JPH0134107B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0134107B2 JPH0134107B2 JP60015446A JP1544685A JPH0134107B2 JP H0134107 B2 JPH0134107 B2 JP H0134107B2 JP 60015446 A JP60015446 A JP 60015446A JP 1544685 A JP1544685 A JP 1544685A JP H0134107 B2 JPH0134107 B2 JP H0134107B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- liquid level
- liquid
- holding tank
- steam cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各種光学・電子部品、治具、製品な
どの洗浄に用いられる蒸気洗浄装置に関するもの
である。
どの洗浄に用いられる蒸気洗浄装置に関するもの
である。
従来この種の装置としては、例えば第6図に示
すようなものがあつた。これは、超音波洗浄装置
に組合せた例であり、フロン等の気化しやすい液
体を入れた蒸気洗浄槽1と超音波洗浄槽2とが隣
接して配置されている。蒸気洗浄槽1中の液は、
底部に設けられた加熱器3によつて加熱されて沸
騰し、蒸気を発生する。蒸気は、上部の凝縮コイ
ル4で冷やされて液化し、水分離器5において水
を除去された後、超音波洗浄槽2に入る。超音波
洗浄槽2からあふれた液は蒸気洗浄槽1に戻る。
すようなものがあつた。これは、超音波洗浄装置
に組合せた例であり、フロン等の気化しやすい液
体を入れた蒸気洗浄槽1と超音波洗浄槽2とが隣
接して配置されている。蒸気洗浄槽1中の液は、
底部に設けられた加熱器3によつて加熱されて沸
騰し、蒸気を発生する。蒸気は、上部の凝縮コイ
ル4で冷やされて液化し、水分離器5において水
を除去された後、超音波洗浄槽2に入る。超音波
洗浄槽2からあふれた液は蒸気洗浄槽1に戻る。
被洗浄物6は、超音波洗浄槽2で、振動子7の
発生する超音波振動により洗浄された後、蒸気洗
浄槽1の蒸気内に置かれ、表面に凝縮した洗浄液
によつて洗浄される。その後、凝縮コイル4の部
分に形成されているベーパーライン8の上に取り
出されて乾燥され、一連の洗浄工程を終了する。
発生する超音波振動により洗浄された後、蒸気洗
浄槽1の蒸気内に置かれ、表面に凝縮した洗浄液
によつて洗浄される。その後、凝縮コイル4の部
分に形成されているベーパーライン8の上に取り
出されて乾燥され、一連の洗浄工程を終了する。
しかしながら、このような従来の蒸気洗浄装置
では、液の消耗により蒸気洗浄槽1の液面が低下
してくると、加熱器3が空焚き状態となり、装置
を損傷するおそれがあつた。あるいはまた、未然
に蒸気洗浄槽1内に液を補給してこのような事態
を避けたとしても、今度は液温が下がり、それが
沸点に達するまでの間は洗浄ができず稼動率が低
下するという問題があつた。
では、液の消耗により蒸気洗浄槽1の液面が低下
してくると、加熱器3が空焚き状態となり、装置
を損傷するおそれがあつた。あるいはまた、未然
に蒸気洗浄槽1内に液を補給してこのような事態
を避けたとしても、今度は液温が下がり、それが
沸点に達するまでの間は洗浄ができず稼動率が低
下するという問題があつた。
このような問題点を解決するために、本発明
は、液体が槽内に供給し続けられたときオーバー
フローしてその液位を一定に保持する液面保持槽
と、上記液位より下方の開口部で蒸気洗浄槽と互
いに連通する手段と、液面保持槽のオーバーフロ
ーした液体を貯蔵する補助槽と、補助槽の液体を
液面保持槽に連続して供給する手段とを設けたも
のである。
は、液体が槽内に供給し続けられたときオーバー
フローしてその液位を一定に保持する液面保持槽
と、上記液位より下方の開口部で蒸気洗浄槽と互
いに連通する手段と、液面保持槽のオーバーフロ
ーした液体を貯蔵する補助槽と、補助槽の液体を
液面保持槽に連続して供給する手段とを設けたも
のである。
連通管の原理により蒸気洗浄槽の液位は、常に
液面保持槽の液位と等しく、つまり一定に保たれ
る。
液面保持槽の液位と等しく、つまり一定に保たれ
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図であ
り、蒸気洗浄槽1中の液体、例えばフロンが電気
ヒータからなる加熱器3により加熱されて気化
し、上部の凝縮コイル4で冷やされて再び液化
し、水分離器5を介して超音波洗浄槽2に入る経
路、および被洗浄物6を、振動子7の発生する超
音波振動により洗浄した後、蒸気洗浄し乾燥する
手順は従来と全く同様である。
り、蒸気洗浄槽1中の液体、例えばフロンが電気
ヒータからなる加熱器3により加熱されて気化
し、上部の凝縮コイル4で冷やされて再び液化
し、水分離器5を介して超音波洗浄槽2に入る経
路、および被洗浄物6を、振動子7の発生する超
音波振動により洗浄した後、蒸気洗浄し乾燥する
手順は従来と全く同様である。
しかし、本実施例ではこれらの他に、さらに凝
縮した液を貯蔵する補助槽11と、ポンプ12を
介してこの補助槽11に連結された液面保持槽1
3が設けてあり、超音波洗浄槽2からあふれた液
は配管14を通し、フイルタ15により汚染物質
を除去された後補助槽11に入る。補助槽11に
たまつた液は、ポンプ12により配管16を通し
て液面保持槽13に送られる。液面保持槽13に
たまつた液は、第2図に示したような側壁131
からオーバーフローすると、配管17を通して補
助槽11に戻る。
縮した液を貯蔵する補助槽11と、ポンプ12を
介してこの補助槽11に連結された液面保持槽1
3が設けてあり、超音波洗浄槽2からあふれた液
は配管14を通し、フイルタ15により汚染物質
を除去された後補助槽11に入る。補助槽11に
たまつた液は、ポンプ12により配管16を通し
て液面保持槽13に送られる。液面保持槽13に
たまつた液は、第2図に示したような側壁131
からオーバーフローすると、配管17を通して補
助槽11に戻る。
したがつて、液面保持槽13の液位は側壁13
1の高さに等しくなる。一方、蒸気洗浄槽1は、
底部に開口した配管18を介して液面保持槽13
に連通しているため、その液位は連通管の原理に
より常に液面保持槽13の液位に等しくなる。な
お、このような循環利用を行なつてもなお生ずる
液の消耗については、補助槽11に対し、図示し
ない供給源からバルブ19を介して随時補給が行
なわれる。
1の高さに等しくなる。一方、蒸気洗浄槽1は、
底部に開口した配管18を介して液面保持槽13
に連通しているため、その液位は連通管の原理に
より常に液面保持槽13の液位に等しくなる。な
お、このような循環利用を行なつてもなお生ずる
液の消耗については、補助槽11に対し、図示し
ない供給源からバルブ19を介して随時補給が行
なわれる。
第3図は本発明の他の実施例を示す構成図であ
る。基本的には上述した実施例と変わるところは
ないが、本実施例では超音波洗浄槽2と蒸気洗浄
槽1との間に補助槽11Aを配置し、超音波洗浄
槽2からあふれた液を直接この補助槽11Aに受
けている。
る。基本的には上述した実施例と変わるところは
ないが、本実施例では超音波洗浄槽2と蒸気洗浄
槽1との間に補助槽11Aを配置し、超音波洗浄
槽2からあふれた液を直接この補助槽11Aに受
けている。
さらに、超音波洗浄槽2自体を、補助槽として
兼用することも可能である。
兼用することも可能である。
上述した実施例では、液面保持槽13の液位を
一定に保持する手段として、側壁131からのオ
ーバーフローを利用したが、第4図および第5図
に示すように、オーバーフローした液を補助槽1
1に戻す配管17Aの開口部を一定の高さまで上
げて、これによるオーバーフローを利用した液面
保持槽13Aとしてもよい。なお、本実施例では
ポンプ12の吐出側にもフイルタ20を設けてい
るが、このようなフイルタは配管中のどこに配し
てもよい。
一定に保持する手段として、側壁131からのオ
ーバーフローを利用したが、第4図および第5図
に示すように、オーバーフローした液を補助槽1
1に戻す配管17Aの開口部を一定の高さまで上
げて、これによるオーバーフローを利用した液面
保持槽13Aとしてもよい。なお、本実施例では
ポンプ12の吐出側にもフイルタ20を設けてい
るが、このようなフイルタは配管中のどこに配し
てもよい。
以上説明した実施例においては、いずれも補助
槽から液面保持槽へは、ポンプ12により常時連
続的に液を供給し、液面保持槽でオーバーフロー
した液を配管を通じて補助槽に戻すことで液面保
持槽の液位と蒸気洗浄槽の液位とを等しくし一定
に保つている。このため、上述の実施例では、構
成が非常に簡単になり、また、温度の低い液が液
面保持槽13,13Aから配管18を経て蒸気洗
浄槽1に入つてその液温を著しく低下させるよう
なことはなくなり、被洗浄物に対する洗浄効果を
安定化することができる。
槽から液面保持槽へは、ポンプ12により常時連
続的に液を供給し、液面保持槽でオーバーフロー
した液を配管を通じて補助槽に戻すことで液面保
持槽の液位と蒸気洗浄槽の液位とを等しくし一定
に保つている。このため、上述の実施例では、構
成が非常に簡単になり、また、温度の低い液が液
面保持槽13,13Aから配管18を経て蒸気洗
浄槽1に入つてその液温を著しく低下させるよう
なことはなくなり、被洗浄物に対する洗浄効果を
安定化することができる。
なお、加熱器3は、電気ヒータに限らず、例え
ば熱水循環コイル等であつてもよい。また、洗浄
液は、フロンに限らず、トリクロルエチレン、ア
セトン、キシレン、アルコール等、通常蒸気洗浄
に用いられる液であれば特に限定されない。
ば熱水循環コイル等であつてもよい。また、洗浄
液は、フロンに限らず、トリクロルエチレン、ア
セトン、キシレン、アルコール等、通常蒸気洗浄
に用いられる液であれば特に限定されない。
また、以上、超音波洗浄装置に組合せた例につ
いて説明したが、超音波洗浄装置以外の洗浄装
置、例えばスクラム洗浄や噴出洗浄に組合せても
よく、もちろん単独で用いてもよい。
いて説明したが、超音波洗浄装置以外の洗浄装
置、例えばスクラム洗浄や噴出洗浄に組合せても
よく、もちろん単独で用いてもよい。
以上説明したように、本発明によれば、洗浄液
を収容しかつ補助槽から連続的に供給される液の
オーバーフローによりその液位を常時一定に保持
する液面保持槽を設け、この液面保持槽と蒸気洗
浄槽を連通して蒸気洗浄槽の液位を一定に保持す
るように構成したことにより、簡単な構成により
蒸気洗浄槽は常に適正な液位を維持でき、このた
めに空焚きによる損傷や急激な液の補充による稼
動率の低下を回避することができるとともに、被
洗浄物に対する洗浄効果を安定化することができ
る。
を収容しかつ補助槽から連続的に供給される液の
オーバーフローによりその液位を常時一定に保持
する液面保持槽を設け、この液面保持槽と蒸気洗
浄槽を連通して蒸気洗浄槽の液位を一定に保持す
るように構成したことにより、簡単な構成により
蒸気洗浄槽は常に適正な液位を維持でき、このた
めに空焚きによる損傷や急激な液の補充による稼
動率の低下を回避することができるとともに、被
洗浄物に対する洗浄効果を安定化することができ
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2
図は液面保持槽を示す平面図、第3図は本発明の
他の実施例を示す構成図、第4図は本発明のさら
に他の実施例を示す構成図、第5図は液面保持槽
を示す斜視図、第6図は従来例を示す構成図であ
る。 1……蒸気洗浄槽、2……超音波洗浄槽、3…
…加熱器、4……凝縮コイル、6……被洗浄物、
8……ベーパーライン、11,11A……補助
槽、12……ポンプ、13,13A……液面保持
槽、14,16,17,17A,18……配管、
131……側壁。
図は液面保持槽を示す平面図、第3図は本発明の
他の実施例を示す構成図、第4図は本発明のさら
に他の実施例を示す構成図、第5図は液面保持槽
を示す斜視図、第6図は従来例を示す構成図であ
る。 1……蒸気洗浄槽、2……超音波洗浄槽、3…
…加熱器、4……凝縮コイル、6……被洗浄物、
8……ベーパーライン、11,11A……補助
槽、12……ポンプ、13,13A……液面保持
槽、14,16,17,17A,18……配管、
131……側壁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 加熱により気化しその蒸気で被洗浄物を洗浄
する液体を収容した蒸気洗浄槽と、 上記液体を収容し、この液体が槽内に供給し続
けられたときオーバーフローしてその液位を一定
に保持する液面保持槽と、 上記液面保持槽の上記液位より下方の開口部と
上記蒸気洗浄槽の上記液位より下方の開口部を連
通する手段と、 上記液面保持槽のオーバーフローした液体を貯
蔵する補助槽と、 上記補助槽の液体を上記液面保持槽に連続して
供給する手段と を含むことを特徴とする蒸気洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1544685A JPS61174982A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 蒸気洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1544685A JPS61174982A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 蒸気洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61174982A JPS61174982A (ja) | 1986-08-06 |
| JPH0134107B2 true JPH0134107B2 (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=11889031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1544685A Granted JPS61174982A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 蒸気洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61174982A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5105556A (en) * | 1987-08-12 | 1992-04-21 | Hitachi, Ltd. | Vapor washing process and apparatus |
| JP2007267891A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Samii Kk | 遊技機用の電飾装置 |
| JP7120592B2 (ja) * | 2017-12-15 | 2022-08-17 | 株式会社クリンビー | 真空蒸気洗浄方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5333419Y2 (ja) * | 1973-11-26 | 1978-08-17 | ||
| JPS59119064U (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-11 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 自動洗浄装置 |
-
1985
- 1985-01-31 JP JP1544685A patent/JPS61174982A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61174982A (ja) | 1986-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |