JPH01503295A - ガラスの化学蒸着用分配ビーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 ガラスの化学蒸着用分配ビーム 技術分野 本発明はガラス被覆装置に関し、特に混合バッフルを有する温度制御分配ビーム に関する。

背景技術 平坦なガラスを被覆する１つの方法は概ね大気圧下でガス状被覆材料をガラスに 接触させることである。しかしながら、周知技術では移動する帯状ガラスに均一 な被膜を形成することが困難である。米国特許第３．８５０．６７９号明細書に は、化学蒸着法により製造される薄膜の均一性を向上させるために被覆ガスをノ ズルからガラス表面に少なくともレイノルズ数２５００で噴射する方法が提案さ れている。連続する帯状ガラスまたはガラス板を被覆するガス流の速度としては 、レイノルズ数が少なくとも５０００であることが好ましい。レイノルズ数が２ ５００以上のガ均一な被膜が得られるより有効な方法は、被覆ガスが被覆するべ き移動中の帯状ガラスの表面と概ね平行に乱流状態に対立する層流状態で流れる ようにすることである。層流状態を達成するための方法及び装置が米国特許第４ ，４６９．０４５号明細書に開示されている。被覆ガスは、移動する帯状ガラス の上面を横切って該帯状ガラスの移動方向と直交する向きに延長する分配装置に よって被覆するべきガラス面に向けられる。この装置は、高温ガラス表面に接触 する際に反応して該ガラス上に被覆材料を付着させる金属蒸気のようなガスから 被膜を形成するために有用である。供給されるガス及び分配ビームの温度は、被 覆ガスの凝縮を防止し得るように充分高く、かつ被覆ガスがガラス表面に到達す る前に生じる被覆ガスの実質的な分解または凝縮、早過ぎる薄膜形成または気相 核形成（粉末形成）のような有害な反応を防止するように充分に低い温度に維持 される。この温度制御を要求通り正確に行なうことは困難本発明は、移動する高 温帯状ガラスの上方に配置された分配ビームを用いて平坦なガラスを被覆するた めの方法及び装置に関する。分解ビームの内部に形成され、隔壁によって２つの チャンバに分割されたプリナムに２種類の異なる反応ガスが送給される。各チャ ンバに隔壁を追加することによって異なるガスを追加することができる。これら のガスは、確実に帯状ガラスの幅方向に均一に分配されるように、プリナムから 流出する際に隔壁によって分離され、かつ別個のワツフルパックまたはバッフル 積層体のような他の流れ分配機構を通過する。プリナムの温度、即ちプリナム内 のガスの温度は水冷及び電気ヒータによって制御される。

ワツフルパックから出たガスは、分解ビームの長さに亘って延長しかつ帯状ガラ スの上面に向けて開口するチャネルまたはダクトに入る。ダクト内に於て両ガス が単段または多段の独特なフィンガバッフルによって完全に混合される。このダ クトは、水冷プリナムから絶縁されかつ熱電対フィードバックを有する電気ヒー タを備えるグラファイト製ブロックのような高熱伝導性材料によって郭定される 。

グラファイト製ブロックの温度は、プリナムの周囲にある水冷ジャケット兼支持 体への熱伝達を制御しかつ電気ヒータを使用することによって所望の水準に維持 される。

図面の簡単な説明 第１図は、本発明による分配ビームを備えるフロート式ガラス製造装置を示す縦 断面図である。

第２図は、第１図示の分配ビームを側方から見た拡大断面図である。

第３図は、第２図の分配ビームが有するワツフルパックの部分拡大図である。

第４図は、第２図示のフィンガバッフルの部分を拡大して示す斜視図である。

発明の要旨 本発明によれば、被覆材料を付着させることによってガラス板の表面を被覆する 装置であって、第１被覆ガスを受容しかつ出口を有する第１プリナムと、第２被 覆ガスを受容しかつ出口を有する第２プリナムと、前記第１及び第２プリナム間 に延在してそれらを分割する隔壁と、前記第１及び第２プリナムの各出口に接続 された入口と被覆するべきガラス板の表面近傍に位置するようにされた出口とを 有する混合チャンバと、前記第１被覆ガスと前記第２被覆ガスとを混合して前記 混合チャンバの前記出口近傍に被覆材料を形成するために前記混合チャンバ内に 配置された混合手段とを備えることを特徴とするガラス被覆装置が提供さ本発明 による分配ビームは、浮動する帯状ガラスの上面に均一な被膜を形成する際に使 用することができる。帯状ガラスが浮動する槽の入口端及び出口端に関する分配 ビームの位置は、付着させる材料に連関するガラスの最適温度によって決定され る。また、温度及び環境雰囲気が被覆化学に適している場合には、分配ビームを レア内で使用することができる。第１図には、図示されないガラス溶融炉の前部 炉床から導かれるカナル１２に沿って溶融ガラス１１を従来の手法により搬送す るフロート式ガラス製造装置が示されている。カナル１２の終端には、ジャーム （ｊａｍｂ）即ち横壁部１３とリップ１４とを有する吹出し口が設けられている 。この通常ソーダー石灰−石英ガラスからなる溶融ガラスの吹出し口への流れは 、調整用堰板１５によって制御される。前記吹出し口は、フロア部１７と出口端 壁部１８と側壁部１９とからなるタンク構造の入口端壁部１６の上を延長してい る。

このタンク構造は通常溶融錫または錫が主成分を占める溶融錫合金の溶融金属槽 ２０を備え、符号２１で示されるように溶融ガラスが前記吹出し口のリップ１４ がら溶融金属槽２０の入口端部の表面に流れ込んでいる。この入口端部に於ける 温度は、前記タンク構造の上側に支持されて溶融金属層２０の上方にヘッドスペ ース２４を画定するルーフ構造２３に取り付けられたヒータ２２によって約１０ ００℃に維持されている。ルーフ構造２３は、金属溶融槽２０の前記入口端部に 於て金属溶融槽２０の表面近くまで垂下して入口２６の高さを制限する入口端壁 部２５を有する。

ルーフ構造２３の延長部２７が堰板１５まで延長して前記吹出し口を取り囲むチ ャンバを形成している。

また、ルーフ構造２３はその出口端に出口開口２９を画定するように垂下する壁 部２８を有する。金属溶融槽２０上で製造された帯状ガラス３０は、ルーフ構造 ２３の出口端壁部２８の下面と金属溶融槽２０の出口端壁部１８の上面との間に 形成される出口２９から搬出される。出口２９の下流側には、被動トラクショし ローラ３１がその上面を金属溶融槽２０の出口端壁部１８の上面の高さより僅か に高くして設けられ、それにより帯状ガラス３０が金属溶融槽２０表面から緩や かに持ち上げられて出口２９からローラ３１上を水平方向に搬出される。

共通のヘッダ３３に接続され、かつルーフ屋根２３を貫通して下方へ延長するダ クト３２を介して供給される、例えば９５％の窒素と５％の水素とからなる保護 雰囲気が、金属溶融槽２０上方のヘッドスペース２４内のプリナムに維持されて いる。この保護雰囲気は、入口２６を介して外へ流れて前記吹出し口を囲繞する 前記チャンバを充填する。

温度勾配は、金属溶融槽２０に沿って金属溶融層２０の入口端部に於ける約１０ ００℃の温度から金属溶融槽２０から帯状ガラスを搬出する出口端部付近の約５ ７０℃乃至６５０℃の範囲の温度に維持されている。この出口端部付近の低い温 度で、帯状ガラスはトラクションローラ３１と接触しても損傷しない程度まで硬 化するが、図示されるように金属溶融槽２０表面から持ち上げることができる。

前記吹出し口のリップ１４から金属溶融槽２０上に流れ込む溶融ガラス１１は、 該槽上を横方向に流れて溶融ガラスの層３４を形成し、冷却されて金属溶融槽２ ０から搬出される。金属溶融槽２０を構成するタンク構造は、側壁部１９間の幅 が帯状リボンの幅より大きい。

ガラス温度が６４９℃（１２００″’Ｆ）の範囲にある領域に於て金属溶融層に 沿ってその入口端部に向けてガラスの移動路を横切るように、ガラス層３４の表 面に被覆ガスを供給するためのガス分配器３５が配置されている。このガス分配 器３５は第２図に詳細に示されている。

多くの化学蒸着法（ＣＶＤ）に使用される反応物質の物理的及び化学的性質から 、ガス及び分配ビーム表面をある正確な温度範囲内に維持せねばならないことが 条件とされる。これらの条件が要請されるのは、温度が正確に維持されない場合 に凝縮、早過ぎる薄膜形成、分解及び気相核形成（粉未形成）が起こり得るから である。多成分ＣＶＤシステムでは、例えば２つのガス流を狭い温度範囲に維持 しなければならないだけでなく、それらをガラス表面に接触する直前まで分離さ せておかなければならないようなＴｉ−Ｎ薄膜形成等の場合に、これらの条件が 一層厳しいものになる。

試験結果によれば、Ｔｉ　−Ｎ反応物の付着には２６０℃（５００’Ｆ）から３ ４３℃（６５０°Ｆ）の反応物温度窓即ち温度幅が望ましい。更に、ガスチャネ ルの表面の成る部分について望ましい温度幅は、被膜の剥離や均一性の障害とな る好ましくない材料の分配ビーム表面への付着を最小限にするために３１６℃（ ６００°Ｆ）乃至４８２℃（９００６Ｆ）の範囲であると思われる。

ＣＶＤ分配装置は約６４９℃（１２００″Ｆ）　（７）ｉ境下テ運転されるので 、従来はオイルやガスのように分配ビーム表面の所望の温度で運転でき、かつポ ンプの故障や温度が制御不能で６４９℃（１２００°Ｆ）まで上昇した場合に分 配ビームを破壊するという意味で分解しない冷却流体が使用されていた。このよ うな設計の考え方により、高価で危険または制御の悪いシステムになっていた。

本発明は、関連する分配ビーム表面近傍に供給される容易に制御可能な電気熱を 通常圧力の液状水冷に組み合せて用いて分配ビーム表面を制御する手段を提供す ることによって従来技術の諸問題を解消する。所望の結果を達成するための１つ の鍵は、関連する面及び水冷支持体を有するビーム部材間の熱抵抗を制御するこ とである。これは、ビーム部材の温度が増加するとビーム部材と水冷支持体間の 境界の熱抵抗が減少するような冷却ファスナ手段と絶縁材料とを適当に選択する ことによって達成される。

本発明によれば、より高い薄膜付着効率及び／またはより高い薄膜純度が達成さ れるように、２つまたはそれ以上の薄膜先駆物質が薄膜形成面に接触する前にそ れらを完全に混合する手段が提供される。反応物質がワツフルパックを通過する 前に静的インライン混合操作を行なうような従来手段では、早い時期に粉未形成 やＣＶＤ装置の詰まりが生じることになる。これらの問題は本発明によるリニア 静的混合バッフルでは、その先駆物質流路内に於ける位置を付着面にできる限り 近付けることによって回避している。

しかしながら、このガラス面への接近は、先駆物質流がガラス面に接触する前に 混合プレートによって生じる乱流が衰える程度の距離にしなければならない。

ガス分配ビーム３５は、概ね水平な上壁３７と下方に垂下する側壁３８．３９と を有する概ね逆向きＵ字形のチャネル部材３６を有する。チャネル部材３６内に は、概ね水平に延長する上壁４１と下向きに垂下する側壁４２．４３とを有する 逆向きＵ字形の別個のチャネル部材４０が配置されている。側壁３９．４３の下 端は溶接のような従来手段により取り付けられる水平部材４４によって結合され ている。側壁３８．４２の下端は同様に水平部材４５に結合している。このよう にして、チャネル部材３６、チャネル部材４０、水平部材４４及び水平部材４５ によって水のような伝熱流体を通過させるためのダクト４６が郭定される。

図示していないが、比較的低温の伝熱流体をダクト４６に供給しかつ高温の伝熱 流体をダクト４６から除去するために、従来技術による入口及び出口手段をダク ト４６に結合することができる。また、伝熱流体のための別個の通路を郭定する ために、１個または２個以上の隔壁をダクト４６内に形成することができる。例 えば、概ね垂直に延長する壁を土壁３６と水平部材４５との間に形成して、側壁 ３８．４２間の領域を伝熱流体の入口のための側壁４２に近い領域を有する通路 と逆方向に流れる伝熱流体の出口のための側壁３８に近い領域を有する別個の通 路とに分割することができる。

流体ダクト４６を郭定する構造は、溶融ガラス槽３４の上面に向けて送給される 被覆ガスの出口通路を郭定する１対のブロックに結合している。このブロックは グラファイトまたは他の適当な高熱伝導性材料で形成されている。例えば、先行 する前側のリードトウ（ｌ　ｅａｄ−ｔｏｅ）グラファイトブロック４７は側壁 ４３に対面する概ね垂直に延長する面を有する。

取付プレート４８が側壁４３に隣接し、かつ絶縁板４９が取付プレート４８とリ ードトウブロック４７との間に配置されている。リードトウブロック４７は、図 示されない冷却ねじ付ファスナによって側壁４３に取り付けることができる。同 様に、中央ブロック５０は、その上面が水平に延長する部材５１ａと側壁３８に 隣接しつつ垂直に延長する部材５１ｂとを有する取付プレートによって水平部材 ４５に取り付けられている。絶縁材料の板材５２がロック５０と取付プレート部 材５１ａとの間に配置され、かつ取り付けのために図示されない冷却ねじ付ファ スナが使用されている。

取付プレート５３は上壁４１の下向き面に取り付けられている。絶縁材料の板材 ５４が取付プレート５３の下向き面に取り付けられ、かつヒータブロック５５が 絶縁材５４の下向き面に取り付けられている。第２図には、ヒータブロック５５ の側壁に形成された関連する凹所５７内にそれぞれ配置された複数の抵抗ヒータ 要素５６の中の２個が示されている。各ヒータ要素５６は電気的リード線５８に 接続され、かつリード線５８は電気的ヒータ５６によって発生する熱量を制御す るだめの制御手段を有する図示されない電源に接続されている。

１対のＵ字形チャネル部材５９が１対の隣接するブリナム６０．６１を形成して いる。各チャネル部材５９は、ヒータブロック５５の下向き面に取り付けられた 上壁６２と下向きに延長する外側側壁６３及び内側側壁６４とを有する。内側側 壁６４は隣接しているが、下向きに延長する隔壁６５によって分離されている。

各外側側壁６３の外面は関連するサイドブロック６６に隣接している。各サイド ブロック６６はヒータブロック５５の下向き面に当接する上面を有する。個々の 熱電対６７が各ヒータ要素５６に関連してサイドブロック６６の外側側壁に形成 された凹所６８内に配置されている。各熱電対６７はヒータ要素５６のための図 示されない制御手段に接続された電気的リード線６９に接続されている。従って 、熱電対６７によって感知される温度に従ってヒータ５６に供給される電力を制 御することにより、プリナム６０．６１を取り囲む構造内の温度を所定の均一な 温度に維持することができる。

１対の支持プレート７０には、それぞれ外側側壁６３の下縁及びサイドブロック ６６の下縁を保持するために上向きの凹所７１が形設されている。外側側壁６３ 及びサイドブロック６６は図示されないねじ付ファスナによって取り付けられて いる。また、各支持プレート７０は、リードトウブロック４７及び中央ブロック ５０の上面に当接しかつ後述するワツフル鉄の位置決めボルトのスラストプレー トとして機能する下向きフランジ７２を有する。このようにして、取付プレート ５３、絶縁材５４、ヒータブロック５５、Ｕ字形チャネル５９、サイドブロック ６６及び支持プレート７０によって、上壁４１の下向き面と前記各ブロックの上 向き面との間に延長しかつ側壁４２．４３間に配置されたプリナム構造が形成さ れる。

１対のワツフル鉄７３が各支持プレート７０の下向き面とブロック４７．５０の 上向き面との間に配置されている。

水平方向に延長する位置決めボルトがワツフル鉄７３の側面に螺合し、かつ各位 置決めボルト７４の頭部がそれぞれ対応するフランジ７２の内向き面に当接して いる。従って、位置決めボルト７４を回動することによって、ワツフル鉄７３の 間をリードトウブロック４７及び中央ブロック５０間に郭定される混合チャンバ ７５内に延長する隔壁６５の対向側部に向けてワツフル鉄７３を接近させ、また は離隔させることができる。１対のワツフルパック７６が隔壁６５と各ワツフル 鉄７３との間にそれぞれ配置されている。

隔壁６５を混合チャンバ７５内に１．２７乃至２．　５４ｃｍ（１／２乃至１イ ンチ）延長させることによってワツフルパック７６の詰りか防止されるようにな る。

第３図に良く示されるように、ワツフルパック７６は、プリナム６０．６１の断 面積に比較して小さい断面積を有する複数のチャネル７８を郭定するように所謂 「違和」に配置された複数の同様のけん縮金属板７７で形成される。

従って、圧力をかけて被覆ガスをプリナム６０．６１に供給すると、プリナム６ ０．６１に於ける圧力降下が制限されたチャネル７８に於ける圧力降下と比較し て小さい。ワッフルプレート７６は、その全長に亘って被覆ガスが確実に概ね一 定の圧力及び温度で放出され、従９て被覆されるべきガラスの全幅に亘って均一 に放出されるガス流絞り手段を有効に構成する。矢印で示されるように、プリナ ム６０．６１に供給されたガスは隔壁６５によって分離され、それぞれ関連する 一方のワツフルパック７６を通過して混合チャンバ７５の上部に流入する。ワツ フルパック７６の代わりに均一な流れを作るためのワツフル積層体または他の適 当な手段を用いることができる。

プリナム６０．６１から別個に供給される２つのガスは混合チャンバ７５の上部 に流入して混合チャンバ７５の幅方向に延長するリニア静的混合バッフルまたは フィンガバッフル７９に接触する。第４図に良く示されるように、フィンガバッ フル７９は交互に角度を変えた２組のフィンガ８０．８１を備える。フィンガ８ ０は、それぞれ上端がブロック４７内に固定された概ね水平方向に延長する結合 帯片８２に結合している。各フィンガ８０は、混合チャンバ７５の幅に亘って水 平方向に関して一定の角度で下向きに延長し、かつその終端部に概ね水平に延長 する足８３を備える。各足８３はブロック５０内に摺合保持されている。

各フィンガ８１は上側結合帯片８４と下側結合帯片８５との間に延在する。上側 結合帯片８４は概ね水平に延長しかつブロック５０内に固定されている。そして 、フィンガ８１は下向きに成る角度で延長し、かつ概ね水平に延長してブロック ４７内に保持された下側結合帯片８５まて下向きに成る角度で延長している。当 然ながら、結合帯片８２と足８３とを逆にして一方の結合帯片８４．８５を足８ ３と同様の足で形成することができ、かつ一方の結合に帯片８４．８５が足で形 成されている場合には、足８３を結合帯片で形成することができる。

プリナム６０から関連するワツフルバック７６を通過して流出したガスは、最初 にプリナム出口に近い方のフィンガ８０の一端に当たる。ガスの半分はフィンガ ８０に衝突して混合チャンバ７５の反対側に向けられる。このガスの残りの半分 がフィンガ８０間を流れてフィンガ８１の下端に衝突する。同時に、プリナム６ １からその関連するワツフルバック７６を通過して流出したガスは、プリナム出 口に近い方のフィンガ８１の一端に当たる。ガスの半分はフィンガ８］に衝突し て混合チャンバ７５の反対側に向けられるが、ガスの残りの半分がフィンガ８１ 間を流れてフィンガ８０の下端に衝突する。このように２つの細長いガス流を多 数の流れに分割しかつガス流の半分の向きを変えることによって、２つのガスが 完全に混合されかつ混合ガスがフィンガバッフル７つの下部から流出してブロッ ク４７及びブロック５０の対向面間に郭定される分配スロット８６内に流れ込む 。添付図面には１個のフィンガバッフル７つだけが示されているが、場合に応じ て更に混合するために別のフィンガバッフルをフィンガバッフル７９の上方及び ／または下方に配置することができる。

リードトウブロック４７は、中央ブロック５０の下面の下側に延長し、かつ垂直 下向きのガス流を中央ブロック５０の下面と溶融ガラス板３４の上面との間の水 平な層流に変換させるように形成されている。第２図に於て、溶融ガラス板３４ は矢印の方向に移動し、かつそれに沿って混合チャンバ７５及び分配スロット８ ６を郭定するブロック５０の側部からガラス板３４の表面に付着されないガス混 合物の部分を収集するための手段８７を取り付けたブロック５０の反対側の側部 に向けてガスを進行させるようになっている。収集手段８７には、米国特許第４ ．４６９．０４５号明細書に図示されるようなグラファイト製ブロック５３や米 国特許第４．５０４．５２６号明細書に図示されるような真空装置からなる様々 な従来形式の装置を使用することができる。

溶融ガラス板３４の表面に被覆材料を付着させ、かつ好ましくないブロックへの 付着を最小にするために適当な温度を維持するために、ブロック４７に配置され たヒータ８８やブロック５０に配置されたヒータ９０のような複数の加熱手段を 各ブロック４７．５０に設けることができる。

ヒータ８８はブロック４７に形成された凹所９０内に配置され、かつ該ヒータに 電力を供給する図示されない制御装置に接続された電気リード線９１に接続され ている。同様に、ヒータ８９は凹所９２内に配置され、かつ図示されない制御装 置に接続された電気リード線９３に接続されている。ブロック４７に形成された 凹所９５内には熱電対９４が配置されている。熱電対９４は図示されない制御装 置に接続された電気リード線９６に接続されている。従って、熱電対９４により 感知された温度に従ってヒータ８８を制御することにより、溶融ガラス板の上面 近傍に於けるブロック４７の温度を所望の温度に維持することができる。同様に 、ブロック５０に形成された凹所９８内に熱電対９７が配置されている。熱電対 ９７は図示されない制御装置に接続された電気リード線９９に接続されている。

従って、カーボン製ブロック５０と溶融ガラス板３４の上面との間の温度を所望 の温度に維持するために、熱電対９７により感知された温度に従って前記制御装 置によりヒータ８９に供給される電力を制御することができる。

分配ビーム３５は、プリナム６０．６１内及び溶融ガラス板３４の被覆するべき 面近傍の双方に於て被覆ガスを最適温度に維持するための冷却手段及び加熱手段 双方を備える。２つの構成ガスは、２つの平行な細長い垂直ガス流が交互に一方 のガス流を他方のガス流に向けた複数のガス流にそれぞれ分割されることによっ て混合チャンバ７５内に於て完全に混合される。このガス流の分割及び変向は、 混合チャンバ７５の幅方向に延長して交互に逆方向下向きに曲げられたフィンガ を有するフィンガバッフルを用いることによって達成される。

上述したように、特許に関する法令の規定に従って本発明をその好適実施例によ り説明した。しかしながら、述した実施例に限定されることではなくその技術的 範囲内に於て様々に変形・変更を加えて実施することができる。

ＦＩＧ、３ 匡際調査報告

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. １．被覆材料を付着させることによってガラス板の表面を被覆する装置であって 、 第１被覆ガスを受容しかつ出口を有する第１プリナムと、第２被覆ガスを受容し かつ出口を有する第２プリナムと、前記第１及び第２プリナム間に延在してそれ らを分割する隔壁と、 前記第１及び第２プリナムの各出口に接続された入口と被覆するべきガラス板の 表面近傍に位置するようにされた出口とを有する混合チャンバと、 前記第１被覆ガスと前記第２被覆ガスとを混合して前記混合チャンバの前記出口 近傍に被覆材料を形成するために前記混合チャンバ内に配置された混合手段とを 備えることを特徴とするガラス被覆装置。
2. ２．前記第１及び第２プリナム内を所望の被覆ガス温度に維持するための温度制 御手段を更に備えることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のガラス被覆装置 。
3. ３．前記温度制御手段が、前記第１及び第２被覆ガスから熱を放出させるように 前記第１及び第２プリナムの周囲に形成された熱伝達流体のための冷却ダクトを 備えることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のガラス被覆装置。
4. ４．前記温度制御手段が前記第１及び第２被覆ガスに熱を加えるために前記第１ 及び第２プリナム近傍に配置された加熱手段を備えることを特徴とする請求の範 囲第１項に記載のガラス被覆装置。
5. ５．前記温度制御手段が、前記第１及び第２被覆ガスの温度を表す信号を発生す るための熱電対手段を備えることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のガラス 被覆装置。
6. ６．前記混合手段が、前記混合チャンバの前記入口から前記出口への前記第１及 び第２被覆ガスの流れ方向に関して交互に反対の角度方向に前記混合チャンバの 幅方向に亘って延長する要素を有する複数のフィンが要素を備えることを特徴と する請求の範囲第１項に記載のガラス被覆装置。
7. ７．前記第１及び第２プリナムの前記出口と前記混合チャンバの前記入口との間 にワッフルパック手段が配置されていることを特徴とする請求の範囲第６項に記 載のガラス被覆装置。
8. ８．被覆材料を付着させることによってガラス板の表面を被覆する装置であって 、 第１被覆ガスを受容しかつ出口を有する第１プリナムと、第２被覆ガスを受容し かつ出口を有する第２プリナムと、前記第１及び第２プリナムの各出口に接続さ れた入口と被覆するべきガラス板の表面近傍に位置するようにされた出口とを有 する混合チャンバと、 前記第１被覆ガスと前記第２被覆ガスとを混合して被覆材料を形成するために前 記混合チャンバ内に配置され、それぞれ前記混合チャンバを横切る向きに延長し かつ一端を他端より前記混合チャンバ近傍に配置した少なくとも２個のフィンが 要素からなるフィンガバッフルとを備えることを特徴とするガラス被覆装置。
9. ９．前記第１プリナムと前記第２プリナムとの間にそれらを分離する隔壁が延在 することを特徴とする請求の範囲第８項に記載のガラス被覆装置。
10. １０．前記隔壁が前記混合チャンバの前記入口を通って前記フィンガバッフル近 傍まで延長していることを特徴とする請求の範囲第９項に記載のガラス被覆装置 。
11. １１．前記フィンガバッフルが、一端を概ね水平に延長する帯片に接続しかつ他 端を概ね水平に延長する足に接続した第１の複数のフィンが要素を備え、かつ前 記帯片及び前記足がそれぞれ前記混合チャンバの対向壁部内に保持されているこ とを特徴とする請求の範囲第８項に記載のガラス被覆装置。
12. １２．前記帯片が前記足より前記混合チャンバに近い位置に配置されていること を特徴とする請求の範囲第１１項に記載のガラス被覆装置。
13. １３．前記第１の複数のフィンが要素が或る間隔をもって配置され、かつ前記第 １の複数のフィンが要素と交互に配置された第２の複数のフィンが要素を備え、 前記第２の複数のフィンが要素の一端が前記帯片を保持する前記混合チャンバの 壁部に保持され、かつ他端が前記足を保持する前記混合チャンバの壁部に保持さ れると共に、前記第２の複数のフィンが要素の前記他端が前記第２の複数のフィ ンが要素の前記一端より前記混合チャンバの入口に近い位置に配置されているこ とを特徴とする請求の範囲第１１項に記載のガラス被覆装置。
14. １４．前記第１及び第２被覆ガスを冷却するために前記第１及び第２プリナム近 傍に配置された冷却手段を更に備えることを特徴とする請求の範囲第８項に記載 のガラス被覆装置。
15. １５．前記第１及び第２被覆ガスを加熱するために前記第１及び第２プリナム近 傍に配置された加熱手段を備えることを特徴とする請求の範囲第１４項に記載の ガラス被覆装置。
16. １６．前記第１及び第２被覆ガスの温度を表す少なくとも１個の信号を発生する ための温度検知手段を備えることを特徴とする請求の範囲１５項に記載のガラス 被覆装置。
17. １７．ガラス板の表面に被覆材料を付着させるためのガラス被覆装置であって、 第１及び第２被覆ガスを分離しかつ前記各被覆ガスの出口を郭定する隔壁によっ て分割されたプリナムと、前記プリナムの前記出口に接続された入口と被覆材料 のための出口とを有する混合チャンバと、前記第１及び第２被覆ガスを混合して 被覆材料を形成するために前記混合チャンバの前記入口と前記出口との間に配置 され、かつ一端が他端より前記混合チャンバに近い位置に配置されると共に、少 なくとも一方のフィンが要素が前記一端を前記プリナムの前記第１被覆ガスのた めの前記出口近傍に配置し、かつ少なくとも他方のフィンが要素が前記一端を前 記プリナムの前記第２被覆ガスの前記出口近傍に配置した混合手段とを備えるこ とを特徴とするガラス被覆装置。
18. １８．前記各フィンが要素の前記端部が、前記混合チャンバ内にを流れる前記第 １及び第２被覆ガスの方向を概ね横切る方向に延長し、かつ前記混合チャンバの 関連する壁部に保持されていることを特徴とする請求の範囲第１７項に記載のガ ラス被覆装置。
19. １９．第１の組の前記複数のフィンが要素の前記一端が前記プリナムの前記第１ 被覆ガスのための前記出口近傍に配置され、かつ少なくとも前記一端または他端 が混合チャンバを流れる前記第１及び第２被覆ガスの方向を概ね横切る向きに延 長し、かつ前記混合チャンバの関連する壁部に保持されていることを特徴とする 請求の範囲第１７項に記載のガラス被覆装置。
20. ２０．前記第１の組の各前記フィンが要素の少なくとも前記一端または前記他端 が、前記第１の組の前記フィンが要素を結合する帯片の部分として形成されてい ることを特徴とする請求の範囲第１８項に記載のガラス被覆装置。
21. ２１．第１の組の前記複数のフィンが要素の前記一端が前記第１被覆ガス出口近 傍に配置された帯片の部分として形成され、かつ前記一端及び前記他端が前記混 合チャンバ内を流れる前記第１及び第２被覆ガスの方向に概ね直交する方向に延 長していることを特徴とする請求の範囲第１７項に記載のガラス被覆装置。
22. ２２．第２組の前記複数のフィンが要素の前記一端が前記第２被覆ガス出口近傍 に配置された帯片の部分として形成され、かつ前記一端及び前記他端が前記ガス 流の方向に概ね直交する方向に延長していることを特徴とする請求の範囲第２１ 項に記載のガラス被覆装置。
23. ２３．前記第１及び第２の組の前記フィンが要素が、前記ガス流の方向に概ね直 交する長手方向の軸線に沿って交互に配置されていることを特徴とする請求の範 囲第２２項に記載のガラス被覆装置。