JPH0136607B2 - - Google Patents
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- JPH0136607B2 JPH0136607B2 JP10656481A JP10656481A JPH0136607B2 JP H0136607 B2 JPH0136607 B2 JP H0136607B2 JP 10656481 A JP10656481 A JP 10656481A JP 10656481 A JP10656481 A JP 10656481A JP H0136607 B2 JPH0136607 B2 JP H0136607B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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Description
本発明は、フオトレジスト層の少なくとも片面
にフイルムを積層した構造を有する感光性積層構
造物に関するものである。 ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリオ
レフインフイルムなどの光透過性支持体上にフオ
トレジスト層を形成させ、さらに必要に応じその
上にポリエチレンフイルムなどの保護フイルムを
積層した感光性積層構造物は公知であり、画像の
形成は、この積層構造物から保護フイルムを剥離
除去した後銅板などの金属面にフオトレジスト層
が接触するように重ねて圧着し、露光し、支持体
を剥離除去し、ついで溶剤タイプ、アルカリタイ
プ等の現像液で現像することにより達成される。 しかしながら従来光透過性支持体として用いら
れているポリエチレンテレフタレートフイルム等
のフイルムは、(1)露光後の剥離作業中帯電により
フイルムが手にまつわりつくというトラブルを生
じること、(2)ほこりが吸着しやすいこと、(3)酸素
遮断性が不足し、又紫外線透過は必ずしも充分で
ないので、露光時間、感度の点で不利となる傾向
があること、(4)保護フイルム／フオトレジスト層
の間の接着力とフオトレジスト層／支持体の間の
接着力に微妙な差をつけ、前者の接着力を後者の
接着力より小さくすると共に、後者の接着力もフ
オトレジスト層の損傷を起さない程度の強さにと
どめなければならないが、保護フイルムと支持体
とが本質的には同系統の樹脂からなるため、各層
間の接着力の差のコントロールをしにくいこと、
(5)支持体の材質によつては金属面への加熱圧着時
に耐熱性が不足すること、などの問題点がある。 本発明は上記の如き従来法の問題点を解決した
ものである。 本発明の感光性積層構造物は、フイルムＡ／フ
オトレジスト層Ｂよりなる層構成(イ)又はフイルム
Ａ／フオトレジスト層Ｂ／フイルムＣよりなる層
構成(ロ)を有し、(イ)の場合はそのままで(ロ)の場合は
Ｃを剥離してから金属面にＢが接触するように重
合密着し、Ａを通して露光後Ａを剥離して現像す
るタイプの積層構造物において、フイルムＡとし
て (i) 延伸倍率が少なくとも一軸に1.5倍以上、 (ii) 20℃、65％RHにおける酸素透過率が５c.c.／
m2／24hr以下、 (iii) 結晶化度が35％以上、 の全ての条件を満たすポリビニルアルコール延伸
フイルムを用いることを特徴としてなるものであ
る。 本発明においては次のようなすぐれた効果が奏
される。 (1) 帯電防止性がすぐれているので、露光後の剥
離作業中フイルムが手にまとわりつくなどのト
ラブルを全く生じない。 (2) ほこりが吸着しないので取扱いが容易とな
る。 (3) 酸素遮断性が極めてすぐれており、紫外線透
過性もすぐれているので、露光時間が短縮で
き、感度、解像度も良い。 (4) Ａ／Ｂ／Ｃの層構成中Ｂ／Ｃの層間接着性と
Ａ／Ｂの層間接着性の間に明確な強弱の差があ
り、さらにＡの結晶化度の調節により接着性を
任意に設定できるので、Ｃを剥離するときに剥
離ミスが生じずかつ露光後Ａを剥離するときに
もＢ損傷しない。 (5) 耐熱性が良好であるので金属面への加熱圧着
に際しトラブルを生じない。 本発明における上記のような顕著な効果は上記
特定の条件を満たすポリビニルアルコール延伸フ
イルムを用いることによつてはじめて奏されるの
であつて、ポリビニルアルコール延伸フイルムに
代えて通常の未延伸のポリビニルアルコールフイ
ルムを用いても到底かかるすぐれた効果は奏しえ
ない。即ち通常の未延伸のポリビニルアルコール
フイルムを用いた場合は、(イ)環境条件による物性
変化が大きく、該フイルム上へのフオトレジスト
層の形成が円滑にできにくいこと、(ロ)酸素遮断性
が必ずしも充分ではないこと、(ハ)フオトレジスト
層との接着が強すぎる傾向があり、露光後のフイ
ルムの剥離が円滑に行いえない場合があること、
などの問題点がある。 本発明においてフイルムＡを構成するポリビニ
ルアルコール系フイルムは先にも述べたように(i)
〜(iii)の条件を全て満たすことが要求される。 (i) 延伸倍率が少なくとも一軸に1.5倍以上であ
ること。 延伸倍率が1.5倍未満では本発明の目的にと
つては未延伸フイルムと本質的には変わらず、
所期の効果が充分には奏されない。 なお延伸は一軸延伸又は二軸延伸のいずれで
あつてもよく、好ましい倍率は一軸延伸の場合
で２倍以上、二軸延伸の場合で面積倍率で2.5
倍以上である。特に好ましいのは面積倍率４倍
以上の二軸延伸の場合である。 (ii) 20℃、65％RHにおける酸素透過率が５c.c.／
m2／24hr以下、好ましくは２c.c.／m2／24hr以下
であること。 酸素透過率が５c.c.／m2／24hrを超えると積層
フイルムの保存安定性が悪く、感度の点で不利
となる。 (iii) 結晶化度が35％以上、好ましくは40％以上で
あること。 結晶化度が35％未満では環境条件による物性
変化が大きくて積層フイルムを円滑に製造しが
たく、又フオトレジスト層Ｂとの接着力が過多
となり、露光後Ａを剥離するときＢを損傷する
おそれがある。 厚みは特に限定はなく通常７〜50μ程度の範囲
から選ばれるが、この範囲の中では30μ未満、好
ましくは20μ未満、さらに好ましくは17μ未満と
することが解像度、ハンダもぐり防止、活性光照
射時間の短縮などの点で望ましい。 上記条件を満足するポリビニルアルコール延伸
フイルムを得るには次の点に留意することが望ま
しい。 Γポリビニルアルコールとして重合度が高く（た
とえば500以上、特に900以上）、ケン化度の高
いもの（たとえば98モル％以上）を用いた方
が、延伸フイルムの強度向上、酸素遮断性向上
の点で好ましい。 Γポリビニルアルコール延伸フイルムとしては可
塑剤の含有量の少ない方、できれば可塑剤を全
く用いない方が、酸素遮断性の向上、感光性積
層構造物におけるフイルムへのフオトレジスト
層の成分の移行防止、結晶化度の向上の点で好
ましい。 Γ延伸倍率は高い方が、延伸フイルムの強度向
上、薄膜化、酸素遮断性向上、感光性積層構造
物における各層間の接着性のバランス、結晶化
度の向上の点で好ましい。 Γ延伸後は150℃以上に加熱処理した方が、延伸
フイルムの寸法安定性、結晶化度の向上、酸素
遮断性の向上の点から好ましい。 Γ延伸フイルムの機械物性は、引張強度が2000
Kg／cm2以上でかつ初期弾性率が2.0×103Kg／cm2
以上であることが好ましい。 次に本発明におけるフオトレジスト層Ｂとして
は、公知のアルカリ現像タイプ、溶剤現像タイ
プ、乾式現像タイプの感光性樹脂組成物の層がい
ずれも用いうる。 本発明におけるフイルムＣとしてはフオトレジ
スト層Ｂの保護層又は支持層としての役割を果す
ものであつて、ポリエチレンフイルム、ポリプロ
ピレンフイルム、ポリエチレンやポリプロピレン
がラミネートされた紙、ポリエステルフイルム、
セルロース系フイルム、ナイロンフイルムなどが
あげられる。このフイルムは延伸フイルムであつ
てもよい。これらのフイルムＣはフオトレジスト
層Ｂと強くは接着しないことが要求される。 本発明は積層構造物の層構成は フイルムＡ／フオトレジスタ層Ｂ…層構成(イ) が基本となるが、通常は保存、運搬、取扱等の点
から フイルムＡ／フオトレジスタ層Ｂ／フイルムＣ
…層構成(ロ) と３層構造にすることが多い。 層構成(イ)にあつては、フイルムＡ上に感光性樹
脂組成物の溶剤溶液を流延、噴霧、ロールコー
ト、押出コートなど任意の手段で塗布し、乾燥す
ればよい。 層構成(ロ)にあつては、フイルムＡ上にフオトレ
ジスト層Ｂを形成し、ついでその上からフイルム
Ｃを積層する方法が採用され、又まずフイルムＣ
上にフオトレジスト層Ｂを形成し、ついでその上
からフイルムＡを積層する方法も採用される。 かくして得られたＡ／Ｂ、又はＡ／Ｂ／Ｃの層
構成を有する積層構造物は堆積し或いはロール巻
きして保存、出荷、実用に供される。 本発明の感光性積層構造物の使用法は常法と特
に異なるところはない。典型的な事例を述べれ
ば、 １ 層構成(イ)にあつてはそのままで、層構成(ロ)に
あつてはまずフイルムＣを剥離する。次にＡ／
Ｂによりなる積層物を銅張り積層板などの金属
面にＢ面が金属面に接触するように重ね、加圧
接着する。この際加圧接着は加熱ロールを用い
て行うのが通常である。 ２ 原画をフイルムＡの側からあて、活性光で露
光する。 ３ 露光後フイルムＡを剥離する。 ４ 現像液でフオトレジスト層Ｂの未露光部を溶
解除去して現像する。 ５ 以下常法に従い銅メツキ、ハンダメツキ、レ
ジスト剥離、銅エツチングなどを行う。 次に例をあげて本発明をさらに説明する。なお
結晶化度、酸素透過率の測定は下記による。 結晶化度：四塩化炭素とキシレンによる密度勾配
管を用いて25℃における密度を測定し、その密
度より結晶化度を算出した。 酸素透過率：20℃、65％RHで100時間調湿した
試料について、20℃、65％の酸素透過率を
MOCON OX−TRAN 100で測定した。 例 １ Ａ：延伸倍率7.5倍（縦３倍、横2.5倍）、厚み
15μ、酸素透過率0.6c.c.／m2／24hr（20℃、65％
RH）、結晶化度46％のポリビニルアルコール
二軸延伸フイルム（可塑剤使用量０、延伸後
210℃で20秒間熱処理、ポリビニルアルコール
の重合度1700、ケン化度99モル％、引張強度
3000Kg／cm2、初期弾性率5.5×104Kg／cm2） Ｂ：アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系フ
オトレジスト Ｃ：厚み30μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム Ｃ上にロールコーターを用いてＢのメチルエチ
ルケトン溶液を塗布して乾燥した。乾燥後のＢの
厚みは25μであつた。次にＢの上からＡを重ねて
圧着することによりＡ／Ｂ／Ｃの３層構造とし、
これをロール巻きした。 上記積層構造物からＣを剥離した後、銅張り積
層板上にＢ側が接触するようにＡ／Ｂを重ね、温
度100℃で加熱加圧することにより接着した。 ついでＡ面の上から原画シートを載せ、露光機
により露光し（露光量90ミリジユール）、その後
Ａを剥離した。ついで炭酸ソーダの２％水溶液か
らなる現像液で３分間現像を行つた。 結果を第１表に示す。 対照例 １ 厚み30μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に例１のＢを塗布、乾燥し、次にその上から
ポリエチレンフイルムを重ねて圧着することによ
り３層構造とし、これをロール巻きした。 上記積層構造物からポリエチレンフイルムを剥
離した後、銅貼り積層板上にＢ側が接触するよう
に重ね、温度100℃で加熱加圧することにより接
着した。 ついでポリエチレンテレフタレートフイルムの
上から原画シートを載せ、露光機により露光し
（露光量90ミリジユール）、その後ポリエチレンテ
レフタレートフイルムを剥離した。ついで炭酸ソ
ーダの２％水溶液からなる現像液で３分間現像を
行つた。 結果を第１表に合せて示す。 対照例 ２〜３ ポリビニルアルコール二軸延伸フイルムＡに代
えて次のフイルムを用いたほかは例１と同様にし
て実験を行つた。 結果を第１表に合せて示す。 対照例 ２ 厚み25μのポリビニルアルコール未延伸フイル
ム（ポリビニルアルコールの重合度1800、ケン化
度99モル％、可塑剤含量11％） 対照例 ３ 延伸倍率４倍（縦２倍、横２倍）、厚み18μ、
酸素透過率４c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度32％のポリビニルアルコール二軸延伸フイ
ルム（可塑剤含有量０％、ポリビニルアルコール
の重合度1700、ケン化度99モル％）
にフイルムを積層した構造を有する感光性積層構
造物に関するものである。 ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリオ
レフインフイルムなどの光透過性支持体上にフオ
トレジスト層を形成させ、さらに必要に応じその
上にポリエチレンフイルムなどの保護フイルムを
積層した感光性積層構造物は公知であり、画像の
形成は、この積層構造物から保護フイルムを剥離
除去した後銅板などの金属面にフオトレジスト層
が接触するように重ねて圧着し、露光し、支持体
を剥離除去し、ついで溶剤タイプ、アルカリタイ
プ等の現像液で現像することにより達成される。 しかしながら従来光透過性支持体として用いら
れているポリエチレンテレフタレートフイルム等
のフイルムは、(1)露光後の剥離作業中帯電により
フイルムが手にまつわりつくというトラブルを生
じること、(2)ほこりが吸着しやすいこと、(3)酸素
遮断性が不足し、又紫外線透過は必ずしも充分で
ないので、露光時間、感度の点で不利となる傾向
があること、(4)保護フイルム／フオトレジスト層
の間の接着力とフオトレジスト層／支持体の間の
接着力に微妙な差をつけ、前者の接着力を後者の
接着力より小さくすると共に、後者の接着力もフ
オトレジスト層の損傷を起さない程度の強さにと
どめなければならないが、保護フイルムと支持体
とが本質的には同系統の樹脂からなるため、各層
間の接着力の差のコントロールをしにくいこと、
(5)支持体の材質によつては金属面への加熱圧着時
に耐熱性が不足すること、などの問題点がある。 本発明は上記の如き従来法の問題点を解決した
ものである。 本発明の感光性積層構造物は、フイルムＡ／フ
オトレジスト層Ｂよりなる層構成(イ)又はフイルム
Ａ／フオトレジスト層Ｂ／フイルムＣよりなる層
構成(ロ)を有し、(イ)の場合はそのままで(ロ)の場合は
Ｃを剥離してから金属面にＢが接触するように重
合密着し、Ａを通して露光後Ａを剥離して現像す
るタイプの積層構造物において、フイルムＡとし
て (i) 延伸倍率が少なくとも一軸に1.5倍以上、 (ii) 20℃、65％RHにおける酸素透過率が５c.c.／
m2／24hr以下、 (iii) 結晶化度が35％以上、 の全ての条件を満たすポリビニルアルコール延伸
フイルムを用いることを特徴としてなるものであ
る。 本発明においては次のようなすぐれた効果が奏
される。 (1) 帯電防止性がすぐれているので、露光後の剥
離作業中フイルムが手にまとわりつくなどのト
ラブルを全く生じない。 (2) ほこりが吸着しないので取扱いが容易とな
る。 (3) 酸素遮断性が極めてすぐれており、紫外線透
過性もすぐれているので、露光時間が短縮で
き、感度、解像度も良い。 (4) Ａ／Ｂ／Ｃの層構成中Ｂ／Ｃの層間接着性と
Ａ／Ｂの層間接着性の間に明確な強弱の差があ
り、さらにＡの結晶化度の調節により接着性を
任意に設定できるので、Ｃを剥離するときに剥
離ミスが生じずかつ露光後Ａを剥離するときに
もＢ損傷しない。 (5) 耐熱性が良好であるので金属面への加熱圧着
に際しトラブルを生じない。 本発明における上記のような顕著な効果は上記
特定の条件を満たすポリビニルアルコール延伸フ
イルムを用いることによつてはじめて奏されるの
であつて、ポリビニルアルコール延伸フイルムに
代えて通常の未延伸のポリビニルアルコールフイ
ルムを用いても到底かかるすぐれた効果は奏しえ
ない。即ち通常の未延伸のポリビニルアルコール
フイルムを用いた場合は、(イ)環境条件による物性
変化が大きく、該フイルム上へのフオトレジスト
層の形成が円滑にできにくいこと、(ロ)酸素遮断性
が必ずしも充分ではないこと、(ハ)フオトレジスト
層との接着が強すぎる傾向があり、露光後のフイ
ルムの剥離が円滑に行いえない場合があること、
などの問題点がある。 本発明においてフイルムＡを構成するポリビニ
ルアルコール系フイルムは先にも述べたように(i)
〜(iii)の条件を全て満たすことが要求される。 (i) 延伸倍率が少なくとも一軸に1.5倍以上であ
ること。 延伸倍率が1.5倍未満では本発明の目的にと
つては未延伸フイルムと本質的には変わらず、
所期の効果が充分には奏されない。 なお延伸は一軸延伸又は二軸延伸のいずれで
あつてもよく、好ましい倍率は一軸延伸の場合
で２倍以上、二軸延伸の場合で面積倍率で2.5
倍以上である。特に好ましいのは面積倍率４倍
以上の二軸延伸の場合である。 (ii) 20℃、65％RHにおける酸素透過率が５c.c.／
m2／24hr以下、好ましくは２c.c.／m2／24hr以下
であること。 酸素透過率が５c.c.／m2／24hrを超えると積層
フイルムの保存安定性が悪く、感度の点で不利
となる。 (iii) 結晶化度が35％以上、好ましくは40％以上で
あること。 結晶化度が35％未満では環境条件による物性
変化が大きくて積層フイルムを円滑に製造しが
たく、又フオトレジスト層Ｂとの接着力が過多
となり、露光後Ａを剥離するときＢを損傷する
おそれがある。 厚みは特に限定はなく通常７〜50μ程度の範囲
から選ばれるが、この範囲の中では30μ未満、好
ましくは20μ未満、さらに好ましくは17μ未満と
することが解像度、ハンダもぐり防止、活性光照
射時間の短縮などの点で望ましい。 上記条件を満足するポリビニルアルコール延伸
フイルムを得るには次の点に留意することが望ま
しい。 Γポリビニルアルコールとして重合度が高く（た
とえば500以上、特に900以上）、ケン化度の高
いもの（たとえば98モル％以上）を用いた方
が、延伸フイルムの強度向上、酸素遮断性向上
の点で好ましい。 Γポリビニルアルコール延伸フイルムとしては可
塑剤の含有量の少ない方、できれば可塑剤を全
く用いない方が、酸素遮断性の向上、感光性積
層構造物におけるフイルムへのフオトレジスト
層の成分の移行防止、結晶化度の向上の点で好
ましい。 Γ延伸倍率は高い方が、延伸フイルムの強度向
上、薄膜化、酸素遮断性向上、感光性積層構造
物における各層間の接着性のバランス、結晶化
度の向上の点で好ましい。 Γ延伸後は150℃以上に加熱処理した方が、延伸
フイルムの寸法安定性、結晶化度の向上、酸素
遮断性の向上の点から好ましい。 Γ延伸フイルムの機械物性は、引張強度が2000
Kg／cm2以上でかつ初期弾性率が2.0×103Kg／cm2
以上であることが好ましい。 次に本発明におけるフオトレジスト層Ｂとして
は、公知のアルカリ現像タイプ、溶剤現像タイ
プ、乾式現像タイプの感光性樹脂組成物の層がい
ずれも用いうる。 本発明におけるフイルムＣとしてはフオトレジ
スト層Ｂの保護層又は支持層としての役割を果す
ものであつて、ポリエチレンフイルム、ポリプロ
ピレンフイルム、ポリエチレンやポリプロピレン
がラミネートされた紙、ポリエステルフイルム、
セルロース系フイルム、ナイロンフイルムなどが
あげられる。このフイルムは延伸フイルムであつ
てもよい。これらのフイルムＣはフオトレジスト
層Ｂと強くは接着しないことが要求される。 本発明は積層構造物の層構成は フイルムＡ／フオトレジスタ層Ｂ…層構成(イ) が基本となるが、通常は保存、運搬、取扱等の点
から フイルムＡ／フオトレジスタ層Ｂ／フイルムＣ
…層構成(ロ) と３層構造にすることが多い。 層構成(イ)にあつては、フイルムＡ上に感光性樹
脂組成物の溶剤溶液を流延、噴霧、ロールコー
ト、押出コートなど任意の手段で塗布し、乾燥す
ればよい。 層構成(ロ)にあつては、フイルムＡ上にフオトレ
ジスト層Ｂを形成し、ついでその上からフイルム
Ｃを積層する方法が採用され、又まずフイルムＣ
上にフオトレジスト層Ｂを形成し、ついでその上
からフイルムＡを積層する方法も採用される。 かくして得られたＡ／Ｂ、又はＡ／Ｂ／Ｃの層
構成を有する積層構造物は堆積し或いはロール巻
きして保存、出荷、実用に供される。 本発明の感光性積層構造物の使用法は常法と特
に異なるところはない。典型的な事例を述べれ
ば、 １ 層構成(イ)にあつてはそのままで、層構成(ロ)に
あつてはまずフイルムＣを剥離する。次にＡ／
Ｂによりなる積層物を銅張り積層板などの金属
面にＢ面が金属面に接触するように重ね、加圧
接着する。この際加圧接着は加熱ロールを用い
て行うのが通常である。 ２ 原画をフイルムＡの側からあて、活性光で露
光する。 ３ 露光後フイルムＡを剥離する。 ４ 現像液でフオトレジスト層Ｂの未露光部を溶
解除去して現像する。 ５ 以下常法に従い銅メツキ、ハンダメツキ、レ
ジスト剥離、銅エツチングなどを行う。 次に例をあげて本発明をさらに説明する。なお
結晶化度、酸素透過率の測定は下記による。 結晶化度：四塩化炭素とキシレンによる密度勾配
管を用いて25℃における密度を測定し、その密
度より結晶化度を算出した。 酸素透過率：20℃、65％RHで100時間調湿した
試料について、20℃、65％の酸素透過率を
MOCON OX−TRAN 100で測定した。 例 １ Ａ：延伸倍率7.5倍（縦３倍、横2.5倍）、厚み
15μ、酸素透過率0.6c.c.／m2／24hr（20℃、65％
RH）、結晶化度46％のポリビニルアルコール
二軸延伸フイルム（可塑剤使用量０、延伸後
210℃で20秒間熱処理、ポリビニルアルコール
の重合度1700、ケン化度99モル％、引張強度
3000Kg／cm2、初期弾性率5.5×104Kg／cm2） Ｂ：アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系フ
オトレジスト Ｃ：厚み30μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム Ｃ上にロールコーターを用いてＢのメチルエチ
ルケトン溶液を塗布して乾燥した。乾燥後のＢの
厚みは25μであつた。次にＢの上からＡを重ねて
圧着することによりＡ／Ｂ／Ｃの３層構造とし、
これをロール巻きした。 上記積層構造物からＣを剥離した後、銅張り積
層板上にＢ側が接触するようにＡ／Ｂを重ね、温
度100℃で加熱加圧することにより接着した。 ついでＡ面の上から原画シートを載せ、露光機
により露光し（露光量90ミリジユール）、その後
Ａを剥離した。ついで炭酸ソーダの２％水溶液か
らなる現像液で３分間現像を行つた。 結果を第１表に示す。 対照例 １ 厚み30μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に例１のＢを塗布、乾燥し、次にその上から
ポリエチレンフイルムを重ねて圧着することによ
り３層構造とし、これをロール巻きした。 上記積層構造物からポリエチレンフイルムを剥
離した後、銅貼り積層板上にＢ側が接触するよう
に重ね、温度100℃で加熱加圧することにより接
着した。 ついでポリエチレンテレフタレートフイルムの
上から原画シートを載せ、露光機により露光し
（露光量90ミリジユール）、その後ポリエチレンテ
レフタレートフイルムを剥離した。ついで炭酸ソ
ーダの２％水溶液からなる現像液で３分間現像を
行つた。 結果を第１表に合せて示す。 対照例 ２〜３ ポリビニルアルコール二軸延伸フイルムＡに代
えて次のフイルムを用いたほかは例１と同様にし
て実験を行つた。 結果を第１表に合せて示す。 対照例 ２ 厚み25μのポリビニルアルコール未延伸フイル
ム（ポリビニルアルコールの重合度1800、ケン化
度99モル％、可塑剤含量11％） 対照例 ３ 延伸倍率４倍（縦２倍、横２倍）、厚み18μ、
酸素透過率４c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度32％のポリビニルアルコール二軸延伸フイ
ルム（可塑剤含有量０％、ポリビニルアルコール
の重合度1700、ケン化度99モル％）
【表】
＊ 対照例１にあつてはポリエチレンテレフタレート
フイルムの剥離性。
例 ２ Ａ：延伸倍率9.6倍（縦3.2倍、横３倍）、厚み
14μ、酸素透過率0.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％
RH）、結晶化度50％のポリビニルアルコール
二軸延伸フイルム（可塑剤使用量０、延伸後
210℃で20秒間熱処理、ポリビニルアルコール
の重合度1200、ケン化度99モル％） Ｂ：アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系ホ
トレジスト フイルムＡ上にロールコーターを用いてＢのメ
チルエチルケトン溶液を塗布して乾燥した。乾燥
後のＢの厚みは25μであつた。 このＡ／Ｂの２層構造物を銅張り積層板上にＢ
が金属面に接触するように重ね、温度100℃で加
熱加圧することにより接着し、以下例１と同様に
して露光、現像した。 結果を第２表に示す。 対照例 ４〜５ フイルムＡとして厚み25μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム（対照例４）、対照例２で用
いたポリビニルアルコール未延伸フイルム（対照
例５）を用いたほかは例２と同様にして露光、現
像を行つた。 結果を第２表に合せて示す。
フイルムの剥離性。
例 ２ Ａ：延伸倍率9.6倍（縦3.2倍、横３倍）、厚み
14μ、酸素透過率0.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％
RH）、結晶化度50％のポリビニルアルコール
二軸延伸フイルム（可塑剤使用量０、延伸後
210℃で20秒間熱処理、ポリビニルアルコール
の重合度1200、ケン化度99モル％） Ｂ：アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系ホ
トレジスト フイルムＡ上にロールコーターを用いてＢのメ
チルエチルケトン溶液を塗布して乾燥した。乾燥
後のＢの厚みは25μであつた。 このＡ／Ｂの２層構造物を銅張り積層板上にＢ
が金属面に接触するように重ね、温度100℃で加
熱加圧することにより接着し、以下例１と同様に
して露光、現像した。 結果を第２表に示す。 対照例 ４〜５ フイルムＡとして厚み25μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム（対照例４）、対照例２で用
いたポリビニルアルコール未延伸フイルム（対照
例５）を用いたほかは例２と同様にして露光、現
像を行つた。 結果を第２表に合せて示す。
【表】
例３、対照例６
ポリビニルアルコール二軸延伸フイルムＡに代
えて次のフイルム用い、かつフオトレジストＢと
して溶剤可溶タイプのアクリル共重合体系フオト
レジストを用いたほかは例１と同様にして実験を
行つた。なお現像は１，１，１−トリクロルエタ
ンからなる現像液を用いて80秒間行つた。 結果を第３表に示す。 例 ３ 延伸倍率3.5倍（縦3.5倍、横１倍）、厚み17μ、
酸素透過率0.6c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度45％のポリビニルアルコール−軸延伸フイ
ルム（可塑剤使用量１％、延伸後200℃で20秒間
熱処理、ポリビニルアルコールの重合度1500、ケ
ン化度99モル％） 対照例 ６ 延伸倍率1.4倍（縦1.4倍、横１倍）、厚み20μ、
酸素透過率5.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度30％のポリビニルアルコール軸延伸フイル
ム（ポリビニルアルコールの重合度1500、ケン化
度99モル％）
えて次のフイルム用い、かつフオトレジストＢと
して溶剤可溶タイプのアクリル共重合体系フオト
レジストを用いたほかは例１と同様にして実験を
行つた。なお現像は１，１，１−トリクロルエタ
ンからなる現像液を用いて80秒間行つた。 結果を第３表に示す。 例 ３ 延伸倍率3.5倍（縦3.5倍、横１倍）、厚み17μ、
酸素透過率0.6c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度45％のポリビニルアルコール−軸延伸フイ
ルム（可塑剤使用量１％、延伸後200℃で20秒間
熱処理、ポリビニルアルコールの重合度1500、ケ
ン化度99モル％） 対照例 ６ 延伸倍率1.4倍（縦1.4倍、横１倍）、厚み20μ、
酸素透過率5.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度30％のポリビニルアルコール軸延伸フイル
ム（ポリビニルアルコールの重合度1500、ケン化
度99モル％）
【表】
例 ４
延伸倍率４倍（縦２倍、横２倍）、厚み12μ、
酸素透過率1.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度48％の変性ポリビニルアルコール二軸延伸
フイルム（可塑剤使用量０、延伸後180℃で３秒
間熱処理、変性ポリビニルアルコールの重合度
550、ケン化度99.9モル％、エチレン共重合変性
量30モル％）を用い例１と同一の実験を行つた。 フイルムＡのラミネート性は良好、露光後のフ
イルムＡの剥離性も容易であつた。 又、現像後のステツプタブレツトのソリツド段
数は８、リゾリユーシヨンガイドは２であつた。
酸素透過率1.5c.c.／m2／24hr（20℃、65％RH）、結
晶化度48％の変性ポリビニルアルコール二軸延伸
フイルム（可塑剤使用量０、延伸後180℃で３秒
間熱処理、変性ポリビニルアルコールの重合度
550、ケン化度99.9モル％、エチレン共重合変性
量30モル％）を用い例１と同一の実験を行つた。 フイルムＡのラミネート性は良好、露光後のフ
イルムＡの剥離性も容易であつた。 又、現像後のステツプタブレツトのソリツド段
数は８、リゾリユーシヨンガイドは２であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フイルムＡ／フオトレジスト層Ｂよりなる層
構成(イ)又はフイルムＡ／フオトレジスト層Ｂ／フ
イルムＣよりなる層構成(ロ)を有し、(イ)の場合はそ
のままで(ロ)の場合はＣを剥離してから金属面にＢ
が接触するように重合密着し、Ａを通して露光後
Ａを剥離して現像するタイプの積層構造物におい
て、フイルムＡとして (i) 延伸倍率が少なくとも一軸に1.5倍以上、 (ii) 20℃、65％RHにおける酸素透過率が５c.c.／
m2／24hr以下、 (iii) 結晶化度が35％以上、 のポリビニルアルコール延伸フイルムを用いるこ
とを特徴としてなる感光性積層構造物。 ２ フイルムＡが面積倍率2.5倍以上のポリビニ
ルアルコール二軸延伸フイルムである特許請求の
範囲第１項記載の構造物。 ３ Ａ上にＢを設けた後Ｂ上にＣを積層して層構
成(ロ)を形成してなる特許請求の範囲第１項記載の
構造物。 ４ Ｃ上にＢを設けた後Ｂ上にＡを積層して層構
成(ロ)を形成してなる特許請求の範囲第１項記載の
構造物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10656481A JPS587628A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 感光性積層構造物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10656481A JPS587628A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 感光性積層構造物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587628A JPS587628A (ja) | 1983-01-17 |
| JPH0136607B2 true JPH0136607B2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=14436782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10656481A Granted JPS587628A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 感光性積層構造物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587628A (ja) |
-
1981
- 1981-07-07 JP JP10656481A patent/JPS587628A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS587628A (ja) | 1983-01-17 |
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