プラスチックメディア)、
水およびコンパウンドとを充填し、30分間バレル研磨
を行なった。
石体と、メディア(五角錐型プラスチックメディア)、
水およびコンパウンドとを充填し、30分間バレル研磨
を行なった。
(パフ研摩)
サイザルパフおよび綿パフ研磨を用い、パフ研磨材は、
固形状のトリポリを使用した。 また、回転数は、2
200〜3200rpmとした。
固形状のトリポリを使用した。 また、回転数は、2
200〜3200rpmとした。
(ショットピーニング)
保護層が設層された永久磁石体を回転バレル中で動かし
ながらプラスチック性ビーズを吹付けた。 ビーズは直
径0.1mmのものを用い、処理時間は1時間とした。
ながらプラスチック性ビーズを吹付けた。 ビーズは直
径0.1mmのものを用い、処理時間は1時間とした。
これらのサンプルについて、下記の耐食性試験を行なっ
た。
た。
(耐食性試験)
35℃・5%NaCρ溶液を用い、240時間塩水噴霧
試験を行なった。 この後、磁気特性を測定し、外観の
変化も観察した。 結果を表1に示す。
試験を行なった。 この後、磁気特性を測定し、外観の
変化も観察した。 結果を表1に示す。
[実施例2]
実施例1で得られたサンプルNo、1の第2の保護層上
に、第3の保護層を設層し、サンプルN007を得た。
に、第3の保護層を設層し、サンプルN007を得た。
第3の保護層を形成する金属、保護層設層方法、保護層
層厚を、表1に示す。
層厚を、表1に示す。
また、第2の保護層設層後に圧力を印加しないサンプル
No、8も作製した。
No、8も作製した。
これらのサンプルに対し、実施例1と同様な耐食性試験
を行なった。
を行なった。
結果を表1に示す。
[比較例1]
第1の保護層のみからなる保護層を有するサンプルNo
、9および10を作製した。
、9および10を作製した。
なお、これらのサンプルにおいて、その他の条件は実施
例1で得られたサンプルNo、1と同じである。
例1で得られたサンプルNo、1と同じである。
これらのサンプルに対し、実施例1と同様な耐食性試験
を行なった。
を行なった。
結果を表1に示す、 なお、耐食性試験前の磁気特性を
、サンプルNo、Oとして表1に併記する。
、サンプルNo、Oとして表1に併記する。
なお、上記各実施例および比較例で作製したサンプルの
保護層表面を走査型電子顕微鏡により観察した結果、サ
ンプルN008〜10の保護層表面にはピンホールが観
察されたが、サンプルNo、1〜7の保護層表面には、
ピンホールは観察されなかった。
保護層表面を走査型電子顕微鏡により観察した結果、サ
ンプルN008〜10の保護層表面にはピンホールが観
察されたが、サンプルNo、1〜7の保護層表面には、
ピンホールは観察されなかった。
以上の実施例から、本発明の効果が明らかである。
〈発明の作用効果〉
本発明では、永久磁石体の表面に、第1の保護層と、こ
の第1の保護層を形成する金属より軟質である金属から
形成される第2の保護層を順次設層した後、第2の保護
層表面に圧力を印加する。
の第1の保護層を形成する金属より軟質である金属から
形成される第2の保護層を順次設層した後、第2の保護
層表面に圧力を印加する。
第1の保護層は、めっきにより設層されるため、その表
面にピンホール、スルーホールが存在するが、この圧力
の印加により第2の保護層は変形し、第1の保護層に存
在するピンホール、スルーホールを閉塞する。 このと
き、第2の保護層より硬質である金属から形成される第
1の保護層は圧力の印加によっても変形せず、第1の保
護層の耐食性は良好に保たれる。
面にピンホール、スルーホールが存在するが、この圧力
の印加により第2の保護層は変形し、第1の保護層に存
在するピンホール、スルーホールを閉塞する。 このと
き、第2の保護層より硬質である金属から形成される第
1の保護層は圧力の印加によっても変形せず、第1の保
護層の耐食性は良好に保たれる。
なお、第2の保護層も、めっきにより設層されるためピ
ンホール、スルーホールを有するが、この圧力の印加に
よる第2の保護層の変形により、第2の保護層に存在す
るピンホール、スルーホールも閉塞され、保護層全体の
耐食性は、−層内上する。
ンホール、スルーホールを有するが、この圧力の印加に
よる第2の保護層の変形により、第2の保護層に存在す
るピンホール、スルーホールも閉塞され、保護層全体の
耐食性は、−層内上する。
また、第2の保護層上に、第2の保護層を形成する金属
より硬質である金属から形成される第3の保護層を形成
すれば、耐食性がさらに向上し、しかも、比較的軟質な
金属から形成される第2の保護層の損傷を防ぐことがで
き、信頼性が向上する。
より硬質である金属から形成される第3の保護層を形成
すれば、耐食性がさらに向上し、しかも、比較的軟質な
金属から形成される第2の保護層の損傷を防ぐことがで
き、信頼性が向上する。
Claims (7)
- (1)R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上
)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相を
有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であっ
て、 前記保護層が前記永久磁石体表面に設層された第1の保
護層と、この第1の保護層上に設層された第2の保護層
とから構成され、前記第2の保護層を形成する金属が前
記第1の保護層を形成する金属より軟質である永久磁石
。 - (2)前記第2の保護層を形成する金属がCuまたはS
nであり、前記第1の保護層を形成する金属がNiであ
る請求項1に記載の永久磁石。 - (3)請求項1または2に記載の永久磁石の表面に、第
3の保護層を有し、この第3の保護層を形成する金属が
、前記第2の保護層を形成する金属より硬質である永久
磁石。 - (4)前記第3の保護層を形成する金属が、Niである
請求項3に記載の永久磁石。 - (5)前記永久磁石体の表面に前記第1の保護層をめっ
きにより設層し、この第1の保護層上に前記第2の保護
層をめっきにより設層した後、この第2の保護層表面に
圧力を印加して、請求項1または2に記載の永久磁石を
得る永久磁石の製造方法。 - (6)請求項5に記載の永久磁石の製造方法により請求
項1または2に記載の永久磁石を得、この永久磁石表面
に前記第3の保護層をめっきにより設層して、請求項3
または4に記載の永久磁石を得る永久磁石の製造方法。 - (7)前記圧力が、非静的に印加されるものである請求
項5または6に記載の永久磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63154299A JP2686537B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 永久磁石およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63154299A JP2686537B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 永久磁石およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01321610A true JPH01321610A (ja) | 1989-12-27 |
| JP2686537B2 JP2686537B2 (ja) | 1997-12-08 |
Family
ID=15581096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63154299A Expired - Lifetime JP2686537B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 永久磁石およびその製造方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2686537B2 (ja) |
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2006508708A (ja) * | 2002-09-06 | 2006-03-16 | アプネオン, インコーポレイテッド | 咽頭導管内の組織崩壊に抵抗する磁力デバイス、システム、および方法 |
| JP2007273556A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tdk Corp | 磁石 |
| JP2007273503A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tdk Corp | 磁石およびその製造方法 |
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- 1988-06-22 JP JP63154299A patent/JP2686537B2/ja not_active Expired - Lifetime
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