JPS587628A - 感光性積層構造物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フォトレジスト層の少なくと４片ＷＪＫフィ
ルムを積層した構造を有する感光性積層構造−に関する
本のである。

ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリオレアイン
フィルムなどの党逓過性支持体上に７オトレジスト層を
形ｖＬ１４せ、さらに６番に応ｔ、ソの上にポリエチレ
ンフィルムなどの保護フィルムを積層した感光性積層構
造物は公知であり、画像０＠区は、この積層構造物から
保護フィルムを剥離除去しえ後鋼板などの金属面に７オ
ドレジスト層が接触するように重ねて圧着し、露先し、
支持体を剥離除責し、ついで溶剤タイプ、アルカリタイ
プ等の現像液で現像することＫｊ秒違唆される。

しかしながら従米光遁過性支持体として用いられている
ポリエチレンテレフタレートフィルム等のフィルムは、
（璽）露光後の剥離作業中帯電によりフィル＾が手Ｋま
つわりつくというトラブルを生じること、（りはこりが
吸着しやすいこと、（１）―素遮断性が不足し、又紫外
線透過が必ずしも充分でないので、露光時間、感度の点
で不利となる傾向があること、（４）保ｌＩフィルム／
フォトレジスト層の同の接着力とフォトレジスト層／支
神体の閏の接着力に歇炉な差をつけ、前者の接着力を後
者の接着力より小さくすると共に、後者の接着力もフォ
トレジスト層の損傷を起さない程度の強さにとどめなけ
ればならな匹が、保Ｉｌフィルムと支持体とが木質的に
は同系統の樹脂からなるため、各層間０Ｉ１１１力の差
のコントロールをしＫくいこと、（１）支持体の材質に
よっては金属面への加熱圧着時に耐熱性が下足すること
、などの問題点がある。

本発明は上記の如き従来法の問題点を解決したものであ
る。

本発明の感光性積置構造物は、フィルム入／フォトレジ
ストｉｌｌよ秒なる一構直頓又社フイルムム／７オトレ
ジスト層Ｂ／ｙイルムＣよりなる層構ｖＬ＜嗜を有し、
（４）の場合はそのままで（ロ）の場合はＣｔ剥離して
から金属＠Ｋｌが接触するように重合密着し、ムを通し
て露党後ムｔｌＩｌｌ離して現像するタイプの積層構造
物において、フィルムＡとして １）延伸倍率が少なくと４−軸に１．５倍以上、Ｉ）２
０℃、６５％ＩＩＩＫおける駿素遁過率が５　ＱＣ／ｖ
ｄ／２４　ｈ、ｒ以下、 ■）結晶化度が３５ｇ６以上、 の全ての条件を満たすポリビニルアルコール延伸フィル
ム′を用いる仁とを特徴としてなるものである。

本発明においては次のようなすぐれた効果が奏される。

＋１１　　帯電防止性がすぐれているので、露光後の剥
離作業中フィルムが手Ｋまつわりつくなどのトラブルを
全く生じない７ （鵞）ハこりが吸着しないので取扱いが容易となる。

情ＩＩＩ素遮断性Ｓ極めてすぐれており、紫外線透過性
もすぐれているので、露光時間が短縮でき、感度、解像
度も良い。

Ｇ４１　　Ａ／Ｂ／Ｃの層構区中Ｂ／Ｃの層間接着性と
Ａ／ｌの層間接着性の閏に明確な強貢の差があり、さら
にムの結晶化度の調節により接着性を任意＃ｌｃ設定で
きるので、Ｃ會剥離するとＩＫ剥離ミスが生じずかつ露
光後ムを剥離するときく４１１を損傷しない。

１１）　　耐熱性が良好であるので金Ｍ面への加熱圧着
ＫＩＩＬ）ラブルを生じない。

本発明における上記のような顕著な効果は上記特ｉ！Ｏ
条件を満たすポリビニルアルコール延伸フィルムを用い
ることＫよってはじめて奏されるのであって、ポリビニ
ルアルコール延伸フィルムに代えて通常の未延伸のポリ
ビニルアルコールフィルムを用いても到底かかるすぐれ
え効果は奏しえない、即ち通常の未延伸のポリビニルア
ルコールフィルムを用％／％友場合は、蛸環境条件によ
る物性変化が大きく、該フィルム上へのフォトレジスト
■の形代が円滑にでＩＫ＜いこと、＠曽素遮断性が必ず
しも充分ではないこと、ｋ１７オトレジスト層との接着
が強すぎる傾向があ夛、露光後のフィルムの剥離が円滑
に行いえない場合があること、などの問題点がある。

本発明（おｉてフィルム上を構区するポリビニルアルコ
ール系フィルムは先にも述べたようＥｌ）〜■）の条件
を全て温良すことが要求される。

Ｉ）延伸倍率が少なくとも一軸に１．５倍以上であるこ
と。

延伸倍率が１．５倍乗溝では本発明の目的にとっては未
延伸フィルムと木質鈎ＫＦｉ変わらず、所期の効果が充
分Ｋｔｉ奏されない。

なお延伸は一軸延伸又は二軸延伸のいずれであってもよ
く、好ましい倍率は一輪延伸の場合で２倍以上、二輪延
伸の場合で面積倍率で２．５倍以上である。特に好まし
いのは面積倍率４倍以上の二輪延伸の場合である。

Ｉ）２０℃、６５％ＲＨｆＣおける酸素透過率が５ｃｅ
／ｄ／２４　ｋ　ｒ以下、好ましくは２ｃｃ／ｍ／２４
　ｈ　ｒ以下であること。

酸素透過率が５ｃｃ／ｍ’／２４　ｋ　ｒ　ｔ−越える
と積層フィルムの保存安定性が悪く、感度の点で不利と
なる。

ｉ）結晶化度が５５％以上、好ましくは４０％以上であ
ること。

結晶化度が３５％未満では環境条件による物性変化が大
きくて積層フィルムを円滑に製造しがたく、又７オトレ
ジスト層Ｂとの接着力が過多となり、露光後人を剥離す
るときトを損傷するおそれがある。

厚与は特に限定はなく通常７〜５０声程度の範囲から選
ばれるが、この範囲の中で＃ｉ５０声未満、好ましくｉ
ｊ２０声未満、さらに好ましくｔｉ１７声米満とするこ
とが解像変、ノ・ンダもぐり防止、活性光照射時開の短
縮などの点で望ましい。

上記条件を満足するポリビニルアルコール延伸フィルム
を得るには次の点に留意することが望ましい。

度の高いもの（たとえば９８そル％以Ｆ：、）を用いた
方が、延伸フィルムの強度向上、ｅ＊遮断性向上の点で
好ましい。

・　ポリビニルアルコール延伸フィルムとしては可塑剤
の含有量の少ない方、できれば可−期を全く用いない方
が、着素遮断性の向Ｅ、感光性積層構造物におけるフィ
ルムへのフォトレジスト層の成分の移行防止、結晶化度
の向上の点で好まし＾。

Ｏ延伸倍率は高い方が、延伸フィルムの強度向上、薄膜
化、酸素遮断性向上、感光性積場構造物における各層間
の接着性のパツンス、結晶化度の向上の点で好ましい。

・　延伸後は１５０℃以上に加熱略理し友方が、延伸フ
ィルムの寸法安定性、結晶化度の向上、酸素遮断性の向
上の点から好ましい。

・　延伸フィルムの機械物性は、引張強度が２０００’
１ｍ以上でかつ初期弾性率が２，０ＸＩＯ”１以上であ
ることが好ましい。

次に未発明Ｋかける７オトレジスト層Ｂとしてハ、公知
のアルカリ現像タイプ、溶剤現像タイプ、乾式現像タイ
プの感光性樹脂組成物の層がいずれも用いつる。

本発明におけるフィルムＣとしてはフォトレジスト層１
の保ＩＩ場又は支持層としての役割を果すものであって
、〆リエチレンフイルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リエチレンやポリプロピレンがラミネートされ九紙、ポ
リエステルフィルム、セルロース系フィルム、ナイロン
フィルムなどがあげられる。このフィルムは延伸フィル
ムであうフィルムＣはフォトレジスト層Ｂと強くは接着
しないことが要求される。

本発明の積層構造物の層構ａは フィルムＡ／フォトレジスト層Ｂ一層構ａＫ）が基本と
なるが、通常は保存、運搬、取扱等の点から フィルムＡ／フォトレジスト層Ｂ／フィルムＣ・・・層
構ｅ、（ロ） と５層構造にすることが多い。

層構成（イ）にあっては、フィルムＡ上に感光性樹脂組
成物の溶剤溶液を流延、噴霧、ロールコート、押出コー
ト攻ど任意の手段で自存し、乾燥すればよい。

層構ｖＬ（ロ）にあっては、フィルムＡ上に７オトレジ
スト層Ｂを形成し、ついでその上からフィルムＣｆ積層
する方法が採用され、又まずフィルムＣ上に７オトレジ
スト層Ｂを形成し、ついでその−ヒからフィルムＡを積
層する方法も採用される。

かくして得られたＡ／Ｂ、又ｔｉＡ／Ｂ／Ｃの層構成を
有する積層構造物は堆積し或いはロール巻きして保存、
出荷、実用に供される。

未発明の感光性積層構造物の使用法は常法と特に異なる
ところはない。典型的な事例を述べれば、１＠構威（イ
）Ｋあってはそのままで、層構ｔＬ＠ＫＴｏってはまず
フィルムＣを剥離する。次にＡ／ＩＩよ抄なる積層物を
銅張り積層板などの金属＊ＫＢｉｌｉが金属面に接触す
るように重ね、加圧接着する。この際加圧接着は加熱ロ
ールを用いて行うのが通常である。

２　原画をフィルムＡの側からあて、活性光で露光する
。

１　露光機フィルムＡを剥離する３ ℃ｍ像液でフォトレジストｊＢの未露光部を溶解除去し
て現像する。

１　以下常法に従い銅メッキ、ハンダメッキ、レジスト
剥離、銅エツチングなどを行う。

次に例をあげて本発明をさらに説明する。なお結晶化度
、酸素透過率の測定は下記による。

結晶化度二四塩化員素とキシレンによる密度匂配管を用
いて２５℃における密度を測定し、その密度よ抄結晶化
度を算出した。

酸素透過率：２０℃、！５９６１Ｈで１００時間調湿し
九試料について、２０℃、６５％の酸素透過率をＭＯＣ
ＯＮ　ＯＸ−ＴＲＡＭ　　１００で測定した。

例Ｉ Ａ：延伸倍率７．５倍（縦５倍、横２．５倍）、厚み１
５声、酸素透過率０−６　’！／ｍ／２４ｈ　ｒ　（２
０℃、６５％ＲＨ）、結晶化度４６ｇ６のポリビニルア
ルコール二軸延伸フィルム（可塑剤使用量０、延伸後２
１０℃で２０秒問銖処理、ポリビニルアルコールの重合
度１７００、ケン化度９９モル％、引張ｌ１ｉｋ度５０
００智、初期弾性率５．５　Ｘ　１０”ｍ　） Ｂ：アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系フォトレ
ジスト Ｃ：厚み５０μのポリエチレンテレフタレートフィルム Ｃ上にロールコータ−を用いてＢのメチルエチルケトン
溶液を塗布して礼儀し良。ｔｔ像後のｌの厚み＃ｉ２５
μであっ九。次Ｋｌの上からＡを重ねて圧着することに
よ＃）Ａ／Ｂ／Ｃの６層構造とし、これをロール巻きし
た。

上記積層構造物からＣを剥離した後、銅張り積層板上Ｋ
Ｂ側が接触するようにＡ／Ｂを重ね、温度１００℃で加
熱加圧することにより接着し喪。

ついでＡ面の上から原画シートを載せ、露光機によ抄露
光しく露光量９０ミリジユール）、その後人を剥離した
。ついで員酸ソーダの２９６水溶液からなる現像液で５
分間現像を行った。

結果を第１麦に示す。

対照例１ 厚み５０μのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
例１のＢを塗布、礼儀し、次にその上からポリエチレン
フィルムを重ねて圧着することによシ５層構造とし、こ
れをロール巻きした。

上記積層構造物からポリエチレンフィルムを剥離し先後
、銅貼９積層板上ＫＢ側が接触するように重ね、温度１
００℃て加熱加圧することにより接着した。

ついでポリエチレンテレフタレートフィルムの上からｊ
ｌ［Ｉｌｉシートを載せ、露光機によに露光しく露光量
９０ミリジエール）、その後ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを剥離し九。ついで炭酸ソーダの２ｇ６水溶
液からなる現像液で５分間現像を行っ九。

結果を第１１１に合せて示す。

対照例２〜５ ポリビニルアルコール二軸延伸フィルムＡに代えて次の
フィルムを用い喪ほかは例１と同様にして実験を行った
。

結果を第１表に合せて示す。

対照例２ 厚み２５声のポリビニルアルコール米延伸フィルム（ポ
リビニルアルコール０１合度１８００、ケン化度９９モ
ル％、可塑剤含量１１％）対照例５ 延伸倍率−倍（縦２倍、横２倍）、厚み１８Ｐ１酸素逓
過亭４ｏ：／ｄ／２４ｈｒ　（２０℃、６５＊　ＲＨ）
、１１１＋１＋化度５２　％のポリビニルアルコール二
輪延伸フィルム（可塑剤含有量Ｏ１１、ポリビニルアル
コールの重４度ｆ７００、ケン化度９９モル！％） ＄１　　　　麦 峯　対照例１にあってはぼりエチレンフィルムのラミネ
ート性。

本対鳳１１１に＆うてはぼりエテレンテレフＩレートフ
ィルムａｉｇｓ＋＊。

例２ Ａ：　延伸倍率９．６倍（ＩｔＬ５．２倍、横５倍）、
厚み１４μ、酸素透過率０．５　ｔｌ’：／ｌｉｔ／　
２４　ｋ　ｒ（２０℃、６５ｇ６ＲＨ）、結晶化度５０
ｇ６のポリビニルアルコール二軸延伸フィルム（可塑剤
使用量０、延伸後２１０℃で２０ｅｍａａ理、ポリビニ
ルアルコールの重合度１２００、ケン化度９９モル％） Ｂ：　アルカリ可溶タイプのアクリル共重合体系ホトレ
ジスト フイルムム上にロールコータ−を用いてＢのメチルエチ
ルクトン溶液を塗布して乾燥した。乾燥後のＢの厚みは
２５声であう九。

このＡ／Ｂの２１１１１ｆｉ物を銅張抄積膳板上にＢが
金属面に接融するように重ね、温度１００℃で加熱加圧
することによ抄接着し、以下例１と同様にして露光、現
像した。

結果を第２１１に示す。

対照例４〜５ フイルムムとして厚み２５μの〆リエチレンテレフタレ
ートフイルム（対照例４）、対照例２で用いたポリビニ
ルアルコール未延伸フィルム（対照例５）を用いたほか
打倒２と同様にして露光、現像を行った。

結果を第２衰に合せて示す。

第　　　２　　　表 例３、対照例６ ポリビニルアルコール二軸延伸フィルム＾に代えて次の
フィルムを用い、かつフォトレジスト８として溶剤可溶
タイプのアクリル共重合体系フォトレジストを用い九は
かは例１と同様にして実験を行う九。なお現像＃１１，
１．１−　トリクロルエタンからなる現像液を用いて８
０秒間行つた。

結果をＩＩ５！Ｅに示す。

例５ 延伸倍率５．５倍（縦５．５倍、横１倍）、厚み１７Ｎ
Ｓ酸素透過率０．６　ｃｃ／ｊ／２４ｋｒ　（２０℃、
６５％ＲＨ）、結晶化度４５９６のポリビニルアルコー
ル−軸延伸フィルム（可塑剤使用量１％、延伸後２００
℃で２０秒間熱処理、ポリビニルアルコールの重合度１
５００、ケン化度９９モルｇ６）対照例６ 延伸倍率１．４倍（Ｉｌｌ、４倍、横１倍）、厚み２０
μ、酸素透過率５．５　ｃｃ／ｖＩｌ／２４ｂｒ（２Ｑ
”Ｃ，６５％ＲＢ）、結晶化度５０ｇ６のポリビニルア
ルコール−軸延伸フィルム（ポリビニルアルコールの重
合度１５００、ケン化度９９モル％）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．７４ルムＡ／フォトレジスト層Ｂよ抄なる層構ｖｔ
   ｔａ）又はフィルム入／フォトレジスト層Ｂ／フィルム
   Ｃよ抄なる層構成（ロ）を有し、Ｇ（）の場合はそのま
   まで←）の場合はＣを剥離してから金属１ｉＫＩが接触
   するように重合密着し、ムを通して露光後Ａを剥離して
   現像するタイプの積層構造物において、フィルムＡとし
   て １）延伸倍率が少々くとも一軸に１．５倍以上、■）　
   ２０℃、６５１ｉ　Ｒ１１Ｋおける酸素透過率が５０８
   ／ｍ／２４ｋｒ以下、 −）結晶化度が５５−以上、 のポリビニルアルコール延伸フィルムを用いることを特
   徴としてなる感光性積層構造物。 ２、フィルムＡが面積倍率２．５倍以上のポリビニルア
   ルコール二軸延伸フィルムである特許Ｉｌ哀の範Ｓ第１
   項記載の構造物。 １　ム上ＫＢ會毅は九後す上（Ｃを積層して層構ａ（ｃ
   ４を形成してなる特許請求の範囲第１項記載の構造物。 ｔＣ上ＫＢｔ設は九後Ｂ上ＫＡｔ積層して層構成（ロ）
   を形成してなる特許請求の範囲第１項記載の構造物。