JPH0136246Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0136246Y2 JPH0136246Y2 JP9634683U JP9634683U JPH0136246Y2 JP H0136246 Y2 JPH0136246 Y2 JP H0136246Y2 JP 9634683 U JP9634683 U JP 9634683U JP 9634683 U JP9634683 U JP 9634683U JP H0136246 Y2 JPH0136246 Y2 JP H0136246Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die
- varnish
- wire
- coated
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高濃度、高粘度の電線用ワニスからも
均一な塗膜を得ることができる電線用ワニス塗布
装置に関するものである。。
均一な塗膜を得ることができる電線用ワニス塗布
装置に関するものである。。
(背景技術)
従来第1図のように、内部にワニス絞り孔2を
有するフローテイングダイス1と、このダイスの
上方に適当な間隔を設けて配備されたダイススト
ツパ3とからなるダイス浮動式の電線用ワニス塗
布装置が知られていた。この装置は、ワニス浴
9、ダイス台5の孔6、ダイスのワニス絞り孔
2、ダイスストツパの塗布電線取出孔4を順次通
過させて被塗布電線8を引上げる際、ワニス絞り
孔における抵抗に起因してダイスに作用する持上
げ力とダイスの自重とを均衡させて、ダイス1を
フロート状態に保持し、フロート状態におけるダ
イスの自由な運動を維持しつつワニス塗膜を形成
するものである。ダイスの自重よりも引上げ時の
抵抗が大きくてダイスが持上げられ、ダイススト
ツパに衝突した状態になると、被塗布電線の振れ
や局部的曲がりなどに起因して、得られるワニス
塗膜が偏肉的なものとなり、均一な塗膜が形成さ
れない。したがつて、このダイス浮動方式では、
ワニス上におけるダイスのフロート状態としての
自由な運動を維持させる必要がある。そのため、
ワニスが高濃度、高粘度であるなど引上げ時の抵
抗がダイスの自重よりも大きくてダイスが持上げ
られる場合には、ワニスに溶剤を加えたり、ワニ
ス浴の温度を高めたりみてワニスの粘度を低下さ
せ、また被塗布電線の引上げ速度を下げて抵抗を
低下させるなどの必要が生じ、その措置に伴う溶
剤所要量、加熱エネルギー所要量の増大、塗布速
度の低下などの欠点もさりながら、ワニスのポツ
トライフや経時変化に対応させてワニス浴などを
制御しなければならないため、その工程管理が複
雑であるなどの欠点があつた。
有するフローテイングダイス1と、このダイスの
上方に適当な間隔を設けて配備されたダイススト
ツパ3とからなるダイス浮動式の電線用ワニス塗
布装置が知られていた。この装置は、ワニス浴
9、ダイス台5の孔6、ダイスのワニス絞り孔
2、ダイスストツパの塗布電線取出孔4を順次通
過させて被塗布電線8を引上げる際、ワニス絞り
孔における抵抗に起因してダイスに作用する持上
げ力とダイスの自重とを均衡させて、ダイス1を
フロート状態に保持し、フロート状態におけるダ
イスの自由な運動を維持しつつワニス塗膜を形成
するものである。ダイスの自重よりも引上げ時の
抵抗が大きくてダイスが持上げられ、ダイススト
ツパに衝突した状態になると、被塗布電線の振れ
や局部的曲がりなどに起因して、得られるワニス
塗膜が偏肉的なものとなり、均一な塗膜が形成さ
れない。したがつて、このダイス浮動方式では、
ワニス上におけるダイスのフロート状態としての
自由な運動を維持させる必要がある。そのため、
ワニスが高濃度、高粘度であるなど引上げ時の抵
抗がダイスの自重よりも大きくてダイスが持上げ
られる場合には、ワニスに溶剤を加えたり、ワニ
ス浴の温度を高めたりみてワニスの粘度を低下さ
せ、また被塗布電線の引上げ速度を下げて抵抗を
低下させるなどの必要が生じ、その措置に伴う溶
剤所要量、加熱エネルギー所要量の増大、塗布速
度の低下などの欠点もさりながら、ワニスのポツ
トライフや経時変化に対応させてワニス浴などを
制御しなければならないため、その工程管理が複
雑であるなどの欠点があつた。
(考案の開示)
本考案は、上記の欠点を克服し、ワニス特性、
塗布速度条件等に関し広範な塗布条件下で適用可
能な電線用ワニス塗布装置を提供するものであ
る。
塗布速度条件等に関し広範な塗布条件下で適用可
能な電線用ワニス塗布装置を提供するものであ
る。
すなわち、本考案の装置は第2図に例示したよ
うに、上面18が球面状ないし円錐状の曲率半径
を有するフランジ状のスカート部17と頭部19
からなり、内部にワニス絞り孔20を有する電線
ワニス塗布用のダイス16(第3図)の頭部を介
在させ、スカート部の上面と接触してダイスを保
持する一対の突出ピン10を固着するダイスホル
ダ11及びこのダイスホルダを回動自在に軸支す
る支持体14から形成されている。
うに、上面18が球面状ないし円錐状の曲率半径
を有するフランジ状のスカート部17と頭部19
からなり、内部にワニス絞り孔20を有する電線
ワニス塗布用のダイス16(第3図)の頭部を介
在させ、スカート部の上面と接触してダイスを保
持する一対の突出ピン10を固着するダイスホル
ダ11及びこのダイスホルダを回動自在に軸支す
る支持体14から形成されている。
第2図の実施例におけるダイスホルダ11は通
常、ワニス浴(図示せず)の上方に配備される板
状の支持体14にベアリング13を介してピン1
2により軸支されており、水平方向に回動自在と
なつている。また、ダイスホルダは支持体平面と
平行に一対の突出ピン10ご固着しており、、ピ
ンは被塗布電線8の方向に向つて突出している。
一対の突出ピンの間隔は、用いるダイス16の頭
部の最大径部より大きく、スカート部の外径より
小さい。ダイスは、この一対の突出ピンの間にそ
の頭部を入れ、スカート部の上面18を突出ピン
に接触させた状態でダイスホルダに保持される。
なお、上記の実施例においては、ダイスホルダが
回動運動に加えて、支持体上を移行運動できるよ
うに案内溝15が設けてある。もちろん、この移
行運動手段は、本考案に必須のものでない。
常、ワニス浴(図示せず)の上方に配備される板
状の支持体14にベアリング13を介してピン1
2により軸支されており、水平方向に回動自在と
なつている。また、ダイスホルダは支持体平面と
平行に一対の突出ピン10ご固着しており、、ピ
ンは被塗布電線8の方向に向つて突出している。
一対の突出ピンの間隔は、用いるダイス16の頭
部の最大径部より大きく、スカート部の外径より
小さい。ダイスは、この一対の突出ピンの間にそ
の頭部を入れ、スカート部の上面18を突出ピン
に接触させた状態でダイスホルダに保持される。
なお、上記の実施例においては、ダイスホルダが
回動運動に加えて、支持体上を移行運動できるよ
うに案内溝15が設けてある。もちろん、この移
行運動手段は、本考案に必須のものでない。
一方、本考案において用いられるダイス16
は、第3図のように、頭部19とスカート部17
と内部のワニス絞り孔20からなつている。スカ
ート部は、一対の突出ピンによつて係止されるよ
うにフランジ状となつている。スカート部の上面
18は、球面状ないし円錐状の曲率半径を有して
おり、突出ピンと点的に接触するようになつてい
る。。これによりダイスは、保持された状態で被
塗布電線の振れや局部的曲がりに対応して運動す
ることができるので、該振れ等に起因する塗膜の
偏肉化が防止される。本考案においては、ワニス
浴を出てワニスを付着した被塗布電線がワニス絞
り孔に導入され通過する際の抵抗に基づくダイス
の持上げ力によつて持上げられるダイスが用いら
れる。すなわち、ダイスの自重が該持上げ力より
も小さいものが用いられる。。
は、第3図のように、頭部19とスカート部17
と内部のワニス絞り孔20からなつている。スカ
ート部は、一対の突出ピンによつて係止されるよ
うにフランジ状となつている。スカート部の上面
18は、球面状ないし円錐状の曲率半径を有して
おり、突出ピンと点的に接触するようになつてい
る。。これによりダイスは、保持された状態で被
塗布電線の振れや局部的曲がりに対応して運動す
ることができるので、該振れ等に起因する塗膜の
偏肉化が防止される。本考案においては、ワニス
浴を出てワニスを付着した被塗布電線がワニス絞
り孔に導入され通過する際の抵抗に基づくダイス
の持上げ力によつて持上げられるダイスが用いら
れる。すなわち、ダイスの自重が該持上げ力より
も小さいものが用いられる。。
本考案の装置を用いての電線絶縁塗膜の形成
は、ワニス浴から出た被塗布電線を、所望により
ダイス台の孔を介してワニス絞り孔に導入し、こ
れを通過させるに際して突出ピン間に位置させる
ことにより行われる。ワニスを付着した被塗布電
線がワニス絞り孔に導入されるとダイスが持上げ
られ、まずダイスの頭部が突出ピン間に入り、つ
いでスカート部の上面が突出ピンに衝突して止ま
る。この際、ダイスは被塗布電線の動きに従つて
持上げられるので、ダイスのワニス絞り孔が被塗
布電線の引上げ方向と同心状態で移動し、その状
態のままダイスが突出ピンに保持される。その
後、抵抗による該持上げ力に基づいてダイスのス
カート部と突出ピンとの接触状態が維持され、ダ
イスは保持しつづけられる。この間、被塗布電線
の引上げ位置が移動した場合には、ダイスホルダ
が回動してダイスがその移動に随伴ち、被塗布電
線の引上げ方向とワニス絞り孔との同心的関係が
維持されるので、塗膜の偏肉化が防止される。
は、ワニス浴から出た被塗布電線を、所望により
ダイス台の孔を介してワニス絞り孔に導入し、こ
れを通過させるに際して突出ピン間に位置させる
ことにより行われる。ワニスを付着した被塗布電
線がワニス絞り孔に導入されるとダイスが持上げ
られ、まずダイスの頭部が突出ピン間に入り、つ
いでスカート部の上面が突出ピンに衝突して止ま
る。この際、ダイスは被塗布電線の動きに従つて
持上げられるので、ダイスのワニス絞り孔が被塗
布電線の引上げ方向と同心状態で移動し、その状
態のままダイスが突出ピンに保持される。その
後、抵抗による該持上げ力に基づいてダイスのス
カート部と突出ピンとの接触状態が維持され、ダ
イスは保持しつづけられる。この間、被塗布電線
の引上げ位置が移動した場合には、ダイスホルダ
が回動してダイスがその移動に随伴ち、被塗布電
線の引上げ方向とワニス絞り孔との同心的関係が
維持されるので、塗膜の偏肉化が防止される。
本考案の装置によれば、ダイスホルダに保持さ
れたダイスが被塗布電線の状態変化に対応して変
化するので、塗膜の偏肉化が防止さ、均一な塗膜
を形成することができる。また、ダイスはダイス
ホルダに保持されているので、ワニスが変つても
粘度変化に左右されず、比較的低濃度、低粘度の
ワニスから高濃度、高粘度のワニスまで広範囲の
ものに適用することができ、高速度の塗膜形成も
可能であり簡単な工程管理で効率的に塗膜を形成
することができる。
れたダイスが被塗布電線の状態変化に対応して変
化するので、塗膜の偏肉化が防止さ、均一な塗膜
を形成することができる。また、ダイスはダイス
ホルダに保持されているので、ワニスが変つても
粘度変化に左右されず、比較的低濃度、低粘度の
ワニスから高濃度、高粘度のワニスまで広範囲の
ものに適用することができ、高速度の塗膜形成も
可能であり簡単な工程管理で効率的に塗膜を形成
することができる。
第1図は従来の塗布装置、第2図は本考案の塗
布装置の実施例の説明図、第3図は前記実施例に
おけるダイスの断面図である。 7……ワニス、8……被塗布電線、10……突
出ピン、11……ダイスホルダ、14……支持
体、16……ダイス、17……スカート部、19
……頭部、20……ワニス絞り孔。
布装置の実施例の説明図、第3図は前記実施例に
おけるダイスの断面図である。 7……ワニス、8……被塗布電線、10……突
出ピン、11……ダイスホルダ、14……支持
体、16……ダイス、17……スカート部、19
……頭部、20……ワニス絞り孔。
Claims (1)
- 上面18が球面状ないし円錐状の曲率半径を有
するフランジ状のスカート部17と頭部19から
なり、内部にワニス絞り孔20を有する電線ワニ
ス塗布用のダイス16の頭部を介在させ、スカー
ト部の上面と接触してダイスを保持する一対の突
出ピン10を固着するダイスホルダ11及びこの
ダイスホルダを回動自在に軸支する支持体14か
ら形成された電線用ワニス塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9634683U JPS603611U (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 電線用ワニスの塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9634683U JPS603611U (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 電線用ワニスの塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603611U JPS603611U (ja) | 1985-01-11 |
| JPH0136246Y2 true JPH0136246Y2 (ja) | 1989-11-06 |
Family
ID=30229651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9634683U Granted JPS603611U (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 電線用ワニスの塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603611U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5407050B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2014-02-05 | 住友電工ウインテック株式会社 | ベアリング付きダイス、絶縁電線の製造装置および絶縁電線の製造方法 |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP9634683U patent/JPS603611U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS603611U (ja) | 1985-01-11 |
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