JPH0140003Y2 - - Google Patents
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- JPH0140003Y2 JPH0140003Y2 JP4073183U JP4073183U JPH0140003Y2 JP H0140003 Y2 JPH0140003 Y2 JP H0140003Y2 JP 4073183 U JP4073183 U JP 4073183U JP 4073183 U JP4073183 U JP 4073183U JP H0140003 Y2 JPH0140003 Y2 JP H0140003Y2
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- JP
- Japan
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- slide base
- groove
- score
- magnetic
- absorber
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Links
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Landscapes
- Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、セラミツク製のスコア本体と、該ス
コア本体の表面に形成した溝部に沿い移動したり
停止することができるゲージ用のスライドベース
とからなり、ワークの直角度などを極めて簡単
に、高精度に測定することができ、尚且つ摩耗や
経年変化による狂いが極めて少ないスコアに関す
るものである。
コア本体の表面に形成した溝部に沿い移動したり
停止することができるゲージ用のスライドベース
とからなり、ワークの直角度などを極めて簡単
に、高精度に測定することができ、尚且つ摩耗や
経年変化による狂いが極めて少ないスコアに関す
るものである。
従来のスコアはワークの直角度しか測定できな
いし、測定する直角度も数値で表われない。しか
も直角度の測定時にはワークの片面から光を照ら
し、他面から肉眼で確認して直角となつているか
否かを判断するのであるから、極めて精度が悪
い。
いし、測定する直角度も数値で表われない。しか
も直角度の測定時にはワークの片面から光を照ら
し、他面から肉眼で確認して直角となつているか
否かを判断するのであるから、極めて精度が悪
い。
また、従来のスコアは、鉄などの金属材料を使
用して作成されているので、永年に渡つて使用す
ると、摩耗や経年変化によつて狂いを生じる。
用して作成されているので、永年に渡つて使用す
ると、摩耗や経年変化によつて狂いを生じる。
本考案は上記に鑑み提案されたもので、耐摩耗
性に優れ経年変化の極めて少ないセラミツクによ
りスコア本体を作成し、該スコア本体の表面にス
ライドベースを案内する溝部をスコア本体の基準
面に対して直角に形成するとともに、該溝部の底
面の一部に吸磁体を溝部の長さ方向に沿つて設
け、ゲージ類を取付けることができるスライドベ
ースには上記吸磁体を吸引する永久磁石を設け、
スライドベースと吸磁体との間には間隙を形成す
ることにより、ワークの直角度を数値として、極
めて高精度に測定することができ、尚且つ永年に
渡つて使用しても摩耗や経年変化による狂いが極
めて少ないスコアを提供しようとするものであ
る。
性に優れ経年変化の極めて少ないセラミツクによ
りスコア本体を作成し、該スコア本体の表面にス
ライドベースを案内する溝部をスコア本体の基準
面に対して直角に形成するとともに、該溝部の底
面の一部に吸磁体を溝部の長さ方向に沿つて設
け、ゲージ類を取付けることができるスライドベ
ースには上記吸磁体を吸引する永久磁石を設け、
スライドベースと吸磁体との間には間隙を形成す
ることにより、ワークの直角度を数値として、極
めて高精度に測定することができ、尚且つ永年に
渡つて使用しても摩耗や経年変化による狂いが極
めて少ないスコアを提供しようとするものであ
る。
以下本考案を実施例の図面にもとづいて説明す
る。
る。
本考案のスコア1は、セラミツク製のスコア本
体2と、スライドベース3とからなる。
体2と、スライドベース3とからなる。
セラミツクは、周知のように、高純度の酸化ア
ルミや酸化けい素、酸化ジルコニウムなどの物
質、又は、これらの物質に化学反応を起こさせる
ことで得られる高純度の物質を原料として、温
度、圧力などを精密制御して製造した非磁性体で
あり、耐摩耗性、機械的強度、耐高温性に秀れ、
経年変化がみられない。したがつてスコア本体2
をセラミツクで成形すると、耐摩耗性等に秀れ、
経年変化が殆んどない正確なスコアとなる。
ルミや酸化けい素、酸化ジルコニウムなどの物
質、又は、これらの物質に化学反応を起こさせる
ことで得られる高純度の物質を原料として、温
度、圧力などを精密制御して製造した非磁性体で
あり、耐摩耗性、機械的強度、耐高温性に秀れ、
経年変化がみられない。したがつてスコア本体2
をセラミツクで成形すると、耐摩耗性等に秀れ、
経年変化が殆んどない正確なスコアとなる。
第1図で示すスコア本体2は、長片部分4と短
片部分5とが高精度に直角となつて一体的で、長
片部分4の片面又は両面に長さ方向に沿い溝部6
を形成してある。この溝部6は極めて高精度であ
つて、短片部分5の下面などに設定した基準面と
高精度に直角となつている。
片部分5とが高精度に直角となつて一体的で、長
片部分4の片面又は両面に長さ方向に沿い溝部6
を形成してある。この溝部6は極めて高精度であ
つて、短片部分5の下面などに設定した基準面と
高精度に直角となつている。
そして上記溝部6の底面には、溝部6の幅より
も狭い埋設用溝7を溝部6の長さ方向に沿つて形
成し、該埋設用溝7内には厚さが埋設用溝7の深
さよりも薄い鉄板などからなる吸磁体8を埋設状
に設ける。なお吸磁体8を溝7内に固定するには
長片部分4の後面からボルト9などにより止着し
てもよいし、接着剤により貼着してもよい。この
様にして溝部6内に吸磁体8を埋設すると、溝部
6の底面の左右部分がスライドベース3の摺動面
10,10となり、吸磁体8の表面は摺動面1
0,10に対して僅かの段差が生じる。
も狭い埋設用溝7を溝部6の長さ方向に沿つて形
成し、該埋設用溝7内には厚さが埋設用溝7の深
さよりも薄い鉄板などからなる吸磁体8を埋設状
に設ける。なお吸磁体8を溝7内に固定するには
長片部分4の後面からボルト9などにより止着し
てもよいし、接着剤により貼着してもよい。この
様にして溝部6内に吸磁体8を埋設すると、溝部
6の底面の左右部分がスライドベース3の摺動面
10,10となり、吸磁体8の表面は摺動面1
0,10に対して僅かの段差が生じる。
なお、第1図で示すスコア本体1の実施例にお
いては長片部分4にのみ溝部6を形成したが、第
2図で示すように、短片部分5の片面又は両面に
も長片部分4と同じように、長さ方向に沿い溝部
6′を形成し、該溝部6′の底面に埋設用溝を形成
して吸磁体8′を埋設状に設けると共に、溝部
6′の底面の左右部分にスライドベース3の摺動
面10′,10′を形成してもよい。
いては長片部分4にのみ溝部6を形成したが、第
2図で示すように、短片部分5の片面又は両面に
も長片部分4と同じように、長さ方向に沿い溝部
6′を形成し、該溝部6′の底面に埋設用溝を形成
して吸磁体8′を埋設状に設けると共に、溝部
6′の底面の左右部分にスライドベース3の摺動
面10′,10′を形成してもよい。
上記短片部分5には、下面に臨むように左右2
個の第1永久磁石11,11を埋設状に設け、ま
た長片部分4及び短辺部分5には後面に臨むよう
に第2永久磁石12,12を埋設状に設ける。第
1永久磁石11はテーブル面において長片部分4
が直立するようにスコア本体2を保持するもの
で、また第2永久磁石12はテーブル面に倒した
スコア本体2を保持するものである。
個の第1永久磁石11,11を埋設状に設け、ま
た長片部分4及び短辺部分5には後面に臨むよう
に第2永久磁石12,12を埋設状に設ける。第
1永久磁石11はテーブル面において長片部分4
が直立するようにスコア本体2を保持するもの
で、また第2永久磁石12はテーブル面に倒した
スコア本体2を保持するものである。
一方、前記スライドベース3は高さが短かい四
角柱状で、上記溝部6に密接状に嵌入する横幅で
ある。そして該スライドベース3の上方にはゲー
ジ取付用の大径孔13と小径孔14とを横方向に
貫通状に設けるとともに、前後にタツピングホー
ル15を形成し、且つ上面からは大径孔13と小
径孔14との境界部分に開口するようにゲージの
固定用ネジ孔16を形成する。
角柱状で、上記溝部6に密接状に嵌入する横幅で
ある。そして該スライドベース3の上方にはゲー
ジ取付用の大径孔13と小径孔14とを横方向に
貫通状に設けるとともに、前後にタツピングホー
ル15を形成し、且つ上面からは大径孔13と小
径孔14との境界部分に開口するようにゲージの
固定用ネジ孔16を形成する。
上記した大径孔13又は小径孔14にはダイヤ
ルゲージ、テコ式ダイヤルゲージなどのゲージa
のロツドbを挿着するもので、いずれかのタツピ
ングホール15にはスライドベース3を移動する
ときの掴みとなる操作子17を螺着し、またネジ
孔16にはロツドbを締着するネジ杆18を螺合
する。
ルゲージ、テコ式ダイヤルゲージなどのゲージa
のロツドbを挿着するもので、いずれかのタツピ
ングホール15にはスライドベース3を移動する
ときの掴みとなる操作子17を螺着し、またネジ
孔16にはロツドbを締着するネジ杆18を螺合
する。
またスライドベース3の下面には埋設状に設け
た永久磁石19を臨ませ、該永久磁石19と前記
吸磁体8との吸引力によりスライドベース3を溝
部6内に吸着保持させる。スライドベース3を溝
部6内に吸着保持させると、スライドベース3の
下面が溝部6の底面の左右摺動面10,10に当
接するが、吸磁体8表面とスライドベース3下面
との間には間隙lが形成される。したがつてスラ
イドベース3を溝部6の長さ方向に移動したり停
止したりしても、スライドベース3が吸磁体8に
接触することはない。このためスライドベース3
とスコア本体2とが接触する部分、即ちスライド
ベース3の下面の左右側縁、溝部6の左右両側
面、及び底面の左右摺動面10,10のみを高精
度に加工すればよい。これにより加工工程を大幅
に省略することができるし、スコア1自体の精度
を、磁性体8の加工精度、取付精度、経年変化に
拘らず、永年に渡つて高度に維持することでき
る。
た永久磁石19を臨ませ、該永久磁石19と前記
吸磁体8との吸引力によりスライドベース3を溝
部6内に吸着保持させる。スライドベース3を溝
部6内に吸着保持させると、スライドベース3の
下面が溝部6の底面の左右摺動面10,10に当
接するが、吸磁体8表面とスライドベース3下面
との間には間隙lが形成される。したがつてスラ
イドベース3を溝部6の長さ方向に移動したり停
止したりしても、スライドベース3が吸磁体8に
接触することはない。このためスライドベース3
とスコア本体2とが接触する部分、即ちスライド
ベース3の下面の左右側縁、溝部6の左右両側
面、及び底面の左右摺動面10,10のみを高精
度に加工すればよい。これにより加工工程を大幅
に省略することができるし、スコア1自体の精度
を、磁性体8の加工精度、取付精度、経年変化に
拘らず、永年に渡つて高度に維持することでき
る。
本考案のスコア1は上記したスコア本体2とス
ライドベース3とからなり、使用に際しては大径
孔13又は小径孔14のいずれかにゲージを通
し、ネジ杆18をネジ孔16に螺合してゲージを
固定するとともに操作子17をタツピングホール
15に装着したスライドベース3を長片部分4の
溝部6に嵌装し、永久磁石19で吸着保持させれ
ばよい。
ライドベース3とからなり、使用に際しては大径
孔13又は小径孔14のいずれかにゲージを通
し、ネジ杆18をネジ孔16に螺合してゲージを
固定するとともに操作子17をタツピングホール
15に装着したスライドベース3を長片部分4の
溝部6に嵌装し、永久磁石19で吸着保持させれ
ばよい。
第4図乃至第6図は前記スコアの使用概略状態
を示すもので、第4図ではワークAの直立直角度
を測定する場合である。即ちテーブル面Bにワー
クAを直立状に載置するとともにスコア本体2の
短片部分5下面、即ち基準面をテーブル面Bに載
せ、第1永久磁石11,11で吸着保持して直立
する長片部分4をワークAの直立面A1に近づけ
る。
を示すもので、第4図ではワークAの直立直角度
を測定する場合である。即ちテーブル面Bにワー
クAを直立状に載置するとともにスコア本体2の
短片部分5下面、即ち基準面をテーブル面Bに載
せ、第1永久磁石11,11で吸着保持して直立
する長片部分4をワークAの直立面A1に近づけ
る。
そしてダイヤルゲージaを固定したスライドベ
ース3を溝部6に嵌め付け、該ゲージ先端の測定
端子を直立面A1に接触させてスライドベース3
を溝部6に沿い移動すれば、直立面A1の直立直
角度を高精度で測定することができ、しかも精度
はダイヤルゲージaにより数値として表われる。
ース3を溝部6に嵌め付け、該ゲージ先端の測定
端子を直立面A1に接触させてスライドベース3
を溝部6に沿い移動すれば、直立面A1の直立直
角度を高精度で測定することができ、しかも精度
はダイヤルゲージaにより数値として表われる。
第5図はワークAの平行度や歪を測定する場合
で、テーブル面にスコア本体2を載置して第2永
久磁石12,12で吸着保持するとともにワーク
を置く。そしてテコ式ダイヤルゲージa(スモー
ルテスター、インジケータなど)を固定したスラ
イドベース3を溝部6に沿い移動し、該ゲージa
の測定端子CをワークAに上面A2に走行させる。
これによりワークAの平行度や歪を高精度に、し
かも数値として簡単に測定することができる。
で、テーブル面にスコア本体2を載置して第2永
久磁石12,12で吸着保持するとともにワーク
を置く。そしてテコ式ダイヤルゲージa(スモー
ルテスター、インジケータなど)を固定したスラ
イドベース3を溝部6に沿い移動し、該ゲージa
の測定端子CをワークAに上面A2に走行させる。
これによりワークAの平行度や歪を高精度に、し
かも数値として簡単に測定することができる。
第6図は長片部分4及び短片部分5に溝部6,
6′を形成したスコア本体2を使用してワークA
の平面直角度を測定する場合で、テーブル面にス
コア本体2を倒して第2永久磁石12,12で吸
着保持し、ワークAの隣り合う面A3,A4を長片
部分4と短片部分5とに平行にする。そしてダイ
ヤルゲージaを取付けたスライドベース3を長片
溝部6と短片溝部6′とに沿い移動すれば、ワー
クAの面A3,A4における平面直角度を高精度に、
しかも数値として測定することができる。この場
合、ダイヤルゲージを取付けたスライドベースを
長片溝部6と短片溝部6′とに個々に移動しても
よいし、同時に移動してもよい。
6′を形成したスコア本体2を使用してワークA
の平面直角度を測定する場合で、テーブル面にス
コア本体2を倒して第2永久磁石12,12で吸
着保持し、ワークAの隣り合う面A3,A4を長片
部分4と短片部分5とに平行にする。そしてダイ
ヤルゲージaを取付けたスライドベース3を長片
溝部6と短片溝部6′とに沿い移動すれば、ワー
クAの面A3,A4における平面直角度を高精度に、
しかも数値として測定することができる。この場
合、ダイヤルゲージを取付けたスライドベースを
長片溝部6と短片溝部6′とに個々に移動しても
よいし、同時に移動してもよい。
スコア本体2は、上記L字状に限定されるもの
ではなく、平坦な基準面を有し、該基準面に対し
て溝部6を直角に形成することができる形状であ
ればどのようなものでもよい。例えば第7図の実
施例で示すスコア本体2は、基準面となる上面、
下面を有し、これら上、下面に対して周面を直角
にしたセラミツク製の円筒であり、上記周面に溝
部6を上、下面に対して直角に形成し、該溝部6
の底面に前記実施例と同様に吸磁体8を埋設し、
下面には第1永久磁石11,11を埋設状に設け
たものである。なお溝部6にスライドベース3を
嵌め付けたとき、スライドベース3下面と吸磁体
8との間に間隙が形成されるように、吸磁体8の
表面と溝部6の摺動面10,10とに段差を形成
させておく。
ではなく、平坦な基準面を有し、該基準面に対し
て溝部6を直角に形成することができる形状であ
ればどのようなものでもよい。例えば第7図の実
施例で示すスコア本体2は、基準面となる上面、
下面を有し、これら上、下面に対して周面を直角
にしたセラミツク製の円筒であり、上記周面に溝
部6を上、下面に対して直角に形成し、該溝部6
の底面に前記実施例と同様に吸磁体8を埋設し、
下面には第1永久磁石11,11を埋設状に設け
たものである。なお溝部6にスライドベース3を
嵌め付けたとき、スライドベース3下面と吸磁体
8との間に間隙が形成されるように、吸磁体8の
表面と溝部6の摺動面10,10とに段差を形成
させておく。
スライドベース3下面と吸磁体8表面との間の
間隙lは吸磁体8表面と溝部6の底面との間に段
差を形成する場合だけに限られない。例えば第8
図で示すように、溝部6の底面のほぼ中央に吸磁
体8を突出状に固定し、スライドベース3下面に
逃げ溝20を形成し、スライドベース3を溝部6
に嵌め付けたとき、磁性体8表面とスライドベー
ス3下面の逃げ溝20内面との間に間隙lが形成
されるようにしてもよい。この様にスライドベー
ス3下面の逃げ溝20を設けることにより間隙l
を形成するようにすると、加工が比較的難しいセ
ラミツクには単純な形状の溝部6を加工するだけ
でよい。したがつてスコア本体2がセラミツク製
であつても成形、仕上工程等を合理的に行うこと
ができる。なおスライドベース3は、セラミツク
でなくてもよいので、例えば鉄製にすると複雑な
形状であつても容易に高精度加工を行うことがで
きる。
間隙lは吸磁体8表面と溝部6の底面との間に段
差を形成する場合だけに限られない。例えば第8
図で示すように、溝部6の底面のほぼ中央に吸磁
体8を突出状に固定し、スライドベース3下面に
逃げ溝20を形成し、スライドベース3を溝部6
に嵌め付けたとき、磁性体8表面とスライドベー
ス3下面の逃げ溝20内面との間に間隙lが形成
されるようにしてもよい。この様にスライドベー
ス3下面の逃げ溝20を設けることにより間隙l
を形成するようにすると、加工が比較的難しいセ
ラミツクには単純な形状の溝部6を加工するだけ
でよい。したがつてスコア本体2がセラミツク製
であつても成形、仕上工程等を合理的に行うこと
ができる。なおスライドベース3は、セラミツク
でなくてもよいので、例えば鉄製にすると複雑な
形状であつても容易に高精度加工を行うことがで
きる。
また溝部6の底面と磁性体8表面とを同一平面
とし、スライドベース3下面の吸磁体8に対向す
る部分を凹状に成形してもよい。なお本案におけ
る間隙lは、0.05mm以上であることが望ましい。
とし、スライドベース3下面の吸磁体8に対向す
る部分を凹状に成形してもよい。なお本案におけ
る間隙lは、0.05mm以上であることが望ましい。
以上説明したように本考案によれば、セラミツ
ク製のスコア本体の表面にスライドベースを案内
する溝部をスコア本体の基準面に対して直角に形
成するとともに、該溝部の底面の一部に吸磁体を
溝部の長さ方向に沿つて設け、ゲージ類を取付け
ることができるスライドベースには上記吸磁体を
吸引する永久磁石を設け、スライドベース下面と
吸磁体表面との間に間隙を形成するので、ワーク
の直角度を極めて高精度に測定することができ
る。
ク製のスコア本体の表面にスライドベースを案内
する溝部をスコア本体の基準面に対して直角に形
成するとともに、該溝部の底面の一部に吸磁体を
溝部の長さ方向に沿つて設け、ゲージ類を取付け
ることができるスライドベースには上記吸磁体を
吸引する永久磁石を設け、スライドベース下面と
吸磁体表面との間に間隙を形成するので、ワーク
の直角度を極めて高精度に測定することができ
る。
また、スコア本体をセラミツク製にしたこと及
びスライドベースと吸磁体とが接触しないように
したことにより、永年に渡つて使用しても摩耗や
経年変化による狂いが殆んど無く、したがつて高
い精度を永年に渡つて維持することができる。
びスライドベースと吸磁体とが接触しないように
したことにより、永年に渡つて使用しても摩耗や
経年変化による狂いが殆んど無く、したがつて高
い精度を永年に渡つて維持することができる。
更には、スライドベース下面と吸磁体との間に
間隙ができるように加工すればよいので、鉄など
に比較して加工が難しいセラミツクを使用して
も、スコア製作における精密加工を合理的に行う
ことができる。
間隙ができるように加工すればよいので、鉄など
に比較して加工が難しいセラミツクを使用して
も、スコア製作における精密加工を合理的に行う
ことができる。
図面は本考案の実施例を示すもので、第1図は
分解した斜視図、第2図は長片部分と短片部分と
に溝部を形成したスコア本体の一部を断面とした
平面図、第3図は組合せ状態の縦断面図、第4図
乃至第6図は測定状態の概略図、第7図はスコア
本体の他の実施例の斜視図、第8図はスライドベ
ース下面を凹状に形成した他の実施例の断面図で
ある。 1……スコア、2……スコア本体、3……スラ
イドベース、6……溝部、8……吸磁体、19…
…永久磁石、l……間隙。
分解した斜視図、第2図は長片部分と短片部分と
に溝部を形成したスコア本体の一部を断面とした
平面図、第3図は組合せ状態の縦断面図、第4図
乃至第6図は測定状態の概略図、第7図はスコア
本体の他の実施例の斜視図、第8図はスライドベ
ース下面を凹状に形成した他の実施例の断面図で
ある。 1……スコア、2……スコア本体、3……スラ
イドベース、6……溝部、8……吸磁体、19…
…永久磁石、l……間隙。
Claims (1)
- セラミツク製のスコア本体と、ゲージ類を取付
けることができるスライドベースとからなり、ス
コア本体の表面にスライドベースを案内する溝部
をスコア本体の基準面に対して直角に形成すると
共に、該溝部の底面の一部に吸磁体を溝部の長さ
方向に沿つて設け、スライドベースの下面には上
記吸磁体に吸引する永久磁石を臨ませ、該スライ
ドベースを溝部内に嵌合した状態でスライドベー
スと吸磁体とが接触しないようにスライドベース
下面と磁性体表面との間に間隙を形成してなるス
コア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4073183U JPS59146704U (ja) | 1983-03-23 | 1983-03-23 | スコア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4073183U JPS59146704U (ja) | 1983-03-23 | 1983-03-23 | スコア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59146704U JPS59146704U (ja) | 1984-10-01 |
| JPH0140003Y2 true JPH0140003Y2 (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=30171342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4073183U Granted JPS59146704U (ja) | 1983-03-23 | 1983-03-23 | スコア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59146704U (ja) |
-
1983
- 1983-03-23 JP JP4073183U patent/JPS59146704U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59146704U (ja) | 1984-10-01 |
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